JPH06222504A - 第４アンモニウムフェニルスルホニルアセテート熱染料漂白剤 - Google Patents
第４アンモニウムフェニルスルホニルアセテート熱染料漂白剤Info
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- 239000000975 dye Substances 0.000 title claims abstract description 202
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 title description 29
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 claims abstract description 69
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 14
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 61
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims description 47
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 19
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 16
- YTEFAALYDTWTLB-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YTEFAALYDTWTLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 abstract description 36
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 abstract description 10
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 151
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 150
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 87
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 78
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 60
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 52
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 36
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 35
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 35
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 35
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 33
- SICAMBKGKQLIOL-UHFFFAOYSA-N 2-(4-nitrophenyl)sulfonylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 SICAMBKGKQLIOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000002585 base Substances 0.000 description 23
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 21
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 19
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical class NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 14
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 13
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-O guanidinium Chemical compound NC(N)=[NH2+] ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- UELOVXITXUGDMM-UHFFFAOYSA-M 2-(4-nitrophenyl)sulfonylacetate;tetraethylazanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC.[O-]C(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 UELOVXITXUGDMM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- ZEUMGONLWQMPOR-UHFFFAOYSA-M 2-(4-nitrophenyl)sulfonylacetate;tetramethylazanium Chemical compound C[N+](C)(C)C.[O-]C(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 ZEUMGONLWQMPOR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 5
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 5
- 241000894007 species Species 0.000 description 5
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 4
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003341 7 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- BNZXJGMVVSASQT-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonyl acetate Chemical compound CC(=O)OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 BNZXJGMVVSASQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 3
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- NIQQIJXGUZVEBB-UHFFFAOYSA-N methanol;propan-2-one Chemical compound OC.CC(C)=O NIQQIJXGUZVEBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000643 oven drying Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 description 3
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 3
- LBUJPTNKIBCYBY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydroquinoline Chemical compound C1=CC=C2CCCNC2=C1 LBUJPTNKIBCYBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAONCYGNBVHNCT-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)sulfonylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 IAONCYGNBVHNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQMDWSXUIQGTQV-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)acetate;carbamimidoylazanium Chemical compound NC(N)=N.OC(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SQMDWSXUIQGTQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KSCQDDRPFHTIRL-UHFFFAOYSA-N auramine O Chemical compound [H+].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 KSCQDDRPFHTIRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNYPENBNRIVFRO-UHFFFAOYSA-N azanium;2-(benzenesulfonyl)acetate Chemical compound [NH4+].[O-]C(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 BNYPENBNRIVFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N cyanoacetic acid Chemical class OC(=O)CC#N MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012458 free base Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 150000002843 nonmetals Chemical group 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XDOKTFVKMCURIN-UHFFFAOYSA-N (2-amino-4-methylphenyl)-(4-methylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C)C=C1N XDOKTFVKMCURIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGENVNVOENOBOC-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)sulfonyl acetate;guanidine Chemical compound NC(N)=N.CC(=O)OS(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 RGENVNVOENOBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFSUTJLHUFNCNZ-UHFFFAOYSA-M 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YFSUTJLHUFNCNZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SEEJHICDPXGSRQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-undecafluoro-6-(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)cyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F SEEJHICDPXGSRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTUKGBOUHWYFGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-trimethyl-2-methylideneindole Chemical compound C1=CC=C2N(C)C(=C)C(C)(C)C2=C1 ZTUKGBOUHWYFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFYRIXSGFSWFAQ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylpyridin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 FFYRIXSGFSWFAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMUIDCLSELWZBB-UHFFFAOYSA-M 2-(4-chlorophenyl)sulfonylacetate;tetramethylazanium Chemical compound C[N+](C)(C)C.[O-]C(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 VMUIDCLSELWZBB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGVQVACFIFWZSL-UHFFFAOYSA-M 2-(4-nitrophenyl)sulfonylacetate;tetrabutylazanium Chemical compound [O-]C(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC WGVQVACFIFWZSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IRXJQHYAEDVUOL-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-2-nitroacetic acid Chemical compound OC(=O)C([N+]([O-])=O)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 IRXJQHYAEDVUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNWUEBIEOFQMSS-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpiperidine Chemical compound CC1CCCCN1 NNWUEBIEOFQMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPVQHJLNKIZNIH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(dimethylamino)phenyl]ethene-1,1,2-tricarbonitrile Chemical group CN(C)C1=CC=C(C(C#N)=C(C#N)C#N)C=C1 KPVQHJLNKIZNIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKZTYDHPHFAKSZ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]sulfonylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 BKZTYDHPHFAKSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-M 2-cyanoacetate Chemical compound [O-]C(=O)CC#N MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SEHANOMIAIWILJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-n,n-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1C=C SEHANOMIAIWILJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VYNUATGQEAAPAQ-UHFFFAOYSA-N 2-sulfonylacetic acid Chemical compound OC(=O)C=S(=O)=O VYNUATGQEAAPAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 3-hexanone Chemical compound CCCC(=O)CC PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZASAAIJIFDWSB-CKPDSHCKSA-N 8-[(1S)-1-[8-(trifluoromethyl)-7-[4-(trifluoromethyl)cyclohexyl]oxynaphthalen-2-yl]ethyl]-8-azabicyclo[3.2.1]octane-3-carboxylic acid Chemical compound FC(F)(F)C=1C2=CC([C@@H](N3C4CCC3CC(C4)C(O)=O)C)=CC=C2C=CC=1OC1CCC(C(F)(F)F)CC1 PZASAAIJIFDWSB-CKPDSHCKSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKTZWRXPXSXGKP-UHFFFAOYSA-N CC(OS(C1=CC=CC=C1)(=O)=O)=O.NC(N)=N.N Chemical compound CC(OS(C1=CC=CC=C1)(=O)=O)=O.NC(N)=N.N WKTZWRXPXSXGKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100034409 DNA helicase B Human genes 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 101001066825 Homo sapiens DNA helicase B Proteins 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000006679 Mentha X verticillata Nutrition 0.000 description 1
- 235000002899 Mentha suaveolens Nutrition 0.000 description 1
- 235000001636 Mentha x rotundifolia Nutrition 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJNOGCOBSLPPDC-UHFFFAOYSA-N NO.C(N)(O)=O Chemical class NO.C(N)(O)=O YJNOGCOBSLPPDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXCYFOXTQOLMFH-UHFFFAOYSA-M S(=O)(=O)([O-])C1=CC=C(C)C=C1.CN(C1=CC=C(C=CCC2=[N+](C3=CC=CC=C3C=C2)C)C=C1)C Chemical compound S(=O)(=O)([O-])C1=CC=C(C)C=C1.CN(C1=CC=C(C=CCC2=[N+](C3=CC=CC=C3C=C2)C)C=C1)C HXCYFOXTQOLMFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWUWFEHAJXNWIY-UHFFFAOYSA-N [AsH2]C1=CC2=CC3=C(C=CC=C4)C4=CC=C3C=C2C=C1 Chemical compound [AsH2]C1=CC2=CC3=C(C=CC=C4)C4=CC=C3C=C2C=C1 IWUWFEHAJXNWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical group [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N azepane Chemical compound C1CCCNCC1 ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWDJCOZXRKIPKZ-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonylformic acid Chemical class OC(=O)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 DWDJCOZXRKIPKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIIAYMCDIQUNIV-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracen-9-ylphosphane Chemical compound C1=CC=C2C(=C1)C=CC3=CC4=C(C=CC(=C4)P)C=C32 MIIAYMCDIQUNIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N benzyl(trimethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000002739 cryptand Substances 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N dodecyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- NQOXBAOLGYWLFQ-UHFFFAOYSA-N guanidine (4-nitrophenyl)sulfonyl acetate Chemical compound NC(N)=N.CC(=O)OS(=O)(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 NQOXBAOLGYWLFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LPAGFVYQRIESJQ-UHFFFAOYSA-N indoline Chemical compound C1=CC=C2NCCC2=C1 LPAGFVYQRIESJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZFWNZJKBJOGFQ-UHFFFAOYSA-N julolidine Chemical group C1CCC2=CC=CC3=C2N1CCC3 DZFWNZJKBJOGFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- JCDWETOKTFWTHA-UHFFFAOYSA-N methylsulfonylbenzene Chemical compound CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 JCDWETOKTFWTHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- XFDCKAWCPINBQZ-UHFFFAOYSA-M n,n-dimethyl-4-[2-(1,1,2-trimethyl-3h-indol-1-ium-2-yl)ethenyl]aniline;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=CC1(C)[N+](C)(C)C2=CC=CC=C2C1 XFDCKAWCPINBQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N propynoic acid Chemical class OC(=O)C#C UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005588 protonation Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000001454 recorded image Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 description 1
- 150000003513 tertiary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N tetrapropylammonium Chemical compound CCC[N+](CCC)(CCC)CCC OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940066528 trichloroacetate Drugs 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- WRTMQOHKMFDUKX-UHFFFAOYSA-N triiodide Chemical compound I[I-]I WRTMQOHKMFDUKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 染料と一般式Ｉの熱カルボアニオン発生剤：
