JPH06218226A - 排ガスの処理方法 - Google Patents
排ガスの処理方法Info
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- JPH06218226A JPH06218226A JP5032849A JP3284993A JPH06218226A JP H06218226 A JPH06218226 A JP H06218226A JP 5032849 A JP5032849 A JP 5032849A JP 3284993 A JP3284993 A JP 3284993A JP H06218226 A JPH06218226 A JP H06218226A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低コストで排ガス中の有機化合物を処理す
る。 【構成】 還元電位水噴出器１０が排ガス中に還元電位
水５を噴出し、還元電位水５を排ガス中の有機化合物を
１次処理する。第１，第２の電極１１Ａ，１１Ｂから第
３の電極１１Ｃに排ガス中の水分を通して直流電流を流
し、水分を電気分解して水分の酸化還元電位を更に下
げ、得られた還元電位の水分と活性酸素とで排気ガス中
の有機化合物を２次処理する。
る。 【構成】 還元電位水噴出器１０が排ガス中に還元電位
水５を噴出し、還元電位水５を排ガス中の有機化合物を
１次処理する。第１，第２の電極１１Ａ，１１Ｂから第
３の電極１１Ｃに排ガス中の水分を通して直流電流を流
し、水分を電気分解して水分の酸化還元電位を更に下
げ、得られた還元電位の水分と活性酸素とで排気ガス中
の有機化合物を２次処理する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば焼却炉等から排
出される排ガス中に含まれる有機化合物を無害化処理す
る排ガスの処理方法に関するものである。
出される排ガス中に含まれる有機化合物を無害化処理す
る排ガスの処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、排ガス中の有機化合物の処理は白
金等の貴金属等を用いて行っていた。
金等の貴金属等を用いて行っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、貴金属
等を使用する排ガスの処理方法では、コスト高となる問
題点があった。
等を使用する排ガスの処理方法では、コスト高となる問
題点があった。
【０００４】本発明の目的は、低コストで排ガス中の有
機化合物を処理できる排ガスの処理方法を提供すること
にある。
機化合物を処理できる排ガスの処理方法を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明の手段を説明すると、次の通りである。
めの本発明の手段を説明すると、次の通りである。
【０００６】請求項１に記載の排ガスの処理方法は、排
ガスが通る排ガス通路の前段に還元電位水噴出器を配置
し、前記排ガス通路の後段に第１，第２，第３の電極を
配置し、前記第１，第２，の電極間に交流を印加し、前
記第３の電極を接地し、前記還元電位水噴出器から前記
排ガス中に還元電位水を噴出し、該還元電位水で前記排
ガス中の有機化合物を１次処理し、次に、前記第１，第
２の電極から前記第３の電極に前記排ガス中の水分を通
して直流電流を流し、前記水分を電気分解して該水分の
酸化還元電位を更に下げ、得られた還元電位の水分と活
性酸素とで前記排ガス中の有機化合物を２次処理するこ
とを特徴とする。
ガスが通る排ガス通路の前段に還元電位水噴出器を配置
し、前記排ガス通路の後段に第１，第２，第３の電極を
配置し、前記第１，第２，の電極間に交流を印加し、前
記第３の電極を接地し、前記還元電位水噴出器から前記
排ガス中に還元電位水を噴出し、該還元電位水で前記排
ガス中の有機化合物を１次処理し、次に、前記第１，第
２の電極から前記第３の電極に前記排ガス中の水分を通
して直流電流を流し、前記水分を電気分解して該水分の
酸化還元電位を更に下げ、得られた還元電位の水分と活
性酸素とで前記排ガス中の有機化合物を２次処理するこ
とを特徴とする。
【０００７】請求項２に記載の排ガスの処理方法は、排
ガスが通る排ガス通路の前段に還元電位水噴出器を配置
し、前記排ガス通路の後段に第１，第２，第３，第４の
電極を配置し、前記第１，第２の電極間に交流を印加
し、前記第３，第４の電極を低周期で交互に接地すると
