JPH0621231B2 - スクエアリリウム顔料の精製方法 - Google Patents
スクエアリリウム顔料の精製方法Info
- Publication number
- JPH0621231B2 JPH0621231B2 JP62042897A JP4289787A JPH0621231B2 JP H0621231 B2 JPH0621231 B2 JP H0621231B2 JP 62042897 A JP62042897 A JP 62042897A JP 4289787 A JP4289787 A JP 4289787A JP H0621231 B2 JPH0621231 B2 JP H0621231B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- dimethylaminophenyl
- pigment
- diylium
- atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0609—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen
- G03G5/0611—Squaric acid
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0618—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen and nitrogen
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電子写真特性を改善するためのスクエアリリウ
ム顔料の精製方法に関する。
ム顔料の精製方法に関する。
従来の技術 従来、電子写真感光体として、無定形セレン、セレン合
金、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の無機系感光材料やポ
リビニルカルバゾール及びポリビニルカルバゾール誘導
体に代表される有機系感光材料が広く知られている。
金、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の無機系感光材料やポ
リビニルカルバゾール及びポリビニルカルバゾール誘導
体に代表される有機系感光材料が広く知られている。
近年、多種類の有機系の感光体が研究され、特に電荷発
生層と電荷輸送層を有する積層型の感光体が従来のもの
に比べ優れた電気特性を有することが報告されている。
これらの感光体に用いられる電荷発生材料としては、ビ
スアゾ類、トリスアゾ類、フタロシアニン類、ピリリウ
ム類、スクエアリリウム類等が知られており、可視領域
から近赤外領域まで感度を有するものとしては、フタロ
シアニン類、トリスアゾ類、スクエアリリウム類等の顔
料が報告されている。特に、特開昭４９−１０５５３６
及び同６０−１２８４５３号公報等に示されるスクエア
リリウム類は、可視から近赤外領域まで比較的高い感度
を有するので、電荷発生材料として優れたものである。
生層と電荷輸送層を有する積層型の感光体が従来のもの
に比べ優れた電気特性を有することが報告されている。
これらの感光体に用いられる電荷発生材料としては、ビ
スアゾ類、トリスアゾ類、フタロシアニン類、ピリリウ
ム類、スクエアリリウム類等が知られており、可視領域
から近赤外領域まで感度を有するものとしては、フタロ
シアニン類、トリスアゾ類、スクエアリリウム類等の顔
料が報告されている。特に、特開昭４９−１０５５３６
及び同６０−１２８４５３号公報等に示されるスクエア
リリウム類は、可視から近赤外領域まで比較的高い感度
を有するので、電荷発生材料として優れたものである。
一方、有機顔料の一般的精製法としては、有機溶媒によ
る再結晶法、硫酸によるアシッドペースティング法、ア
ミンによる再沈法、昇華精製法等が知られている。
る再結晶法、硫酸によるアシッドペースティング法、ア
ミンによる再沈法、昇華精製法等が知られている。
発明が解決しようとする問題点 ところで、スクエアリリウム顔料を電子写真感光体に使
用する場合に、少量の不純物でも帯電性、暗減衰、繰返
し安定性等に影響を与えるため、できる限り不純物を除
去することが必要であるが、比較的高い感度を有するス
クエアリリウム顔料は溶媒類への溶解度が小さいものが
多く、高純度化が困難であった。即ち、有機溶媒による
再結晶法では、スクエアリリウム顔料の溶解度の点から
適用範囲が非常に限られ、特に難溶性のスクエアリリウ
ム顔料に対して応用可能な再結晶溶媒は未だ見出だされ
ていない。又、アシッドペースティング法、アミンによ
る再沈法及び昇華精製法は、安定性等の点から殆ど実用
に適しない。
用する場合に、少量の不純物でも帯電性、暗減衰、繰返
し安定性等に影響を与えるため、できる限り不純物を除
去することが必要であるが、比較的高い感度を有するス
クエアリリウム顔料は溶媒類への溶解度が小さいものが
多く、高純度化が困難であった。即ち、有機溶媒による
再結晶法では、スクエアリリウム顔料の溶解度の点から
適用範囲が非常に限られ、特に難溶性のスクエアリリウ
ム顔料に対して応用可能な再結晶溶媒は未だ見出だされ
ていない。又、アシッドペースティング法、アミンによ
る再沈法及び昇華精製法は、安定性等の点から殆ど実用
に適しない。
したがって、本発明の目的は、高感度で、しかも帯電性
が高く、暗減衰が小さく、残留電位が低く、繰返し使用
に対する安定性に優れた電子写真感光体を製造するのに
適した、高純度なスクエアリリウム顔料を提供すること
にある。
が高く、暗減衰が小さく、残留電位が低く、繰返し使用
に対する安定性に優れた電子写真感光体を製造するのに
適した、高純度なスクエアリリウム顔料を提供すること
にある。
問題点を解決するための手段 本発明の上記目的は、スクエアリリウム顔料を２−クロ
ロエタノールに溶解し、再結晶もしくは再沈澱させて精
製することによって達成される。
ロエタノールに溶解し、再結晶もしくは再沈澱させて精
製することによって達成される。
本発明に用いるスクエアリリウム顔料は、以下一般式
（Ｉ）で示される。
（Ｉ）で示される。
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ炭素数
１〜２０のアルキル基、置換あるいは未置換のフェニル
基、又は （式中、Ｒ７は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、
水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、炭素数１〜４の