【化１】
とを組み合わせてなる熱染料漂白構造。
【効果】安全でかつ優れた漂白特性を有する熱染料漂白
構造を提供することができる。
構造を提供することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は熱染料漂白剤に関し、特
にホトグラフィック、ホトサーモグラフィック、サーモ
グラフィック画像形成構造用の漂白剤としてのフェニル
スルホニル酢酸の不安定な水素を含有しないカチオン塩
に関する。これらの熱染料漂白剤を使用する構造は、ア
キュータンス及びハレーション防止系、漂白可能なフィ
ルター染料材料として、及び熱記録法に使用するのが好
適である。その最も簡単な形態ではこの構造は熱分解し
てカルボアニオンを発生することができるフェニルスル
ホニル酢酸の第４アンモニウム塩（即ち、熱カルボアニ
オン発生剤）と染料とを含有している。
にホトグラフィック、ホトサーモグラフィック、サーモ
グラフィック画像形成構造用の漂白剤としてのフェニル
スルホニル酢酸の不安定な水素を含有しないカチオン塩
に関する。これらの熱染料漂白剤を使用する構造は、ア
キュータンス及びハレーション防止系、漂白可能なフィ
ルター染料材料として、及び熱記録法に使用するのが好
適である。その最も簡単な形態ではこの構造は熱分解し
てカルボアニオンを発生することができるフェニルスル
ホニル酢酸の第４アンモニウム塩（即ち、熱カルボアニ
オン発生剤）と染料とを含有している。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】感光性
記録材料は、記録画像の品位を低下さすハレーションと
して知られている現象の被害を受ける。このような品位
の低下は、感光層に到達した画像形成光の一部が吸収さ
れずにフィルムベース（この上に感光層が被覆形成され
ている）へと透過する場合に生じる。ベースに到達した
光の一部は反射して、下側から感光層に達する。従って
反射した光は、ある場合には、感光層の総露光量に充分
に寄与し得る。感光要素においては、要素を透過した光
が散乱するという別の問題も生じる。フィルムベースか
ら反射した散乱光は、第２の経路で通って感光層に達
し、予定した露光部分の周囲の領域を露光する。この効
果は画像品位低下につながる。ハロガン化儀ベースの写
真材料（ホトサーモグラフィック材料を含む）は、感光
層が光散乱粒子を含有しているので、この形の画像品位
の低下を示す傾向にある（Ｔ．Ｎ．ジェームス（Ｊａｍ
ｅｓ）の「写真法の理論」、第４版、第２０章、マクミ
ラン（ＭａｃＭｉｌｌａｎ）、１９７７年を参照）。
記録材料は、記録画像の品位を低下さすハレーションと
して知られている現象の被害を受ける。このような品位
の低下は、感光層に到達した画像形成光の一部が吸収さ
れずにフィルムベース（この上に感光層が被覆形成され
ている）へと透過する場合に生じる。ベースに到達した
光の一部は反射して、下側から感光層に達する。従って
反射した光は、ある場合には、感光層の総露光量に充分
に寄与し得る。感光要素においては、要素を透過した光
が散乱するという別の問題も生じる。フィルムベースか
ら反射した散乱光は、第２の経路で通って感光層に達
し、予定した露光部分の周囲の領域を露光する。この効
果は画像品位低下につながる。ハロガン化儀ベースの写
真材料（ホトサーモグラフィック材料を含む）は、感光
層が光散乱粒子を含有しているので、この形の画像品位
の低下を示す傾向にある（Ｔ．Ｎ．ジェームス（Ｊａｍ
ｅｓ）の「写真法の理論」、第４版、第２０章、マクミ
ラン（ＭａｃＭｉｌｌａｎ）、１９７７年を参照）。
【０００３】写真材料の画像の鮮鋭度を改善するために
は、通常、材料の１以上の層中に染料を導入して、被膜
内で散乱して画像鮮鋭度を低下さす光を吸収する。有効
にするためには、この層の吸収は感光層の感光する波長
と同じでなければならない。
は、通常、材料の１以上の層中に染料を導入して、被膜
内で散乱して画像鮮鋭度を低下さす光を吸収する。有効
にするためには、この層の吸収は感光層の感光する波長
と同じでなければならない。
【０００４】透明なベース上に被覆形成された画像形成
材料の場合には、光吸収層を、感光層と反対側の基体上
に別に背面層又は下層としてしばしば被覆形成する。こ
のような被膜は「ハレーション防止層」として公知であ
り、感光層を透過したあらゆる光の反射を効果的に減少
させる。感光層と基体との間に光吸収層を介在させるこ
とによって同様の効果を得てもよい。この構造は、この
分野では「ハレーション防止下層」として公知であり、
透明基体だけでなく非透明基体上の感光性被膜に適用す
ることもできる。
材料の場合には、光吸収層を、感光層と反対側の基体上
に別に背面層又は下層としてしばしば被覆形成する。こ
のような被膜は「ハレーション防止層」として公知であ
り、感光層を透過したあらゆる光の反射を効果的に減少
させる。感光層と基体との間に光吸収層を介在させるこ
とによって同様の効果を得てもよい。この構造は、この
分野では「ハレーション防止下層」として公知であり、
透明基体だけでなく非透明基体上の感光性被膜に適用す
ることもできる。
【０００５】光吸収物質を、散乱光を吸収するために感
光層自身に導入してもよい。この目的に使用する物質は
「アキュータンス染料」として公知である。また、写真
要素の感光層上に光吸収層を被覆形成することによって
画像品位を改善することもできる。この種の被膜は、米
国特許第４，３１２，９４１号、４，５８１，３２３号
及び４，５８１，３２５号に記載されており、写真要素
の内側表面間の散乱光の乱反射を減少させる。
光層自身に導入してもよい。この目的に使用する物質は
「アキュータンス染料」として公知である。また、写真
要素の感光層上に光吸収層を被覆形成することによって
画像品位を改善することもできる。この種の被膜は、米
国特許第４，３１２，９４１号、４，５８１，３２３号
及び４，５８１，３２５号に記載されており、写真要素
の内側表面間の散乱光の乱反射を減少させる。
【０００６】可視領域のスペクトルを吸収するハレーシ
ョン防止染料又はアキュータンス染料の被膜は、特定の
写真材料の処理条件下で完全に脱色できることが通常必
要である。これは種々の方法、例えば、洗浄又はウエッ
ト処理技術における化学反応、加熱処理技術による熱漂
白によって行われる。短時間に通常１００℃〜２００℃
で単に加熱処理されるホトサーモグラフィック材料の場
合には、使用するハレーション防止染料又はアキュータ
ンス染料は熱的に脱色せねばならない。種々の熱染料漂
白システムがこの分野で公知であり、これには高温で自
発的に分解及び脱色する単一化合物や、染料と熱染料漂
白剤とを組み合わせて熱染料漂白系を形成するものがあ
る。
ョン防止染料又はアキュータンス染料の被膜は、特定の
写真材料の処理条件下で完全に脱色できることが通常必
要である。これは種々の方法、例えば、洗浄又はウエッ
ト処理技術における化学反応、加熱処理技術による熱漂
白によって行われる。短時間に通常１００℃〜２００℃
で単に加熱処理されるホトサーモグラフィック材料の場
合には、使用するハレーション防止染料又はアキュータ
ンス染料は熱的に脱色せねばならない。種々の熱染料漂
白システムがこの分野で公知であり、これには高温で自
発的に分解及び脱色する単一化合物や、染料と熱染料漂
白剤とを組み合わせて熱染料漂白系を形成するものがあ
る。
【０００７】ヨーロッパー特許公報第ＥＰ０，３７７，
９６１Ａ号は、ウエット処理及びドライ処理両方の写真
材料において赤外線ハレーション防止用にある種のポリ
メチン染料を使用することを開示している。この染料は
ウエット処理では完全に漂白するが、ドライ処理後では
未漂白のままのこる。赤外線染料は可視領域中で比較的
少ない成分を吸収するので、特定の目的には好適であ
る。この吸収は例えば、青色系ポリエステルベースを使
用することによってマスクとすることができる。しか
し、大部分の用途では、染料は乾燥処理において、少し
の着色も残らず完全に漂白することが望ましい。
９６１Ａ号は、ウエット処理及びドライ処理両方の写真
材料において赤外線ハレーション防止用にある種のポリ
メチン染料を使用することを開示している。この染料は
ウエット処理では完全に漂白するが、ドライ処理後では
未漂白のままのこる。赤外線染料は可視領域中で比較的
少ない成分を吸収するので、特定の目的には好適であ
る。この吸収は例えば、青色系ポリエステルベースを使
用することによってマスクとすることができる。しか
し、大部分の用途では、染料は乾燥処理において、少し
の着色も残らず完全に漂白することが望ましい。
【０００８】米国特許第５，１３５，８４２号はフェニ
ルスルホニル酢酸のグアニジニウム塩とポリメチン染料
（例えば、本明細書で後述するＩＶ及びＶ）とを使用し
た熱染料漂白構造を開示している。加熱時に、この塩は
求核的にポリメチン鎖に付加するグアニジンを遊離し、
これによって共役が崩壊して染料を脱色する。しかし、
グアニジニウム塩を使用する熱染料漂白構造は比較的貯
蔵安定期間が短く、早期に漂白したり、加熱時に広い温
度範囲にわたって緩やかな漂白を示したりすことがあ
る。
ルスルホニル酢酸のグアニジニウム塩とポリメチン染料
（例えば、本明細書で後述するＩＶ及びＶ）とを使用し
た熱染料漂白構造を開示している。加熱時に、この塩は
求核的にポリメチン鎖に付加するグアニジンを遊離し、
これによって共役が崩壊して染料を脱色する。しかし、
グアニジニウム塩を使用する熱染料漂白構造は比較的貯
蔵安定期間が短く、早期に漂白したり、加熱時に広い温
度範囲にわたって緩やかな漂白を示したりすことがあ
る。
【０００９】可視及び／又は紫外光を吸収する多くの物
質が公知であり、その多くが６５０ｎｍ以下の波長で感
光する常套の写真要素において画像を改良する目的に適
している。特にトリアリールメタンとオキソノール染料
はこの分野で広く用いられている。米国特許第３，６０
９，３６０号、３，６１９，１９４号、３，６２７，５
２７号、３，６８４，５５２号、３，８５２，１９３
号、４，０３３，９４８号、４，０８８，４９７号、
４，１９６，００２号、４，１９７，１３１号、４，２
０１，５９０号及び４，２８３，４８７号は、主に可視
領域の電磁波スペクトルを吸収する種々の熱染料漂白系
を開示しているが、それ自体は赤外線又は近赤外線吸収
構造としての使用に容易に対応することはできない。赤
外線や近赤外線吸収熱染料漂白系の示唆や実施例は与え
られていない。
質が公知であり、その多くが６５０ｎｍ以下の波長で感
光する常套の写真要素において画像を改良する目的に適
している。特にトリアリールメタンとオキソノール染料
はこの分野で広く用いられている。米国特許第３，６０
９，３６０号、３，６１９，１９４号、３，６２７，５
２７号、３，６８４，５５２号、３，８５２，１９３
号、４，０３３，９４８号、４，０８８，４９７号、
４，１９６，００２号、４，１９７，１３１号、４，２
０１，５９０号及び４，２８３，４８７号は、主に可視
領域の電磁波スペクトルを吸収する種々の熱染料漂白系
を開示しているが、それ自体は赤外線又は近赤外線吸収
構造としての使用に容易に対応することはできない。赤
外線や近赤外線吸収熱染料漂白系の示唆や実施例は与え
られていない。
【００１０】種々の熱塩基放出剤は公知であり、ジアゾ
−及び銀−含有ホトサーモグラフィック材料に使用され
てきた。しかし、熱塩基放出剤をホトサーモグラフィッ
ク構造に導入する目的は、熱処理中の媒体の塩基性（ア
ルカリ性）を増加させ、それによって現像反応を促進さ
せることにある。
−及び銀−含有ホトサーモグラフィック材料に使用され
てきた。しかし、熱塩基放出剤をホトサーモグラフィッ
ク構造に導入する目的は、熱処理中の媒体の塩基性（ア
ルカリ性）を増加させ、それによって現像反応を促進さ
せることにある。
【００１１】例えば米国特許第４，９３９，０６４号は
カルボン酸のアミジン塩を感光性ハロゲン化銀層中の塩
基前駆体として使用することについて開示している。ア
ミジン塩基をカルボン酸の熱脱炭酸によって放出し、ア
ミジン塩から１又は２つのプロトンを除去したカルボア
ニオンを生成する。従って放出されたアミジン塩基は媒
体を塩基性にして重合反応を進行させることができる。
カルボン酸のアミジン塩を感光性ハロゲン化銀層中の塩
基前駆体として使用することについて開示している。ア
ミジン塩基をカルボン酸の熱脱炭酸によって放出し、ア
ミジン塩から１又は２つのプロトンを除去したカルボア
ニオンを生成する。従って放出されたアミジン塩基は媒
体を塩基性にして重合反応を進行させることができる。
【００１２】米国特許第４，８４２，９７７号はハロゲ
ン化銀と重合性化合物を含有するマイクロカプセルの外
側に配置された分子内に含まれるグアニジニウム塩を塩
基前駆体として使用することについて開示している。従
って、放出されたグアニジン塩基は媒体を塩基性にして
重合反応を生じることができる。
ン化銀と重合性化合物を含有するマイクロカプセルの外
側に配置された分子内に含まれるグアニジニウム塩を塩
基前駆体として使用することについて開示している。従
って、放出されたグアニジン塩基は媒体を塩基性にして
重合反応を生じることができる。
【００１３】米国特許第４，５６０，７６３号はα，β
−アセチレンカルボン酸のアミン塩を感光性材料の塩基
前駆体として使用することについて開示している。アミ
ン塩は不安定なプロトンを有する。ここでもこの材料へ
の熱分解は遊離塩基を放出してハロゲン化銀に対する現
像反応を促進する。
−アセチレンカルボン酸のアミン塩を感光性材料の塩基
前駆体として使用することについて開示している。アミ
ン塩は不安定なプロトンを有する。ここでもこの材料へ
の熱分解は遊離塩基を放出してハロゲン化銀に対する現
像反応を促進する。
【００１４】米国特許第４，９８１，９６５号はフェニ
ルスルホニル酢酸のグアニジニウム塩を塩基前駆体とし
て使用することについて開示している。２価の酸から４
価の酸の塩基前駆体は２〜４のグアニジニウムユニット
からなる。この系では塩への熱分解は脱炭酸を引き起こ
してフェニルスルホニルメチルアニオンを形成する。こ
のアニオンはプロトンをグアニジニウム塩から奪い遊離
塩基を放出する。そしてこの塩基は多くの画像形成法で
要求されるアルカリ性を与えることができる。
ルスルホニル酢酸のグアニジニウム塩を塩基前駆体とし
て使用することについて開示している。２価の酸から４
価の酸の塩基前駆体は２〜４のグアニジニウムユニット
からなる。この系では塩への熱分解は脱炭酸を引き起こ
してフェニルスルホニルメチルアニオンを形成する。こ
のアニオンはプロトンをグアニジニウム塩から奪い遊離
塩基を放出する。そしてこの塩基は多くの画像形成法で
要求されるアルカリ性を与えることができる。
【００１５】米国特許第４，０６０，４２０号はフェニ
ルスルホニル酢酸のアンモニウム塩をホトサーモグラフ
ィック系の活性化剤−安定化剤として使用することにつ
いて開示している。この系では、アンモニウム種は常に
プロトン化された塩基性窒素であり、従って少なくとも
１つの不安定は水素原子を有している。米国特許第４，
７３１，３２１号は熱現像可能な感光性材料における塩
基前駆体としてのフェニルスルホニル酢酸のアンモニウ
ム塩について開示している。
ルスルホニル酢酸のアンモニウム塩をホトサーモグラフ
ィック系の活性化剤−安定化剤として使用することにつ
いて開示している。この系では、アンモニウム種は常に
プロトン化された塩基性窒素であり、従って少なくとも
１つの不安定は水素原子を有している。米国特許第４，
７３１，３２１号は熱現像可能な感光性材料における塩
基前駆体としてのフェニルスルホニル酢酸のアンモニウ
ム塩について開示している。
【００１６】日本特許出願第１−１５０５７５号は、ビ
ス（アリールスルホニル酢酸）塩の形で存在する熱放出
性ビス−アミン類について開示している。他のアミン放
出性化合物には米国特許第４，０８８，４９６号に開示
されているような２−カルボキシカルボキシアミド（２
−ｃａｒｂｏｘｙｃａｒｂｏｘａｍｉｄｅ）誘導体；米
国特許第４，５１１，６５０号に開示されているような
ヒドロキシルアミンカルバメート類；米国特許第４，４
９９，１８０号に開示されているようなアルドキシムカ
ルバメート類；がある。
ス（アリールスルホニル酢酸）塩の形で存在する熱放出
性ビス−アミン類について開示している。他のアミン放
出性化合物には米国特許第４，０８８，４９６号に開示
されているような２−カルボキシカルボキシアミド（２
−ｃａｒｂｏｘｙｃａｒｂｏｘａｍｉｄｅ）誘導体；米
国特許第４，５１１，６５０号に開示されているような
ヒドロキシルアミンカルバメート類；米国特許第４，４
９９，１８０号に開示されているようなアルドキシムカ
ルバメート類；がある。
【００１７】前記アイテムはカルボン酸アニオン用のカ
チオンとして少なくとも１つの不安定な水素原子を有す
るアンモニウム塩又はグアニジニウム塩を用いている。
前記の場合ではすべて、アンモニウム塩は塩基を放出す
る役目を果し；即ち塩基は分子のカチオン性プロトンか
ら誘導される。前記のアイテムの場合には不安定な水素
原子のない第４アンモニウム塩（例えばテトラ−アルキ
ルアンモニウム塩）をカルボン酸用のカチオンとして使
用することはなかった。前記のアイテムの場合にはサー
モグラフィック画像形成システムの基礎又はホトサーモ
グラフィック画像形成システムのハレーション防止被膜
の基礎としてカルボン酸の不安定なプロトンを含有しな
いカチオン性塩を使用することはなかった。更に、前記
アイテムの場合には塩のアニオン性プロトンを漂白種と
して使用することはなかった。
チオンとして少なくとも１つの不安定な水素原子を有す
るアンモニウム塩又はグアニジニウム塩を用いている。
前記の場合ではすべて、アンモニウム塩は塩基を放出す
る役目を果し；即ち塩基は分子のカチオン性プロトンか
ら誘導される。前記のアイテムの場合には不安定な水素
原子のない第４アンモニウム塩（例えばテトラ−アルキ
ルアンモニウム塩）をカルボン酸用のカチオンとして使
用することはなかった。前記のアイテムの場合にはサー
モグラフィック画像形成システムの基礎又はホトサーモ
グラフィック画像形成システムのハレーション防止被膜
の基礎としてカルボン酸の不安定なプロトンを含有しな
いカチオン性塩を使用することはなかった。更に、前記
アイテムの場合には塩のアニオン性プロトンを漂白種と
して使用することはなかった。
【００１８】米国特許第３，２２０，８４６号は、容易
に脱炭酸されるカルボン酸のテトラ−アルキルアンモニ
ウム塩を用いて塩基性媒体を生成し、２つの反応物のカ
ップリングを促進して染料を生成することについて開示
している。この材料はサーモグラフィー、フォトグラフ
ィー、フォトサーモグラフィー、サーモフォトグラフィ
ー、に有用であると教示される。
に脱炭酸されるカルボン酸のテトラ−アルキルアンモニ
ウム塩を用いて塩基性媒体を生成し、２つの反応物のカ
ップリングを促進して染料を生成することについて開示
している。この材料はサーモグラフィー、フォトグラフ
ィー、フォトサーモグラフィー、サーモフォトグラフィ
ー、に有用であると教示される。
【００１９】米国特許第３，６８４，５５２号及び３，
７６９，０１９号は、シアノ酢酸のテトラ−アルキルア
ンモニウム塩を感光、感熱材料用の漂白剤として使用す
ることについて開示している。これらはニトリル類のよ
うな揮発性で潜在的に有毒な材料を遊離するので好まし
くない。
７６９，０１９号は、シアノ酢酸のテトラ−アルキルア
ンモニウム塩を感光、感熱材料用の漂白剤として使用す
ることについて開示している。これらはニトリル類のよ
うな揮発性で潜在的に有毒な材料を遊離するので好まし
くない。
【００２０】米国特許第４，７０５，７３７号は、アン
モニウムフェニルスルホニルアセテート塩を熱現像可能
なホトサーモグラフィック層中の塩基発生剤として使用
することについて開示している。いくつかの第４アンモ
ニウムフェニルスルホニルアセテート塩が含まれる。こ
の塩は感光性ハロゲン化銀層中にを含まれ、画像形成後
及び加熱時に、感光性層を染料形成、染料カップリン
グ、又は染料放出するように十分アルカリ性にする役目
を果す。記載したホトサーモグラフィック層は親水性で
ゼラチンベースである。
モニウムフェニルスルホニルアセテート塩を熱現像可能
なホトサーモグラフィック層中の塩基発生剤として使用
することについて開示している。いくつかの第４アンモ
ニウムフェニルスルホニルアセテート塩が含まれる。こ
の塩は感光性ハロゲン化銀層中にを含まれ、画像形成後
及び加熱時に、感光性層を染料形成、染料カップリン
グ、又は染料放出するように十分アルカリ性にする役目
を果す。記載したホトサーモグラフィック層は親水性で
ゼラチンベースである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】一般式Ｉの特定の熱カル
ボアニオン発生剤は加熱時に染料を漂白することを新た
に見いだした。即ち、本発明は染料と一般式Ｉ：
ボアニオン発生剤は加熱時に染料を漂白することを新た
に見いだした。即ち、本発明は染料と一般式Ｉ：
【００２２】
【化３】
【００２３】（式中：Ｒa及びＲbはそれぞれ独立して：
水素、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、
アラルキル基、アリール基、及びヘテロ環基から選択さ
れ、好ましくはＲa及びＲbはともに水素を表し；ｐは１
又は２であり、ｐが１のとき、Ｚは：アルキル基、シク
ロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキ
ル基、アリール基、及びヘテロ環基から選択される１価
の基であり、ｐが２のとき、Ｚは：アルキレン基、シク
ロアルケン基、アルキレン基、アラルキレン基、アリー
レン基、アルキニレン基、及びヘテロ環基から選択され
る２価の基であり；Ｍ+は熱カルボアニオン発生剤から
発生するカルボアニオンと反応してカルボアニオンを染
料用漂白剤として無効にするようなことのないカチオン
である）の熱カルボアニオン発生剤とを組み合わせてな
る熱染料漂白構造を提供する。好ましくは、Ｍ+は有機
カチオンである。ここで使用する「有機カチオン」とい
う用語は水素原子と炭素原子との総重量がカチオンの式
量に対して５０％以上であるカチオンを意味しており、
ハロゲン原子はこの考えからは除かれる。
水素、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、
アラルキル基、アリール基、及びヘテロ環基から選択さ
れ、好ましくはＲa及びＲbはともに水素を表し；ｐは１
又は２であり、ｐが１のとき、Ｚは：アルキル基、シク
ロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキ
ル基、アリール基、及びヘテロ環基から選択される１価
の基であり、ｐが２のとき、Ｚは：アルキレン基、シク
ロアルケン基、アルキレン基、アラルキレン基、アリー
レン基、アルキニレン基、及びヘテロ環基から選択され
る２価の基であり；Ｍ+は熱カルボアニオン発生剤から
発生するカルボアニオンと反応してカルボアニオンを染
料用漂白剤として無効にするようなことのないカチオン
である）の熱カルボアニオン発生剤とを組み合わせてな
る熱染料漂白構造を提供する。好ましくは、Ｍ+は有機
カチオンである。ここで使用する「有機カチオン」とい
う用語は水素原子と炭素原子との総重量がカチオンの式
量に対して５０％以上であるカチオンを意味しており、
ハロゲン原子はこの考えからは除かれる。
【００２４】本発明はまた；電磁波感光性写真用ハロゲ
ン化銀材料を担持した支持体、熱カルボアニオン発生
剤、ハレーション防止剤又はアキュータンス剤としての
染料を有する写真要素の形の熱染料漂白構造を提供す
る。
ン化銀材料を担持した支持体、熱カルボアニオン発生
剤、ハレーション防止剤又はアキュータンス剤としての
染料を有する写真要素の形の熱染料漂白構造を提供す
る。
【００２５】本発明は更に、熱漂白副生成物がニトリル
のように揮発性で潜在的に有毒な材料を遊離するいくつ
かの常套の構造に比べて無害である熱染料漂白構造を提
供する。
のように揮発性で潜在的に有毒な材料を遊離するいくつ
かの常套の構造に比べて無害である熱染料漂白構造を提
供する。
【００２６】本発明は更に、カルボン酸又はフェニルス
ルホニル酢酸と組み合わせる式Ｉの新規な熱カルボアニ
オン発生剤を提供する。
ルホニル酢酸と組み合わせる式Ｉの新規な熱カルボアニ
オン発生剤を提供する。
【００２７】この分野ではよく理解されているように、
置換は可能なだけでなく、しばしば有効である。本明細
書を通じて使用する特定の用語の議論及び陳述を簡略化
するために、「基」及び「部分」は、置換してもよい又
は置換された化学種と、置換されない又は置換してはな
らない化学種とに分けて使用する。従って、「基」とい
う用語は化学的置換基を記載するときに使用し、記載さ
れた化学材料は基本的な基とそれに常套の置換基を有す
る基とを含む。一方「部分」という用語は化学的化合物
又は置換基を記載するときに使用し、非置換化学材料の
みがその範囲内である。例えば「アルキル基」という文
節は、純粋な開環鎖及び環状飽和炭化水素アルキル置換
基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、
シクロヘキシル、アダマンチル、オクタデシル等）だけ
でなく、さらにこの分野で公知の置換基、例えば、ヒド
ロキシ、アルコキシ、ビニル、フェニル、ハロゲン原子
（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、及びＩ）、シアノ、ニトロ、アミ
ノ、カルボキシル、を有するアルキル置換基等も含むこ
とを意味する。一方、「アルキル部分」という文節は、
純粋な開環鎖及び環状飽和炭化水素アルキル置換基（例
えば、メチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、シクロ
ヘキシル、アダマンチル、オクタデシル等）のみの範囲
に限定される。
置換は可能なだけでなく、しばしば有効である。本明細
書を通じて使用する特定の用語の議論及び陳述を簡略化