ともに、非接地となる電極を正の電位にし、前記還元電
位水噴出器から前記排ガス中に還元電位水を噴射し、次
に前記第１，第２の電極から接地した前記第３又は第４
の電極に前記排ガス中の水分を通して直流電流を流し、
前記水分を電気分解して該水分の酸化還元電位を更に下
げ、得られた還元電位の水分と活性酸素とで前記排ガス
中の有機化合物を２次処理することを特徴とする。
ガスが通る排ガス通路の前段に還元電位水噴出器を配置
し、前記排ガス通路の後段に第１，第２，第３，第４の
電極を配置し、前記第１，第２の電極間に交流を印加
し、前記第３，第４の電極を低周期で交互に接地すると
ともに、非接地となる電極を正の電位にし、前記還元電
位水噴出器から前記排ガス中に還元電位水を噴射し、次
に前記第１，第２の電極から接地した前記第３又は第４
の電極に前記排ガス中の水分を通して直流電流を流し、
前記水分を電気分解して該水分の酸化還元電位を更に下
げ、得られた還元電位の水分と活性酸素とで前記排ガス
中の有機化合物を２次処理することを特徴とする。
【０００８】請求項３に記載の排ガスの処理方法は、請
求項１又は２において、第１，第２の電極として酸化還
元電位を低下させる金属からなる電極を用いることを特
徴とする。
求項１又は２において、第１，第２の電極として酸化還
元電位を低下させる金属からなる電極を用いることを特
徴とする。
【０００９】
【作用】請求項１のように、排ガスに還元電位水噴出器
から還元電位水を噴出すると、この還元電位水と排ガス
中の有機化合物が接触して電子反応（例えば、イオン結
合、共有結合等）や化学反応が該排気ガス中の有機化合
物に対して発生し、該有機化合物が凝集沈下する。ま
た、該還元電位水中に含まれる活性酸素が該排気ガス中
の有機化合物と反応し、化学燃焼等が発生してフリーラ
ジカルが化学的に安定なラジカルになる。このような排
気ガスの１次処理により排気ガス中の一部の有機化合物
を回収或いは無害化できる。
から還元電位水を噴出すると、この還元電位水と排ガス
中の有機化合物が接触して電子反応（例えば、イオン結
合、共有結合等）や化学反応が該排気ガス中の有機化合
物に対して発生し、該有機化合物が凝集沈下する。ま
た、該還元電位水中に含まれる活性酸素が該排気ガス中
の有機化合物と反応し、化学燃焼等が発生してフリーラ
ジカルが化学的に安定なラジカルになる。このような排
気ガスの１次処理により排気ガス中の一部の有機化合物
を回収或いは無害化できる。
【００１０】次に、１次処理した排気ガスが通る排ガス
通路に配置された第１〜第３の電極の内、第１，第２の
電極間に交流を印加し、第３の電極を接地すると、第
１，第２の電極から第３の電極に排ガス中の水分を経て
直流電流が流れ、該水分が電気分解される。これによ
り、該水分の酸化還元電位が更に低下する。
通路に配置された第１〜第３の電極の内、第１，第２の
電極間に交流を印加し、第３の電極を接地すると、第
１，第２の電極から第３の電極に排ガス中の水分を経て
直流電流が流れ、該水分が電気分解される。これによ
り、該水分の酸化還元電位が更に低下する。
【００１１】このように水分の酸化還元電位が更に低下
すると、前述したような電子反応や化学反応が排ガス中
の有機化合物に対して一層活発に発生し、該有機化合物
が更に効率よく凝集沈下する。
すると、前述したような電子反応や化学反応が排ガス中
の有機化合物に対して一層活発に発生し、該有機化合物
が更に効率よく凝集沈下する。
【００１２】また、水分の電気分解により活性酸素が発
生し、排気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等が
発生してフリーラジカルが化学的に安定なラジカルにな
る。このような排気ガスの２次処理により排気ガス中の
残りの有機化合物の回収と無害化が図られる。
生し、排気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等が
発生してフリーラジカルが化学的に安定なラジカルにな
る。このような排気ガスの２次処理により排気ガス中の
残りの有機化合物の回収と無害化が図られる。
【００１３】請求項２のように、第３，第４の電極を用
い、これらの電極を低周期で交互に接地するとともに、
非接地となる電極を正電位にすると、水分の電気分解時
に第３，第４の電極に付着物が付くのを防止できる。
い、これらの電極を低周期で交互に接地するとともに、
非接地となる電極を正電位にすると、水分の電気分解時
に第３，第４の電極に付着物が付くのを防止できる。
【００１４】請求項３のように、第１，第２の電極とし
