JPH06220669A - プラズマ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被処理物を油脂分及び塵共に完全に除去され
た状態にする事が出来るプラズマ洗浄装置を提供する。 【構成】 チャンバー内において被処理物は洗浄剤によ
って洗浄され、被処理物に付着している塵や油脂分が除
去される。次に同一のチャンバー内において被処理物は
プラズマ洗浄される。この為、被処理物には塵が付着す
る機会が無く、塵、油脂分共に確実に除去された状態と
なる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は金属製品あるいはプラス
チックやガラス等の非金属製品の表面をプラズマ洗浄す
る為に用いられるプラズマ洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】洗浄装置において被処理物を洗浄剤によ
り洗浄して被処理物に付着していた油脂分の多くを除去
し、洗浄を終了したならば被処理物を洗浄装置から出し
て次にプラズマ処理装置に向けてトラックで搬送、或い
は一時的に倉庫に保管し、それら搬送或いは保管の後、
プラズマ処理装置によりプラズマ洗浄を行ってそれが完
了したものを次工程に移すようにしている。このような
技術によれば、油脂分を確実に除去した被処理物を次工
程に移すことが出来て好ましい。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしこの従来の技術
では、上記洗浄装置からプラズマ処理装置への搬送中或
いはその途中での保管中に被処理物の表面に塵が付着し
易く、しかも付着した塵はプラズマ洗浄の際には除去で
きぬ為、塵が付着したままの被処理物が次工程に移され
てしまう問題点があった。

【０００４】本願発明は上記従来技術の問題点（技術的
課題）を解決する為になされたもので、塵も油脂も完全
に除去された被処理物を次工程に移すことが出来るよう
にしたプラズマ洗浄装置を提供することを目的としてい
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本願発明におけるプラズマ洗浄装置は、真空チャン
バー内に被処理物の存置用空間と、上記存置用空間をプ
ラズマ雰囲気にする為のプラズマ発生手段とを設け、上
記真空チャンバーには、上記プラズマ発生手段の作動に
先だって上記存置用空間の被処理物を洗浄剤で洗浄及び
塵の除去をする為の洗浄剤洗浄手段を付設したものであ
る。

【０００６】

【作用】被処理物は先ず洗浄剤によってそこに付着して
いる塵や油脂分が除去される。次に被処理物は同一のチ
ャンバー内において、被処理物に塵が付着する機会を与
えることなくプラズマ洗浄される。

【０００７】

【実施例】以下本願の実施例を示す図面について説明す
る。第１の実施例を示す図１において、１は真空チャン
バーを示し、図示はしないが一部には被処理物の搬入及
び搬出を行う為の密閉可能な扉を備えた口が設けてあ
る。２はチャンバー内における被処理物の存置用空間を
示す。３はチャンバー１の一部に設けた排気口で、真空
排気装置４が接続してある。５はチャンバー１内にプロ
セスガスを供給する為の供給管を示す。６は被処理物の
支持具例えば載せ台である。該支持具６はこの実施例で
はプラズマ発生手段の一例としてプラズマ発生用電極を
成しており、導電材料で形成してある。尚７は支持具６
により支持された被処理物を示す。８は被処理物に機械
的運動を与える為の手段を示し、一例として支持具６を
上下に揺動させるようにした揺動装置で、支持具６とは
電気絶縁してある。尚この手段は例えば被処理物に回転
運動を与えるようにしたものや、揺動及び回転を組み合
わせた運動を与えるようにしたものであっても良い。９
はシール部材を示す。次に10はプラズマ発生用電源で、
プラズマ発生用電極にプラズマ放電用の交流電流例えば
高周波（ラジオ波とも呼ばれその周波数は例えば13.56M
Hz）を与えるようにしたものであり、一端10ａは上記プ
ラズマ発生用電極である支持具６に、他端10ｂは真空チ
ャンバー１に夫々接続してある。このプラズマ発生用電
源10はプラズマ放電用の電流として直流を供給するもの
であっても良い。前記プラズマ発生手段として真空チャ
ンバー１内にプラズマ発生用電極を別途設ける場合はそ
の電極と真空チャンバー１とを上記プラズマ発生用電源
10の一端及び他端に接続しても良い。或いは、プラズマ
発生手段として真空チャンバー１内に正負一対となる複
数の電極を設ける場合は、それらを上記プラズマ発生用
電源10の一端及び他端に接続しても良い。次に11は洗浄
剤によって被処理物の洗浄及び塵の除去をする為の洗浄
剤洗浄手段を示し、一例として真空チャンバー１内に洗
浄剤を供給したりそこから回収して再生する為の装置が
示される。