するために、「基」及び「部分」は、置換してもよい又
は置換された化学種と、置換されない又は置換してはな
らない化学種とに分けて使用する。従って、「基」とい
う用語は化学的置換基を記載するときに使用し、記載さ
れた化学材料は基本的な基とそれに常套の置換基を有す
る基とを含む。一方「部分」という用語は化学的化合物
又は置換基を記載するときに使用し、非置換化学材料の
みがその範囲内である。例えば「アルキル基」という文
節は、純粋な開環鎖及び環状飽和炭化水素アルキル置換
基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、
シクロヘキシル、アダマンチル、オクタデシル等）だけ
でなく、さらにこの分野で公知の置換基、例えば、ヒド
ロキシ、アルコキシ、ビニル、フェニル、ハロゲン原子
（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、及びＩ）、シアノ、ニトロ、アミ
ノ、カルボキシル、を有するアルキル置換基等も含むこ
とを意味する。一方、「アルキル部分」という文節は、
純粋な開環鎖及び環状飽和炭化水素アルキル置換基（例
えば、メチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、シクロ
ヘキシル、アダマンチル、オクタデシル等）のみの範囲
に限定される。
【００２８】（カルボアニオン前駆体）本発明の目的の
ためには種々の熱カルボアニオン前駆体（即ち、熱カル
ボアニオン発生剤）を用いてもよく、一般には、加熱時
に効果的にかつ不可逆的にカルボアニオンを発生するカ
ルボアニオン前駆体を用いることができる。加熱時に有
機酸アニオン（カルボキシレートアニオン）の脱炭酸に
より形成されるカルボアニオン前駆体が好ましい。更
に、カルボアニオン前駆体が高温で、好ましくは９５〜
１５０℃の範囲で、より好ましくは１１５〜１３５℃の
範囲で脱炭酸を起こすのが好ましい。
ためには種々の熱カルボアニオン前駆体（即ち、熱カル
ボアニオン発生剤）を用いてもよく、一般には、加熱時
に効果的にかつ不可逆的にカルボアニオンを発生するカ
ルボアニオン前駆体を用いることができる。加熱時に有
機酸アニオン（カルボキシレートアニオン）の脱炭酸に
より形成されるカルボアニオン前駆体が好ましい。更
に、カルボアニオン前駆体が高温で、好ましくは９５〜
１５０℃の範囲で、より好ましくは１１５〜１３５℃の
範囲で脱炭酸を起こすのが好ましい。
【００２９】前述の特性を有するカルボン酸アニオンの
例としては、トリクロロアセテート、アセトアセテー
ト、マロネート、シアノアセテート、及びスルホニルア
セテートがある。また、カルボキシレートアニオンが脱
炭酸を促進する官能基、例えばアリール基やアリーレン
基等を有することも好ましい。カルボン酸アニオンは式
Ｉを有するスルホニルアセテートアニオンが好ましい。
例としては、トリクロロアセテート、アセトアセテー
ト、マロネート、シアノアセテート、及びスルホニルア
セテートがある。また、カルボキシレートアニオンが脱
炭酸を促進する官能基、例えばアリール基やアリーレン
基等を有することも好ましい。カルボン酸アニオンは式
Ｉを有するスルホニルアセテートアニオンが好ましい。
【００３０】
【化４】
【００３１】式Ｉ中、Ｒa及びＲbはそれぞれ、水素、ア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基、及びヘテロ環基のような１価の基で
ある。更に、Ｒa及び／又はＲbはともに５、６、又は７
員環を形成するのに必要な非金属原子を表してもよい。
水素が好ましい。１価の基はそれぞれ１以上の置換基を
有してもよい。アルキル、及びアルケニル基がそれぞれ
１〜８個の炭素原子を有するのが好ましい。
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基、及びヘテロ環基のような１価の基で
ある。更に、Ｒa及び／又はＲbはともに５、６、又は７
員環を形成するのに必要な非金属原子を表してもよい。
水素が好ましい。１価の基はそれぞれ１以上の置換基を
有してもよい。アルキル、及びアルケニル基がそれぞれ
１〜８個の炭素原子を有するのが好ましい。
【００３２】Ｍ+は熱カルボアニオン発生剤から発生す
るカルボアニオンと反応してカルボアニオンを染料用漂
白剤として無効にするようなことのないカチオンであ
る。従って、Ｍ+は不安定な水素原子を有さないカチオ
ン、例えば中心原子を炭素原子、リチウム、ナトリウ
ム、カリウムのみに取り付けた第４アンモニウムでもよ
い。クリプタンド類のような化合物を用いて、Ｍ+が金
属カチオンの場合のカルボアニオン発生剤の溶解度を増
加してもよい。このような好適なカチオンの例として
は、テトラアルキルアンモニウムカチオン及びアルカリ
金属カチオンのクラウンエーテル錯体がある。ここで使
用する「第４アンモニウム」という用語は更に周期表で
窒素と同族原子を含む。このような原子にはリン、ヒ
素、アンチモン、及びビスマスがある。
るカルボアニオンと反応してカルボアニオンを染料用漂
白剤として無効にするようなことのないカチオンであ
る。従って、Ｍ+は不安定な水素原子を有さないカチオ
ン、例えば中心原子を炭素原子、リチウム、ナトリウ
ム、カリウムのみに取り付けた第４アンモニウムでもよ
い。クリプタンド類のような化合物を用いて、Ｍ+が金
属カチオンの場合のカルボアニオン発生剤の溶解度を増
加してもよい。このような好適なカチオンの例として
は、テトラアルキルアンモニウムカチオン及びアルカリ
金属カチオンのクラウンエーテル錯体がある。ここで使
用する「第４アンモニウム」という用語は更に周期表で
窒素と同族原子を含む。このような原子にはリン、ヒ
素、アンチモン、及びビスマスがある。
【００３３】式中、ｐは１又は２である。ｐが１のと
き、Ｚはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、及びヘ
テロ環基のような１価の基である。アリール基が好まし
い。１価の基はそれぞれ１以上の置換基を有してもよ
い。より好ましい置換基は水素（０と定義する）以上の
正のハメット・シグマ（Ｈａｍｍｅｔｔ ｓｉｇｍａ）
（パラ（ｐａｒａ））値を有するものである。
き、Ｚはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、及びヘ
テロ環基のような１価の基である。アリール基が好まし
い。１価の基はそれぞれ１以上の置換基を有してもよ
い。より好ましい置換基は水素（０と定義する）以上の
正のハメット・シグマ（Ｈａｍｍｅｔｔ ｓｉｇｍａ）
（パラ（ｐａｒａ））値を有するものである。
【００３４】ｐが２のとき、Ｚはアルキレン基、アリー
レン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基、アルケ
ニレン基、アラルキレン基、及びヘテロ環基のような２
価の基である。２価の基はそれぞれ１以上の置換基を有
してもよく、アリーレン基及びヘトロ環基が好ましい。
アリーレン基が特に好ましい。
レン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基、アルケ
ニレン基、アラルキレン基、及びヘテロ環基のような２
価の基である。２価の基はそれぞれ１以上の置換基を有
してもよく、アリーレン基及びヘトロ環基が好ましい。
アリーレン基が特に好ましい。
【００３５】好ましいフェニルスルホニルカルボン酸の
例は、前述の米国特許第４，９８１，９６５号に開示さ
れており、その記載をここに挿入する。
例は、前述の米国特許第４，９８１，９６５号に開示さ
れており、その記載をここに挿入する。
【００３６】好ましい実施態様例は熱カルボアニオン前
駆体として加熱時に脱炭酸してカルボアニオンを生成す
る有機酸の第４アンモニウム塩を用いる。好ましくは、
カルボン酸アニオンはフェニルスルホニルアセテートで
ありハレーション防止層の漂白を式ＩＩの熱カルボアニ
オン発生剤化合物を用いて効果的に行う。
駆体として加熱時に脱炭酸してカルボアニオンを生成す
る有機酸の第４アンモニウム塩を用いる。好ましくは、
カルボン酸アニオンはフェニルスルホニルアセテートで
ありハレーション防止層の漂白を式ＩＩの熱カルボアニ
オン発生剤化合物を用いて効果的に行う。
【００３７】
【化５】
【００３８】式中：ＲcからＲfは独立してＣ1からＣ18
で、ただし炭素総数は２２以下、より好ましくは１５以
下、最も好ましくは１０以下であり；Ｙはカルボアニオ
ン安定基；及びｋは０〜０．５である。
で、ただし炭素総数は２２以下、より好ましくは１５以
下、最も好ましくは１０以下であり；Ｙはカルボアニオ
ン安定基；及びｋは０〜０．５である。
【００３９】一般にＹはいかなるカルボアニオン安定基
でもよい。好ましい基はハメット・シグマ（Ｈａｍｍｅ
ｔｔ ｓｉｇｍａ）（パラ（ｐａｒａ））値σp≧０を
有するものである。このような基としては、以下に限定
されないが、水素、窒素、塩素、シアノ、パーフルオロ
アルキル（例えばトリフルオロメチル）、スルホニル
（例えばベンゼンスルホニル及びメタンスルホニル）、
パーフルオロアルキルスルホニル（例えばトリフルオロ
メタンスルホニル）等が例示される。より好ましいＹは
ハメットσp≧＋０．５を有するもので、例えばメタン
スルホニルやパーフルオロアルキルである。最も好まし
い実施態様例は４−ニトロ−フェニルスルホニル酢酸の
第４アンモニウム塩を用いるものである。ハメットσp
パラメーターの議論については、Ｍ．カ−ルトン（Ｃｈ
ａｒｔｏｎ）の「直線的自由エネルギー関係」（ケムテ
ック（Ｃｈｅｍｔｅｃｈ） １９７４年、５０２〜５１
１、及びケムテック １９７５年、２４５〜２５５）を
参照する。
でもよい。好ましい基はハメット・シグマ（Ｈａｍｍｅ
ｔｔ ｓｉｇｍａ）（パラ（ｐａｒａ））値σp≧０を
有するものである。このような基としては、以下に限定
されないが、水素、窒素、塩素、シアノ、パーフルオロ
アルキル（例えばトリフルオロメチル）、スルホニル
（例えばベンゼンスルホニル及びメタンスルホニル）、
パーフルオロアルキルスルホニル（例えばトリフルオロ
メタンスルホニル）等が例示される。より好ましいＹは
ハメットσp≧＋０．５を有するもので、例えばメタン
スルホニルやパーフルオロアルキルである。最も好まし
い実施態様例は４−ニトロ−フェニルスルホニル酢酸の
第４アンモニウム塩を用いるものである。ハメットσp
パラメーターの議論については、Ｍ．カ−ルトン（Ｃｈ
ａｒｔｏｎ）の「直線的自由エネルギー関係」（ケムテ
ック（Ｃｈｅｍｔｅｃｈ） １９７４年、５０２〜５１
１、及びケムテック １９７５年、２４５〜２５５）を
参照する。
【００４０】理論によって限定するつもりはないが、加
熱時に第４アンモニウムフェニルスルホニルアセテート
塩が脱炭酸化して二酸化炭素とフェニルスルホニルメチ
ドアニオンを与えるものと考えられる。この安定アニオ
ンを染料発色団の２重結合の１つへ付加することにより
染料中の共役の効果的な不可逆的破壊が生じ、消色す
る。従って漂白は漂白剤のアニオン性プロトンから誘導
されるカルボアニオンの付加により起こる。これら染料
を漂白可能な更なるカルボアニオン類等は、系内に存在
する又は系に添加した中性の種から形成され；このよう
な更なる漂白剤はこの種と先のカルボアニオンとの相互
作用より生じると考えられる。
熱時に第４アンモニウムフェニルスルホニルアセテート
塩が脱炭酸化して二酸化炭素とフェニルスルホニルメチ
ドアニオンを与えるものと考えられる。この安定アニオ
ンを染料発色団の２重結合の１つへ付加することにより
染料中の共役の効果的な不可逆的破壊が生じ、消色す
る。従って漂白は漂白剤のアニオン性プロトンから誘導
されるカルボアニオンの付加により起こる。これら染料
を漂白可能な更なるカルボアニオン類等は、系内に存在
する又は系に添加した中性の種から形成され；このよう
な更なる漂白剤はこの種と先のカルボアニオンとの相互
作用より生じると考えられる。
【００４１】米国特許第５，１３５，８４２号に記載さ
れているような漂白剤は異なった機構で機能すると考え
られる。前記漂白剤はフェニルスルホニル酢酸の第１及
び第２アミンから誘導される。この材料の加熱により同
様に脱炭酸して二酸化炭素とフェニルスルホニルメチド
アニオンを得る；しかしながら、この材料の場合には、
アニオンは正に帯電した第１又は第２アミン塩からの不
安定なプロトンを奪い取り、フェニルスルホニルメタン
を形成しアミンを放出する。このアミンを染料発色団の
２重結合へ付加することによって染料中の共役の破壊が
生じ、消色する。従って、漂白は漂白剤のカチオン性プ
ロトンから誘導された求核部の付加により生じ；このよ
うな付加はしばしば露光によって酸にもどる可能性があ
る。
れているような漂白剤は異なった機構で機能すると考え
られる。前記漂白剤はフェニルスルホニル酢酸の第１及
び第２アミンから誘導される。この材料の加熱により同
様に脱炭酸して二酸化炭素とフェニルスルホニルメチド
アニオンを得る；しかしながら、この材料の場合には、
アニオンは正に帯電した第１又は第２アミン塩からの不
安定なプロトンを奪い取り、フェニルスルホニルメタン
を形成しアミンを放出する。このアミンを染料発色団の
２重結合へ付加することによって染料中の共役の破壊が
生じ、消色する。従って、漂白は漂白剤のカチオン性プ
ロトンから誘導された求核部の付加により生じ；このよ
うな付加はしばしば露光によって酸にもどる可能性があ
る。
【００４２】代表的な熱カルボアニオン発生剤を表１に
示す。代表的なカチオンをＣ１〜Ｃ１３に示し、代表的
なアニオンをＡ１〜Ａ７に示す。一般的に、いかなるカ
チオンとアニオンの組み合わせでもこの構造には有効で
ある。
示す。代表的なカチオンをＣ１〜Ｃ１３に示し、代表的
なアニオンをＡ１〜Ａ７に示す。一般的に、いかなるカ
チオンとアニオンの組み合わせでもこの構造には有効で
ある。
【００４３】（酸の添加）酸を熱染料漂白溶液に添加す
ることは非常に有効である。酸は被覆形成前、被覆形成
中、及びオーブン乾燥中の染料の前漂白を防止して；容
器中での溶液の寿命を長期化し、Ｄｍａｘを高くし、か
つ熱漂白性被膜の貯蔵安定性を改善する。酸はポリマー
溶液に直接添加してもよい。好ましくは酸はカルボン酸
又はフェニルスルホニル酢酸である。強い電子吸引基を
フェニル環上に有するフェニルスルホニル酢酸は特に好
ましい。代表的な酸はアニオンＡ１〜Ａ７の酸性化（プ
ロトン化）に相当する酸である。実用的には熱カルボア
ニオン発生剤塩に使用するアニオンの遊離酸の使用が好
適である。本明細書における実施例３３及び３４にしめ
すように、酸安定剤を有するように調製した溶液のＤｍ
ａｘは酸安定剤なしで調製された溶液のＤｍａｘに比べ
て高い。
ることは非常に有効である。酸は被覆形成前、被覆形成
中、及びオーブン乾燥中の染料の前漂白を防止して；容
器中での溶液の寿命を長期化し、Ｄｍａｘを高くし、か
つ熱漂白性被膜の貯蔵安定性を改善する。酸はポリマー
溶液に直接添加してもよい。好ましくは酸はカルボン酸
又はフェニルスルホニル酢酸である。強い電子吸引基を
フェニル環上に有するフェニルスルホニル酢酸は特に好
ましい。代表的な酸はアニオンＡ１〜Ａ７の酸性化（プ
ロトン化）に相当する酸である。実用的には熱カルボア
ニオン発生剤塩に使用するアニオンの遊離酸の使用が好
適である。本明細書における実施例３３及び３４にしめ
すように、酸安定剤を有するように調製した溶液のＤｍ
ａｘは酸安定剤なしで調製された溶液のＤｍａｘに比べ
て高い。
【００４４】酸のカルボアニオン発生剤に対するモル比
は不当に制限されないが、通常過剰の酸を使用しないも
のと考えられる。約１／１〜約５／１の範囲のモル比が
好ましい。酸の染料に対するモル比は特に限定されない
が、通常過剰の酸は存在しないものと考えられる。約１
／１〜４／１の割合が好ましい。
は不当に制限されないが、通常過剰の酸を使用しないも
のと考えられる。約１／１〜約５／１の範囲のモル比が
好ましい。酸の染料に対するモル比は特に限定されない
が、通常過剰の酸は存在しないものと考えられる。約１
／１〜４／１の割合が好ましい。
【００４５】熱カルボアニオン発生剤の染料に対するモ
ル比も特に制限されないものと考えられる。単独で使用
する場合には、カルボアニオン発生剤のモル量は染料に
比べて多い。約２／１〜約５／１の割合が好ましい。ア
ミン放出剤と共役させて使用する場合には、漂白剤と染
料の組み合わせの総モル比が１／１以上であるかぎり、
１／１以下の割合を用いてもよい。
ル比も特に制限されないものと考えられる。単独で使用
する場合には、カルボアニオン発生剤のモル量は染料に
比べて多い。約２／１〜約５／１の割合が好ましい。ア
ミン放出剤と共役させて使用する場合には、漂白剤と染
料の組み合わせの総モル比が１／１以上であるかぎり、
１／１以下の割合を用いてもよい。
【００４６】場合によっては、以下のＩＩＩの第４アン
モニウムフェニルスルホニルアセテートとフェニルスル
ホニル酢酸の単離可能な錯体を調製し使用しても良い。
ＩＩＩに記載する熱カルボアニオン発生剤は溶液中で１
モルの第４アンモニウムヒドロキサイドと２モルのカル
ボン酸を反応させることによって、又は第４アンモニウ
ム塩と他の等価の酸（１対１）の溶液を処理することに
よって容易に調製することができる。これら「酸−塩」
はしばしば安定な結晶性固体であり容易に単離及び浄化
できる。これらの化合物は加熱すると、脱炭酸してカル
ボアニオンの状態で有機塩基を生じる。ＲcからＲfの構
造を変化させるとともにフェニル環上の置換基を変化さ
せることによって、種々の塩を得てもよい。従って熱カ
ルボアニオン発生剤塩の溶解度や反応特性の改良が可能
である。
モニウムフェニルスルホニルアセテートとフェニルスル
ホニル酢酸の単離可能な錯体を調製し使用しても良い。
ＩＩＩに記載する熱カルボアニオン発生剤は溶液中で１
モルの第４アンモニウムヒドロキサイドと２モルのカル
ボン酸を反応させることによって、又は第４アンモニウ
ム塩と他の等価の酸（１対１）の溶液を処理することに
よって容易に調製することができる。これら「酸−塩」
はしばしば安定な結晶性固体であり容易に単離及び浄化
できる。これらの化合物は加熱すると、脱炭酸してカル
ボアニオンの状態で有機塩基を生じる。ＲcからＲfの構
造を変化させるとともにフェニル環上の置換基を変化さ
せることによって、種々の塩を得てもよい。従って熱カ
ルボアニオン発生剤塩の溶解度や反応特性の改良が可能
である。
【００４７】
【化６】
【００４８】式中、ＲcからＲf、Ｙ、及びｋは前記に定
義したとおりである。
義したとおりである。
【００４９】（他の漂白剤との協同使用）表１に記載す
るような（後述する）本発明の熱カルボアニオン発生剤
を用いた熱染料漂白構造は、前述した米国特許第５，１
３５，８４２号に記載されたものに比べて改良された貯
蔵安定性と狭い温度範囲でより高速の漂白性を有してい
る。しかし、ある種の染料、例えばポリメチン染料とフ
ェニルスルホニルメチドカルボアニオンとの反応より得
られる漂白構造は僅かに黄色である。多くの構造にとっ
て、これは問題ではない。
るような（後述する）本発明の熱カルボアニオン発生剤
を用いた熱染料漂白構造は、前述した米国特許第５，１
３５，８４２号に記載されたものに比べて改良された貯
蔵安定性と狭い温度範囲でより高速の漂白性を有してい
る。しかし、ある種の染料、例えばポリメチン染料とフ
ェニルスルホニルメチドカルボアニオンとの反応より得
られる漂白構造は僅かに黄色である。多くの構造にとっ
て、これは問題ではない。
【００５０】例えば前述した米国特許第５，１３５，８
４２号に記載されているようなアミン塩と本発明の熱カ
ルボアニオン発生剤との組み合わせは、染料（例えばポ
リメチン）を無色の生成物に漂白することも見いだし
た。漂白剤の組み合わせは、熱カルボアニオン発生剤の
改良された貯蔵安定特性と狭い温度範囲での高速漂白特
性を維持する。更に、８０゜Ｆ／８０％比湿度での加速
保存試験は、熱カルボアニオン発生剤とアミン塩の組み
合わせがアミン塩のみを熱染料漂白剤として含有する熱
染料漂白構造に比べて改良された安定性を有することを
示している。
４２号に記載されているようなアミン塩と本発明の熱カ
ルボアニオン発生剤との組み合わせは、染料（例えばポ
リメチン）を無色の生成物に漂白することも見いだし
た。漂白剤の組み合わせは、熱カルボアニオン発生剤の
改良された貯蔵安定特性と狭い温度範囲での高速漂白特
性を維持する。更に、８０゜Ｆ／８０％比湿度での加速
保存試験は、熱カルボアニオン発生剤とアミン塩の組み
合わせがアミン塩のみを熱染料漂白剤として含有する熱
染料漂白構造に比べて改良された安定性を有することを
示している。
【００５１】図１は本発明で使用した第４アンモニウム
塩含有熱染料漂白構造の漂白速度（図１ａ）を、米国特
許第５，１３５，８４２号に開示されているグアニジジ
ウム塩（アミン塩タイプ）含有熱染料漂白構造（図１
ｂ）と比較している。本発明で使用した第４アンモニウ
ム塩含有構造はグアニジジウム塩含有構造に比べて狭い
温度範囲でより高速に漂白している。
塩含有熱染料漂白構造の漂白速度（図１ａ）を、米国特
許第５，１３５，８４２号に開示されているグアニジジ
ウム塩（アミン塩タイプ）含有熱染料漂白構造（図１
ｂ）と比較している。本発明で使用した第４アンモニウ
ム塩含有構造はグアニジジウム塩含有構造に比べて狭い
温度範囲でより高速に漂白している。
【００５２】図２は本発明で使用した第４アンモニウム
塩とグアニジニウム塩の両方を含有する熱染料漂白構造
の漂白速度（図２ａ）を、米国特許第５，１３５，８４
２号に開示されているグアニジジウム塩のみ含有する熱
染料漂白構造（図２ｂ）と比較している。本発明で使用
した第４アンモニウム塩とグアニジニウム塩の両方を含
有する構造はグアニジジウム塩のみを含有する構造に比
べて狭い温度範囲でより高速漂白性を有している。
塩とグアニジニウム塩の両方を含有する熱染料漂白構造
の漂白速度（図２ａ）を、米国特許第５，１３５，８４
２号に開示されているグアニジジウム塩のみ含有する熱
染料漂白構造（図２ｂ）と比較している。本発明で使用
した第４アンモニウム塩とグアニジニウム塩の両方を含
有する構造はグアニジジウム塩のみを含有する構造に比
べて狭い温度範囲でより高速漂白性を有している。
【００５３】（染料）染料と加熱時にカルボアニオンを
発生することのできる薬剤（例えば、熱カルボアニオン
発生剤）との組み合わせは、染料が材料の加熱処理の間
に容易に漂白するので、特にホトサーモグラフィック材
料（例えば、ドライ銀材料）におけるハレーション防止
又はアキュータンス構造としての用途が考えられる。原
則としては、染料は本発明の熱カルボアニオン発生剤に
より漂白できればいかなる染料でもよい。
発生することのできる薬剤（例えば、熱カルボアニオン
発生剤）との組み合わせは、染料が材料の加熱処理の間
に容易に漂白するので、特にホトサーモグラフィック材
料（例えば、ドライ銀材料）におけるハレーション防止
又はアキュータンス構造としての用途が考えられる。原
則としては、染料は本発明の熱カルボアニオン発生剤に
より漂白できればいかなる染料でもよい。
【００５４】（ポリメチン染料）；ある好ましい染料の
種類はポリメチン染料である。これは例えば、Ｗ．Ｓ．
テムラー（Ｔｕｅｍｍｌｅｒ）とＢ．Ｓ．ウィルジ（Ｗ
ｉｌｄｉ）のジェイ．アメリ．ケミ．サイ．（Ｊ．Ａｍ
ｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）１９５８年，８０、３７７
２；Ｈ．ロレンツ（Ｌｏｒｅｎｚ）とＲ．ワイジンガー
（Ｗｉｚｉｎｇｅｒ）のヘルブ．ケミ．アクタ．（Ｈｅ
ｌｖ．Ｃｈｅｍ．Ａｃｔａ．）１９４５年、２８、６０
０；米国特許第２，８１３，８０２号、２，９９２，９
３８号、３，０９９，６３０号、３，２７５，４４２
号、３，４３６，３５３号及び４，５４７，４４４号、
日本特許第５６−１０９，３５８号に開示されている。
染料は赤外線スクリーニング組成物において、ホトクロ
ミック材料として、光導電体用の増感剤として、及び光
データ保存媒体用の赤外線吸収剤としての用途が考えら
れてきた。ポリメチン染料は、例えばヨーロッパ特許公
報第ＥＰ ０，３７７，９６１号に開示されているよう
な常套の写真処理溶液において漂白することは示されて
きたが、熱カルボアニオン発生処理によって漂白するこ
とはまだ知られていない。
種類はポリメチン染料である。これは例えば、Ｗ．Ｓ．
テムラー（Ｔｕｅｍｍｌｅｒ）とＢ．Ｓ．ウィルジ（Ｗ
ｉｌｄｉ）のジェイ．アメリ．ケミ．サイ．（Ｊ．Ａｍ
ｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）１９５８年，８０、３７７
２；Ｈ．ロレンツ（Ｌｏｒｅｎｚ）とＲ．ワイジンガー
（Ｗｉｚｉｎｇｅｒ）のヘルブ．ケミ．アクタ．（Ｈｅ
ｌｖ．Ｃｈｅｍ．Ａｃｔａ．）１９４５年、２８、６０
０；米国特許第２，８１３，８０２号、２，９９２，９
３８号、３，０９９，６３０号、３，２７５，４４２
号、３，４３６，３５３号及び４，５４７，４４４号、
日本特許第５６−１０９，３５８号に開示されている。
染料は赤外線スクリーニング組成物において、ホトクロ
ミック材料として、光導電体用の増感剤として、及び光
データ保存媒体用の赤外線吸収剤としての用途が考えら
れてきた。ポリメチン染料は、例えばヨーロッパ特許公
報第ＥＰ ０，３７７，９６１号に開示されているよう
な常套の写真処理溶液において漂白することは示されて
きたが、熱カルボアニオン発生処理によって漂白するこ
とはまだ知られていない。
【００５５】特定の熱発生カルボアニオン類は加熱時に
ポリメチン染料を漂白することを新たに見いだした。本
発明は一般式ＩＶ：
ポリメチン染料を漂白することを新たに見いだした。本
発明は一般式ＩＶ：
【００５６】
【化７】
【００５７】（式中：ｎは０、１、２、又は３であり；
Ｗは：水素、炭素原子数１０以下のアルキル基、炭素原
子数１０以下のアルコキシ及びアルキルチオ基、炭素原
子数１０以下のアリールオキシ及びアリールチオ基、Ｎ
Ｒ1Ｒ2及びＮＲ3Ｒ4から選択され；Ｒ1からＲ4はそれぞ
れ独立して：炭素原子数２０以下のアルキル基、炭素原
子数２０以下のアルケニル基、炭素原子数１４以下のア
リール基から選択され；又はＲ1とＲ2及び／又はＲ3と
Ｒ4は５、６、又は７員環のヘテロ環基を構成するのに
必要な原子を表してもよく、Ｒ1からＲ4の１以上はＮＲ
1Ｒ2又はＮＲ3Ｒ4基が取り付けられたフェニル環に縮合
する５、又は６員環のヘテロ環を構成するのに必要な原
子を表してもよい；Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素