て酸化還元電位を低下させる金属からなる電極を用いる
と、水分の還元電位を効率よく下げることができ、有機
化合物の処理を一層効率よく行わせることができる。
て酸化還元電位を低下させる金属からなる電極を用いる
と、水分の還元電位を効率よく下げることができ、有機
化合物の処理を一層効率よく行わせることができる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図を参照して詳細に
説明する。
説明する。
【００１６】図１は、本発明で用いる排ガスの処理装置
の第１実施例を示したものである。図において、１は焼
却炉、２は焼却炉１から排出される排ガスの排ガス通路
３を形成している排煙管、４は還元電位水５を形成する
容器、６Ａ，６Ｂ，６Ｃは容器４内の水中に配置した電
極である。電極６Ａ，６Ｂとしては、酸化還元電位を低
下させる、例えばリチウム，亜鉛，マグネシウム，鉄，
ステンレス，銅等の金属からなる電極が用いられてい
る。電極６Ｃは接地されている。７は電極６Ａ，６Ｂに
給電する電源回路である。８は容器４から還元電位水５
をポンプ９で汲み出す配管、１０は配管８から給水され
て排ガス通路３内の排ガス中に還元電位水５を噴出させ
る噴霧器やシャワーの如き還元電位水噴出器である。３
０は還元電位水噴出器１０の下方の排煙管２に設けられ
ている排水口である。
の第１実施例を示したものである。図において、１は焼
却炉、２は焼却炉１から排出される排ガスの排ガス通路
３を形成している排煙管、４は還元電位水５を形成する
容器、６Ａ，６Ｂ，６Ｃは容器４内の水中に配置した電
極である。電極６Ａ，６Ｂとしては、酸化還元電位を低
下させる、例えばリチウム，亜鉛，マグネシウム，鉄，
ステンレス，銅等の金属からなる電極が用いられてい
る。電極６Ｃは接地されている。７は電極６Ａ，６Ｂに
給電する電源回路である。８は容器４から還元電位水５
をポンプ９で汲み出す配管、１０は配管８から給水され
て排ガス通路３内の排ガス中に還元電位水５を噴出させ
る噴霧器やシャワーの如き還元電位水噴出器である。３
０は還元電位水噴出器１０の下方の排煙管２に設けられ
ている排水口である。
【００１７】１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃは還元電位水噴出
器１０の設置位置より下流側の排ガス通路３内に対向配
置されている第１，第２，第３の電極である。この場
合、第１，第２の電極１１Ａ，１１Ｂも、酸化還元電位
を低下させる前述したような金属で形成されている。第
３の電極１１Ｃは接地されている。１２は第１，第２の
電極１１Ａ，１１Ｂに給電する電源回路である。
器１０の設置位置より下流側の排ガス通路３内に対向配
置されている第１，第２，第３の電極である。この場
合、第１，第２の電極１１Ａ，１１Ｂも、酸化還元電位
を低下させる前述したような金属で形成されている。第
３の電極１１Ｃは接地されている。１２は第１，第２の
電極１１Ａ，１１Ｂに給電する電源回路である。
【００１８】図２は、図１で用いている電源回路７の具
体的回路構成を示したものである。図において、１３は
例えば１０Ｖ〜２００Ｖの直流電源、１４Ａ，１４Ｂは
直流電源１３に可変抵抗１５を介してそれぞれ接続され
ていて、該直流電源１３からの直流電圧を高周波の交流
に変換して電極６Ａ，６Ｂに交互に与える第１，第２の
高周波スイッチである。これら第１，第２の高周波スイ
ッチ１４Ａ，１４Ｂは、トランジスタ１６Ａ，１７Ａと
１６Ｂ，１７Ｂとにより構成されている。１８は電極６
Ａ，６Ｂ間に接続されているコンデンサである。１９は
第１，第２の高周波スイッチ１４Ａ，１４Ｂに抵抗２０
Ａ，２０Ｂを介して高周波の切換指令を与えるフリップ
フロップ回路よりなる高周波切換指令回路、２１は高周
波切換指令回路１９に２０ｋＨｚ以上の高周波信号を与
える高周波発振器である。
体的回路構成を示したものである。図において、１３は
例えば１０Ｖ〜２００Ｖの直流電源、１４Ａ，１４Ｂは
直流電源１３に可変抵抗１５を介してそれぞれ接続され
ていて、該直流電源１３からの直流電圧を高周波の交流
に変換して電極６Ａ，６Ｂに交互に与える第１，第２の
高周波スイッチである。これら第１，第２の高周波スイ
ッチ１４Ａ，１４Ｂは、トランジスタ１６Ａ，１７Ａと
１６Ｂ，１７Ｂとにより構成されている。１８は電極６
Ａ，６Ｂ間に接続されているコンデンサである。１９は
第１，第２の高周波スイッチ１４Ａ，１４Ｂに抵抗２０
Ａ，２０Ｂを介して高周波の切換指令を与えるフリップ
