JPH06215344A

JPH06215344A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH06215344A
Application number: JP352793A
Authority: JP
Inventors: Tomoyoshi Aida; 倫佳合田; Kazuhiro Nakao; 和弘中尾
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1993-01-12
Filing date: 1993-01-12
Publication date: 1994-08-05

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気ディスク記録媒体の半径方向のヘッド浮
上量変化に応じて磁性膜面内の保磁力と膜厚の積を変え
ることで、媒体の重ね書き特性を向上する。【構成】めっきされた（１２）基板１１上に設けられ
た下地膜１３，磁気記録膜１４，非磁性被覆膜１６，潤
滑膜１７で構成される磁気記録媒体において、磁気記録
膜の保磁力と磁気記録膜厚の積値を、ヘッド浮上量が高
い記録トラックに行く程減少させる（例えば最内周の最
低浮上量のトラック位置での積値に比べて、最高浮上量
のトラック位置での積値を５％以上、望ましくは１０％
以上減少させる）ことにより、ヘッド浮上量の低いトラ
ックは勿論、ヘッド浮上量が高く消去しにくいトラック
に対しても、良好な重ね書き特性（重ね書きによる消え
残り率の低い特性）が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置用の
磁気ディスクなどの磁気記録媒体に係り、特に高記録密
度記録に良好で重ね書き（オーバーライト）特性が優れ
た磁気記録媒体、すなわち、重ね書きによる旧い記録の
消去率の高い磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、高記録密度用の磁気記録媒体とし
て、例えば特開昭５９−８８８０６号公報に記載されて
いるように、ＣｏＣｒＰｔ，またはＣｏＰｔＴａ磁気記
録膜を使用したものや、例えば特開平１−２３７９２５
号公報に記載されているように、ＣｏＮｉＣｒＴａ磁気
記録膜を使用して高い保磁力を得て高記録密度を実現し
ようとしたものが知られている。また、例えば１９８９
年１１月に発行された日本応用磁気学会学術講演概要集
（１３ページ）に示されているように、基板に０〜３０
０Ｖのバイアス電圧を印加しながら、Ｃｒ下地膜上にＣ
ｏＮｉＣｒ磁性膜をスパッタする製造方法により高い保
磁力を得て高記録密度を実現しようとしたものも知られ
ている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、で
きるだけ保磁力が高い高記録密度用の磁気記録媒体につ
いて、種々検討されて来ているが、磁気記録再生装置シ
ステムとして検討した場合、いずれも重ね書き特性につ
いてはなにも考慮されておらず、このように、従来重ね
書き特性を根本的に改善しようとする試みはほとんどな
されていない。特に、磁気ディスクに必要とされる重ね
書き特性については、経験的に決定されているのが実情
である。この重ね書き特性は、後述の重ね書き特性
（１）または（２）で評価されるが、いずれにしても消
え残り率の小さい程、重ね書き特性は良好であると判定
される。

【０００４】従来技術では、磁気記録用ヘッドが磁気記
録媒体上を移動しながらデータの重ね書きを行うとき、
ヘッド浮上量の一番高いところで、磁気記録媒体の磁気
記録膜に印加される記録磁界強度が最小となるため、旧
信号が消えにくく、また新信号が記録されにくくなり、
重ね書き特性が最悪となる。そこで、塗布型磁気記録媒
体においては、ヘッド浮上量の一番高いところで重ね書
き特性を良好とするため、重ね書き特性に関係があると
思われる磁気記録膜を薄膜化する等の方法を採用するこ
とが考えられるが、高記録密度用の磁気記録媒体ではそ
の保磁力が高いために、必ずしも重ね書き特性が十分改
善されないことがある。また蒸着、スパッタリングなど
の真空技術を用いた磁気記録媒体の製造方法において
は、磁気記録膜厚を薄くするとさらに保磁力が上昇する
ために、高密度記録媒体には適しているが、重ね書き特
性が悪化する結果となる場合もある。