原子、炭素原子数２０以下のアルキル基、炭素原子数２
０以下のアリール基、６員環以下の原子を有するヘテロ
環基、６員環以下の炭素原子を有する炭素環、１４員環
以下の原子を有する縮合環及び架橋基からなる群から選
択され；Ｘ-はアニオンである）の核を有するポリメチ
ン染料を含有する熱染料漂白構造を提供する。
Ｗは：水素、炭素原子数１０以下のアルキル基、炭素原
子数１０以下のアルコキシ及びアルキルチオ基、炭素原
子数１０以下のアリールオキシ及びアリールチオ基、Ｎ
Ｒ1Ｒ2及びＮＲ3Ｒ4から選択され；Ｒ1からＲ4はそれぞ
れ独立して：炭素原子数２０以下のアルキル基、炭素原
子数２０以下のアルケニル基、炭素原子数１４以下のア
リール基から選択され；又はＲ1とＲ2及び／又はＲ3と
Ｒ4は５、６、又は７員環のヘテロ環基を構成するのに
必要な原子を表してもよく、Ｒ1からＲ4の１以上はＮＲ
1Ｒ2又はＮＲ3Ｒ4基が取り付けられたフェニル環に縮合
する５、又は６員環のヘテロ環を構成するのに必要な原
子を表してもよい；Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素
原子、炭素原子数２０以下のアルキル基、炭素原子数２
０以下のアリール基、６員環以下の原子を有するヘテロ
環基、６員環以下の炭素原子を有する炭素環、１４員環
以下の原子を有する縮合環及び架橋基からなる群から選
択され；Ｘ-はアニオンである）の核を有するポリメチ
ン染料を含有する熱染料漂白構造を提供する。
【００５８】ポリメチン染料（赤外線又は近赤外線吸収
染料でもよい）と加熱時にカルボアニオンを発生するこ
とのできる薬剤（例えば、熱カルボアニオン発生剤）と
の組み合わせは、染料が材料の加熱処理の間に容易に漂
白するので、特にホトサーモグラフィック材料（例え
ば、ドライ銀材料）におけるハレーション防止又はアキ
ュータンス構造としての用途が考えられる。
染料でもよい）と加熱時にカルボアニオンを発生するこ
とのできる薬剤（例えば、熱カルボアニオン発生剤）と
の組み合わせは、染料が材料の加熱処理の間に容易に漂
白するので、特にホトサーモグラフィック材料（例え
ば、ドライ銀材料）におけるハレーション防止又はアキ
ュータンス構造としての用途が考えられる。
【００５９】一般式ＩＶの染料では、Ｗは：Ｒ1Ｏ−、
Ｒ1Ｓ−、ＮＲ1Ｒ2、ＮＲ3Ｒ4；最も好ましくは炭素原
子数５以下のアルキル基を有するアルコキシ、炭素原子
数５以下のアルキル基を有するジアルキルアミノから選
択されるのが好ましい。
Ｒ1Ｓ−、ＮＲ1Ｒ2、ＮＲ3Ｒ4；最も好ましくは炭素原
子数５以下のアルキル基を有するアルコキシ、炭素原子
数５以下のアルキル基を有するジアルキルアミノから選
択されるのが好ましい。
【００６０】Ｒ1からＲ4はそれぞれ独立して炭素原子数
２０以下、好ましくは炭素原子数１０以下、最も好まし
くは炭素原子数５以下のアルキル及びアルケニル基、炭
素原子数１４以下、好ましくは炭素原子数１０以下のア
リール基から選択される。頻繁には、Ｒ1＝Ｒ2及び／又
はＲ3＝Ｒ4及び／又はＲ1＝Ｒ3である。Ｒ1からＲ4基の
好適な例はメチル、エチル及び２−メトキシエチル基か
ら選択される。更に、Ｒ1とＲ2及び／又はＲ3とＲ4は
５、６、又は７員環のヘテロ環基の核を構成するのに必
要な非金属原子を表してもよい。このような環状基を構
成する場合には、原子は一般にＣ、Ｎ、Ｏ、及びＳのよ
うな非金属原子から選択され、環状基はそれぞれ前述し
たように１以上の置換基を有してもよい。このように構
成されたヘトロ環核はポリメチン染料の分野で公知のい
かなるものであってもよいが、好適な例にはモルホリ
ン、ピロリジン、２−メチルピペリジン及びアザシクロ
ヘプタンがある。
２０以下、好ましくは炭素原子数１０以下、最も好まし
くは炭素原子数５以下のアルキル及びアルケニル基、炭
素原子数１４以下、好ましくは炭素原子数１０以下のア
リール基から選択される。頻繁には、Ｒ1＝Ｒ2及び／又
はＲ3＝Ｒ4及び／又はＲ1＝Ｒ3である。Ｒ1からＲ4基の
好適な例はメチル、エチル及び２−メトキシエチル基か
ら選択される。更に、Ｒ1とＲ2及び／又はＲ3とＲ4は
５、６、又は７員環のヘテロ環基の核を構成するのに必
要な非金属原子を表してもよい。このような環状基を構
成する場合には、原子は一般にＣ、Ｎ、Ｏ、及びＳのよ
うな非金属原子から選択され、環状基はそれぞれ前述し
たように１以上の置換基を有してもよい。このように構
成されたヘトロ環核はポリメチン染料の分野で公知のい
かなるものであってもよいが、好適な例にはモルホリ
ン、ピロリジン、２−メチルピペリジン及びアザシクロ
ヘプタンがある。
【００６１】Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子；
炭素原子数２０以下、最も好ましくは炭素原子数５以下
のアルキル基；炭素原子数１０以下のアリール基から選
択され；それぞれの基は前述したように１以上の置換基
で置換されてもよい。更に、Ｒ5及び／又はＲ6がアリー
ル基を表す場合には、Ｗ（先と同意義）のような更なる
置換基があってもよい。このましいＷとしてはＲ1Ｏ
−、Ｒ1Ｓ−、ＮＲ1Ｒ2、ＮＲ3Ｒ4（ここでＲ1からＲ4
は先と同意義）がある。Ｒ5及びＲ6の好適な例は水素原
子、フェニル、４−ジメチルアミノフェニル、４−ジエ
チルアミノフェニル、４−ビス（メトキシエチル）アミ
ノフェニル、４−Ｎ−ピロリジノフェニル、４−Ｎ−モ
ルホリノフェニル、４−Ｎ−アザシクロヘプチル、４−
ジメチル−アミノ−１−ナフチル、モノ−及びジ−メト
キシフェニル、及びエトキシフェニル基から選択され
る。Ｒ5とＲ6も５、６、又は７員環のヘテロ環基（この
場合には、環の原子はＣ、Ｎ、Ｏ、及びＳから選択され
る）；５、又は６員環の炭素環基；Ｃ、Ｎ、Ｏ、及びＳ
からなる群から選択される１４員環以下の原子を有する
縮合環基；の核を表してもよく、ここでそれぞれの環は
前述したように１以上の置換基を有してもよい。更に、
Ｒ1からＲ4の１以上はＮＲ1Ｒ2又はＮＲ3Ｒ4基を取り付
けたフェニル環と縮合する５、又は６員環のヘテロ環を
構成するのに必要な原子を表してもよい。このように構
成されたヘテロ環核はポリメチン染料の分野で公知のい
かなるものであってもよいが、好適な例には２，３−ジ
ヒドロインドール、１，２，３，４−テトラヒドロキノ
リン、及びジュロリジン（ｊｕｌｏｌｉｄｉｎｅ）があ
る。Ｒ1からＲ6の基が置換されている場合には、置換基
は染料を自動的に漂白しないならば広い範囲の置換基か
ら選択してもよい。例えばアミノ基が非局在化電子系に
直接取り付けられていなければ遊離アミノ基を有する置
換基は自動的漂白を促進する。一般的に置換基は：ハロ
ゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、シアノ基、炭素
原子数１５以下のエーテル基、炭素原子数１５以下のチ
オエーテル基、炭素原子数５以下のケトン基、炭素原子
数５以下のアルデヒド基、炭素原子数５以下のエステル
基、炭素原子数１５以下のアミド基、炭素原子数１５以
下のアルコキシ基、炭素原子数１５以下のアルキル基、
炭素原子数５以下のアルケニル基、炭素原子数１０以下
のアリール基、Ｃ、Ｎ、Ｏ、及びＳから選択される１０
員環以下の原子を有するヘテロ環核、及びこれら置換基
の組み合わせから選択される。
炭素原子数２０以下、最も好ましくは炭素原子数５以下
のアルキル基；炭素原子数１０以下のアリール基から選
択され；それぞれの基は前述したように１以上の置換基
で置換されてもよい。更に、Ｒ5及び／又はＲ6がアリー
ル基を表す場合には、Ｗ（先と同意義）のような更なる
置換基があってもよい。このましいＷとしてはＲ1Ｏ
−、Ｒ1Ｓ−、ＮＲ1Ｒ2、ＮＲ3Ｒ4（ここでＲ1からＲ4
は先と同意義）がある。Ｒ5及びＲ6の好適な例は水素原
子、フェニル、４−ジメチルアミノフェニル、４−ジエ
チルアミノフェニル、４−ビス（メトキシエチル）アミ
ノフェニル、４−Ｎ−ピロリジノフェニル、４−Ｎ−モ
ルホリノフェニル、４−Ｎ−アザシクロヘプチル、４−
ジメチル−アミノ−１−ナフチル、モノ−及びジ−メト
キシフェニル、及びエトキシフェニル基から選択され
る。Ｒ5とＲ6も５、６、又は７員環のヘテロ環基（この
場合には、環の原子はＣ、Ｎ、Ｏ、及びＳから選択され
る）；５、又は６員環の炭素環基；Ｃ、Ｎ、Ｏ、及びＳ
からなる群から選択される１４員環以下の原子を有する
縮合環基；の核を表してもよく、ここでそれぞれの環は
前述したように１以上の置換基を有してもよい。更に、
Ｒ1からＲ4の１以上はＮＲ1Ｒ2又はＮＲ3Ｒ4基を取り付
けたフェニル環と縮合する５、又は６員環のヘテロ環を
構成するのに必要な原子を表してもよい。このように構
成されたヘテロ環核はポリメチン染料の分野で公知のい
かなるものであってもよいが、好適な例には２，３−ジ
ヒドロインドール、１，２，３，４−テトラヒドロキノ
リン、及びジュロリジン（ｊｕｌｏｌｉｄｉｎｅ）があ
る。Ｒ1からＲ6の基が置換されている場合には、置換基
は染料を自動的に漂白しないならば広い範囲の置換基か
ら選択してもよい。例えばアミノ基が非局在化電子系に
直接取り付けられていなければ遊離アミノ基を有する置
換基は自動的漂白を促進する。一般的に置換基は：ハロ
ゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、シアノ基、炭素
原子数１５以下のエーテル基、炭素原子数１５以下のチ
オエーテル基、炭素原子数５以下のケトン基、炭素原子
数５以下のアルデヒド基、炭素原子数５以下のエステル
基、炭素原子数１５以下のアミド基、炭素原子数１５以
下のアルコキシ基、炭素原子数１５以下のアルキル基、
炭素原子数５以下のアルケニル基、炭素原子数１０以下
のアリール基、Ｃ、Ｎ、Ｏ、及びＳから選択される１０
員環以下の原子を有するヘテロ環核、及びこれら置換基
の組み合わせから選択される。
【００６２】原則的にＸ-はポリメチン染料と反応しな
ければいかなるアニオンでもよい。Ｘ-として好適なア
ニオンはクロライド、ブロマイド、ヨーダイド、パーク
ロレート、テトラフルオロボレート、トリヨーダイド、
ヘキサフルオロホスフェート等がある。好適な有機アニ
オンには例えば、アセテート、４−トルエンスルホネー
ト、ドデシルベンゼンスルホネート、及びメタンスルホ
ネートがある。Ｘ-として好適なアニオンはパーフルオ
ロアルキルスルホニル基を含むもの、例えばトリフルオ
ロメタンスルホネート、パーフルオロオクタンスルホネ
ート、パーフルオロ（エチルシクロヘキサン）スルホネ
ート（ＰＥＣＨＳ）である。
ければいかなるアニオンでもよい。Ｘ-として好適なア
ニオンはクロライド、ブロマイド、ヨーダイド、パーク
ロレート、テトラフルオロボレート、トリヨーダイド、
ヘキサフルオロホスフェート等がある。好適な有機アニ
オンには例えば、アセテート、４−トルエンスルホネー
ト、ドデシルベンゼンスルホネート、及びメタンスルホ
ネートがある。Ｘ-として好適なアニオンはパーフルオ
ロアルキルスルホニル基を含むもの、例えばトリフルオ
ロメタンスルホネート、パーフルオロオクタンスルホネ
ート、パーフルオロ（エチルシクロヘキサン）スルホネ
ート（ＰＥＣＨＳ）である。
【００６３】ポリメチン鎖の長さはｎによって規定さ
れ、これは０≦ｎ≦３の範囲の整数値でトリ−、ペンタ
−、ヘプタ−、ノナメチン鎖長を構成する。ポリメチン
鎖は非置換であっても置換基を有していてもよい。例え
ば炭素原子数５以下のアルキル基；炭素原子数５以下の
置換アルキル基；又はハロゲン原子が存在してもよい。
ポリメチン鎖は架橋鎖、例えばヘテロ環又は縮合環系又
は炭素環を構成するのに必要な非金属原子を含有しても
よく、これらはそれぞれ炭素原子数１〜５のアルキル置
換基を有してもよい。架橋鎖の例としてはシクロヘキサ
ンやシクロヘプタン環を形成するものがある。
れ、これは０≦ｎ≦３の範囲の整数値でトリ−、ペンタ
−、ヘプタ−、ノナメチン鎖長を構成する。ポリメチン
鎖は非置換であっても置換基を有していてもよい。例え
ば炭素原子数５以下のアルキル基；炭素原子数５以下の
置換アルキル基；又はハロゲン原子が存在してもよい。
ポリメチン鎖は架橋鎖、例えばヘテロ環又は縮合環系又
は炭素環を構成するのに必要な非金属原子を含有しても
よく、これらはそれぞれ炭素原子数１〜５のアルキル置
換基を有してもよい。架橋鎖の例としてはシクロヘキサ
ンやシクロヘプタン環を形成するものがある。
【００６４】Ｒ5及びＲ6はポチメチン鎖と共に架橋環を
形成してもよく、Ｒ5及び／又はＲ6はポリメチン鎖上の
他の置換基を伴って環を形成しても良い。
形成してもよく、Ｒ5及び／又はＲ6はポリメチン鎖上の
他の置換基を伴って環を形成しても良い。
【００６５】一般式ＩＶに示す中心染料核の環状置換基
だけでなく、染料は他の位置に環状置換基を有してもよ
い。非限定的な例としては、Ｒ1からＲ4、Ｗ基にとって
好適置換基なだけでなく、Ｃｌ、Ｂｒ、及びＩも含む。
だけでなく、染料は他の位置に環状置換基を有してもよ
い。非限定的な例としては、Ｒ1からＲ4、Ｗ基にとって
好適置換基なだけでなく、Ｃｌ、Ｂｒ、及びＩも含む。
【００６６】染料の好適な基は一般式Ｖ：
【００６７】
【化８】
【００６８】（式中：Ｒ1からＲ4、Ｗ、Ｘ-、及びｎは
先と同意義、かつ、Ｒ7及びＲ8は独立してＷ（先と同意
義）；及び水素原子から選択される）の核を有してい
る。
先と同意義、かつ、Ｒ7及びＲ8は独立してＷ（先と同意
義）；及び水素原子から選択される）の核を有してい
る。
【００６９】表２（後述する）は一般式ＩＶの漂白可能
な一連の染料を示しており、これは既に調製されてい
る。表３は（後述する）一般式Ｖの漂白可能な一連の染
料を示しており、これは既に調製されている。
な一連の染料を示しており、これは既に調製されてい
る。表３は（後述する）一般式Ｖの漂白可能な一連の染
料を示しており、これは既に調製されている。
【００７０】（オーラミン染料）： 第２の好ましい種
類の染料はオーラミン染料のようなケトンイミン染料で
ある。オーラミン染料はジアリールメタン類誘導体であ
りジアリールケトン類（例えば、ミックラーズ・ケトン
（Ｍｉｃｈｌｅｒ’ｓ Ｋｅｔｏｎｅ）、ビス（４，
４’−ジメチル−アミノ）ベンゾフェノン）と塩化アン
モニウムとの塩化亜鉛存在下での反応によって調製され
る。オーラミン染料は市販入手することができる。
類の染料はオーラミン染料のようなケトンイミン染料で
ある。オーラミン染料はジアリールメタン類誘導体であ
りジアリールケトン類（例えば、ミックラーズ・ケトン
（Ｍｉｃｈｌｅｒ’ｓ Ｋｅｔｏｎｅ）、ビス（４，
４’−ジメチル−アミノ）ベンゾフェノン）と塩化アン
モニウムとの塩化亜鉛存在下での反応によって調製され
る。オーラミン染料は市販入手することができる。
【００７１】（トリシアノビニル染料）：第３の好まし
い種類の染料はトリシアノビニル染料である。これはテ
トラシアノエチレン（ＴＣＮＥ）とアミン基に対して遊
離水素パラメーター（ｐａｒａ）のないターシャリー芳
香族性アミン類との反応によって調製することができ
る。トリシアノビニル染料の詳細な調製方法はＢ．Ｃ．
マッククーシック（ＭｃＫｕｓｉｃｋ）らのジェイ．ア
メリ．ケミ．サイ．（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．）１９５８年８０、２８０６に与えられている。
い種類の染料はトリシアノビニル染料である。これはテ
トラシアノエチレン（ＴＣＮＥ）とアミン基に対して遊
離水素パラメーター（ｐａｒａ）のないターシャリー芳
香族性アミン類との反応によって調製することができ
る。トリシアノビニル染料の詳細な調製方法はＢ．Ｃ．
マッククーシック（ＭｃＫｕｓｉｃｋ）らのジェイ．ア
メリ．ケミ．サイ．（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．）１９５８年８０、２８０６に与えられている。
【００７２】（ジスルホン染料）：別の好ましい種類の
染料はジスルホン染料である。ある種のジスルホン染料
は加熱時に熱カルボアニオン発生剤の存在下で完全に漂
白することを新たに見いだした。従って、本発明によれ
ば、熱カルボアニオン発生剤をジスルホン染料と組み合
わせた熱染料漂白構造をも提供する。ジスルホン染料及
びこれらの材料の調製方法は例えば米国特許第３，９３
２，５２６号、３，９３３，９１４号、３，９８４，３
５７号、４，０１８，８１０号、４，０６９，２３３
号、４，１５６，６９６号、４，３５７，４０５号、及
び出願中の米国特許出願第０７／７３０，２５５号に開
示されている。これらの特許の開示をここに挿入する。
ジスルホン染料は触媒、染料、増感剤、及び非線形光学
材料としての用途が見いだされている。
染料はジスルホン染料である。ある種のジスルホン染料
は加熱時に熱カルボアニオン発生剤の存在下で完全に漂
白することを新たに見いだした。従って、本発明によれ
ば、熱カルボアニオン発生剤をジスルホン染料と組み合
わせた熱染料漂白構造をも提供する。ジスルホン染料及
びこれらの材料の調製方法は例えば米国特許第３，９３
２，５２６号、３，９３３，９１４号、３，９８４，３
５７号、４，０１８，８１０号、４，０６９，２３３
号、４，１５６，６９６号、４，３５７，４０５号、及
び出願中の米国特許出願第０７／７３０，２５５号に開
示されている。これらの特許の開示をここに挿入する。
ジスルホン染料は触媒、染料、増感剤、及び非線形光学
材料としての用途が見いだされている。
【００７３】（スチリル染料）：別の好ましい種類の染
料はスチリル染料である。本明細書に記載するようなス
チリル染料は芳香族アルデヒド類と活性メチレン基を有
するヘテロ環状塩基（例えば、フィシャーズ塩基（Ｆｉ
ｓｃｈｅｒ’ｓ Ｂａｓｅ）（１，３，３−トリメチル
−２−メチレンインドーレニン）との反応よって調製さ
れる。スチリル染料の議論については、Ｆ．Ｍ．ハマー
（Ｈａｍｅｒ）の「シアニン染料と関連化合物」（ジョ
ン・ウィリー・アンド・サンズ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ
＆Ｓｏｎｓ）、ニューヨーク、１９６４年、第ＸＩＩＩ
章、第３９８〜４４０頁）を参照する。
料はスチリル染料である。本明細書に記載するようなス
チリル染料は芳香族アルデヒド類と活性メチレン基を有
するヘテロ環状塩基（例えば、フィシャーズ塩基（Ｆｉ
ｓｃｈｅｒ’ｓ Ｂａｓｅ）（１，３，３−トリメチル
−２−メチレンインドーレニン）との反応よって調製さ
れる。スチリル染料の議論については、Ｆ．Ｍ．ハマー
（Ｈａｍｅｒ）の「シアニン染料と関連化合物」（ジョ
ン・ウィリー・アンド・サンズ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ
＆Ｓｏｎｓ）、ニューヨーク、１９６４年、第ＸＩＩＩ
章、第３９８〜４４０頁）を参照する。
【００７４】（熱漂白構造）構造Ｉ〜ＩＩＩの熱カルボ
アニオン発生剤と染料は、通常有機バインダーとともに
基体上に薄い層として被覆形成される。染料は一般にハ
レーション防止層中に含まれ、染料のλｍａｘにおいて
０．１以上の透過光強度を与える。一般的に所望の効果
を与える染料の被膜重量は０．１〜１．０ｍｇ／ｄｍ2
である。
アニオン発生剤と染料は、通常有機バインダーとともに
基体上に薄い層として被覆形成される。染料は一般にハ
レーション防止層中に含まれ、染料のλｍａｘにおいて
０．１以上の透過光強度を与える。一般的に所望の効果
を与える染料の被膜重量は０．１〜１．０ｍｇ／ｄｍ2
である。
【００７５】形成された熱漂白可能な構造は従って、ホ
トサーモグラフィック用のハレーション防止被膜として
用いてもよく、サーモグラフィック材料として直接使用
してもよい。本発明に使用するホトサーモグラフィック
媒体のタイプに限定はない。好適なホトサーモグラフィ
ック媒体の例としてはドライ銀系（例えば米国特許第
３，４５７，０５７号を参照）やジアゾ系がある。
トサーモグラフィック用のハレーション防止被膜として
用いてもよく、サーモグラフィック材料として直接使用
してもよい。本発明に使用するホトサーモグラフィック
媒体のタイプに限定はない。好適なホトサーモグラフィ
ック媒体の例としてはドライ銀系（例えば米国特許第
３，４５７，０５７号を参照）やジアゾ系がある。
【００７６】アキュータンス、ハレーション防止、フィ
ルター染料として使用する場合には、０．０５〜３．０
吸収ユニットの光強度を与えるのに充分な量の染料を導
入するのが好ましい。染料の被膜重量は一般に０．００
１〜１ｇ／ｍ2、好ましくは０．００１〜０．０５ｇ／
ｍ2である。ハレーション防止用に使用する場合には、
染料はハロゲン化銀層と別の層中に存在しなければなら
ない。ハレーション防止層はハロゲン化銀層の上及び／
又は下のいずれに位置してもよく、支持体が透明の場合
には、ハレーション防止層はハロゲン化銀含有層と反対
側の支持体表面上に位置してもよい。アキュータンスの
ためには、染料をハロゲン化銀含有層内に導入する。フ
ィルター用に使用する場合には、染料を通常ハロゲン化
銀含有層とは別の層に導入し、ハロゲン化銀含有層上に
配置する。
ルター染料として使用する場合には、０．０５〜３．０
吸収ユニットの光強度を与えるのに充分な量の染料を導
入するのが好ましい。染料の被膜重量は一般に０．００
１〜１ｇ／ｍ2、好ましくは０．００１〜０．０５ｇ／
ｍ2である。ハレーション防止用に使用する場合には、
染料はハロゲン化銀層と別の層中に存在しなければなら
ない。ハレーション防止層はハロゲン化銀層の上及び／
又は下のいずれに位置してもよく、支持体が透明の場合
には、ハレーション防止層はハロゲン化銀含有層と反対
側の支持体表面上に位置してもよい。アキュータンスの
ためには、染料をハロゲン化銀含有層内に導入する。フ
ィルター用に使用する場合には、染料を通常ハロゲン化
銀含有層とは別の層に導入し、ハロゲン化銀含有層上に
配置する。
【００７７】広い範囲のポリマーが熱漂白性構造におけ
るバインダーとしての使用に好適である。熱染料漂白層
の活性はポリマー状バインダーの好適な選択によって調
整してもよく、種々の脱色温度を有する熱染料漂白層を
調製してもよい。一般的には、ガラス転移温度（Ｔｇ）
の低いポリマー状バインダーほど反応性の高い熱染料漂
白構造を生成する。
るバインダーとしての使用に好適である。熱染料漂白層
の活性はポリマー状バインダーの好適な選択によって調
整してもよく、種々の脱色温度を有する熱染料漂白層を
調製してもよい。一般的には、ガラス転移温度（Ｔｇ）
の低いポリマー状バインダーほど反応性の高い熱染料漂
白構造を生成する。
【００７８】
【表１】 代表的なカルボアニオン前駆体 カチオン テトラメチルアンモニウム+ Ｃ１ テトラエチルアンモニウム+ Ｃ２ テトラプロピルアンモニウム+ Ｃ３ テトラブチルアンモニウム+ Ｃ４ ベンジルトリメチルアンモニウム+ Ｃ５ Ｌｉ−１２−クラウン−４+ Ｃ６ Ｎａ−１５−クラウン−５+ Ｃ７ Ｋ−ジベンゾ−１８−クラウン−６+Ｃ８ Ｋ−１８−クラウン−６+ Ｃ９ テトラフェニルホスホニウム+ Ｃ１０ テトラフェニルアルソニウム+ Ｃ１１ Ｎ−ドデシルピリジニウム+ Ｃ１２ ドデシルトリメチルアンモニウム+ Ｃ１３
【００７９】
【表２】
【００８０】
【実施例】以下の実施例に示すように、本発明による熱
カルボアニオン発生剤を染料とを組み合わせたある種の
熱染料漂白構造が規定される。
カルボアニオン発生剤を染料とを組み合わせたある種の
熱染料漂白構造が規定される。
【００８１】（第４アンモニウムフェニルスルホニルア
セテート塩の調製） （実施例１） （テトラメチルアンモニウム４−ニトロフェニルスルホ
ニルアセテート（Ｃ１−Ａ１の調製）マグネチックスチ
ーラーを備えた１００ｍｌのフラスコ中に２．４５ｇ
（０．０１ｍｏｌ）の４−ニトロフェニルスルホニル酢
酸と５０ｍｌのアセトンを入れた。撹拌を始め、酸の溶
液にたいしてテトラメチルアンモニウムヒドロキサイド
の２５％メタノール溶液４．０ｇ（１．００ｇ，０．０
１１ｍｏｌ）をゆっくりと１５分間にわたって滴下し
た。沈殿が濃い赤色溶液中に生じた。濾過し、アセトン
（１０ｍｌ）で洗浄し、空気中で乾燥して２．９ｇのテ
トラメチルアンモニウム４−ニトロフェニルスルホニル
アセテート（化合物Ｃ１−Ａ１）（９１％）を得た。1
Ｈ及び13Ｃ ＮＭＲで提示の構造であることを確認し
た。
セテート塩の調製） （実施例１） （テトラメチルアンモニウム４−ニトロフェニルスルホ
ニルアセテート（Ｃ１−Ａ１の調製）マグネチックスチ
ーラーを備えた１００ｍｌのフラスコ中に２．４５ｇ
（０．０１ｍｏｌ）の４−ニトロフェニルスルホニル酢
酸と５０ｍｌのアセトンを入れた。撹拌を始め、酸の溶
液にたいしてテトラメチルアンモニウムヒドロキサイド
の２５％メタノール溶液４．０ｇ（１．００ｇ，０．０
１１ｍｏｌ）をゆっくりと１５分間にわたって滴下し
た。沈殿が濃い赤色溶液中に生じた。濾過し、アセトン
（１０ｍｌ）で洗浄し、空気中で乾燥して２．９ｇのテ
トラメチルアンモニウム４−ニトロフェニルスルホニル
アセテート（化合物Ｃ１−Ａ１）（９１％）を得た。1
Ｈ及び13Ｃ ＮＭＲで提示の構造であることを確認し
た。
【００８２】（実施例２） （他の第４アンモニウム４−ニトロフェニルスルホニル
アセテートの調製）前述と同様にして以下の第４アンモ
ニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセテートを調製
した。テトラエチルアンモニウム４−ニトロフェニルス
ルホニルアセテート（Ｃ２−Ａ１）をテトラエチルアン
モニウムヒドロキサイドと４−ニトロフェニルスルホニ
ル酢酸から、テトラブチルアンモニウム４−ニトロフェ
ニルスルホニルアセテート（Ｃ４−Ａ１）をテトラブチ
ルアンモニウムヒドロキサイドと４−ニトロフェニルス
ルホニル酢酸から、テトラメチルアンモニウム４−（ト
リフルオロメチル）フェニルスルホニルアセテート（Ｃ
１−Ａ６）をテトラメチルアンモニウムヒドロキサイド
と４−（トリフルオロメチル）フェニルスルホニル酢酸
から、テトラメチルアンモニウム４−クロロフェニルス
ルホニルアセテート（Ｃ１−Ａ７）をテトラメチルアン
モニウムヒドロキサイドと４−クロロフェニルスルホニ
ル酢酸から。
アセテートの調製）前述と同様にして以下の第４アンモ
ニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセテートを調製
した。テトラエチルアンモニウム４−ニトロフェニルス
ルホニルアセテート（Ｃ２−Ａ１）をテトラエチルアン
モニウムヒドロキサイドと４−ニトロフェニルスルホニ