フロップ回路よりなる高周波切換指令回路、２１は高周
波切換指令回路１９に２０ｋＨｚ以上の高周波信号を与
える高周波発振器である。
【００１９】電源回路１２も電源回路７と同様の構成に
なっている。但し、この場合の直流電源１３は、例えば
５０〜２０００Ｖの直流電圧を発生するものが用いられ
ている。
なっている。但し、この場合の直流電源１３は、例えば
５０〜２０００Ｖの直流電圧を発生するものが用いられ
ている。
【００２０】次に、このような装置による排ガスの処理
方法について説明する。
方法について説明する。
【００２１】まず、電源回路７を用いた還元電位水５の
形成の仕方について説明する。水を入れた容器４内の電
極６Ａ，６Ｂに１０Ｖ〜２００Ｖの電圧で２０ｋＨｚ以
上の高周波の交流を第１，第２の高周波スイッチ１４
Ａ，１４Ｂの作用で交互に印加する。このような高周波
の交流は、高周波発振器２１の高周波信号を高周波切換
指令回路１９に与え、該高周波切換指令回路１９から高
周波の切換指令を第１，第２の高周波スイッチ１４Ａ，
１４Ｂに与え、これら第１，第２の高周波スイッチ１４
Ａ，１４Ｂを高周期でオン、オフし、直流電源１３から
の出力を電極６Ａ，６Ｂに交互に与えることにより形成
する。
形成の仕方について説明する。水を入れた容器４内の電
極６Ａ，６Ｂに１０Ｖ〜２００Ｖの電圧で２０ｋＨｚ以
上の高周波の交流を第１，第２の高周波スイッチ１４
Ａ，１４Ｂの作用で交互に印加する。このような高周波
の交流は、高周波発振器２１の高周波信号を高周波切換
指令回路１９に与え、該高周波切換指令回路１９から高
周波の切換指令を第１，第２の高周波スイッチ１４Ａ，
１４Ｂに与え、これら第１，第２の高周波スイッチ１４
Ａ，１４Ｂを高周期でオン、オフし、直流電源１３から
の出力を電極６Ａ，６Ｂに交互に与えることにより形成
する。
【００２２】このとき、電極６Ａ，６Ｂ間に現れる交流
電圧を示すと図３の通りである。これら交流電圧の波高
値は、可変抵抗１５により定められる。
電圧を示すと図３の通りである。これら交流電圧の波高
値は、可変抵抗１５により定められる。
【００２３】このように電極６Ａ，６Ｂに高周波の交流
を印加すると、電極６Ａ，６Ｂと電極６Ｃとの間には水
の整流作用により直流電流が電極６Ａから電極６Ｃ、電
極６Ｂから電極６Ｃと交互に流れる。
を印加すると、電極６Ａ，６Ｂと電極６Ｃとの間には水
の整流作用により直流電流が電極６Ａから電極６Ｃ、電
極６Ｂから電極６Ｃと交互に流れる。
【００２４】これにより容器４内の水が電気分解し、該
水の酸化還元電位が低下し、還元電位となる。即ち、こ
のようにして還元電位水５が得られる。
水の酸化還元電位が低下し、還元電位となる。即ち、こ
のようにして還元電位水５が得られる。
【００２５】特にこの場合、電極６Ａ，６Ｂとして酸化
還元電位を低下させる金属からなる電極を用いているの
で、処理された水の酸化還元電位を、例えば＋３００ｍ
Ｖから著しく低下させることができる。
還元電位を低下させる金属からなる電極を用いているの
で、処理された水の酸化還元電位を、例えば＋３００ｍ
Ｖから著しく低下させることができる。
【００２６】例えば、リチウムからなる電極では−２５
００ｍＶ程度まで低下させることができ、亜鉛からなる
電極では−５００ｍＶ〜−６００ｍＶ程度まで低下させ
ることかでき、マグネシウムからなる電極では−２５０
０ｍＶ程度まで低下させることができ、鉄からなる電極
では−５００ｍＶ程度まで低下させることができ、アル
ミニウムからなる電極では−１０００ｍＶ程度まで低下
させることができる。即ち、これら酸化還元電位を低下
させる金属からなる電極６Ａ，６Ｂは、水の電気分解時
に溶解して酸化還元電位を下げるように作用する。
００ｍＶ程度まで低下させることができ、亜鉛からなる
電極では−５００ｍＶ〜−６００ｍＶ程度まで低下させ
ることかでき、マグネシウムからなる電極では−２５０
０ｍＶ程度まで低下させることができ、鉄からなる電極
では−５００ｍＶ程度まで低下させることができ、アル
ミニウムからなる電極では−１０００ｍＶ程度まで低下
させることができる。即ち、これら酸化還元電位を低下
させる金属からなる電極６Ａ，６Ｂは、水の電気分解時
に溶解して酸化還元電位を下げるように作用する。
【００２７】得られた還元電位水５をポンプ９で汲み出
し、配管８を経て各還元電位水噴出器１０に供給し、こ
れら還元電位水噴出器１０から還元電位水５を、排ガス
通路３を通り排ガス中に、例えばシャワー状或いは霧状
に噴出させる。