【０００５】従って、本発明の目的は、上記従来技術の
問題点を解消し、半径方向等の各記録領域でのヘッド浮
上量の変化に依存せず、高密度記録に適合しながら、か
つ全記録領域において、良好な重ね書き特性を有する磁
気記録媒体を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の磁気記録媒体は、その重ね書き特性を定め
るための要素として、磁気記録膜の面内における保磁力
と磁気記録膜厚との積の概念を導入し、この概念を用い
て、以下のように構成したものである。

【０００７】（１）非磁性の基体の上に磁気記録膜を
形成した磁気記録媒体において、前記磁気記録膜の面内
の保磁力と磁気記録膜厚との積を、磁気記録用ヘッドの
浮上量が増加する記録領域程、減少させたことを特徴と
する。従って、この積は、磁気記録用ヘッドの浮上最高
点位置（記録領域）で最小とされ、磁気記録用ヘッドの
浮上最低点位置（記録領域）で最大とされる。この場
合、必要に応じて、前記磁気記録膜上に非磁性被覆膜が
設けられ、この非磁性被覆膜内もしくは非磁性被覆膜上
もしくは非磁性被覆膜内および上に潤滑膜が形成され
る。

【０００８】（２）また、磁気記録媒体の各領域にお
ける磁気記録用ヘッドの浮上量を考慮して、非磁性の基
体の上に磁気記録膜を形成した磁気記録媒体において、
前記記録膜の面内の保磁力と磁気記録膜厚との積の最小
値を、この積の面内の最大値に対して５％以上（望まし
くは１０％以上）減少させた記録領域（記録トラック）
を持つことを特徴とする。

【０００９】（３）また、記録再生特性向上の観点か
ら、前記非磁性の基体と磁気記録膜の間に非磁性の中間
膜が形成される。

【００１０】（４）さらに、前記磁気記録膜は、非磁
性膜を介した少なくとも２層以上の多層膜で構成され
る。

【００１１】（５）さらに、前記非磁性基体に、中心
線平均粗さが面内で変化するようにテクスチャ加工を施
すことにより、前記磁気記録膜の保磁力と磁気記録膜厚
との積を調整するように構成される。

【００１２】

【作用】上記構成に基づく作用を説明する。

【００１３】一般に磁気ディスク等の磁気記録媒体の重
ね書き特性は、磁気記録膜の保磁力が高い程、また、磁
気記録用ヘッドの浮上量が高い程、悪化する。また、同
じ保磁力、同じ浮上量でも、磁気記録膜の膜厚が厚くな
る程悪化する。

【００１４】（１）本発明によれば、磁気記録膜の静
磁気特性のうち、保磁力と磁気記録膜厚との積の概念を
導入して、この積で磁気記録膜の特性を規定し、この積
が、磁気記録用ヘッドの浮上量が高い記録領域に行く
程、減少するようにしたので、磁気記録媒体の半径方向
などの記録領域（トラック位置）により磁気記録ヘッド
の浮上量が変化しても、重ね書き特性は磁気記録媒体の
全記録領域においてほぼ一様となり、良好な重ね書き特
性が得られる。

【００１５】（２）具体的には、各記録トラック領域
における磁気ヘッドの浮上量に応じて、磁気記録膜の面
内の保磁力と磁気記録膜との積の最小値（浮上最高点位
置での積値）を、この積の面内の最大値（浮上最小点位
置での積値）に対して、５％以上、望ましくは１０％以
上減少させたトラック領域を持つことで、記録媒体の重
ね書き特性の改善を行うことができる。磁気記録媒体で
は、必要に応じて磁気記録膜上に非磁性被覆膜が設けら
れ、この非磁性被覆膜内もしくは非磁性被覆膜上もしく
は非磁性被覆膜内および上に潤滑膜が形成されるが、そ
の時の磁気記録膜から磁気記録ヘッド素子までの実効浮
上量が磁気記録媒体面内で一定でないとき、重ね書き特
性の改善に特に有効である。

【００１６】（３）また、記録再生特性向上の観点か
ら、前記非磁性の基体と磁気記録膜の間に非磁性中間膜
（下地膜）を設け、この非磁性中間膜の膜厚を調整する
ことにより磁気記録膜の磁気特性を制御して、高密度記
録に適し、重ね書き特性の良好な磁気記録媒体を得るこ
とができ、記録と再生共に良好な特性を有する磁気記録
媒体とすることができる。