アルコキシカルボニル基又はトリフルオロメチル基を表
わす）で示されるベンジル基を表わし、Ｒ５及びＲ
６は、それぞれ水素原子、水酸基、メチル基、ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、 −ＮＨＣＯＲ８又は−ＮＨＳＯ２Ｒ９（式中、Ｒ８及び
Ｒ９は、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基又は
フェニル基）で表わす。］ 特に、下記一般式（II）で示されるスクエアリリウム顔
料が好ましく用いられる。
１〜２０のアルキル基、置換あるいは未置換のフェニル
基、又は （式中、Ｒ７は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、
水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、炭素数１〜４の
アルコキシカルボニル基又はトリフルオロメチル基を表
わす）で示されるベンジル基を表わし、Ｒ５及びＲ
６は、それぞれ水素原子、水酸基、メチル基、ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、 −ＮＨＣＯＲ８又は−ＮＨＳＯ２Ｒ９（式中、Ｒ８及び
Ｒ９は、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基又は
フェニル基）で表わす。］ 特に、下記一般式（II）で示されるスクエアリリウム顔
料が好ましく用いられる。
［式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれメチル
基、エチル基又は （式中、Ｒ16は水素原子、メチル基、水酸基、メトキシ
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、シア
ノ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基又
はトリフルオロメチル基を表わす）で示されるベンジル
基を表わし、Ｒ14及びＲ15は、それぞれ水素原子、水酸
基、メチル基又はフッ素原子を表わす。］ 一般式（Ｉ）で示されるスクエアリリウム顔料のうち、
四員環をはさんだ左右が対称のスクエアリリウム顔料
は、スクエアリン酸と対応するアニリン誘導体より公知
の方法により容易に合成することができる。又、四員環
をはさんだ左右が非対称のスクエアリリウム顔料は、下
記反応式に示す反応により合成することができる。
基、エチル基又は （式中、Ｒ16は水素原子、メチル基、水酸基、メトキシ
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、シア
ノ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基又
はトリフルオロメチル基を表わす）で示されるベンジル
基を表わし、Ｒ14及びＲ15は、それぞれ水素原子、水酸
基、メチル基又はフッ素原子を表わす。］ 一般式（Ｉ）で示されるスクエアリリウム顔料のうち、
四員環をはさんだ左右が対称のスクエアリリウム顔料
は、スクエアリン酸と対応するアニリン誘導体より公知
の方法により容易に合成することができる。又、四員環
をはさんだ左右が非対称のスクエアリリウム顔料は、下
記反応式に示す反応により合成することができる。
一般式（Ｉ）で示されるスクエアリリウム顔料の代表的
なものとして、次のものが例示される。
なものとして、次のものが例示される。
（１）２，４−ビス−［４′（ｐ−クロロベンジルメチ
ルアミノ）フェニル］−１，３−シクロブタジエン−ジ
イリウム−１，３−ジオレート （２）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−（２′−メチル−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−
１，３−ジオレート （３）２，４−ビス−（４′−エチルメチルアミノフェ
ニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，
３−ジオレート （４）２，４−ビス−（４′−ジメチルアミノフェニ
ル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３
−ジオレート （５）２，４−ビス−（２′−フルオロ−４′−ジメチ
ルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （６）２，４−ビス−（４′−ジベンジルアミノフェニ
ル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３
−ジオレート （７）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルア
ミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウ
ム−１，３−ジオレート （８）２−（４′−ジメチルアミノフェニル）−４−
（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノフェニル）
−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジ
オレート （９）２−（４′−ジメチルアミノフェニル）−４−
（２′−メチル−４′−ジメチルアミノフェニル）−
１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオ
レート （10）２−（４′−ジメチルアミノフェニル）−４−
（４′−ジベンジルアミノフェニル）−１，３−シクロ
ブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （11）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチル
アミノ）フェニル］−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （12）２，４−ビス（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチ
ルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （13）２，４−ビス−（２′−メチル−４′−ジメチル
アミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリ
ウム−１，３−ジオレート （14）２，４−ビス−（３′−フルオロ−４′−ジメチ
ルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （15）２，４−ビス−［４′−（ｐ−クロロベンジルメ
チルアミノ）−２′−フルオロフェニル］−１，３−シ
クロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （16）２−（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチル
アミノ）フェニル］−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （17）２−（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチル
アミノ）−２′−フルオロフェニル］−１，３−シクロ
ブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （18）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチルア
ミノ）−２′−ヒドロキシフェニル］−１，３−シクロ
ブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （19）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチルア
ミノ）−２′−フルオロフェニル］−１，３−シクロブ
タジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （20）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−（４′−ジベンジルアミノフェニル）−
１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオ
レート （21）２−（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−４−（２′−メチル−４′−ジメチルアミ
ノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム
−１，３−ジオレート （22）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−（２′−メチル−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−
１，３−ジオレート （23）２−（４′−ジメチルアミノフェニル）−４−
（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフェニル）−
１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオ
レート （24）２−（２′，６′−ジフルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−（２′−ヒドロキシ−４′−ジ
メチルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−
ジイリウム−１，３−ジオレート （25）２−（２′，６′−ジフルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジル
メチルアミノ）フェニル］−１，３−シクロブタジエン
−ジイリウム−１，３−ジオレート （26）２−（２′，６′−ジフルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジル
メチルアミノ）−２′−ヒドロキシフェニル］−１，３
−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （27）２−（２′，６′−ジフルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジル
メチルアミノ）−２′−フルオロフェニル］−１，３−
シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート 本発明においては、上記一般式（Ｉ）で示されるスクエ
アリリウム顔料を２−クロロエタノールを用いて再結晶
もしくは再沈澱させる。
ルアミノ）フェニル］−１，３−シクロブタジエン−ジ
イリウム−１，３−ジオレート （２）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−（２′−メチル−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−
１，３−ジオレート （３）２，４−ビス−（４′−エチルメチルアミノフェ
ニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，
３−ジオレート （４）２，４−ビス−（４′−ジメチルアミノフェニ
ル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３
−ジオレート （５）２，４−ビス−（２′−フルオロ−４′−ジメチ
ルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （６）２，４−ビス−（４′−ジベンジルアミノフェニ
ル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３
−ジオレート （７）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルア
ミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウ
ム−１，３−ジオレート （８）２−（４′−ジメチルアミノフェニル）−４−
（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノフェニル）
−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジ
オレート （９）２−（４′−ジメチルアミノフェニル）−４−
（２′−メチル−４′−ジメチルアミノフェニル）−
１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオ
レート （10）２−（４′−ジメチルアミノフェニル）−４−
（４′−ジベンジルアミノフェニル）−１，３−シクロ
ブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （11）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチル
アミノ）フェニル］−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （12）２，４−ビス（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチ
ルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （13）２，４−ビス−（２′−メチル−４′−ジメチル
アミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリ
ウム−１，３−ジオレート （14）２，４−ビス−（３′−フルオロ−４′−ジメチ
ルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （15）２，４−ビス−［４′−（ｐ−クロロベンジルメ
チルアミノ）−２′−フルオロフェニル］−１，３−シ
クロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （16）２−（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチル
アミノ）フェニル］−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート （17）２−（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチル
アミノ）−２′−フルオロフェニル］−１，３−シクロ
ブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （18）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチルア
ミノ）−２′−ヒドロキシフェニル］−１，３−シクロ
ブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （19）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジルメチルア
ミノ）−２′−フルオロフェニル］−１，３−シクロブ
タジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （20）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−（４′−ジベンジルアミノフェニル）−
１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオ
レート （21）２−（２′−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−４−（２′−メチル−４′−ジメチルアミ
ノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム
−１，３−ジオレート （22）２−（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−（２′−メチル−４′−ジメチルアミノ
フェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−
１，３−ジオレート （23）２−（４′−ジメチルアミノフェニル）−４−
（２′−フルオロ−４′−ジメチルアミノフェニル）−
１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオ
レート （24）２−（２′，６′−ジフルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−（２′−ヒドロキシ−４′−ジ
メチルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−
ジイリウム−１，３−ジオレート （25）２−（２′，６′−ジフルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジル
メチルアミノ）フェニル］−１，３−シクロブタジエン
−ジイリウム−１，３−ジオレート （26）２−（２′，６′−ジフルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジル
メチルアミノ）−２′−ヒドロキシフェニル］−１，３
−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート （27）２−（２′，６′−ジフルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−［４′−（ｐ−クロロベンジル
メチルアミノ）−２′−フルオロフェニル］−１，３−
シクロブタジエン−ジイリウム−１，３−ジオレート 本発明においては、上記一般式（Ｉ）で示されるスクエ
アリリウム顔料を２−クロロエタノールを用いて再結晶
もしくは再沈澱させる。
再結晶は、スクエアリリウム顔料を２−クロロエタノー
ル中に溶解させて行うが、その際の加熱温度は６０℃か
ら１３０℃（還流温度）が好ましく、１００℃から１３
０℃が特に好ましい。２−クロロエタノールは単独で用
いても、又、他の溶媒、例えば、水、エタノール等のア
ルコール系溶媒、トルエン等の芳香族系溶媒、トリクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等と混合して用
いてもよい。又、塩酸等の酸を添加してもよい。
ル中に溶解させて行うが、その際の加熱温度は６０℃か
ら１３０℃（還流温度）が好ましく、１００℃から１３
０℃が特に好ましい。２−クロロエタノールは単独で用
いても、又、他の溶媒、例えば、水、エタノール等のア
ルコール系溶媒、トルエン等の芳香族系溶媒、トリクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等と混合して用
いてもよい。又、塩酸等の酸を添加してもよい。
再沈澱は、スクエアリリウム顔料を２−クロロエタノー
ルに溶解し、貧溶媒と混合することによって行うが、そ
の際の加熱温度は、再結晶の場合と同様である。貧溶媒