ル酢酸から、テトラブチルアンモニウム４−ニトロフェ
ニルスルホニルアセテート（Ｃ４−Ａ１）をテトラブチ
ルアンモニウムヒドロキサイドと４−ニトロフェニルス
ルホニル酢酸から、テトラメチルアンモニウム４−（ト
リフルオロメチル）フェニルスルホニルアセテート（Ｃ
１−Ａ６）をテトラメチルアンモニウムヒドロキサイド
と４−（トリフルオロメチル）フェニルスルホニル酢酸
から、テトラメチルアンモニウム４−クロロフェニルス
ルホニルアセテート（Ｃ１−Ａ７）をテトラメチルアン
モニウムヒドロキサイドと４−クロロフェニルスルホニ
ル酢酸から。
【００８３】（実施例３） （「酸−塩」の調製）前述のように、ＩＩＩで記載した
「酸−塩」は１モルの第４アンモニウム等のヒドロキサ
イドと２モルのカルボン酸とを処理することによって、
又は中性の第４アンモニウムヒドロキサイド等の塩の溶
液と別の等価の酸とを処理することによって容易に調製
することができる。材料は典型的に安定な結晶性塩で容
易に単離、浄化できる。この化合物を加熱すると脱炭酸
して有機カルボアニオンを生成する。種々の溶解度の範
囲を有する塩が見られる。このことは塩に構造の範囲で
の用途と種々の熱染料漂白系に対する適合性を与える。
２００ｍｌのアセトン中に２４．５ｇ（０．１０ｍｏ
ｌ）の４−ニトロフェニルスルホニル酢酸を入れた溶液
を、撹拌し濾過して溶液とならない幾分かの材料を除去
することによって調製した。これに１６．８ｇのテトラ
メチルアンモニウムヒドロキサイドの２５％メタノール
溶液（すなわち４．２ｇ，０．０４６ｍｏｌ）を添加し
た。添加完了時には、溶液はオレンジ色に変化し、沈殿
を生じた。濾過し、メタノール（５０ｍｌ）とアセトン
（１００ｍｌ）で洗浄し、乾燥して２１．３ｇのテトラ
メチルアンモニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセ
テート／４−ニトロフェニルスルホニル酢酸「酸−塩」
（８２％）を得た。塩組成物は13Ｃ ＮＭＲを用いて確
認した。同様にして他の「酸−塩」を得た。反応溶媒は
特定の塩の溶解度に適合させて変更した。
「酸−塩」は１モルの第４アンモニウム等のヒドロキサ
イドと２モルのカルボン酸とを処理することによって、
又は中性の第４アンモニウムヒドロキサイド等の塩の溶
液と別の等価の酸とを処理することによって容易に調製
することができる。材料は典型的に安定な結晶性塩で容
易に単離、浄化できる。この化合物を加熱すると脱炭酸
して有機カルボアニオンを生成する。種々の溶解度の範
囲を有する塩が見られる。このことは塩に構造の範囲で
の用途と種々の熱染料漂白系に対する適合性を与える。
２００ｍｌのアセトン中に２４．５ｇ（０．１０ｍｏ
ｌ）の４−ニトロフェニルスルホニル酢酸を入れた溶液
を、撹拌し濾過して溶液とならない幾分かの材料を除去
することによって調製した。これに１６．８ｇのテトラ
メチルアンモニウムヒドロキサイドの２５％メタノール
溶液（すなわち４．２ｇ，０．０４６ｍｏｌ）を添加し
た。添加完了時には、溶液はオレンジ色に変化し、沈殿
を生じた。濾過し、メタノール（５０ｍｌ）とアセトン
（１００ｍｌ）で洗浄し、乾燥して２１．３ｇのテトラ
メチルアンモニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセ
テート／４−ニトロフェニルスルホニル酢酸「酸−塩」
（８２％）を得た。塩組成物は13Ｃ ＮＭＲを用いて確
認した。同様にして他の「酸−塩」を得た。反応溶媒は
特定の塩の溶解度に適合させて変更した。
【００８４】（熱漂白性配合の調製及び使用） （実施例４〜３７は第４アンモニウムフェニルスルホニ
ルアセテート漂白剤とポリメチン染料の使用を例示す
る） （実施例４〜３７）典型的な熱漂白ハレーション防止配
合を以下のように調製した。 （溶液Ａ）：イーストマン（Ｅａｓｔｍａｎ）のセルロ
ースアセテートブチレート（ＣＡＢ３８１−２０）、グ
ッドイヤー（Ｇｏｏｄｙｅａｒ）のポリエステル（ＰＥ
−２００）、２−ブタノン、トルエン、又は４−メチル
−２−ペンタノンの溶液を調製した。 （溶液Ｂ）：使用する場合には置換フェニルスルホニル
酢酸のアセトン又はメタノール溶液を調製した。 （溶液Ｃ）：染料のアセトン又はメタノール溶液を調製
した。 （溶液Ｄ）：熱カルボアニオン発生塩又は「酸−塩」の
アセトン、メタノール、及び／又はジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）溶液を調製した。 （溶液Ｅ）：使用する場合には、グアニジニウム熱求核
発生剤のメタノール又はジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）溶液を調製した。 得られたポリマー、染料及び熱カルボアニオン発生剤、
及びアミン放出剤溶液を組み合わせてよく混合し、ポリ
エステル基体上にナイフコーターを用いて塗布した。湿
潤被膜厚は３ｍｉｌ（７６μｍ）であった。被膜を４分
間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。基体は透明又は白
色の不透明ポリエステルであった。吸収は日立モデル１
１０−Ａスペクトロホトメターを用いて透過又は反射モ
ードについて得た。構造を３Ｍモデル９０１４ドライ・
シルバー・プロセッサーを通じて処理することによって
漂白した。温度は２６０〜２６５°Ｆ（１２７〜１２９
℃）で処理時間は１０秒であった。
ルアセテート漂白剤とポリメチン染料の使用を例示す
る） （実施例４〜３７）典型的な熱漂白ハレーション防止配
合を以下のように調製した。 （溶液Ａ）：イーストマン（Ｅａｓｔｍａｎ）のセルロ
ースアセテートブチレート（ＣＡＢ３８１−２０）、グ
ッドイヤー（Ｇｏｏｄｙｅａｒ）のポリエステル（ＰＥ
−２００）、２−ブタノン、トルエン、又は４−メチル
−２−ペンタノンの溶液を調製した。 （溶液Ｂ）：使用する場合には置換フェニルスルホニル
酢酸のアセトン又はメタノール溶液を調製した。 （溶液Ｃ）：染料のアセトン又はメタノール溶液を調製
した。 （溶液Ｄ）：熱カルボアニオン発生塩又は「酸−塩」の
アセトン、メタノール、及び／又はジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）溶液を調製した。 （溶液Ｅ）：使用する場合には、グアニジニウム熱求核
発生剤のメタノール又はジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）溶液を調製した。 得られたポリマー、染料及び熱カルボアニオン発生剤、
及びアミン放出剤溶液を組み合わせてよく混合し、ポリ
エステル基体上にナイフコーターを用いて塗布した。湿
潤被膜厚は３ｍｉｌ（７６μｍ）であった。被膜を４分
間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。基体は透明又は白
色の不透明ポリエステルであった。吸収は日立モデル１
１０−Ａスペクトロホトメターを用いて透過又は反射モ
ードについて得た。構造を３Ｍモデル９０１４ドライ・
シルバー・プロセッサーを通じて処理することによって
漂白した。温度は２６０〜２６５°Ｆ（１２７〜１２９
℃）で処理時間は１０秒であった。
【００８５】（実施例４〜５）実施例４及び５は第４ア
ンモニウムカルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ１を漂白剤と
して使用することを例示する。２つの濃度のこの材料を
使用した。ハレーション防止被膜配合を以下のように調
製した。
ンモニウムカルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ１を漂白剤と
して使用することを例示する。２つの濃度のこの材料を
使用した。ハレーション防止被膜配合を以下のように調
製した。
【００８６】 材料 実施例４ 実施例５ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．６１３９g ０．６１３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００８６g ０．００８６g ２−ブタノン ４．３１１３g ４．３１１３g トルエン ２．０９６２g ２．０９６２g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．００６４g ０．０１２８g メタノール ２．２５４０g ２．２５４０g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ１ ０．００６４g ０．０１２８g メタノール ０．３５００g ０．３５００gジメチルホルムアミド ０．３５００g ０．３５００g
【００８７】溶液を混合し、湿潤厚３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥し
た。３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じ
て２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによ
って、両被膜は完全に漂白した。
ｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥し
た。３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じ
て２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによ
って、両被膜は完全に漂白した。
【００８８】（実施例６）実施例６は第４アンモニウム
カルボアニオン発生剤を漂白剤として使用するだけでな
く漂白構造中に酸を使用することを例示する。前述した
ように、酸は被覆形成前、被覆形成中、オーブン乾燥中
の染料の前漂白を防止し；溶液の容器での寿命を長期化
し、被覆材料のＤｍａｘを高くし、熱漂白性被膜の貯蔵
安定性を改善する。前述と同様の操作により、以下のハ
レーション防止被膜溶液を調製した。
カルボアニオン発生剤を漂白剤として使用するだけでな
く漂白構造中に酸を使用することを例示する。前述した
ように、酸は被覆形成前、被覆形成中、オーブン乾燥中
の染料の前漂白を防止し；溶液の容器での寿命を長期化
し、被覆材料のＤｍａｘを高くし、熱漂白性被膜の貯蔵
安定性を改善する。前述と同様の操作により、以下のハ
レーション防止被膜溶液を調製した。
【００８９】 材料 実施例６ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．４２２０g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００５９g ２−ブタノン ２．９６３７g トルエン １．４４１０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．４８３０g ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０４５８g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ１５ ０．０１３０g メタノール ０．９３００g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ１ ０．０３０５gメタノール ４．０８６０g
【００９０】溶液を湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）に塗布
し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。被膜は６
３８ｎｍで０．５６の吸収を有した。３Ｍモデル９０１
４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７
℃）で１０秒間処理することによって、被膜は濃いシア
ンから無色に漂白した。被膜は６３８ｎｍで測定可能な
吸収を有さなかった。
し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。被膜は６
３８ｎｍで０．５６の吸収を有した。３Ｍモデル９０１
４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７
℃）で１０秒間処理することによって、被膜は濃いシア
ンから無色に漂白した。被膜は６３８ｎｍで測定可能な
吸収を有さなかった。
【００９１】（実施例７）実施例７は熱カルボアニオン
発生剤テトラメチルアンモニウム４−（トリフルオロメ
チル）フェニルスルホニルアセテート（化合物Ｃ１−Ａ
６）を漂白剤として使用することを例示する。この実施
例は系を安定化させる酸の使用も例示する。ハレーショ
ン防止被膜配合を以下のように調製した。
発生剤テトラメチルアンモニウム４−（トリフルオロメ
チル）フェニルスルホニルアセテート（化合物Ｃ１−Ａ
６）を漂白剤として使用することを例示する。この実施
例は系を安定化させる酸の使用も例示する。ハレーショ
ン防止被膜配合を以下のように調製した。
【００９２】 材料 実施例７ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g トルエン １．７８９０g （溶液Ｂ） ４−（トリフルオロメチル）フェニルスルホニル酢酸 ０．０１９１g アセトン １．５４７７g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g アセトン １．９２７０g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ６ ０．０３８０g メタノール １．５３３８gジメチルホルムアミド ２．９８００g
【００９３】溶液を混合し、湿潤厚３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥し
た。８２０ｎｍでの吸収は１．１５であった。３Ｍモデ
ル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、完全な
漂白が観察された。被膜は８２０ｎｍで測定可能な吸収
を有さなかった。
ｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥し
た。８２０ｎｍでの吸収は１．１５であった。３Ｍモデ
ル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、完全な
漂白が観察された。被膜は８２０ｎｍで測定可能な吸収
を有さなかった。
【００９４】（実施例８）前述と同様の操作により以下
の溶液を調製した。
の溶液を調製した。
【００９５】 材料 実施例８ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g トルエン １．７８９０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．６０００g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０１５６g メタノール ０．６３２８g ジメチルホルムアミド ０．６３２８g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g メタノール ０．９６３５g ジメチルホルムアミド ０．９６３５g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ１ ０．０１５６g メタノール ０．６３２８gジメチルホルムアミド ０．６３２８g
【００９６】溶液をポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ
（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で
乾燥した。７８０ｎｍでの吸収は０．９４であった。３
Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６
０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによって、
完全な漂白が観察された。
（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で
乾燥した。７８０ｎｍでの吸収は０．９４であった。３
Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６
０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによって、
完全な漂白が観察された。
【００９７】（実施例９）以下の実施例は不安定な水素
を含有しない１価のカチオンをカルボアニオン発生剤の
カチオン部分として使用することを例示する。カルボア
ニオン発生剤はジベンゾ−１８−クラウン−６−カリウ
ム４−ニトロフェニルスルホニルアセテート（Ｃ８−Ａ
１）であった。ハレーション防止被膜配合を以下のよう
に調製した。
を含有しない１価のカチオンをカルボアニオン発生剤の
カチオン部分として使用することを例示する。カルボア
ニオン発生剤はジベンゾ−１８−クラウン−６−カリウ
ム４−ニトロフェニルスルホニルアセテート（Ｃ８−Ａ
１）であった。ハレーション防止被膜配合を以下のよう
に調製した。
【００９８】 材料 実施例９ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g トルエン １．７８９０g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０４１９g アセトン １．７９１０g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g アセトン １．９２７０g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ８−Ａ１ ０．０３６８g メタノール ２．９８００gジメチルホルムアミド ２．９８００g
【００９９】溶液を混合し、湿潤厚３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥し
た。８２０ｎｍでの吸収は１．１４であった。３Ｍモデ
ル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、完全な
漂白が観察された。被膜は８２０ｎｍで測定可能な吸収
を有さなかった。
ｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥し
た。８２０ｎｍでの吸収は１．１４であった。３Ｍモデ
ル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、完全な
漂白が観察された。被膜は８２０ｎｍで測定可能な吸収
を有さなかった。
【０１００】（実施例１０ａ〜１１ａ）以下の実施例は
米国特許第５，１３５，８４２号に記載されている不安
定な水素原子を有するアンモニウムフェニルスルホニル
アセテートの使用（実施例１０ａ）と本発明の第４アン
モニウムフェニルスルホニル酢酸塩の使用（実施例１１
ａ）とを比較している。前述と同様の操作により以下の
溶液を調製した。
米国特許第５，１３５，８４２号に記載されている不安
定な水素原子を有するアンモニウムフェニルスルホニル
アセテートの使用（実施例１０ａ）と本発明の第４アン
モニウムフェニルスルホニル酢酸塩の使用（実施例１１
ａ）とを比較している。前述と同様の操作により以下の
溶液を調製した。
【０１０１】 材料 実施例１０ａ 実施例１１ａ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g ０．５２３９g グッドイヤー PE-200ポリエステル 0.0073g ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g ３．６７９４g トルエン １．７８９０g １．７８９０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．６０００g ０．６０００g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０１９１g ０．０４１９g メタノール ０．７７３０g １．６９９６g ジメチルホルムアミド ０．７７３０g １．６９９６g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g ０．０２７３g メタノール ０．９６３５g ０．９６３５g ジメチルホルムアミド ０．９６３５g ０．９６３５g （溶液Ｄ）： グアニジニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセテート ０．０１９１g カルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ１ ０．０１８２g メタノール ０．７７３０g ０．７３６７gジメチルホルムアミド ０．７７３０g ０．７３６７g
【０１０２】溶液を湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）に塗布
し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。３Ｍモデ
ル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、完全な
漂白が観察された。未処理材料のサンプルを保存試験用
に一定温度／湿度（８０°Ｆ／８０％（２７℃）の比湿
度）の部屋においた。以下の吸収の変化が見られた。
し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。３Ｍモデ
ル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、完全な
漂白が観察された。未処理材料のサンプルを保存試験用
に一定温度／湿度（８０°Ｆ／８０％（２７℃）の比湿
度）の部屋においた。以下の吸収の変化が見られた。
【０１０３】 この結果は実施例１１ａでは保存時の時間による低下が
少ないことを示している。
少ないことを示している。
【００１０４】（実施例１０ｂ〜１１ｂ）前記実施例１
０及び１１と同様の操作によりサンプルを調製した。サ
ンプルを加熱しその漂白性をヒューレット−パッカード
モデルＨＰ８４５２−Ａダイオード・アレイ・スペクト
ロフォトメーターにおいて７８０ｎｍと８２０ｎｍの両
方について観察した。図１ａはテトラメチルアンモニウ
ム４−ニトロフェニルスルホニルアセテートを含有する
実施例１１ｂの漂白性を示している。図１ｂはグアニジ
ニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセテートを含有
する実施例１０ｂの漂白性を示している。実施例１１ｂ
の漂白性は実施例１０ｂの漂白性に比べて遥かに急峻で
ある。
０及び１１と同様の操作によりサンプルを調製した。サ
ンプルを加熱しその漂白性をヒューレット−パッカード
モデルＨＰ８４５２−Ａダイオード・アレイ・スペクト
ロフォトメーターにおいて７８０ｎｍと８２０ｎｍの両
方について観察した。図１ａはテトラメチルアンモニウ
ム４−ニトロフェニルスルホニルアセテートを含有する
実施例１１ｂの漂白性を示している。図１ｂはグアニジ
ニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセテートを含有
する実施例１０ｂの漂白性を示している。実施例１１ｂ
の漂白性は実施例１０ｂの漂白性に比べて遥かに急峻で
ある。
【０１０５】（実施例１２ａ〜１３ａ）前述のように、
第４アンモニウムフェニルスルホニル酢酸塩は完全に最
大吸収波長において構造を漂白するが、これは漂白構造
を黄色味にする。本実施例は、第４アンモニウムフェニ
ルスルホニル酢酸塩とともにグアニジニウム４−ニトロ
フェニルスルホニルアセテートの含有が染料の吸収範囲
だけでなく４００ｎｍについても完全に漂白することを
示す。第４アンモニウム塩の急峻な漂白特性は保持して
いる。
第４アンモニウムフェニルスルホニル酢酸塩は完全に最
大吸収波長において構造を漂白するが、これは漂白構造
を黄色味にする。本実施例は、第４アンモニウムフェニ
ルスルホニル酢酸塩とともにグアニジニウム４−ニトロ
フェニルスルホニルアセテートの含有が染料の吸収範囲
だけでなく４００ｎｍについても完全に漂白することを
示す。第４アンモニウム塩の急峻な漂白特性は保持して
いる。
【０１０６】 材料 実施例１２ａ 実施例１３ａ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g ３．６７９４g トルエン １．７８９０g １．７８９０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．６０００g ０．６０００g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０１９１g ０．０１９１g メタノール ０．７７３０g ０．７７３０g ジメチルホルムアミド ０．７７３０g ０．７７３０g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g ０．０２７３g メタノール ０．９６３５g ０．９６３５g ジメチルホルムアミド ０．９６３５g ０．９６３５g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ１ ０．００００g ０．００５３g メタノール ０．００００g ０．２１４０g ジメチルホルムアミド ０．００００g ０．２１４０g （溶液Ｅ）： グアニジニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセテート ０．０１９１g ０．０１４１g メタノール ０．７７３０g ０．５７０６gジメチルホルムアミド ０．７７３０g ０．５７０６g
【０１０７】染料と漂白剤のモル比を以下に示す。 染料 １．００００ １．００００ グアニジニウム塩 １．３５９４ １．００００ アニオン発生剤Ｃ１−Ａ１ ０．００００ ０．３５９４ 溶液を湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）に塗布し、４分間１