【００１７】（４）また、前記磁気記録膜が非磁性膜
を介した少なくとも２層以上の多層膜で構成されること
により、さらに高密度記録に適した磁気記録膜の磁気特
性の制御を行うことができ、より高密度記録に適した磁
気記録媒体とすることができる。

【００１８】（５）さらに、非磁性基体に、中心線平
均粗さＲａが面内で変化するようにテクスチャ加工を施
し、例えば、前記積値が最大値を必要とする位置（最小
浮上位置）で中心線平均粗さＲａを最大にするテクスチ
ャ加工を施すことにより、磁気記録媒体の半径方向の全
記録領域において、磁気記録膜の保磁力等の静磁気特性
を調整して、一様な良好な重ね書き特性を得ることがで
きる。

【００１９】ここで、中心線平均粗さとは、凹凸面の山
と谷との中間高さ平均をとった平均中心線に対する山の
高さの平均値である。

【００２０】

【実施例】以下に、本発明の実施例を図面により詳細に
説明する。

【００２１】図１は、本発明の一実施例のディスク状磁
気記録媒体の断面図である。同図で、１１はＡｌ合金な
どからなる基板、１２はＮｉ−Ｐ，Ｎｉ−Ｃｕ−Ｐなど
からなる非磁性めっき膜、１３はＣｒなどからなる非磁
性下地膜、１４はＣｏ基合金からなる磁性膜、１６はＣ
などからなる非磁性被覆膜、１７はパーフルオロアルキ
ルポロエーテルなどからなる潤滑膜である。このうち非
磁性下地膜１３，磁気記録膜１４，および非磁性被覆膜
１６は、いずれもスパッタリングにより形成され、潤滑
膜１７は塗布法などにより形成される。以下にこの磁気
記録媒体の詳細な構成を製法とともに説明する。

【００２２】まず、実施例１について説明する。外径１
３０ｍｍφ，内径４０ｍｍφ，厚さ１．９ｍｍのＡｌ合
金基板１１の上に２０μｍの非磁性１１ｗｔ％Ｐ−Ｎｉ
めっき層を形成した基板上に表面研磨を施し、さらに表
面に一様に基板円周方向に（同心円状に）中心線粗さＲ
ａで１０ｎｍの微細傷を付ける。その後、半径位置４５
ｍｍから６５ｍｍにかけて円周方向に（同心円状に）中
心線粗さＲａで５ｎｍになるように再度微細傷を付け、
膜厚１３μｍとした非磁性めっき層１２の上に基板温度
２００℃，Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ，ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃ
ｍ² でＣｒ下地膜１３を１００ｎｍ形成し、ＣｏＣｒ₁₄
Ｔａ₆ 合金を用いて磁気記録膜１４をＡｒ圧７ｍＴｏｒ
ｒ，ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ² で膜厚６０ｎｍ形成し
た。

【００２３】また、比較試料として表面に一様に基板円
周方向に中心線粗さＲａで１０ｎｍの微細傷を付けただ
けの磁気記録媒体を作成した。

【００２４】図２に、上記作成媒体の半径位置３５ｍｍ
と５５ｍｍを７ｍｍ×７ｍｍに切断した試料をＶｉｂｒ
ａｔｉｏｎＳａｍｐｌｅＭａｇｅｔｏｅｍｔｅｒ
（ＶＳＭ）で飽和磁界１０ｋＯｅ，測定時間２０分／ル
ープで静磁気特性を測定した結果を示す。半径位置３５
ｍｍの試料では保磁力Ｈｃは１１００（Ｏｅ）であった
のに対して半径位置５５ｍｍでは１０００（Ｏｅ）であ
った。また比較試料は半径位置３５ｍｍ、５５ｍｍとも
に保磁力Ｈｃは１１００（Ｏｅ）であった。なお、一般
に、磁性膜の磁気特性としては、テクスチャ加工の施し
方によって、保磁力Ｈｃが低下するものと上昇するもの
とがあるが、本実施例は、テクスチャ加工の粗さを小さ
くする程保磁力Ｈｃが低下する加工法を採用した場合で
ある。（この逆の場合、すなわち、テクスチャ加工の粗
さを小さくする程保磁力ＨＣが上昇する場合を採用して
もよい）。