としては、水、エタノール等のアルコール系溶媒、トル
エン等の芳香族系溶媒、トリクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素系溶媒等が用いられる。又、再沈澱の際の貧
溶媒の比率は、２−クロロエタノールに対し１／２倍容
量から、１０倍容量の範囲が好ましい。
ルに溶解し、貧溶媒と混合することによって行うが、そ
の際の加熱温度は、再結晶の場合と同様である。貧溶媒
としては、水、エタノール等のアルコール系溶媒、トル
エン等の芳香族系溶媒、トリクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素系溶媒等が用いられる。又、再沈澱の際の貧
溶媒の比率は、２−クロロエタノールに対し１／２倍容
量から、１０倍容量の範囲が好ましい。
実施例 以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。
実施例１ ３，４−ジヒドロキシ−３−シクロブテン−１，２−ジ
オン１０．０ｇとＮ−（ｐ−クロロベンジル）−Ｎ−メ
チルアニリン６１．０ｇをブタノール４００mlとトルエ
ン２００mlの混合溶媒中に入れ、還流し、生成する水を
除去しながら８時間反応した。放冷後、生成した青緑色
の結晶を濾別し、ブタノール、メタノール、ジエチルエ
ーテルで洗浄後、乾燥して、下記構造式の２，４−ビス
−［４′（ｐ−クロロベンジルメチルアミノ）フェニ
ル］−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３
−ジオレート（例示化合物(1)）１８．２ｇ（収率３８
％）を得た。
オン１０．０ｇとＮ−（ｐ−クロロベンジル）−Ｎ−メ
チルアニリン６１．０ｇをブタノール４００mlとトルエ
ン２００mlの混合溶媒中に入れ、還流し、生成する水を
除去しながら８時間反応した。放冷後、生成した青緑色
の結晶を濾別し、ブタノール、メタノール、ジエチルエ
ーテルで洗浄後、乾燥して、下記構造式の２，４−ビス
−［４′（ｐ−クロロベンジルメチルアミノ）フェニ
ル］−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−１，３
−ジオレート（例示化合物(1)）１８．２ｇ（収率３８
％）を得た。
次いで、例示化合物（１）４．０ｇを２−クロロエタノ
ール４００mlに入れ、還流温度で２０分間加熱し、熱時
濾過後、濾液を放冷し、析出した結晶を濾別し、精製さ
れた例示化合物（１）３．５ｇ（収率８８％）を得た。
精製された例示化合物（１）は、上記合成によって得ら
れた未精製のものの結晶形とは異なる結晶形を有するも
のになっており、その粉末のＸ線回析を測定したとこ
ろ、２θ＝６．４゜、１３．４゜、１７．６゜、２４．
５゜、２７．１゜に主な回折ピークをもつ回折パターン
を示した。
ール４００mlに入れ、還流温度で２０分間加熱し、熱時
濾過後、濾液を放冷し、析出した結晶を濾別し、精製さ
れた例示化合物（１）３．５ｇ（収率８８％）を得た。
精製された例示化合物（１）は、上記合成によって得ら
れた未精製のものの結晶形とは異なる結晶形を有するも
のになっており、その粉末のＸ線回析を測定したとこ
ろ、２θ＝６．４゜、１３．４゜、１７．６゜、２４．
５゜、２７．１゜に主な回折ピークをもつ回折パターン
を示した。
応用例１ 実施例１によって精製された例示化合物（１）１重量部
にポリビニルブチラール樹脂（積水化学製、BXL（登録
商標））１重量部、シクロヘキサノン４０重量部を加
え、ボールミルで４時間粉砕、混合した分散液を、バー
コーターを用いてアルミニウムを蒸着したポリエステル
フィルム（東レ製、メタルミー（登録商標））上に塗布
し、乾燥して厚さ０．２μｍの電荷発生層を形成した。
にポリビニルブチラール樹脂（積水化学製、BXL（登録
商標））１重量部、シクロヘキサノン４０重量部を加
え、ボールミルで４時間粉砕、混合した分散液を、バー
コーターを用いてアルミニウムを蒸着したポリエステル
フィルム（東レ製、メタルミー（登録商標））上に塗布
し、乾燥して厚さ０．２μｍの電荷発生層を形成した。
この電荷発生層上に、Ｎ，Ｎ′−ジフエニル−Ｎ，Ｎ′
−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニ
ル］−４，４′−ジアミン１重量部、ポリカーボネート
樹脂（帝人製、パンライト（登録商標））１重量部、テ
トラヒドロフラン１０重量部からなる均一溶液をバーコ
ーターを用いて塗布し、乾燥して厚さ１５μｍの電荷輸
送層を形成し、電子写真感光体を作成した。
−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニ
ル］−４，４′−ジアミン１重量部、ポリカーボネート
樹脂（帝人製、パンライト（登録商標））１重量部、テ
トラヒドロフラン１０重量部からなる均一溶液をバーコ
ーターを用いて塗布し、乾燥して厚さ１５μｍの電荷輸
送層を形成し、電子写真感光体を作成した。
次に、得られた電子写真感光体について、静電複写紙試
験装置（川口電気製、エレクトロスタティック・ペーパ
ーアナライザー、SP428）を用いて、−６ｋＶのコロナ
放電を施して負帯電させた後、２秒間暗所に放置し、続
いて、タングステンランプを用い、表面の照度が５ルッ
クスになるように感光層に光照射を施した。
験装置（川口電気製、エレクトロスタティック・ペーパ
ーアナライザー、SP428）を用いて、−６ｋＶのコロナ
放電を施して負帯電させた後、２秒間暗所に放置し、続
いて、タングステンランプを用い、表面の照度が５ルッ
クスになるように感光層に光照射を施した。
帯電直後の電位をＶｏ、２秒間暗所放置後の電位をＶDD
P、表面電位がＶDDPの１／２になる露光量をＥ1/2、５
ルックスの光を１０秒照射した後のの表面電位をＶRPと
し、同様の測定を２０回繰返し行った。
P、表面電位がＶDDPの１／２になる露光量をＥ1/2、５
ルックスの光を１０秒照射した後のの表面電位をＶRPと
し、同様の測定を２０回繰返し行った。
その結果を第１表に示す。
参考例１ 実施例１における未精製の例示化合物（１）を用い、応
用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に評
価した。その結果を第２表に示す。
用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に評
価した。その結果を第２表に示す。
実施例２ 実施例１における未精製の例示化合物（１）４．０ｇを