８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。被覆材料を３Ｍモデル
９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理した。両サンプルは漂白し
て４００ｎｍでの吸収が０．００の無色になり黄色の出
現はなかった。
８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。被覆材料を３Ｍモデル
９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理した。両サンプルは漂白し
て４００ｎｍでの吸収が０．００の無色になり黄色の出
現はなかった。
【０１０８】（実施例１２ｂ〜１３ｂ）前記実施例１２
及び１３と同様の操作によりサンプルを調製した。サン
プルを加熱しその漂白性をヒューレット−パッカードモ
デルＨＰ８４５２−Ａダイオード・アレイ・スペクトロ
フォトメーターにおいて７８０ｎｍと８２０ｎｍの両方
について観察した。図２ａはグアニジニウム４−ニトロ
フェニルスルホニルアセテートのみをを含有する実施例
１２ｂの漂白性を示している。図２ｂはグアニジニウム
４−ニトロフェニルスルホニルアセテートだけでなくテ
トラメチルアンモニウム４−ニトロフェニルスルホニル
アセテートも含有する実施例１３ｂの漂白性を示してい
る。実施例１３ｂの漂白性は実施例１２ｂの漂白性に比
べて遥かに急峻である。
及び１３と同様の操作によりサンプルを調製した。サン
プルを加熱しその漂白性をヒューレット−パッカードモ
デルＨＰ８４５２−Ａダイオード・アレイ・スペクトロ
フォトメーターにおいて７８０ｎｍと８２０ｎｍの両方
について観察した。図２ａはグアニジニウム４−ニトロ
フェニルスルホニルアセテートのみをを含有する実施例
１２ｂの漂白性を示している。図２ｂはグアニジニウム
４−ニトロフェニルスルホニルアセテートだけでなくテ
トラメチルアンモニウム４−ニトロフェニルスルホニル
アセテートも含有する実施例１３ｂの漂白性を示してい
る。実施例１３ｂの漂白性は実施例１２ｂの漂白性に比
べて遥かに急峻である。
【０１０９】（実施例１４〜１５）以下の実施例は「酸
−塩」をカルボアニオン発生剤として酸とともに使用す
ることについて例示する。２つのレベルの酸を使用し
た。前述と同様の操作により以下の溶液を調製した。 材料 実施例１４ 実施例１５ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g ３．６７９４g トルエン １．７８９０g １．７８９０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．６０００g ０．６０００g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０１７５g ０．０２１９g メタノール ０．７０７０g ０．８８４０g ジメチルホルムアミド ０．７０７０g ０．８８４０g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g ０．０２７３g メタノール ０．９６３５g ０．９６３５g ジメチルホルムアミド ０．９６３５g ０．９６３５g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１-Ａ１:４−ニトロフェニルスルホニル酢酸「酸−塩」 ０．０３５１g ０．０３５１g メタノール １．４１７０g １．４１７０gジメチルホルムアミド １．４１７０g １．４１７０g
−塩」をカルボアニオン発生剤として酸とともに使用す
ることについて例示する。２つのレベルの酸を使用し
た。前述と同様の操作により以下の溶液を調製した。 材料 実施例１４ 実施例１５ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g ３．６７９４g トルエン １．７８９０g １．７８９０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．６０００g ０．６０００g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０１７５g ０．０２１９g メタノール ０．７０７０g ０．８８４０g ジメチルホルムアミド ０．７０７０g ０．８８４０g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g ０．０２７３g メタノール ０．９６３５g ０．９６３５g ジメチルホルムアミド ０．９６３５g ０．９６３５g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１-Ａ１:４−ニトロフェニルスルホニル酢酸「酸−塩」 ０．０３５１g ０．０３５１g メタノール １．４１７０g １．４１７０gジメチルホルムアミド １．４１７０g １．４１７０g
【０１１０】溶液を混合し湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）
に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。７
８０ｎｍでの吸収は：それぞれ０．９０、０．８２であ
った。被覆を２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理し
た。漂白被膜の吸収は７８０ｎｍで０．００であった。
に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。７
８０ｎｍでの吸収は：それぞれ０．９０、０．８２であ
った。被覆を２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理し
た。漂白被膜の吸収は７８０ｎｍで０．００であった。
【０１１１】（実施例１６）以下の実施例は「酸−塩」
を米国特許第５，１３５，８４２号に記載されたグアニ
ジニウム塩とともに使用することについて例示する。前
述と同様の操作により以下の溶液を調製した。 材料 実施例１６ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g トルエン １．７８９０g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０３１０g アセトン ２．５１２３g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g アセトン １．９２７０g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１-Ａ１:４−ニトロフェニルスルホニル酢酸「酸−塩」 ０．０１１３g メタノール 0.9112g （溶液Ｅ）： グアニジニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセテート ０．０１５０g メタノール ０．６０６３gジメチルホルムアミド ０．６０６３g
を米国特許第５，１３５，８４２号に記載されたグアニ
ジニウム塩とともに使用することについて例示する。前
述と同様の操作により以下の溶液を調製した。 材料 実施例１６ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g トルエン １．７８９０g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０３１０g アセトン ２．５１２３g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g アセトン １．９２７０g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１-Ａ１:４−ニトロフェニルスルホニル酢酸「酸−塩」 ０．０１１３g メタノール 0.9112g （溶液Ｅ）： グアニジニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセテート ０．０１５０g メタノール ０．６０６３gジメチルホルムアミド ０．６０６３g
【０１１２】溶液を混合し湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）
に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。３
Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６
０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによって、
完全な漂白が観察された。構造は急峻な漂白特性を有し
ていた。未処理材料のサンプルを保存試験用に一定温度
／湿度（８０°Ｆ／８０％（２７℃）の比湿度）の部屋
においた。以下の吸収の変化が見られた。
に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。３
Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６
０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによって、
完全な漂白が観察された。構造は急峻な漂白特性を有し
ていた。未処理材料のサンプルを保存試験用に一定温度
／湿度（８０°Ｆ／８０％（２７℃）の比湿度）の部屋
においた。以下の吸収の変化が見られた。
【０１１３】 強度の低下度は実施例１１のテトラメチルアンモニウム
塩構造と同様に実施例１０のグアニジニウム塩以上に良
好に改善した。
塩構造と同様に実施例１０のグアニジニウム塩以上に良
好に改善した。
【０１１４】（実施例１７〜１９）以下の実施例は種々
の第４アンモニウム「酸−塩」を熱染料漂白構造に使用
することについて例示する。前述と同様の操作により以
下の溶液を調製した。 材料 実施例17 実施例18 実施例19 （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） 0.5239g 0.5239g 0.5239g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル 0.0073g 0.0073g 0.0073g ２−ブタノン 3.6794g 3.6794g 3.6794g トルエン 1.7890g 1.7890g 1.7890g ４−メチル−２−ペンタノン 0.6000g 0.6000g 0.6000g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 0.0191g 0.0191g 0.0191g アセトン 1.5460g 1.5460g 1.5460g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ 0.0273g 0.0273g 0.0273g アセトン 1.9270g 1.9270g 1.9270g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ２-Ａ１ 0.0336g カルボアニオン発生剤Ｃ５-Ａ１ 0.0343g カルボアニオン発生剤Ｃ３-Ａ１ 0.0363gアセトン 2.7300g 2.7800g 2.9500g
の第４アンモニウム「酸−塩」を熱染料漂白構造に使用
することについて例示する。前述と同様の操作により以
下の溶液を調製した。 材料 実施例17 実施例18 実施例19 （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） 0.5239g 0.5239g 0.5239g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル 0.0073g 0.0073g 0.0073g ２−ブタノン 3.6794g 3.6794g 3.6794g トルエン 1.7890g 1.7890g 1.7890g ４−メチル−２−ペンタノン 0.6000g 0.6000g 0.6000g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 0.0191g 0.0191g 0.0191g アセトン 1.5460g 1.5460g 1.5460g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ 0.0273g 0.0273g 0.0273g アセトン 1.9270g 1.9270g 1.9270g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ２-Ａ１ 0.0336g カルボアニオン発生剤Ｃ５-Ａ１ 0.0343g カルボアニオン発生剤Ｃ３-Ａ１ 0.0363gアセトン 2.7300g 2.7800g 2.9500g
【０１１５】溶液を混合し湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）
に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。３
Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６
０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによって、
構造は無色になり４００ｎｍで０．０２〜０．０４の吸
収を示した。被膜の漂白性はテトラメチルアンモニウム
塩と一致していた。
に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。３
Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６
０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによって、
構造は無色になり４００ｎｍで０．０２〜０．０４の吸
収を示した。被膜の漂白性はテトラメチルアンモニウム
塩と一致していた。
【０１１６】（実施例２０〜３０）実施例２０〜３０は
熱染料漂白構造中にＩＶ及びＶの構造の染料を使用する
ことについて例示する。以下のようにハレーション防止
被膜配合を調製した。
熱染料漂白構造中にＩＶ及びＶの構造の染料を使用する
ことについて例示する。以下のようにハレーション防止
被膜配合を調製した。
【０１１７】 材料 実施例２０〜３０ 溶液Ａ、Ｂ、及びＤをそれぞれの染料用に調製した。 （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g トルエン １．７８９０g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０４１９g アセトン １．７９１０g （溶液Ｃ）：実施例 以下の染料溶液を調製した： ２０．染料Ｄ１ アセトン１．９１５g中に０．０２７１g ２１．染料Ｄ２ アセトン２．０７３g中に０．０２９４g ２２．染料Ｄ５ アセトン１．９２７g中に０．０２７３g ２３．染料Ｄ６ アセトン１．９６９g中に０．０２７９g ２４．染料Ｄ７ アセトン２．４７３g中に０．０３５０g ２５．染料Ｄ８ アセトン２．５９４g中に０．０３６７g ２６．染料Ｄ９ アセトン２．７７２g中に０．０３９３g ２７．染料Ｄ１０ アセトン２．３７２g中に０．０３３６g ２８．染料Ｄ１１ アセトン２．９７０g中に０．０４２１g ２９．染料Ｄ１２ アセトン２．６４５g中に０．０３７５g ３０．染料Ｄ１４ アセトン２．９１８g中に０．０４１３g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１-Ａ１ ０．０１８２g メタノール １．４７３０gジメチルホルムアミド ２．９８００g
【０１１８】溶液を混合し湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）
に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。近
赤外線の吸収を以下に示す。３Ｍモデル９０１４サーマ
ル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１
０秒間処理することによって、完全な漂白が観察され
た。被膜は近赤外線での測定可能な吸収は有さなかっ
た。
に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。近
赤外線の吸収を以下に示す。３Ｍモデル９０１４サーマ
ル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１
０秒間処理することによって、完全な漂白が観察され
た。被膜は近赤外線での測定可能な吸収は有さなかっ
た。
【０１１９】実施例 染料 λｍａｘ 吸収 処理後の吸収 ２０．染料Ｄ１ ８５０ｎｍ ０．１５ ０．００ ２１．染料Ｄ２ ８００ｎｍ ０．１８ ０．００ ２２．染料Ｄ５ ８３０ｎｍ １．８ ０．００ ２３．染料Ｄ６ ８１５ｎｍ １．８４ ０．００ ２４．染料Ｄ７ ８１５ｎｍ １．５８ ０．００ ２５．染料Ｄ８ ８３０ｎｍ ２．１０ ０．００ ２６．染料Ｄ９ ８０５ｎｍ １．３８ ０．００ ２７．染料Ｄ１０ ８３０ｎｍ １．３８ ０．００ ２８．染料Ｄ１１ ８３０ｎｍ ０．１０ ０．００ ２９．染料Ｄ１２ ８３０ｎｍ １．４０ ０．００３０．染料Ｄ１４ ８３０ｎｍ １．８４ ０．００
【０１２０】（実施例３１）本実施例は実施例８の被膜
をポテンシャルサーモグラフィック媒体として使用する
ことを例示する。被膜はマゼンダ色を有していた。この
被膜は３Ｍサーモファックス（Ｔｈｅｒｍｏｆａｘ）TM
複写機を用いて２／３最大設定での印刷試験によりマゼ
ンダ上に透明の好適な透明コピーを生成することがわか
った。
をポテンシャルサーモグラフィック媒体として使用する
ことを例示する。被膜はマゼンダ色を有していた。この
被膜は３Ｍサーモファックス（Ｔｈｅｒｍｏｆａｘ）TM
複写機を用いて２／３最大設定での印刷試験によりマゼ
ンダ上に透明の好適な透明コピーを生成することがわか
った。
【０１２１】（実施例３２）実施例６で調製したシアン
被膜のシートをポジ型画像形成系として評価した。電気
信号を用いてオーヨー・ゲーオ・スペース（Ｏｙｏ Ｇ
ｅｏ Ｓｐａｃｅ）ＧＳ−６１２サーマル・プロッター
のサーマルヘッドを動作させ、構造の背景領域を漂白し
た。ポジジ型シアン画像が透明な背景領域上に得られ
た。この被膜も３Ｍサーモファックス（Ｔｈｅｒｍｏｆ
ａｘ）TM複写機を用いて２／３最大設定での印刷試験に
よりシアン上に透明の好適な透明ネガ型画像コピーを生
成することがわかった。
被膜のシートをポジ型画像形成系として評価した。電気
信号を用いてオーヨー・ゲーオ・スペース（Ｏｙｏ Ｇ
ｅｏ Ｓｐａｃｅ）ＧＳ−６１２サーマル・プロッター
のサーマルヘッドを動作させ、構造の背景領域を漂白し
た。ポジジ型シアン画像が透明な背景領域上に得られ
た。この被膜も３Ｍサーモファックス（Ｔｈｅｒｍｏｆ
ａｘ）TM複写機を用いて２／３最大設定での印刷試験に
よりシアン上に透明の好適な透明ネガ型画像コピーを生
成することがわかった。
【０１２２】（実施例３３〜３４）実施例３３〜３４は
第４アンモニウムカルボアニオン発生剤を漂白剤として
使用するだけでなく構造中に酸安定剤を使用した場合の
改良について例示する。前述したように、酸は被覆形成
前、被覆形成中、オーブン乾燥中の染料の前漂白を防止
し；溶液の容器での寿命を長期化し、被覆材料のＤｍａ
ｘを高くし、熱漂白性被膜の貯蔵安定性を改善する。前
述と同様の操作により、ハレーション防止被膜溶液を調
製した。実施例３３は酸安定剤を含有し、実施例３４は
含有していない。
第４アンモニウムカルボアニオン発生剤を漂白剤として
使用するだけでなく構造中に酸安定剤を使用した場合の
改良について例示する。前述したように、酸は被覆形成
前、被覆形成中、オーブン乾燥中の染料の前漂白を防止
し；溶液の容器での寿命を長期化し、被覆材料のＤｍａ
ｘを高くし、熱漂白性被膜の貯蔵安定性を改善する。前
述と同様の操作により、ハレーション防止被膜溶液を調
製した。実施例３３は酸安定剤を含有し、実施例３４は
含有していない。
【０１２３】 材料 実施例３３ 実施例３４ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９４g ３．６７９４g トルエン １．７８９０g １．７８９０g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０４１９g ０．００００g アセトン １．６９００g ０．００００g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g ０．０２７３g アセトン １．９２７０g １．９２７０g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１-Ａ１ ０．０１９８g ０．０１９８gメタノール １．５９９８g １．５９９８g
【０１２４】溶液を混合し３ｍｉｌ（７６μｍ）のポリ
エステルフィルム上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）に塗
布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。被膜は
以下の吸収を有した。 ７８０ｎｍでの吸収 １．２０００ ０．５２００ ８２０ｎｍでの吸収 １．３１００ ０．５２９０ 被膜が酸安定剤を含有している実施例３３の吸収は、被
膜が酸安定剤を含有しない実施例３４に比べた高いＤｍ
ａｘを有している。３Ｍモデル９０１４サーマル・プロ
セッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処
理することによって、被膜は完全に漂白した。被膜は７
８０又は８２０ｎｍで測定可能な吸収を有さなかった。
エステルフィルム上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）に塗
布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で乾燥した。被膜は
以下の吸収を有した。 ７８０ｎｍでの吸収 １．２０００ ０．５２００ ８２０ｎｍでの吸収 １．３１００ ０．５２９０ 被膜が酸安定剤を含有している実施例３３の吸収は、被
膜が酸安定剤を含有しない実施例３４に比べた高いＤｍ
ａｘを有している。３Ｍモデル９０１４サーマル・プロ
セッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処
理することによって、被膜は完全に漂白した。被膜は７
８０又は８２０ｎｍで測定可能な吸収を有さなかった。
【０１２５】（実施例３５〜３７）実施例３５〜３７は
第４アンモニウム塩のアニオン、「酸−塩」又は酸の組
合せを用いて種々のハレーション防止層の反応性を比較
した。酸又は「酸−塩」に対して異なったアニオンの組
合せを使用し同じ初期吸収に配合を調節することによっ
て反応性の向上が見られた。このことは実施例３５及び
３６の短い漂白時間によって証明される。実施例３７に
示すように、単一のアニオンのみを第４アンモニウム
塩、「酸塩」、及び酸に用いる場合には漂白時間の長期
化が見られた。
第４アンモニウム塩のアニオン、「酸−塩」又は酸の組
合せを用いて種々のハレーション防止層の反応性を比較
した。酸又は「酸−塩」に対して異なったアニオンの組
合せを使用し同じ初期吸収に配合を調節することによっ
て反応性の向上が見られた。このことは実施例３５及び
３６の短い漂白時間によって証明される。実施例３７に
示すように、単一のアニオンのみを第４アンモニウム
塩、「酸塩」、及び酸に用いる場合には漂白時間の長期
化が見られた。
【０１２６】 材料 実施例35 実施例36 実施例37 （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） 0.9973g 0.9973g 0.9973g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル 0.0626g 0.0626g 0.0626g ２−ブタノン 6.9402g 6.9402g 6.9402g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 0.0236g ４−クロロフェニルスルホニル酢酸 0.0082g 0.0082g アセトン 0.9547g 0.3308g 0.3308g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ 0.0273g 0.0273g 0.0273g アセトン 1.3270g 1.3270g 1.3270g メチル−２−ペンタノン 0.6000g 0.6000g 0.6000g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１-Ａ１ 0.0161g カルボアニオン発生剤Ｃ１-Ａ７ 0.0084g 0.0084g メタノール 0.6472g 0.6472g 0.6472g ジメチルホルムアミド 0.6472g （溶液Ｅ） グアニジニウム４−ニトロフェニルスルホニルアセテート 0.0212g 0.0222g グアニジニウム４−クロロフェニルスルホニルアセテート 0.0215g メタノール 0.8613g 0.9023g 1.3980gジメチルホルムアミド 0.8613g 0.9023g
【０１２７】種々の反応物のモル分率を以下に示す。 材料 実施例35 実施例36 実施例37 染料 １ １ １ カルボアニオン発生剤 0.636 0.664 0.664 グアニジニウム塩 1.5537 1.627 1.627 フェニルスルホニル酢酸 2.1300 0.776 0.776 ８２０ｎｍでの吸収 1.100 1.100 1.100２６０°Ｆでの漂白時間 １１秒 ８秒 ２０秒
【０１２８】（実施例３８〜４０は第４アンモニウムフ
ェニルスルホニルアセテート漂白剤とオーラミン染料の
使用を例示する） （実施例３８）以下の実施例では％は全て重量（重量
％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａｒ）TMＢ−