【００２５】これらの円板の記録再生特性を図３に示す
浮上曲線を持つギャップ長０．４μｍの薄膜ヘッドで測
定したところ、図４に示すように、比較試料、検討試料
（実施例）ともに、磁気記録媒体の半径が増加する程、
周速が増加して浮上量が増大する結果、スペーシング損
失が増大するにもかかわらず、周速の増加により、ヘッ
ド対磁気記録媒体の相対速度が増加するので、出力振幅
が増大した。

【００２６】ここで本発明において重ね書き特性を以下
のように規定する。磁気記録装置に使用される変調方式
のうち、最長記録波長で磁気記録媒体に書き込みを行っ
た後、最短記録波長にて重ね書きを行う。その時の重ね
書き後の最長記録波長の消え残り分（記録レベル）と重
ね書き前の当該最長記録波長の記録レベルとの比をデシ
ベル表示としたものを重ね書き特性（１）とする。ま
た、重ね書き後の最長記録波長の消え残り分（記録レベ
ル）と重ね書きした最短記録波長の書き込み分との比を
デシベル表示としたものを重ね書き特性（２）とする。
本実施例では重ね書き特性（１）について記載するが、
重ね書き特性（２）についても同様の結果であった。こ
の時、図４に示すように、重ね書き特性は、比較試料で
は浮上曲線に一致して（浮上量が増大するにつれて）特
性が劣化した。しかし、同図に示すように、検討試料
（実施例）では半径位置４５ｍｍより外周側で比較試料
よりも３ｄＢ向上した。これは、実施例の場合、膜厚は
一様であるが保磁力が内周に比べて外周側で低くしたこ
とによると考えられる。この時、保磁力と磁気記録膜厚
の積は比較品で６６（Ｏｅμｍ）であり、検討品（実施
例）では内周の６６（Ｏｅμｍ）と外周の６０（Ｏｅμ
ｍ）であった。すなわち、本実施例によるヘッドと媒体
の組合せでは重ね書き特性は、０．５ｄＢ／Ｏｅμｍの
関係で積が小さくなる程向上するものである。この関係
値は使用する磁気ヘッドに依存するため、普遍的に数値
を規定することはできない。しかし、重ね書き特性を良
好な値にするには上記積値を小さくするのが良い。

【００２７】次に、実施例２について説明する。外径１
３０ｍｍφ，内径４０ｍｍφ，厚さ１．９ｍｍのＡｌ合
金基板１１の上に２０μｍの非磁性１１ｗｔ％Ｐ−Ｎｉ
めっき層を形成した基板上に表面研磨を施し、さらに表
面に一様に基板円周方向に中心線粗さＲａで１０ｎｍの
微細傷を付け、膜厚１３μｍとした非磁性めっき層１２
の上に基板温度２００℃，Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ，ＤＣ投
入電力４Ｗ／ｃｍ² でＣｒ下地膜１３を１００ｎｍ形成
し、ＣｏＣｒ₁₄Ｔａ₆ 合金を用いて磁気記録膜１４をＡ
ｒ圧７ｍＴｏｒｒ，ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ² で４０ｎ
ｍ形成した。その後マスクを用いて半径位置２５ｍｍか
ら４５ｍｍまでの範囲にさらにＣｏＣｒ₁₄Ｔａ₆ 合金を
用いて磁気記録膜１４をＡｒ圧７ｍＴｏｒｒ，ＤＣ投入
電力４Ｗ／ｃｍ² で２０ｎｍ形成した。この時の静磁気
特性は半径位置３５ｍｍ（磁性膜厚６０ｎｍ）で１１０
０（Ｏｅ），半径位置５５ｍｍ（磁性膜厚４０ｎｍ）で
１２００（Ｏｅ）であった。記録再生特性を図３に示す
浮上曲線を持つギャップ長０．４μｍの薄膜ヘッドで測
定したところ、図５に示すように、比較試料、検討試料
（実施例）ともにスペーシング損失が増大するにもかか
わらず、周速の増加により出力振幅が増大し、膜厚の変
化のある（薄くなっている）半径位置（４５ｍｍ以上の
半径位置）で出力は下がったが最内周位置での出力振幅
よりも大きかった。