２−クロロエタノール４００mlに入れ、還流温度で２０
分間加熱し、熱時濾過後、直ちに濾液にメタノール２０
０mlを注ぎ入れ、放冷した。析出した結晶を濾別し、精
製された例示化合物（１）３．６ｇ（収率９０％）を得
た。
２−クロロエタノール４００mlに入れ、還流温度で２０
分間加熱し、熱時濾過後、直ちに濾液にメタノール２０
０mlを注ぎ入れ、放冷した。析出した結晶を濾別し、精
製された例示化合物（１）３．６ｇ（収率９０％）を得
た。
応用例２ 実施例２によって精製された例示化合物（１）を用い、
応用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に
評価した。その結果を第３表に示す。
応用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に
評価した。その結果を第３表に示す。
実施例３ ３，４−ジクロロ−３−シクロブテン−１，２−ジオン
２５ｇ及び三フッ化ホウ素エチルエーテル錯体６．５ml
を塩化メチレン３０mlに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ
−フルオロアニリン３５ｇと混合し、室温で１６時間間
撹拌して反応を行った。反応終了後、混合物を希塩酸、
次いで水で洗浄し、カラムクロマトグラフィーを用いて
分離精製を行い、３−クロロ−４−（２′−フルオロ−
４′−ジメチルアミノフェニル）−３−シクロブテン−
１，２−ジオン９．１ｇ（収率７２％）を得た。
２５ｇ及び三フッ化ホウ素エチルエーテル錯体６．５ml
を塩化メチレン３０mlに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ
−フルオロアニリン３５ｇと混合し、室温で１６時間間
撹拌して反応を行った。反応終了後、混合物を希塩酸、
次いで水で洗浄し、カラムクロマトグラフィーを用いて
分離精製を行い、３−クロロ−４−（２′−フルオロ−
４′−ジメチルアミノフェニル）−３−シクロブテン−
１，２−ジオン９．１ｇ（収率７２％）を得た。
次いで、この３−クロロ−４−（２′−フルオロ−４′
−ジメチルアミノフェニル）−３−シクロブテン−１，
２−ジオン７．６ｇに酢酸１２０ml及び水４０mlを加
え、２時間還流し、放冷後、析出した結晶を濾別、水洗
いして３−ヒドロキシ−４−（２′−フルオロ−４′−
ジメチルアミノフェニル）−３−シクロブテン−１，２
−ジオン６．７ｇ（収率９５％）を得た。
−ジメチルアミノフェニル）−３−シクロブテン−１，
２−ジオン７．６ｇに酢酸１２０ml及び水４０mlを加
え、２時間還流し、放冷後、析出した結晶を濾別、水洗
いして３−ヒドロキシ−４−（２′−フルオロ−４′−
ジメチルアミノフェニル）−３−シクロブテン−１，２
−ジオン６．７ｇ（収率９５％）を得た。
次いで、この３−ヒドロキシ−４−（２′−フルオロ−
４′−ジメチルアミノフェニル）−３−シクロブテン−
１，２−ジオン４．０ｇとＮ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トル
イジン６．９ｇをブタノール３４０ml中に入れ、１６時
間加熱還流した。放冷後、生成した青緑色の結晶を濾別
し、ブタノール、メタノール、ジエチルエーテルで洗浄
後、乾燥して、２−（２′−フルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−（２′−メチル−４′−ジメチ
ルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート（例示化合物（２））４．
１ｇ（収率６８％）を得た。
４′−ジメチルアミノフェニル）−３−シクロブテン−
１，２−ジオン４．０ｇとＮ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トル
イジン６．９ｇをブタノール３４０ml中に入れ、１６時
間加熱還流した。放冷後、生成した青緑色の結晶を濾別
し、ブタノール、メタノール、ジエチルエーテルで洗浄
後、乾燥して、２−（２′−フルオロ−４′−ジメチル
アミノフェニル）−４−（２′−メチル−４′−ジメチ
ルアミノフェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイ
リウム−１，３−ジオレート（例示化合物（２））４．
１ｇ（収率６８％）を得た。
次いで、例示化合物（２）２．６ｇを２−クロロエタノ
ール２６０mlに入れ、還流温度で１０分間加熱し、熱時
濾過後、濾液を放冷し、析出した結晶を濾別し、精製さ
れた化合物（２）２．１ｇ（収率８１％）を得た。
ール２６０mlに入れ、還流温度で１０分間加熱し、熱時
濾過後、濾液を放冷し、析出した結晶を濾別し、精製さ
れた化合物（２）２．１ｇ（収率８１％）を得た。
応用例３ 実施例３によって精製された例示化合物（２）を用い、
応用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に
評価した。その結果を第４表に示す。
応用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に
評価した。その結果を第４表に示す。
参考例２ 実施例３における未精製の例示化合物（２）を用い、実
施例２と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に評
価した。その結果を第５表に示す。
施例２と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に評
価した。その結果を第５表に示す。
実施例４ 未精製の２，４−ビス−（４′−エチルメチルアミノフ
ェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−
１，３−ジオレート（例示化合物（３））３．０ｇを２
−クロロエタノール２５mlとエタノール２５mlの混合溶
媒中に入れ、還流温度で１０分間加熱し、熱時濾過後、
濾液を放冷し、析出した結晶を濾別し、精製された化合
物（３）２．７ｇ（収率８０％）を得た。
ェニル）−１，３−シクロブタジエン−ジイリウム−
１，３−ジオレート（例示化合物（３））３．０ｇを２
−クロロエタノール２５mlとエタノール２５mlの混合溶
媒中に入れ、還流温度で１０分間加熱し、熱時濾過後、
濾液を放冷し、析出した結晶を濾別し、精製された化合
物（３）２．７ｇ（収率８０％）を得た。
応用例４ 実施例４によって精製された例示化合物（３）を用い、