７６の無水エタノール溶液１０ｃｍ3に１ｃｍ3のオーラ
ミンＯ（４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェ
ノン−ケチミンヒドロクロライド）、染料Ｄ１６を添加
した。ブトバー（Ｂｕｔｖａｒ）TMＢ−７６はＭＯ，セ
ント・ルイスのモンサント・ケミカル（Ｍｏｎｓａｎｔ
ｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）社から入手できるポリビニルブ
チラール樹脂である。これに１：１アセトン−メタノー
ル中にテトラエチルアンモニウムｐ−ニトロフェニルス
ルホニルアセテート（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ
１）を入れた２％の溶液１．０ｃｍ3を添加した。得ら
れた溶液を混合し３ｍｉｌ（７６μｍ）の透明なポリエ
ステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）に塗布し、９０
秒間１４０°Ｆ（６０℃）で乾燥した。被膜は濃い黄色
であった。３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサー
を通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理するこ
とによって、被膜は完全に漂白した。
ェニルスルホニルアセテート漂白剤とオーラミン染料の
使用を例示する） （実施例３８）以下の実施例では％は全て重量（重量
％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａｒ）TMＢ−
７６の無水エタノール溶液１０ｃｍ3に１ｃｍ3のオーラ
ミンＯ（４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェ
ノン−ケチミンヒドロクロライド）、染料Ｄ１６を添加
した。ブトバー（Ｂｕｔｖａｒ）TMＢ−７６はＭＯ，セ
ント・ルイスのモンサント・ケミカル（Ｍｏｎｓａｎｔ
ｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）社から入手できるポリビニルブ
チラール樹脂である。これに１：１アセトン−メタノー
ル中にテトラエチルアンモニウムｐ−ニトロフェニルス
ルホニルアセテート（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ
１）を入れた２％の溶液１．０ｃｍ3を添加した。得ら
れた溶液を混合し３ｍｉｌ（７６μｍ）の透明なポリエ
ステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）に塗布し、９０
秒間１４０°Ｆ（６０℃）で乾燥した。被膜は濃い黄色
であった。３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサー
を通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理するこ
とによって、被膜は完全に漂白した。
【０１２９】（実施例３９）以下の実施例は水ベースの
熱漂白性被膜中で第４アンモニウムフェニルスルホニル
アセテート塩の使用について例示する。以下の実施例で
の％は全て重量（重量％）である。１０％のポリビニル
アルコール水溶液１０ｃｍ3に１ｃｍ3のオーラミンＯ
（４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン−
ケチミンヒドロクロライド）、染料Ｄ１６を添加した。
これに１：１アセトン−メタノール中にテトラエチルア
ンモニウムｐ−ニトロフェニルスルホニルアセテート
（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ１）を入れた２％の溶
液１．０ｃｍ3を添加した。得られた溶液を混合し３ｍ
ｉｌ（７６μｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍ
ｉｌ（７６μｍ）に塗布し、９０秒間１４０°Ｆ（６０
℃）で乾燥した。被膜は濃い黄色で、０．７５の「マイ
ナス・ブルー」強度を有していた。３Ｍモデル９０１４
サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７
℃）で１０秒間処理することによって、被膜は完全に漂
白した。
熱漂白性被膜中で第４アンモニウムフェニルスルホニル
アセテート塩の使用について例示する。以下の実施例で
の％は全て重量（重量％）である。１０％のポリビニル
アルコール水溶液１０ｃｍ3に１ｃｍ3のオーラミンＯ
（４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン−
ケチミンヒドロクロライド）、染料Ｄ１６を添加した。
これに１：１アセトン−メタノール中にテトラエチルア
ンモニウムｐ−ニトロフェニルスルホニルアセテート
（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ１）を入れた２％の溶
液１．０ｃｍ3を添加した。得られた溶液を混合し３ｍ
ｉｌ（７６μｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍ
ｉｌ（７６μｍ）に塗布し、９０秒間１４０°Ｆ（６０
℃）で乾燥した。被膜は濃い黄色で、０．７５の「マイ
ナス・ブルー」強度を有していた。３Ｍモデル９０１４
サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７
℃）で１０秒間処理することによって、被膜は完全に漂
白した。
【０１３０】（実施例４０）本発明の第４アンモニウム
フェニルスルホニルアセテート熱染料漂白剤の代わりに
米国特許第５，１３５，８４２号に記載されている求核
発生グアニジニウムフェニルスルホニルアセテート熱染
料漂白剤を用いて実施例３８と同様に調製した被膜は完
全に漂白しなかった。
フェニルスルホニルアセテート熱染料漂白剤の代わりに
米国特許第５，１３５，８４２号に記載されている求核
発生グアニジニウムフェニルスルホニルアセテート熱染
料漂白剤を用いて実施例３８と同様に調製した被膜は完
全に漂白しなかった。
【０１３１】（実施例４１〜４２は第４アンモニウムフ
ェニルスルホニルアセテート漂白剤とトリシアノビニル
染料の使用を例示する） （実施例４１）以下の実施例では％は全て重量（重量
％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａｒ）TMの無
水エタノール溶液１０ｃｍ3に、アセトン中にｐ−ジメ
チルアミノフェニルトリシアノエチレン、染料Ｄ１７を
入れた１％溶液０．２５ｃｍ3を添加した。これにテト
ラエチルアンモニウムｐ−ニトロフェニルスルホニルア
セテート（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ１）の２％メ
タノール溶液０．２７ｃｍ3を添加した。得られた濃い
赤色溶液を混合し３ｍｉｌ（７６μｍ）の透明なポリエ
ステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）に塗布し、空気
中でで乾燥した。被膜は濃いマゼンダ色で、０．２０の
「マイナス・グリーン」強度を有していた。３Ｍモデル
９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、被膜は
０．０５の強度まで漂白した。３Ｍモデル９０１４サー
マル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で
６秒間処理することによって、被膜は０．０８の強度ま
で漂白した。
ェニルスルホニルアセテート漂白剤とトリシアノビニル
染料の使用を例示する） （実施例４１）以下の実施例では％は全て重量（重量
％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａｒ）TMの無
水エタノール溶液１０ｃｍ3に、アセトン中にｐ−ジメ
チルアミノフェニルトリシアノエチレン、染料Ｄ１７を
入れた１％溶液０．２５ｃｍ3を添加した。これにテト
ラエチルアンモニウムｐ−ニトロフェニルスルホニルア
セテート（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ１）の２％メ
タノール溶液０．２７ｃｍ3を添加した。得られた濃い
赤色溶液を混合し３ｍｉｌ（７６μｍ）の透明なポリエ
ステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μｍ）に塗布し、空気
中でで乾燥した。被膜は濃いマゼンダ色で、０．２０の
「マイナス・グリーン」強度を有していた。３Ｍモデル
９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、被膜は
０．０５の強度まで漂白した。３Ｍモデル９０１４サー
マル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で
６秒間処理することによって、被膜は０．０８の強度ま
で漂白した。
【０１３２】（実施例４２）本発明の第４アンモニウム
フェニルスルホニルアセテート熱染料漂白剤の代わりに
米国特許第５，１３５，８４２号に記載されている求核
発生グアニジニウムアンモニウムフェニルスルホニルア
セテート熱染料漂白剤を用いて実施例４１と同様に調製
した被膜は完全に漂白しなかった。
フェニルスルホニルアセテート熱染料漂白剤の代わりに
米国特許第５，１３５，８４２号に記載されている求核
発生グアニジニウムアンモニウムフェニルスルホニルア
セテート熱染料漂白剤を用いて実施例４１と同様に調製
した被膜は完全に漂白しなかった。
【０１３３】（実施例４３〜４５は第４アンモニウムフ
ェニルスルホニルアセテート漂白剤とジスルホン染料の
使用を例示する） （実施例４３）以下の実施例では％は全て重量（重量
％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａｒ）TMの無
水エタノール溶液１０ｃｍ3にアセトン中に４−（２，
２−ビス（トリフルオロメチル）スルホニル）エテニル
−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンアミン（ＣＡＳ５８５５８
−７９−５）、染料Ｄ１８を入れた１％溶液０．６０ｃ
ｍ3を添加した。これにテトラエチルアンモニウムｐ−
ニトロフェニルスルホニルアセテート（カルボアニオン
発生剤Ｃ２−Ａ１）の２％メタノール溶液０．３４ｃｍ
3を添加した。得られた黄色溶液を混合し３ｍｉｌ（７
６μｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７
６μｍ）に塗布し、空気中で乾燥した。被膜は黄色でり
０．２２の「マイナス・ブルー」強度を有していた。３
Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６
０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによって、
被膜は０．０５の強度まで漂白した。３Ｍモデル９０１
４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７
℃）で６秒間処理することによって、被膜は０．０８の
強度まで漂白した。
ェニルスルホニルアセテート漂白剤とジスルホン染料の
使用を例示する） （実施例４３）以下の実施例では％は全て重量（重量
％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａｒ）TMの無
水エタノール溶液１０ｃｍ3にアセトン中に４−（２，
２−ビス（トリフルオロメチル）スルホニル）エテニル
−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンアミン（ＣＡＳ５８５５８
−７９−５）、染料Ｄ１８を入れた１％溶液０．６０ｃ
ｍ3を添加した。これにテトラエチルアンモニウムｐ−
ニトロフェニルスルホニルアセテート（カルボアニオン
発生剤Ｃ２−Ａ１）の２％メタノール溶液０．３４ｃｍ
3を添加した。得られた黄色溶液を混合し３ｍｉｌ（７
６μｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７
６μｍ）に塗布し、空気中で乾燥した。被膜は黄色でり
０．２２の「マイナス・ブルー」強度を有していた。３
Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６
０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによって、
被膜は０．０５の強度まで漂白した。３Ｍモデル９０１
４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７
℃）で６秒間処理することによって、被膜は０．０８の
強度まで漂白した。
【０１３４】（実施例４４）以下の実施例での％は全て
重量（重量％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａ
ｒ）TMの無水エタノール溶液１０gにアセトン中に４−
（４，４−ビス（トリフルオロメチル）スルホニル）−
１，３ブタジエニル−−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンアミ
ン（ＣＡＳ５８５５９−０２−７）、染料Ｄ１９を入れ
た１％溶液１．０ｃｍ3を添加した。これに１：１アセ
トン−メタノール中にテトラエチルアンモニウムｐ−ニ
トロフェニルスルホニルアセテート（カルボアニオン発
生剤Ｃ２−Ａ１）を入れた２％の溶液１．００ｃｍ3を
添加した。得られた黄色溶液を混合し３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）に塗布し、空気中で乾燥した。被膜はマゼンダ色
で、０．４１の強度を有していた。３Ｍモデル９０１４
サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７
℃）で１０秒間処理することによって、被膜は完全に漂
白した。
重量（重量％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａ
ｒ）TMの無水エタノール溶液１０gにアセトン中に４−
（４，４−ビス（トリフルオロメチル）スルホニル）−
１，３ブタジエニル−−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンアミ
ン（ＣＡＳ５８５５９−０２−７）、染料Ｄ１９を入れ
た１％溶液１．０ｃｍ3を添加した。これに１：１アセ
トン−メタノール中にテトラエチルアンモニウムｐ−ニ
トロフェニルスルホニルアセテート（カルボアニオン発
生剤Ｃ２−Ａ１）を入れた２％の溶液１．００ｃｍ3を
添加した。得られた黄色溶液を混合し３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）に塗布し、空気中で乾燥した。被膜はマゼンダ色
で、０．４１の強度を有していた。３Ｍモデル９０１４
サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７
℃）で１０秒間処理することによって、被膜は完全に漂
白した。
【０１３５】（実施例４５）本発明の第４アンモニウム
フェニルスルホニルアセテート熱染料漂白剤の代わりに
米国特許第５，１３５，８４２号に記載されている求核
発生グアニジニウムフェニルスルホニルアセテート熱染
料漂白剤を用いて実施例４１と同様に調製した被膜は完
全に漂白しなかった。
フェニルスルホニルアセテート熱染料漂白剤の代わりに
米国特許第５，１３５，８４２号に記載されている求核
発生グアニジニウムフェニルスルホニルアセテート熱染
料漂白剤を用いて実施例４１と同様に調製した被膜は完
全に漂白しなかった。
【０１３６】（実施例４６〜４９は第４アンモニウムフ
ェニルスルホニルアセテート漂白剤とスチリル染料の使
用について例示する） （実施例４６）前述の実施例８と同様の操作により以下
の溶液を調製した。
ェニルスルホニルアセテート漂白剤とスチリル染料の使
用について例示する） （実施例４６）前述の実施例８と同様の操作により以下
の溶液を調製した。
【０１３７】 材料 実施例４６ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．４２２０g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００５９g ２−ブタノン ２．９６３７g トルエン １．４４１０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．４８３０g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０８６１g メタノール １．８３８０g ジメチルホルムアミド １．８３８０g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ２０ ０．０３９０g メタノール ０．７０００g ジメチルホルムアミド ０．７０００g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ１ ０．０５７３g メタノール ２．３５００gジメチルホルムアミド ２．３５００g
【０１３８】赤色溶液をポリエステル上に湿潤厚３ｍｉ
ｌ（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）
で乾燥した。５２０ｎｍでの吸収は０．３２であった。
３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２
６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによっ
て、完全な漂白が得られた。染料に対してクロライド又
はドデシルベンゼンスルホネート対イオンのいずれかを
用いる以外は前述のように調製したサンプルはこのサン
プルほど完全に漂白しなかった。
ｌ（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）
で乾燥した。５２０ｎｍでの吸収は０．３２であった。
３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２
６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによっ
て、完全な漂白が得られた。染料に対してクロライド又
はドデシルベンゼンスルホネート対イオンのいずれかを
用いる以外は前述のように調製したサンプルはこのサン
プルほど完全に漂白しなかった。
【０１３９】（実施例４７）前述の実施例８と同様の操
作により以下の溶液を調製した。
作により以下の溶液を調製した。
【０１４０】 材料 実施例４７ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．４２２０g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００５９g ２−ブタノン ２．９６３７g トルエン １．４４１０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．４８３０g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０９２３g メタノール １．９６００g ジメチルホルムアミド １．９６００g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ２１ ０．０３９０g メタノール ０．７０００g ジメチルホルムアミド ０．７０００g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１−Ａ１ ０．０６１５g メタノール ２．５３００gジメチルホルムアミド ２．５３００g
【０１４１】青色溶液をポリエステル上に湿潤厚３ｍｉ
ｌ（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）
で乾燥した。６１０ｎｍでの吸収は０．８８であった。
３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２
６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによっ
て、完全な漂白が得られた。染料に対してクロライド又
はドデシルベンゼンスルホネート対イオンのいずれかを
用いる以外は前述のように調製したサンプルはこのサン
プルほど完全に漂白しなかった。
ｌ（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）
で乾燥した。６１０ｎｍでの吸収は０．８８であった。
３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２
６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによっ
て、完全な漂白が得られた。染料に対してクロライド又
はドデシルベンゼンスルホネート対イオンのいずれかを
用いる以外は前述のように調製したサンプルはこのサン
プルほど完全に漂白しなかった。
【０１４２】（実施例４８）以下の実施例では％は全て
重量（重量％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａ
ｒ）TMＢ−７６の無水エタノール溶液１０ｃｍ3にアセ
トン：メタノール１：１中にｐ−ジメチルアミノスチリ
ル−トリメチルインドリニウムトシレート、染料Ｄ２２
を入れた１％溶液０．７０ｃｍ3を添加した。これにテ
トラエチルアンモニウムｐ−ニトロフェニルスルホニル
アセテート（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ１）の１％
１：１アセトン：メタノール溶液１．００ｃｍ3を添加
した。得られた濃いマゼンダ色溶液を混合し３ｍｉｌ
（７６μｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ
（７６μｍ）に塗布し、オーブン中で１４０°Ｆ（６０
℃）で９０秒間乾燥した。マゼンダ被膜は０．４３の
「マイナス・グリーン」強度を有していた。３Ｍモデル
９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、被膜は
完全に漂白した。
重量（重量％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａ
ｒ）TMＢ−７６の無水エタノール溶液１０ｃｍ3にアセ
トン：メタノール１：１中にｐ−ジメチルアミノスチリ
ル−トリメチルインドリニウムトシレート、染料Ｄ２２
を入れた１％溶液０．７０ｃｍ3を添加した。これにテ
トラエチルアンモニウムｐ−ニトロフェニルスルホニル
アセテート（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ１）の１％
１：１アセトン：メタノール溶液１．００ｃｍ3を添加
した。得られた濃いマゼンダ色溶液を混合し３ｍｉｌ
（７６μｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ
（７６μｍ）に塗布し、オーブン中で１４０°Ｆ（６０
℃）で９０秒間乾燥した。マゼンダ被膜は０．４３の
「マイナス・グリーン」強度を有していた。３Ｍモデル
９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ
（１２７℃）で１０秒間処理することによって、被膜は
完全に漂白した。
【０１４３】（実施例４９）以下の実施例では％は全て
重量（重量％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａ
ｒ）TMＢ−７６の無水エタノール溶液１０ｃｍ3にアセ
トン：メタノール１：１中にｐ−ジメチルアミノスチリ
ル−Ｎ−メチルキナルジニウムトシレート、染料Ｄ２３
を入れた１％溶液０．７０ｃｍ3を添加した。これにテ
トラエチルアンモニウムｐ−ニトロフェニルスルホニル
アセテート（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ１）の１％
１：１アセトン：メタノール溶液１．００ｃｍ3を添加
した。得られた濃い赤色溶液を混合し３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）に塗布し、オーブン中で１４０°Ｆ（６０℃）で９
０秒間乾燥した。赤色被膜は０．２８の「マイナス・グ
リーン」強度を有していた。３Ｍモデル９０１４サーマ
ル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１
０秒間処理することによって、被膜は０．０４の強度ま
で漂白した。
重量（重量％）である。１０％のブトバー（Ｂｕｔｖａ
ｒ）TMＢ−７６の無水エタノール溶液１０ｃｍ3にアセ
トン：メタノール１：１中にｐ−ジメチルアミノスチリ
ル−Ｎ−メチルキナルジニウムトシレート、染料Ｄ２３
を入れた１％溶液０．７０ｃｍ3を添加した。これにテ
トラエチルアンモニウムｐ−ニトロフェニルスルホニル
アセテート（カルボアニオン発生剤Ｃ２−Ａ１）の１％
１：１アセトン：メタノール溶液１．００ｃｍ3を添加
した。得られた濃い赤色溶液を混合し３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）の透明なポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ（７６μ
ｍ）に塗布し、オーブン中で１４０°Ｆ（６０℃）で９
０秒間乾燥した。赤色被膜は０．２８の「マイナス・グ
リーン」強度を有していた。３Ｍモデル９０１４サーマ
ル・プロセッサーを通じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１
０秒間処理することによって、被膜は０．０４の強度ま
で漂白した。
【０１４４】（実施例５０〜５１は第４ホスホニウム及