【００２８】重ね書き特性は、比較試料では浮上曲線に
一致して特性が劣化した。しかし検討試料（実施例）で
は半径位置４５ｍｍより外周側で比較試料よりも５ｄＢ
向上した。この時、保磁力と磁気記録膜厚の積は比較品
で６６（Ｏｅμｍ）であり、実施例では、２５ｍｍ〜４
５ｍｍの半径位置で６６（Ｏｅμｍ）と４５ｍｍ〜６５
ｍｍの半径位置で４８（Ｏｅμｍ）であった。膜厚、保
磁力を変化させてもその積を変化させることにより、重
ね書き特性を良好な値にすることができる。

【００２９】次に、実施例３について説明する。膜厚と
保磁力の積値６６（Ｏｅμｍ）に対して、膜厚を順次変
化させてその積値を変化させたときの、積値の規格化値
（浮上量が最も少ない半径位置例えば最内周位置での積
値を最大値の１．０とする）に対する重ね書き特性を図
６に示す。この結果、積値と重ね書き特性は直線関係が
あり、最低浮上量の半径位置での積値（１．０）に対す
る、最高浮上量の半径位置での積値の減少変化率が５％
以下のとき、重ね書き特性の改善効果がほとんど観察で
きず、少なくとも５％以上の減少変化率、望ましくは１
０％以上の減少変化率が必要であることがわかった。

【００３０】つぎに、実施例４について説明する。この
実施例では、図７に示すような浮上曲線を持つ磁気記録
ヘッドが用いられ、浮上量がディスク記録媒体の半径方
向の中間で最大となり、最内周と最外周で最小となって
いる。この浮上特性は、磁気ヘッドを磁気ディスク記録
媒体の回転方向に対し斜めに配置することで得られ、主
に、５吋φ以下のような比較的小型のディスクに採用さ
れている。この磁気記録ヘッドに対して、媒体の領域を
３分割し浮上の高い領域（半径位置４２ｍｍ〜５３ｍ
ｍ）、低い領域（半径位置３０ｍｍ〜４２ｍｍ，５３ｍ
ｍ〜６４ｍｍ）に分け、浮上量の高い領域の膜厚、保磁
力の積値を、浮上量の低い領域の積値よりも低くなるよ
うにする。このため、半径位置４２ｍｍ〜５３ｍｍの領
域では中心線平均粗さＲａが４ｎｍ、その他の領域には
Ｒａが８ｎｍの微細傷をＮｉ−Ｐ基板に施した。その
後、基板温度２００℃，Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ，ＤＣ投入
電力４Ｗ／ｃｍ²でＣｒ下地膜を５０ｎｍ形成し、Ｃｏ
Ｃｒ₁₄Ｔａ₄合金を用いて磁気記録膜１４をＡｒ圧７ｍ
Ｔｏｒｒ，ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ² で５０ｎｍ形成し
た。この時の静磁気特性は半径位置４２ｍｍ〜５３ｍｍ
で１２００（Ｏｅ）、それ以外の領域で１４００（Ｏ
ｅ）、すなわち積値でそれぞれ６０（Ｏｅμｍ）と７０
（Ｏｅμｍ）であった。この時の重ね書き特性を全面７
０（Ｏｅμｍ）の比較試料と共に図８に示す。重ね書き
特性は比較試料では浮上量の変化と同一の傾向を示した
が、実施例試料では浮上の高い領域（半径位置４２ｍｍ
〜５３ｍｍ）で向上しており、その利得は４ｄＢ程度で
あった。

【００３１】これらの製造法を使用することとヘッドの
浮上を考慮することによって、高記録密度でしかも重ね
書き特性の優れた記録再生特性を保磁力と磁気記録膜厚
の組み合わせによって可能にすることができる。