し、配管８を経て各還元電位水噴出器１０に供給し、こ
れら還元電位水噴出器１０から還元電位水５を、排ガス
通路３を通り排ガス中に、例えばシャワー状或いは霧状
に噴出させる。
【００２８】かくすると、この還元電位水５と排ガス中
の有機化合物が接触して、電子反応や化学反応が該排ガ
ス中の有機化合物に対して発生し、該有機化合物が凝集
沈下する。
の有機化合物が接触して、電子反応や化学反応が該排ガ
ス中の有機化合物に対して発生し、該有機化合物が凝集
沈下する。
【００２９】また、該還元電位水５中に含まれる活性酸
素が該排気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等が
発生してフリーラジカルが化学的に安定なラジカルにな
る。
素が該排気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等が
発生してフリーラジカルが化学的に安定なラジカルにな
る。
【００３０】このような排気ガスの１次処理により、排
気ガス中の一部の有機化合物を回収或いは無害化でき
る。
気ガス中の一部の有機化合物を回収或いは無害化でき
る。
【００３１】次に、１次処理した排気ガスが通る排ガス
通路３に配置された第１，第２の電極１１Ａ，１１Ｂに
５０Ｖ〜３０００Ｖの電圧で３０ｋＨｚ〜５０ｋＨｚの
高周波の交流を第１，第２の高周波スイッチ１４Ａ，１
４Ｂ（図２参照）の作用で交互に印加する。
通路３に配置された第１，第２の電極１１Ａ，１１Ｂに
５０Ｖ〜３０００Ｖの電圧で３０ｋＨｚ〜５０ｋＨｚの
高周波の交流を第１，第２の高周波スイッチ１４Ａ，１
４Ｂ（図２参照）の作用で交互に印加する。
【００３２】このように第１，第２の電極１１Ａ，１１
Ｂに高周波の交流を印加すると、第１，第２の電極１１
Ａ，１１Ｂと第３の電極１１Ｃとの間には排気ガス中の
水分を通して直流電流が、第１の電極１１Ａから第３の
電極１１Ｃ、第２の電極１１Ｂから第３の電極１１Ｃと
交互に流れる。
Ｂに高周波の交流を印加すると、第１，第２の電極１１
Ａ，１１Ｂと第３の電極１１Ｃとの間には排気ガス中の
水分を通して直流電流が、第１の電極１１Ａから第３の
電極１１Ｃ、第２の電極１１Ｂから第３の電極１１Ｃと
交互に流れる。
【００３３】これにより排気ガス中の水分が電気分解
し、電子が第３の電極１１Ｃを経て接地側に流れ、水分
の酸化還元電位が更に低下する。
し、電子が第３の電極１１Ｃを経て接地側に流れ、水分
の酸化還元電位が更に低下する。
【００３４】特に、この場合、第１，第２の電極１１
Ａ，１１Ｂとして前述したような酸化還元電位を低下さ
せる金属からなる電極を用いると、水分の酸化還元電位
を、前述したように効率よく低下させることができる。
即ち、これら酸化還元電位を低下させる金属からなる電
極１１Ａ，１１Ｂは、水分の電気分解時に水分中に溶解
して酸化還元電位を下げるように作用する。
Ａ，１１Ｂとして前述したような酸化還元電位を低下さ
せる金属からなる電極を用いると、水分の酸化還元電位
を、前述したように効率よく低下させることができる。
即ち、これら酸化還元電位を低下させる金属からなる電
極１１Ａ，１１Ｂは、水分の電気分解時に水分中に溶解
して酸化還元電位を下げるように作用する。
【００３５】このように排気ガス中の水分の酸化還元電
位が更に低下すると、前述したように電子反応（例え
ば、イオン結合、共有結合等）や化学反応が排気ガス中
の有機化合物に対して発生し、該有機化合物が凝集沈下
する。また水分の電気分解により活性酸素が発生し、排
気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等が発生して
フリーラジカルが化学的に安定なラジカルになる。
位が更に低下すると、前述したように電子反応（例え
ば、イオン結合、共有結合等）や化学反応が排気ガス中
の有機化合物に対して発生し、該有機化合物が凝集沈下
する。また水分の電気分解により活性酸素が発生し、排
気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等が発生して
フリーラジカルが化学的に安定なラジカルになる。
【００３６】このような排気ガスの２次処理により排気
ガス中の残りの有機化合物の回収と無害化が図られる。
ガス中の残りの有機化合物の回収と無害化が図られる。
【００３７】なお、排煙管２を金属で形成して接地する
と、該排煙管２を第３の電極１１Ｃとして兼用すること
ができる。
と、該排煙管２を第３の電極１１Ｃとして兼用すること
ができる。