【０００８】次に上記構成のプラズマ洗浄装置による被
処理物のプラズマ洗浄について説明する。先ず被処理物
７を真空チャンバー１内に搬入して図示の如く存置用空
間２に存置させる。該被処理物は例えば焼入油が付着し
た処理品その他多量の油が付着した処理品である。上記
存置後、洗浄剤洗浄手段11から洗浄剤を真空チャンバー
１内に供給し、被処理物７を洗浄剤中に浸漬させて被処
理物７に付着している油や塵をその洗浄剤によって除去
する。この場合、必要に応じて手段８により被処理物７
に機械的運動を与えたり、或いは真空チャンバー１内に
超音波発生装置を別途設けて超音波による洗浄等を付加
しても良い。上記洗浄が済んだならばチャンバー１内の
洗浄剤を洗浄手段11に向けて回収する。尚上記洗浄剤と
しては水系、アルカリ系、アルコール系、石油系、代替
フロン系等通常の洗浄剤が用いられる。次に真空排気装
置４により真空チャンバー１内を真空排気する。その後
排気を継続したまま供給管５からプロセスガスを真空チ
ャンバー１内にプラズマ発生用の所定の圧力例えば０．
３〜３ｍｂａｒ程度の圧力となるよう供給する。尚上記
プロセスガスとしては酸素その他この種のプラズマ洗浄
において知られたガスを用いる。又上記ガスの導入と共
に、プラズマ発生用電源10からプラズマ放電用の電流を
プラズマ発生手段に向けて供給し、真空チャンバー１内
においてプラズマ放電を行わせ、真空チャンバー１内を
低温プラズマのプラズマ雰囲気にする。この状態で被処
理物７は上記プラズマ雰囲気により精密脱脂されると共
にその表面の活性化が行われる。この状態において所定
時間が経過し上記プラズマ雰囲気中での処理が完了した
ならばプラズマ発生用電源10、真空排気装置４等の作動
及びプロセスガスの供給を停止し、然る後真空チャンバ
ー１内を大気圧まで復圧し、被処理物７を搬出する。尚
上記洗浄剤による洗浄の方法としては、上記のように液
中に浸漬させて洗浄する方法の他、洗浄剤によるスプレ
ー洗浄或いは蒸気洗浄等通常の洗浄方法を利用しても良
い。

【０００９】次に本願の第２の実施例を示す図２につい
て説明する。この例はチャンバー内において洗浄剤洗浄
用空間とプラズマ洗浄用空間とが別々の場所に設けられ
ている例を示すものである。図において21はチャンバー
で、一端に被処理物の搬入搬出用の口22を備えている。
23は扉である。24はチャンバー21における洗浄室、25は
その内部の洗浄剤洗浄用空間、26はチャンバー21におけ
る放電室、27はその内部におけるプラズマ洗浄用空間を
夫々示す。28は両空間25, 27を区画する為の仕切弁、29
はその開閉装置を示す。30は洗浄室24に付設した洗浄手
段として例示する洗浄槽で、内部には液体状の洗浄剤31
が蓄えてある。32は洗浄剤加熱用のヒータである。33は
被処理物を洗浄剤31中に浸漬させる為の手段で、一例と
して昇降用シリンダが用いてある。次に34は放電室に付
設した被処理物の支持具で、被処理物をプラズマ洗浄用
空間27にて保持する為のものである。35は放電室26内へ
のプラズマ化用のプロセスガスの供給を行う為の部材
で、ガスマニホールドが示される。36，37はプラズマ発
生手段として例示するプラズマ発生用の電極で、図示外
のプラズマ発生用電源から電流の供給を受け、プラズマ
放電を行うようにしたものである。尚図示はしないが放
電室26には真空排気装置が接続してある。次に38は被処
理物をチャンバー21の内外間及びチャンバー21内の空間
25, 27相互間において搬送する為の搬送装置で、搬送フ
ォークが例示される。

【００１０】上記構成のものにあっては、被処理物７は
搬送装置38により洗浄室24内に搬送される。然る後シリ
ンダ33により下降され洗浄剤31中に浸漬され、洗浄剤31
による洗浄及び塵の除去が行われる。その完了後、シリ
ンダ33により被処理物７は再び引き上げられる。然る後
搬送装置38により被処理物７は放電室26内のプラズマ洗
浄用空間27に運ばれ、支持具34によって支持される。然
る後仕切弁28が閉じられ放電室26内の真空排気、プロセ
スガスの導入、プラズマ発生手段の作動が前記実施例と
均等に行われ、放電室26内がプラズマ雰囲気にされる。
この状態において被処理物７はプラズマ雰囲気により精
密脱脂並びに表面の活性化が行われる。その後放電室26
内が復圧され、仕切弁28が開かれ被処理物７は搬送装置
38によってチャンバー21外に搬出される。上記放電室26
においてプラズマ放電を行う場合の圧力まで洗浄室24を
減圧したり、洗浄室24に対して放電室26でのプラズマ放
電の影響が無い又は回避できる場合、上記仕切弁28は省
略することができる。

