JPH0622251B2 - 半導体組立装置 - Google Patents
半導体組立装置Info
- Publication number
- JPH0622251B2 JPH0622251B2 JP59273414A JP27341484A JPH0622251B2 JP H0622251 B2 JPH0622251 B2 JP H0622251B2 JP 59273414 A JP59273414 A JP 59273414A JP 27341484 A JP27341484 A JP 27341484A JP H0622251 B2 JPH0622251 B2 JP H0622251B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead frame
- temperature side
- heater block
- high temperature
- side heater
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W95/00—Packaging processes not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は半導体組立装置に関し、特にリードフレーム上
に接着剤(Agペースト)を介して半導体ペレットをマ
ウントした後、その接着剤を硬化するために用いられる
キュア装置に係る。
に接着剤(Agペースト)を介して半導体ペレットをマ
ウントした後、その接着剤を硬化するために用いられる
キュア装置に係る。
一般に、半導体装置の組立工程においては、リードフレ
ームに半導体ペレットを接着するマウント工程及びこの
工程後のボンディング工程が行われる。上記マウント工
程において、接着剤としてAgペーストを使用した場
合、ボディング工程前にAgペーストをキュア(硬化)
する必要がある。従来、このAgペーストをキュアする
方法としては、半導体ペレットがマウントされたリード
フレームを、200℃のオーブンにて約2時間加熱する
方法が用いられている。
ームに半導体ペレットを接着するマウント工程及びこの
工程後のボンディング工程が行われる。上記マウント工
程において、接着剤としてAgペーストを使用した場
合、ボディング工程前にAgペーストをキュア(硬化)
する必要がある。従来、このAgペーストをキュアする
方法としては、半導体ペレットがマウントされたリード
フレームを、200℃のオーブンにて約2時間加熱する
方法が用いられている。
ところで、上記マウント工程及びボンディング工程は現
在それぞれ自動化されているが、工程時間を短縮すると
ともに品質劣化の原因となるハンドリング作業の除去を
考慮した場合、キュア工程も自動化して各工程の連結を
図る必要がある。しかしながら、従来のキュア方法では
自動化ができず、各工程間の連結は困難であった。
在それぞれ自動化されているが、工程時間を短縮すると
ともに品質劣化の原因となるハンドリング作業の除去を
考慮した場合、キュア工程も自動化して各工程の連結を
図る必要がある。しかしながら、従来のキュア方法では
自動化ができず、各工程間の連結は困難であった。
そこで、本発明者は先に特願昭57−191771号に
おいて、高温雰囲気により接着剤を硬化させるキュアヒ
ーターと、リードフレームをキュアヒーターに送り、所
定時間放置した後、キュアヒーターから送り出すリード
フレーム搬送機構とを具備した半導体組立装置(キュア
装置)を開示した。このようなキュア装置によれば、キ
ュア工程を自動化することができ、各工程間の連結を図
ることができる。
おいて、高温雰囲気により接着剤を硬化させるキュアヒ
ーターと、リードフレームをキュアヒーターに送り、所
定時間放置した後、キュアヒーターから送り出すリード
フレーム搬送機構とを具備した半導体組立装置(キュア
装置)を開示した。このようなキュア装置によれば、キ
ュア工程を自動化することができ、各工程間の連結を図
ることができる。
しかし、上述した従来の装置には以下のような欠点があ
る。
る。
(a)マウント工程を終えたリードフレームは、その長
手方向に沿って送られ、キュアヒーターには直線状に収
納される。キュアヒーター内のリードフレームの収納数
は、前後の工程の1フレーム当りの処理時間に依存し、
キュア所要時間をマウント又はボンディングのいずれか
1フレーム当りの処理時間の長い方の処理時間で割った
数となる。例えばマウント処理時間でキュア所要時間を