【００３８】図４は、本発明で用いる電源装置１２の他
の実施例を示したものである。なお、前述した図２と対
応する部分には同一符号を付けて示している。
の実施例を示したものである。なお、前述した図２と対
応する部分には同一符号を付けて示している。
【００３９】図において、１１Ｄは第４の電極であっ
て、第１〜第３の電極１１Ａ〜１１Ｃとともに排煙管２
内に図示のように対向配置されている。なお、第３，第
４の電極１１Ｃ，１１Ｄは、図４中仮線で示すように排
煙管２の中央に配置してもよい。第１，第２の電極１１
Ａ，１１Ｂは、図１の場合と同様に酸化還元電位を低下
させる金属で形成されている。２２Ａ，２２Ｂは第３，
第４の電極１１Ｃ，１１Ｄを交互に低周期で接地するた
めの低周波スイッチ、２３は高周波発振器２１の３０ｋ
Ｈｚ〜５０ｋＨｚの高周波信号を、例えば１／２14に分
周して低周波切換指令を抵抗２４Ａ，２４Ｂを介して低
周波スイッチ２２Ａ，２２Ｂに与える低周波切換指令回
路である。
て、第１〜第３の電極１１Ａ〜１１Ｃとともに排煙管２
内に図示のように対向配置されている。なお、第３，第
４の電極１１Ｃ，１１Ｄは、図４中仮線で示すように排
煙管２の中央に配置してもよい。第１，第２の電極１１
Ａ，１１Ｂは、図１の場合と同様に酸化還元電位を低下
させる金属で形成されている。２２Ａ，２２Ｂは第３，
第４の電極１１Ｃ，１１Ｄを交互に低周期で接地するた
めの低周波スイッチ、２３は高周波発振器２１の３０ｋ
Ｈｚ〜５０ｋＨｚの高周波信号を、例えば１／２14に分
周して低周波切換指令を抵抗２４Ａ，２４Ｂを介して低
周波スイッチ２２Ａ，２２Ｂに与える低周波切換指令回
路である。
【００４０】２５Ａ，２５Ｂはトランジスタよりなる低
周波スイッチ２２Ａ，２２Ｂのコレクタを直流電源のプ
ラス側に接続してスイッチオフ時に第３又は第４の電極
１１Ｃ，１１Ｄを正電位に保持させる抵抗である。
周波スイッチ２２Ａ，２２Ｂのコレクタを直流電源のプ
ラス側に接続してスイッチオフ時に第３又は第４の電極
１１Ｃ，１１Ｄを正電位に保持させる抵抗である。
【００４１】本実施例では、第１，第２の電極１１Ａ，
１１Ｂに５０Ｖ〜３０００Ｖの電圧で３０ｋＨｚ〜５０
ｋＨｚの高周波交流を第１，第２の高周波スイッチ１３
Ａ，１３Ｂの作用で交互に印加する。
１１Ｂに５０Ｖ〜３０００Ｖの電圧で３０ｋＨｚ〜５０
ｋＨｚの高周波交流を第１，第２の高周波スイッチ１３
Ａ，１３Ｂの作用で交互に印加する。
【００４２】一方、低周波スイッチ２２Ａ，２２Ｂに
は、低周波切換指令回路２３で低周波信号を与え、これ
ら低周波スイッチ２２Ａ，２２Ｂを低周期で交互にオン
とし、これにより第３，第４の電極１１Ｃ，１１Ｄを交
互に接地する。オフとなった方の電極１１Ｃ又は１１Ｄ
は、抵抗２５Ａ又は２５Ｂを介してプラス電位に保持す
る。
は、低周波切換指令回路２３で低周波信号を与え、これ
ら低周波スイッチ２２Ａ，２２Ｂを低周期で交互にオン
とし、これにより第３，第４の電極１１Ｃ，１１Ｄを交
互に接地する。オフとなった方の電極１１Ｃ又は１１Ｄ
は、抵抗２５Ａ又は２５Ｂを介してプラス電位に保持す
る。
【００４３】このようにすると、高周波の交流が交互に
印加されている第１，第２の電極１１Ａ，１１Ｂから排
気ガス中の水分を経て直流が第３又は第４の電極１１
Ｃ，１１Ｄに交互に流れることになる。
印加されている第１，第２の電極１１Ａ，１１Ｂから排
気ガス中の水分を経て直流が第３又は第４の電極１１
Ｃ，１１Ｄに交互に流れることになる。
【００４４】また、非接地となる方の第３又は第４の電
極１１Ｃ，１１Ｄをプラス電位にすると、電極面に対す
るカルシウム等のごみの付着を防止することができ、メ
ンテナンスが容易となる。
極１１Ｃ，１１Ｄをプラス電位にすると、電極面に対す
るカルシウム等のごみの付着を防止することができ、メ
ンテナンスが容易となる。
【００４５】また、処理をより確実に行わせるために
は、排ガス通路３の長手方向に複数段に第１〜第３の電
極１１Ａ〜１１Ｃ或いは第１〜第４の電極１１Ａ〜１１
Ｄを配置すればよい。
は、排ガス通路３の長手方向に複数段に第１〜第３の電
極１１Ａ〜１１Ｃ或いは第１〜第４の電極１１Ａ〜１１
Ｄを配置すればよい。
【００４６】また、第１，第２の電極１１Ａ，１１Ｂ間
に印加する電圧を矩形波にすると、より一層効率よく酸
化還元電位を下げることができる。
に印加する電圧を矩形波にすると、より一層効率よく酸
化還元電位を下げることができる。
【００４７】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る排ガス