び第４アルソニウムフェニルスルホニルアセテート漂白
剤とポリメチン染料の使用を例示する）前述した様に本
明細書で使用する「第４アンモニウム」という用語は周
期表で窒素と同族の原子を含む。このような原子にはリ
ン、ヒ素、アンチモン、ビスマスがある。
び第４アルソニウムフェニルスルホニルアセテート漂白
剤とポリメチン染料の使用を例示する）前述した様に本
明細書で使用する「第４アンモニウム」という用語は周
期表で窒素と同族の原子を含む。このような原子にはリ
ン、ヒ素、アンチモン、ビスマスがある。
【０１４５】（実施例５０）前述の実施例８と同様の操
作により以下の溶液を調製した。
作により以下の溶液を調製した。
【０１４６】 材料 実施例５０ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９０g トルエン １．７８９０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．６０００g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０４１９g メタノール １．６９００g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g メタノール １．９２７０g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１０−Ａ１ ０．０３３４gメタノール ２．７０００g
【０１４７】溶液をポリエステルフィルム上に湿潤厚３
ｍｉｌ（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２
℃）で乾燥した。８２０ｎｍでの吸収は１．００６であ
った。３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通
じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することに
よって、完全な漂白が得られた。
ｍｉｌ（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２
℃）で乾燥した。８２０ｎｍでの吸収は１．００６であ
った。３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通
じて２６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することに
よって、完全な漂白が得られた。
【０１４８】（実施例５１）前述の実施例８と同様の操
作により以下の溶液を調製した。
作により以下の溶液を調製した。
【０１４９】 材料 実施例５１ （溶液Ａ）： セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ） ０．５２３９g グッドイヤーＰＥ−２００ポリエステル ０．００７３g ２−ブタノン ３．６７９０g トルエン １．７８９０g ４−メチル−２−ペンタノン ０．６０００g （溶液Ｂ） ４−ニトロフェニルスルホニル酢酸 ０．０４１９g メタノール １．６９００g （溶液Ｃ）： 染料Ｄ５ ０．０２７３g メタノール １．９２７０g （溶液Ｄ）： カルボアニオン発生剤Ｃ１１−Ａ１ ０．０３５９gメタノール ２．９０５０g
【０１５０】溶液をポリエステル上に湿潤厚３ｍｉｌ
（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で
乾燥した。８２０ｎｍでの吸収は０．７７６であった。
３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２
６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによっ
て、完全な漂白が得られた。
（７６μｍ）に塗布し、４分間１８０°Ｆ（８２℃）で
乾燥した。８２０ｎｍでの吸収は０．７７６であった。
３Ｍモデル９０１４サーマル・プロセッサーを通じて２
６０°Ｆ（１２７℃）で１０秒間処理することによっ
て、完全な漂白が得られた。
【０１５１】
【表３】
【０１５２】
【表４】
【０１５３】
【表５】
【０１５４】
【表６】
【０１５５】
【表７】
【０１５６】本発明は種々の特定の好ましい実施態様例
と技術を参照して記載している。しかしながら、請求の
範囲のような本発明の精神と範囲内で多くの変更や改良
を行ってもよい。
と技術を参照して記載している。しかしながら、請求の
範囲のような本発明の精神と範囲内で多くの変更や改良
を行ってもよい。
【図１】 ａ：本発明の漂白剤を使用した構造の漂白特
性を表す。 ｂ：米国特許第５，１３５，８４２号に記載された漂白
剤を使用した構造の漂白特性を表す。図は吸収ｖｓ時間
のプロットである。
性を表す。 ｂ：米国特許第５，１３５，８４２号に記載された漂白
剤を使用した構造の漂白特性を表す。図は吸収ｖｓ時間
のプロットである。
【図２】 ａ：米国特許第５，１３５，８４２号に記載
された漂白剤を使用した構造の漂白特性を表す。 ｂ：本発明の漂白剤と米国特許第５，１３５，８４２号
の漂白剤を混合して使用した構造の漂白特性を表す。図
は吸収ｖｓ時間のプロットである。
された漂白剤を使用した構造の漂白特性を表す。 ｂ：本発明の漂白剤と米国特許第５，１３５，８４２号
の漂白剤を混合して使用した構造の漂白特性を表す。図
は吸収ｖｓ時間のプロットである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｃ 317/44 7419−4Ｈ (72)発明者 マーク・ピーター・カーク イギリス、イングランド、シーエム19・５ エイイー、エセックス、ハーロウ、ザ・ピ ナクルズ（番地の表示なし） ミネソタ・ スリーエム・リサーチ・リミテッド内 (72)発明者 シルビア・アリス・ファーナム アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 ウィリアム・チャールズ・フランク アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 ランダル・ハーマン・ヘランド アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 ジョナサン・ピーター・キッチン アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 ロジャー・アンソニー・メイダー アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 マーク・ブライアン・マイゼン アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 リチャード・アラン・ニューマーク アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 ウィリアム・ドナルド・ラムズデン アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 クマールズ・サキザデ アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 テレンス・ドゥアン・スポーン アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし) (72)発明者 ジョージ・バン・ダイク・ティアーズ アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし)
Claims (3)
- 【請求項１】 染料と一般式Ｉの熱カルボアニオン発生
剤： 【化１】 （式中：Ｒa及びＲbはそれぞれ独立して：水素、アルキ
ル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル
基、アリール基、及びヘテロ環基から選択され；ｐは１
又は２であり、ｐが１のとき、Ｚは：アルキル基、シク
ロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキ
ル基、アリール基、及びヘテロ環基から選択される１価
の基であり、ｐが２のとき、Ｚは：アルキレン基、アリ
ーレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基、アラ
ルキレン基、アルケニレン基、及びヘテロ環基から選択
される２価の基であり；Ｍ+は前記熱カルボアニオン発
生剤から発生するカルボアニオンと反応してカルボアニ
オンを前記染料用漂白剤として無効にするようなことの
ないカチオンである）とを組み合わせてなる熱染料漂白
構造。 - 【請求項２】 電磁波感光性写真用ハロゲン化銀材料を
担持した支持体を有する写真要素であって、要素が請求
項１の熱カルボアニオン発生剤と染料とを有するハレー
ション防止剤又はアキュータンス剤層を有する写真要
素。 - 【請求項３】 （ａ）一般式Ｉの化合物： 【化２】 （式中：Ｒa及びＲbはそれぞれ独立して：水素、アルキ
ル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル
基、アリール基、及びヘテロ環基から選択され、好まし
くはＲa及びＲbは水素を表し；ｐは１又は２であり、ｐ
が１のとき、Ｚは：アルキル基、シクロアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール
基、及びヘテロ環基から選択される１価の基であり、ｐ
が２のとき、Ｚは：アルキレン基、アリーレン基、アル
ケニレン基、アルキニレン基、アラルキレン基、シクロ
アルキレン基、及びヘテロ環基から選択される２価の基
であり；Ｍ+は熱カルボアニオン発生剤から発生するカ
ルボアニオンと反応してカルボアニオンを染料用漂白剤
として無効にするようなことのないカチオンである）
と； （ｂ）カルボン酸又はフェニルスルホニル酢酸とを含有
する熱カルボン酸発生剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US993642 | 1992-12-21 | ||
| US07/993,642 US5324627A (en) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | Tetra-alkylammonium phenylsulfonylacetate thermal-dye-bleach agents |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06222504A true JPH06222504A (ja) | 1994-08-12 |
| JP2986667B2 JP2986667B2 (ja) | 1999-12-06 |
Family
ID=25539786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5318060A Expired - Fee Related JP2986667B2 (ja) | 1992-12-21 | 1993-12-17 | 第４アンモニウムフェニルスルホニルアセテート熱染料漂白剤 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5324627A (ja) |
| EP (1) | EP0605285B1 (ja) |
| JP (1) | JP2986667B2 (ja) |
| CA (1) | CA2108228A1 (ja) |
| DE (1) | DE69326316T2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5324627A (en) * | 1992-12-21 | 1994-06-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Tetra-alkylammonium phenylsulfonylacetate thermal-dye-bleach agents |
| US5541235A (en) * | 1995-03-06 | 1996-07-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Organic soluble cationic dyes with fluorinated alkylsulfonyl counterions |
| US6165706A (en) * | 1998-04-07 | 2000-12-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photothemographic element |
| US6300053B1 (en) | 1998-04-07 | 2001-10-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photothermographic element |
| US7320947B2 (en) * | 2002-09-16 | 2008-01-22 | Milliken & Company | Static dissipative textile and method for producing the same |
| US6730462B1 (en) * | 2002-11-20 | 2004-05-04 | Eastman Kodak Company | Thermally bleachable yellow filter dye compositions barbituric acid arylidene dyes and base precursors |
| JP4369876B2 (ja) | 2004-03-23 | 2009-11-25 | 富士フイルム株式会社 | ハロゲン化銀感光材料および熱現像感光材料 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6151139A (ja) * | 1984-08-20 | 1986-03-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱現像感光材料および感熱記録材料 |
| JPS6432251A (en) * | 1987-07-28 | 1989-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive material |
| JPH02216140A (ja) * | 1988-12-23 | 1990-08-29 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | ハレーション防止染料およびまたはアキュータンス染料を配合した赤外線感光性写真材料 |
Family Cites Families (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3220846A (en) * | 1960-06-27 | 1965-11-30 | Eastman Kodak Co | Use of salts of readily decarboxylated acids in thermography, photography, photothermography and thermophotography |
| US3769019A (en) * | 1968-05-29 | 1973-10-30 | Minnesota Mining & Mfg | Light and heat sensitive sheet material |
| BE755091A (fr) * | 1969-08-22 | 1971-02-01 | Eastman Kodak Co | Composition photoconductrice, produit la contenant et ses applications en electrophotographie |
| US3609360A (en) * | 1969-09-15 | 1971-09-28 | Joseph A Wiese Jr | Negative projection transparencies and method |
| US3619194A (en) * | 1969-11-05 | 1971-11-09 | Gary F Mitchell | Novel light-absorbing layers for photographic elements containing substituted 1-aminopyridinium dyes |
| US3684552A (en) * | 1970-11-16 | 1972-08-15 | Minnesota Mining & Mfg | Heat-sensitive sheet material |
| US3892569A (en) * | 1972-12-04 | 1975-07-01 | Gen Film Dev Corp | Photosensitive sheets comprising organic dyes and sensitizers |
| US3852093A (en) * | 1972-12-13 | 1974-12-03 | Minnesota Mining & Mfg | Heat-sensitive copy-sheet |
| US4033948A (en) * | 1976-05-17 | 1977-07-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Acutance agents for use in thermally-developable photosensitive compositions |
| US4060420A (en) * | 1976-08-06 | 1977-11-29 | Eastman Kodak Company | Sulfonylacetate activator-stabilizer precursor |
| US4201590A (en) * | 1977-09-19 | 1980-05-06 | Eastman Kodak Company | Heat sensitive reactive products of hexaarylbiimidazole and antihalation dyes |
| US4196002A (en) * | 1977-09-19 | 1980-04-01 | Eastman Kodak Company | Photothermographic element containing heat sensitive dye materials |
| US4197131A (en) * | 1978-11-29 | 1980-04-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dry silver photo-sensitive compositions |
| DD144131A1 (de) * | 1979-05-31 | 1980-09-24 | Martin Scharf | Fotografische materialien mit lichthofschutz auf basis von halogensilberemulsionen |
| US4283487A (en) * | 1979-11-29 | 1981-08-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermolabile acutance dyes for dry silver |
| US4336323A (en) * | 1979-12-07 | 1982-06-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Decolorizable imaging system |
| EP0101646B1 (en) * | 1982-08-20 | 1988-02-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photographic elements incorporating antihalation and/or acutance dyes |
| JPS59157637A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱現像カラ−感光材料 |
| GB8307022D0 (en) * | 1983-03-15 | 1983-04-20 | Minnesota Mining & Mfg | Photothermographic element |
| JPH0245181B2 (ja) * | 1983-03-16 | 1990-10-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Netsugenzokaraakankozairyo |
| JPS59168440A (ja) * | 1983-03-16 | 1984-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱現像カラ−感光材料 |
| US4705737A (en) * | 1983-03-16 | 1987-11-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat developable photographic materials |
| JPS59180537A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱現像感光材料用塩基プレカ−サ− |
| JPS6153636A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱現像感光材料 |
| JPS6232446A (ja) * | 1985-08-06 | 1987-02-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱現像感光材料 |
| JPS63186229A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料 |
| EP0308750B1 (en) * | 1987-09-09 | 1995-12-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Base precursor and light-sensitive material containing base precursor |
| GB8913444D0 (en) * | 1989-06-12 | 1989-08-02 | Minnesota Mining & Mfg | Thermal dye bleach construction |
| US5324627A (en) * | 1992-12-21 | 1994-06-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Tetra-alkylammonium phenylsulfonylacetate thermal-dye-bleach agents |
-
1992
- 1992-12-21 US US07/993,642 patent/US5324627A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-10-12 CA CA002108228A patent/CA2108228A1/en not_active Abandoned
- 1993-12-17 JP JP5318060A patent/JP2986667B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-20 DE DE69326316T patent/DE69326316T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-20 EP EP93403100A patent/EP0605285B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-01-25 US US08/187,171 patent/US5384237A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6151139A (ja) * | 1984-08-20 | 1986-03-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱現像感光材料および感熱記録材料 |
| JPS6432251A (en) * | 1987-07-28 | 1989-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive material |
| JPH02216140A (ja) * | 1988-12-23 | 1990-08-29 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | ハレーション防止染料およびまたはアキュータンス染料を配合した赤外線感光性写真材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69326316D1 (de) | 1999-10-14 |
| US5324627A (en) | 1994-06-28 |
| JP2986667B2 (ja) | 1999-12-06 |
| US5384237A (en) | 1995-01-24 |
| CA2108228A1 (en) | 1994-06-22 |
| EP0605285B1 (en) | 1999-09-08 |
| DE69326316T2 (de) | 2000-03-30 |
| EP0605285A1 (en) | 1994-07-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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