【００３２】ここで、垂直磁気記録媒体（実施例５）に
ついて説明する。垂直磁気記録用の磁気記録媒体につい
て触れておくと、磁気記録膜厚は面内磁気記録用の媒体
に比較して厚くする必要がある。また、保磁力は面に対
して垂直方向成分を考慮する必要はあるが、やはり保磁
力と磁気記録膜厚の積により重ね書き特性を制御でき
る。ヘッドが媒体に常時接触しているタイプの磁気記録
装置に対してはヘッドの実効浮上量が変化しないため
に、保磁力と磁気記録膜厚の積を変化させる必要はない
が、非接触型の磁気ディスク装置においては、保磁力と
磁気記録膜厚の積を変化させる技術は重ね書き特性を向
上するために有効である。

【００３３】次に、再び面内磁気記録媒体の実施例（実
施例６）について図９を用いて説明する。

【００３４】外径１３０ｍｍφ，内径４０ｍｍφ，厚さ
１．９ｍｍのＡｌ合金基板９１の上に２０μｍの非磁性
１１ｗｔ％Ｐ−Ｎｉめっき層を形成した基板上に表面研
磨を施し、さらに表面に一様に基板円周方向に中心線平
均粗さＲａで１０ｎｍの微細傷を付け、さらに半径位置
４５ｍｍから６４ｍｍまでの面に中心線平均粗さＲａで
５ｎｍの微細傷を付け、膜厚１３μｍとした非磁性めっ
き層９２の上に基板温度２００℃，Ａｒ圧７ｍＴｏｒ
ｒ，ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ² でＣｒ下地膜９３を５０
ｎｍ形成し、ＣｏＣｒ₁₄Ｐｔ₆ 合金を用いて磁気記録膜
９４をＡｒ圧７ｍＴｏｒｒ，ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ²
で２０ｎｍ形成した。その後Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ，ＤＣ
投入電力４Ｗ／ｃｍ² でＣｒ中間層９５を２ｎｍ形成
し、さらにＣｏＣｒ₁₄Ｐｔ₆ 合金を用いて磁気記録膜９
４をＡｒ圧７ｍＴｏｒｒ，ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ² で
２０ｎｍ形成した。この時の静磁気特性は半径位置３５
ｍｍで１５００（Ｏｅ）、半径位置５５ｍｍで１３００
（Ｏｅ）であった。記録再生特性を図３に示す浮上曲線
を持つギャップ長０．４μｍの薄膜ヘッドで測定したと
ころ、図１０に示すように比較試料、検討試料（実施
例）ともにスペーシング損失が増大するにもかかわら
ず、周速の増加により出力振幅が増大し、最内周位置で
の出力振幅よりも大きいかった。

【００３５】このとき、保磁力と全磁気記録膜厚の積を
用いて重ね書き特性を全面６０（Ｏｅμｍ）の比較試料
と共に図１１に示す。重ね書き特性は、比較試料では浮
上量の変化と同一の傾向を示したが、実施例では浮上量
の高い領域（半径位置４５ｍｍ〜）で向上しており、そ
の利得は４ｄＢ程度であった。すなわち、多層化された
磁気記録膜においても、その全磁気記録膜厚と保磁力の
積で磁気記録膜の特性を表わし、この積値を媒体の面内
で変化させることにより重ね書き特性を改善することが
できる。

【００３６】また、保磁力と磁気記録膜厚の積を変化さ
せる方法として、基板上の同心円状微細傷の中心線平均
粗さＲａを変化させることにより磁性膜の保磁力を制御
する方法と磁気記録膜厚を変化させる方法をその一例と
して述べたが、別の方法として非磁性下地膜厚（Ｃｒ膜
厚）を面内で変化させることによりその上に形成される
磁性膜の結晶配列構造を変化させてその保磁力を制御す
る（一定の磁性膜厚でも、非磁性下地膜厚を厚くする程
磁性膜の保磁力が上がり、下地膜を薄くする程磁性膜の
保磁力が下がる）方法や、交差した微細傷処理で（例え
ば、同心円状のテクスチャと交差して、円周方向と半径
方向との中間の方向の、色々な傾斜で斜め方向のテクス
チャを付加するなどの方法で）かつ中心線平均粗さＲａ
を半径位置に応じて変化させることにより、保磁力と磁
気記録膜厚の積を変化させることが可能である。

【００３７】また、製造方法として真空技術のうちスパ
ッタリングによる方法について記載したが、この製法に
限る必要はなく、蒸着法、イオンビームスパッタ法、め
っき法、塗布法による磁性粉で構成される磁気記録膜の
形成法などでも良い。