の処理方法によれば、下記のような効果を得ることがで
きる。
の処理方法によれば、下記のような効果を得ることがで
きる。
【００４８】請求項１に記載の排ガスの処理方法では、
排ガスに還元電位水噴出器から還元電位水を噴出するの
で、この還元電位水と排ガス中の有機化合物が接触し
て、電子反応や化学反応が該排気ガス中の有機化合物に
対して発生し、該有機化合物を凝集沈下させることがで
きる。また、このとき、該還元電位水中に含まれる活性
酸素が該排気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等
が発生してフリーラジカルを化学的に安定なラジカルに
することかできる。このような排気ガスの１次処理によ
り排気ガス中の一部の有機化合物を回収或いは無害化す
ることができる。
排ガスに還元電位水噴出器から還元電位水を噴出するの
で、この還元電位水と排ガス中の有機化合物が接触し
て、電子反応や化学反応が該排気ガス中の有機化合物に
対して発生し、該有機化合物を凝集沈下させることがで
きる。また、このとき、該還元電位水中に含まれる活性
酸素が該排気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等
が発生してフリーラジカルを化学的に安定なラジカルに
することかできる。このような排気ガスの１次処理によ
り排気ガス中の一部の有機化合物を回収或いは無害化す
ることができる。
【００４９】次に１次処理した排気ガスが通る排ガス通
路に配置された第１〜第３の電極の内、第１，第２の電
極間に交流を印加し、第３の電極を接地するので、第
１，第２の電極から第３の電極に排ガス中の水分を経て
直流電流が流れ、該水分を電気分解することができる。
これにより、該水分の酸化還元電位を更に低下させるこ
とができる。
路に配置された第１〜第３の電極の内、第１，第２の電
極間に交流を印加し、第３の電極を接地するので、第
１，第２の電極から第３の電極に排ガス中の水分を経て
直流電流が流れ、該水分を電気分解することができる。
これにより、該水分の酸化還元電位を更に低下させるこ
とができる。
【００５０】このように水分の酸化還元電位が更に低下
すると、電子反応や化学反応が排ガス中の有機化合物に
対して一層活発に発生し、該有機化合物を更に効率良く
凝集沈下させることができる。
すると、電子反応や化学反応が排ガス中の有機化合物に
対して一層活発に発生し、該有機化合物を更に効率良く
凝集沈下させることができる。
【００５１】また、水分の電気分解により活性酸素が発
生し、排気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等が
発生してフリーラジカルを化学的に安定なラジカルにす
ることができる。このような排気ガスの２次処理により
排気ガス中の残りの有機化合物の回収と無害化を図るこ
とができる。
生し、排気ガス中の有機化合物と反応し、化学燃焼等が
発生してフリーラジカルを化学的に安定なラジカルにす
ることができる。このような排気ガスの２次処理により
排気ガス中の残りの有機化合物の回収と無害化を図るこ
とができる。
【００５２】請求項２に記載の排ガスの処理方法では、
第３，第４の電極を用い、これらの電極を低周期で交互
に接地するととともに、非接地となる電極を正電位にす
るので、水分の電気分解時に第３，第４の電極に付着物
が付くのを防止することができる。
第３，第４の電極を用い、これらの電極を低周期で交互
に接地するととともに、非接地となる電極を正電位にす
るので、水分の電気分解時に第３，第４の電極に付着物
が付くのを防止することができる。
【００５３】請求項３に記載の排ガスの処理方法では、
第１，第２の電極として酸化還元電位を低下させる金属
からなる電極を用いるので、水分の還元電位を効率よく
下げることができ、有機化合物の処理を一層効率よく行
わせることができる。
第１，第２の電極として酸化還元電位を低下させる金属
からなる電極を用いるので、水分の還元電位を効率よく
下げることができ、有機化合物の処理を一層効率よく行
わせることができる。
【図１】本発明に係る排ガスの処理方法を実施する装置
の一実施例を示す縦断面図である。
の一実施例を示す縦断面図である。
【図２】図１で用いている電源回路の一例を示す回路図
である。
である。
【図３】図１の実施例で接地されていない両電極に印加
される高周波交流の波形図である。
される高周波交流の波形図である。