【００１１】次に図３は本願の第３の実施例を示すもの
で、放電室26ｅと洗浄室24ｅとが上下の位置関係に設け
られていると共に、洗浄室24ｅにおいては被処理物を洗
浄剤によりスプレー洗浄するようにした例を示すもので
ある。図において、41はチャンバーに付設した洗浄剤洗
浄手段として例示する洗浄液スプレー装置、42は洗浄室
に接続した洗浄液の回収並びに再生を行う為の装置、43
は被処理物の支持具、44は被処理物を洗浄剤洗浄用空間
25ｅとプラズマ洗浄用空間27ｅとの間で移送する為の装
置で、昇降用シリンダが用いてある。45は放電室26ｅに
備えさせた保持部材で、プラズマ洗浄用空間27ｅにて被
処理物７を保持する為のものであり、前記支持具43を支
えるよう構成されている。

【００１２】このような構成のものにあっては、被処理
物７は洗浄剤洗浄用空間25ｅに搬入された後スプレー装
置41から噴出される洗浄剤によって洗浄及び塵の除去が
行われ、然る後移送装置44によりプラズマ洗浄用空間27
ｅに移され、そこでプラズマ雰囲気によるプラズマ洗浄
が行われる。然る後装置44により被処理物７は再び洗浄
剤洗浄用空間25ｅに戻されその後図示外の搬送装置によ
って搬出される。なお、機能上前図のものと同一又は均
等構成と考えられる部分には、前図と同一の符号にアル
ファベットのｅを付して重複する説明を省略した。

【００１３】上記の各実施例はプラズマ放電用の電源と
して高周波の電源を利用した例であるが、マイクロ波の
電源を利用する場合にはプラズマの導入管に接続するプ
ラズマ噴射管をチャンバー内に設けることにより同様の
効果を得ることができる。

【００１４】

【発明の効果】以上のように本願発明にあっては、被処
理物７を洗浄する場合、先ず被処理物７に付着している
塵を洗浄剤でもって除去すると共に上記洗浄剤により被
処理物７に付着している油脂分の大方を除去し、然る後
被処理物７に塵が付着する機会を与えること無く被処理
物７をプラズマ雰囲気によりプラズマ洗浄することが出
来て、被処理物を油脂分及び塵共に完全に除去された状
態にする事が出来る特長があり、その結果、次工程に洗
浄が確実になされた良質の被処理物を送ることのできる
効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマ洗浄装置の第１の実施例を示す略示断
面図。

【図２】プラズマ洗浄装置の第２の実施例を示す略示断
面図。

【図３】プラズマ洗浄装置の第３の実施例を示す略示断
面図。

【符号の説明】

１ 真空チャンバー ２ 存置用空間 ６ プラズマ発生手段 11 洗浄剤洗浄手段

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空チャンバー内に被処理物の存置用空
   間と、上記存置用空間をプラズマ雰囲気にする為のプラ
   ズマ発生手段とを設け、上記真空チャンバーには、上記
   プラズマ発生手段の作動に先だって上記存置用空間の被
   処理物を洗浄剤で洗浄及び塵の除去をする為の洗浄剤洗
   浄手段を付設したことを特徴とするプラズマ洗浄装置。
2. 【請求項２】 被処理物の洗浄剤洗浄用空間と該空間と
   は別なプラズマ洗浄用空間とを備えるチャンバーを有
   し、上記チャンバーには、上記プラズマ洗浄用空間をプ
   ラズマ雰囲気にする為のプラズマ発生手段と、上記プラ
   ズマ発生手段の作動に先だって上記洗浄剤洗浄用空間に
   おいて被処理物を洗浄剤で洗浄及び塵の除去をする為の
   洗浄手段とを付設したことを特徴とするプラズマ洗浄装
   置。
3. 【請求項３】 上記洗浄剤洗浄用空間と上記プラズマ洗
   浄用空間との間には、両空間を区画する為の仕切弁を設
   けたことを特徴とする請求項２記載のプラズマ洗浄装
   置。