【００３８】さらに、基板として用いる材料はＡｌ合金
にめっきを施したもののみのに限らず、ガラス基板やＴ
ｉ，Ｍｇ合金などによる非磁性基板を用いても良い。

【００３９】さらに、本実施例においては直径５．２５
インチ（１３０ｍｍ）の基板についてのみ示したが、本
発明は基板の直径に依存することはなく多様な直径の基
板について適用できる。

【００４０】また、非磁性下地膜、非磁性中間膜は、Ｃ
ｒに限らずＣｒ合金やＷ，Ｍｏなどの非磁性金属によっ
ても達成できる。

【００４１】

【発明の効果】以上詳しく説明したように、本発明によ
れば、磁気記録膜の面内の保磁力と磁気記録膜厚との積
を、磁気ヘッド浮上量が高い記録領域に行く程減少させ
るように構成したので、磁気ヘッド浮上量が記録領域に
よって異なっていても、重ね書き特性は、磁気記録媒体
の全記録領域でほぼ一定とすることができ、良好な重ね
書き特性が得られるという効果を奏する。

【００４２】また、非磁性基体に、中心線平均粗さが面
内で変化するようにテクスチャ加工を施すことにより、
磁気記録媒体の半径方向の全記録領域において、保磁力
の値を所望値に容易に調整することができるので、全記
録領域に対し良好な重ね書き特性を有する磁気記録媒体
が容易に得られるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図であ
る。

【図２】本発明の一実施例の磁気記録媒体の静磁気特性
結果を示す図である。

【図３】本発明の一実施例の磁気記録媒体の記録再生特
性を測定した磁気記録ヘッドの浮上軌跡曲線を示す図で
ある。

【図４】本発明の一実施例の磁気記録媒体の記録再生特
性を測定した結果を示す図である。

【図５】本発明の他の実施例の磁気記録媒体の記録再生
特性を測定した結果を示す図である。

【図６】本発明の他の実施例の磁気記録媒体の保磁力と
磁気記録膜厚の積の規格化値と重ね書き特性との関係を
示す図である。

【図７】本発明の他の実施例の磁気記録媒体の記録再生
特性を測定した磁気記録ヘッドの浮上軌跡曲線を示す図
である。

【図８】本発明のさらに他の実施例の磁気記録媒体の記
録再生特性を測定した結果を示す図である。

【図９】本発明のさらに他の実施例の磁気記録媒体の断
面図である。

【図１０】本発明のさらに他の実施例の磁気記録媒体の
出力振幅の結果を示す図である。

【図１１】本発明のさらに他の実施例の磁気記録媒体の
重ね書き特性の結果を示す図である。

【符号の説明】

１１，９１基板１２，９２非磁性めっき膜１３，９３非磁性下地膜（中間層）１４，９４磁気記録膜９５磁気記録膜間挿入非磁性膜１６，９６非磁性被覆膜１７，９７潤滑膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性の基体の上に磁気記録膜を形成し
た磁気記録媒体において、前記磁気記録膜の面内の保磁
力と磁気記録膜厚との積を、磁気記録用ヘッドの浮上量
が増加する記録領域程、減少させたことを特徴とする磁
気記録媒体。
【請求項２】非磁性の基体の上に磁気記録膜を形成し
た磁気記録媒体において、前記磁気記録膜の面内の保磁
力と磁気記録膜厚との積の最小値を、この積の面内の最
大値に対して５％以上減少させた記録領域を持つことを
特徴とする磁気記録媒体。
【請求項３】前記非磁性の基体と磁気記録膜の間に非
磁性の中間層が形成されていることを特徴とする請求項
１または２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】前記磁気記録膜が非磁性膜を介した多層
膜で構成されていることを特徴とする請求項１ないし３
のいずれか１記載の磁気記録媒体。
【請求項５】前記非磁性基体に、中心線平均粗さが面
内で変化するようにテクスチャ加工を施すことにより、
前記磁気記録膜の保磁力と磁気記録膜厚との積を調整す
るように構成したことを特徴とする請求項１ないし４の
いずれか１記載の磁気記録媒体。