【図４】本発明で用いる電極及び電源回路の他の例を示
す回路図である。
す回路図である。
１ 焼却炉 ２ 排煙管 ３ 排ガス通路 ４ 容器 ５ 還元電位水 ６Ａ〜６Ｃ 電極 ７ 電源回路 ８ 配管 ９ ポンプ １０ 還元電位水噴出器 １１Ａ〜１１Ｄ 第１〜第４の電極 １２ 電源回路 １３ 直流電源 １４Ａ，１４Ｂ 第１，第２の高周波スイッチ １５ 可変抵抗 １６Ａ，１６Ｂ，１７Ａ，１７Ｂ トランジスタ １８ コンデンサ １９ 高周波切換指令回路 ２０Ａ，２０Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ，２５Ａ，２５Ｂ 抵
抗 ２１ 高周波発振器 ２２Ａ，２２Ｂ 低周波スイッチ ２３ 低周波切換指令回路 ３０ 排水口
抗 ２１ 高周波発振器 ２２Ａ，２２Ｂ 低周波スイッチ ２３ 低周波切換指令回路 ３０ 排水口
Claims (3)
- 【請求項１】 排ガスが通る排ガス通路の前段に還元電
位水噴出器を配置し、前記排ガス通路の後段に第１，第
２，第３の電極を配置し、前記第１，第２，の電極間に
交流を印加し、前記第３の電極を接地し、前記還元電位
水噴出器から前記排ガス中に還元電位水を噴出し、該還
元電位水で前記排ガス中の有機化合物を１次処理し、次
に、前記第１，第２の電極から前記第３の電極に前記排
ガス中の水分を通して直流電流を流し、前記水分を電気
分解して該水分の酸化還元電位を更に下げ、得られた還
元電位の水分と活性酸素とで前記排ガス中の有機化合物
を２次処理することを特徴とする排ガスの処理方法。 - 【請求項２】 排ガスが通る排ガス通路の前段に還元電
位水噴出器を配置し、前記排ガス通路の後段に第１，第
２，第３，第４の電極を配置し、前記第１，第２の電極
間に交流を印加し、前記第３，第４の電極を低周期で交
互に接地するとともに、非接地となる電極を正の電位に
し、前記還元電位水噴出器から前記排ガス中に還元電位
水を噴射し、次に前記第１，第２の電極から接地した前
記第３又は第４の電極に前記排ガス中の水分を通して直
流電流を流し、前記水分を電気分解して該水分の酸化還
元電位を更に下げ、得られた還元電位の水分と活性酸素
とで前記排ガス中の有機化合物を２次処理することを特
徴とする排ガスの処理方法。 - 【請求項３】 第１，第２の電極として酸化還元電位を
低下させる金属からなる電極を用いることを特徴とする
請求項１又は２に記載の排ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5032849A JPH06218226A (ja) | 1993-01-28 | 1993-01-28 | 排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5032849A JPH06218226A (ja) | 1993-01-28 | 1993-01-28 | 排ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06218226A true JPH06218226A (ja) | 1994-08-09 |
Family
ID=12370287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5032849A Pending JPH06218226A (ja) | 1993-01-28 | 1993-01-28 | 排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06218226A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0670174A1 (en) * | 1994-03-04 | 1995-09-06 | Hideo Hayakawa | Method and apparatus for processing waste gas |
-
1993
- 1993-01-28 JP JP5032849A patent/JPH06218226A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0670174A1 (en) * | 1994-03-04 | 1995-09-06 | Hideo Hayakawa | Method and apparatus for processing waste gas |
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