応用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に
評価した。その結果を第６表に示す。
応用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に
評価した。その結果を第６表に示す。
参考例３ 実施例４における未精製の例示化合物（３）を用い、応
用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に評
価した。その結果を第７表に示す。
用例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に評
価した。その結果を第７表に示す。
実施例５〜１２及び参考例４〜１１ 例示化合物（４）〜（１１）について、２−クロロエタ
ノールを用い、実施例１におけると同様に再結晶処理を
行い、それぞれ精製された化合物を得た。
ノールを用い、実施例１におけると同様に再結晶処理を
行い、それぞれ精製された化合物を得た。
精製された例示化合物（４）〜（１１）について、応用
例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に評価
した。その結果を第８表に示す。又、再結晶処理を行わ
ない例示化合物（４）〜（１１）を用い、応用例１と同
様にして電子写真感光体を作成し、同様に評価した。そ
の結果を第９表に示す。
例１と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に評価
した。その結果を第８表に示す。又、再結晶処理を行わ
ない例示化合物（４）〜（１１）を用い、応用例１と同
様にして電子写真感光体を作成し、同様に評価した。そ
の結果を第９表に示す。
発明の効果 本発明は、上記の構成を有するから、従来、精製が困難
であったスクエアリリウム顔料を容易に精製することが
できる。そして又、本発明によって処理されたスクエア
リリウム顔料は、電子写真感光体における電荷発生材料
として使用するのに適しておりり、高感度で、しかも帯
電性が高く、暗減衰が小さく、残留電位が低く、繰返し
使用に対する安定性に優れた電子写真感光体を形成する
ことができる。
であったスクエアリリウム顔料を容易に精製することが
できる。そして又、本発明によって処理されたスクエア
リリウム顔料は、電子写真感光体における電荷発生材料
として使用するのに適しておりり、高感度で、しかも帯
電性が高く、暗減衰が小さく、残留電位が低く、繰返し
使用に対する安定性に優れた電子写真感光体を形成する
ことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 浩之 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社竹松事業所内 (72)発明者 須藤 秀美 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社竹松事業所内
Claims (2)
- 【請求項１】下記一般式（Ｉ）で示されるスクエアリリ
ウム顔料を２−クロロエタノールに溶解し、再結晶又は
再沈澱させることを特徴とするスクエアリリウム顔料の
精製方法。 ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ炭素数
１〜２０のアルキル基、置換あるいは未置換のフエニル
基、又は （式中、Ｒ７は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、
水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、炭素数１〜４の
アルコキシカルボニル基又はトリフルオロメチル基を表
わす）で示されるベンジル基を表わし、Ｒ５及びＲ
６は、それぞれ水素原子、水酸基、メチル基、ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、 −ＮＨＣＯＲ８又は−ＮＨＳＯ２Ｒ９（式中、Ｒ８及び
Ｒ９は、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基又は
フエニル基）を表わす。］ - 【請求項２】スクエアリリウム顔料が下記一般式（II）
で示されることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
載の精製方法。 ［式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれメチル
基、エチル基又は （式中、Ｒ16は水素原子、メチル基、水酸基、メトキシ
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、シア
ノ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基又
はトリフルオロメチル基を表わす）で示されるベンジル
基を表わし、Ｒ14及びＲ15は、それぞれ水素原子、水酸
基、メチル基又はフッ素原子を表わす。］
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62042897A JPH0621231B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | スクエアリリウム顔料の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62042897A JPH0621231B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | スクエアリリウム顔料の精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63210167A JPS63210167A (ja) | 1988-08-31 |
| JPH0621231B2 true JPH0621231B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=12648820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62042897A Expired - Lifetime JPH0621231B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | スクエアリリウム顔料の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621231B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11041073B2 (en) | 2016-09-26 | 2021-06-22 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Compound, core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter |
| US11427529B2 (en) | 2016-09-28 | 2022-08-30 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Compound, core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN118421105B (zh) * | 2024-04-03 | 2026-04-17 | 复旦大学 | 在生理条件下可发生自发闪烁的荧光染料分子及其合成方法和应用 |
-
1987
- 1987-02-27 JP JP62042897A patent/JPH0621231B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11041073B2 (en) | 2016-09-26 | 2021-06-22 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Compound, core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter |
| US11427529B2 (en) | 2016-09-28 | 2022-08-30 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Compound, core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter |
| US11945763B2 (en) | 2016-09-28 | 2024-04-02 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Compound, core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter |
| US12110262B2 (en) | 2016-09-28 | 2024-10-08 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Compound, core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63210167A (ja) | 1988-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4990634A (en) | Novel tetracyanoanthraquinodimethane derivatives and process for producing same | |
| EP0962458B1 (en) | New naphthalenetetracarboxylic acid diimides as electron transporting agents in photosensitive material for electrophotography | |
| JP3412348B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH1069107A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2000019758A (ja) | 負帯電単層型電子写真感光体 | |
| EP0349219B1 (en) | 1,2,4,5-benzoylenebis(naphtho[1,8-de]pyrimidine) compounds and their use | |
| JP2546302B2 (ja) | スクアリリウム化合物の製造方法 | |
| JPH08152724A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPS63210167A (ja) | スクエアリリウム顔料の精製方法 | |
| JPH0727245B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2748497B2 (ja) | オキシチタニウムフタロシアニン結晶の製造法 | |
| JP3245766B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0635215A (ja) | フタロシアニンを含有する電子写真記録材料 | |
| JPH0230501B2 (ja) | ||
| JP2745639B2 (ja) | オキシチタニウムフタロシアニン結晶の製造方法 | |
| US5041665A (en) | Process for preparing squarylium compounds | |
| JP2875360B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP3551395B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| EP0780363B1 (en) | Bisazo-benzofuran compounds, their use as charge carrier generating compounds | |
| JP2890876B2 (ja) | 感光体 | |
| JPH10254155A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH09216855A (ja) | アセナフテン化合物 | |
| JPH10148953A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP4343605B2 (ja) | エナミン〜ビス（ヒドロキシアリーレン置換）ポリエン化合物及びその製造中間体 | |
| JP2000144005A (ja) | テトラアザポルフィリン誘導体混合物及びその製造方法 |