割ると約5枚となる。このようにキュアヒーターに多く
のリードフレームを収納しようとすると、キュア装置の
本体はリードフレームの進行方向に沿って長いものとな
ってしまう。
手方向に沿って送られ、キュアヒーターには直線状に収
納される。キュアヒーター内のリードフレームの収納数
は、前後の工程の1フレーム当りの処理時間に依存し、
キュア所要時間をマウント又はボンディングのいずれか
1フレーム当りの処理時間の長い方の処理時間で割った
数となる。例えばマウント処理時間でキュア所要時間を
割ると約5枚となる。このようにキュアヒーターに多く
のリードフレームを収納しようとすると、キュア装置の
本体はリードフレームの進行方向に沿って長いものとな
ってしまう。
(b)Agペーストのキュア条件では、キュア温度と放
置時間とが重要となる。すなわち、Agペーストは、温
度の上昇とともに、その粘度が一旦常温におけるよりも
低くなって流動性がよくなった後、その粘度が高くな
り、やがて硬化するという性質を有する。このため、放
置時間が短くてAgペーストの粘度が常温での粘度より
も低くなった状態でリードフレームを動かすと、半導体
ペレットの位置が所定の位置からずれる場合もある。し
たがって、このような状態ではリードフレームを静止し
ておかなければならない。ところが、従来の装置ではキ
ュアヒーターが単一であるため、上記のような静止状態
を保とうとすると、Agペーストに常温から300℃程
度のキュア温度までの急激な温度変化を与えることにな
り、硬化したAgペーストにクラックが生じることがあ
る。
置時間とが重要となる。すなわち、Agペーストは、温
度の上昇とともに、その粘度が一旦常温におけるよりも
低くなって流動性がよくなった後、その粘度が高くな
り、やがて硬化するという性質を有する。このため、放
置時間が短くてAgペーストの粘度が常温での粘度より
も低くなった状態でリードフレームを動かすと、半導体
ペレットの位置が所定の位置からずれる場合もある。し
たがって、このような状態ではリードフレームを静止し
ておかなければならない。ところが、従来の装置ではキ
ュアヒーターが単一であるため、上記のような静止状態
を保とうとすると、Agペーストに常温から300℃程
度のキュア温度までの急激な温度変化を与えることにな
り、硬化したAgペーストにクラックが生じることがあ
る。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り、装置本体のサイズが小さく、しかも硬化したAgペ
ーストにクラックを生じさせることのない半導体組立装
置(キュア装置)を提供しようとするものである。
り、装置本体のサイズが小さく、しかも硬化したAgペ
ーストにクラックを生じさせることのない半導体組立装
置(キュア装置)を提供しようとするものである。
本発明の半導体組立装置は、複数の半導体ペレットが接
着剤を介してマウントされたリードフレームを高温雰囲
気にさらし、前記接着剤を硬化させる半導体組立装置に
おいて、リードフレームの長手方向に沿って配設され、
それぞれ複数枚のリードフレームを幅方向に並べて加熱
し得る低温側ヒーターブロック及び高温側ヒーターブロ
ックと、リードフレームを所定の時間間隔で低温側ヒー
ターブロック、次いで高温側ヒーターブロックへと搬入
して所定時間放置した後、高温側ヒーターブロックから
搬出するリードフレーム搬送機構と、前記両ヒーターブ
ロックをリードフレームの幅方向に沿って移動させる駆
動機構とを具備し、前記低温側及び高温側ヒーターブロ
ックにリードフレームをその長手方向に沿って一枚搬入
する毎に、新たなリードフレームを一枚搬入できるだけ
低温側及び高温側ヒーターブロックをリードフレームの
幅方向に移動させることを特徴とするものである。
着剤を介してマウントされたリードフレームを高温雰囲
気にさらし、前記接着剤を硬化させる半導体組立装置に
おいて、リードフレームの長手方向に沿って配設され、
それぞれ複数枚のリードフレームを幅方向に並べて加熱
し得る低温側ヒーターブロック及び高温側ヒーターブロ
ックと、リードフレームを所定の時間間隔で低温側ヒー
ターブロック、次いで高温側ヒーターブロックへと搬入
して所定時間放置した後、高温側ヒーターブロックから
搬出するリードフレーム搬送機構と、前記両ヒーターブ
ロックをリードフレームの幅方向に沿って移動させる駆
動機構とを具備し、前記低温側及び高温側ヒーターブロ
ックにリードフレームをその長手方向に沿って一枚搬入
する毎に、新たなリードフレームを一枚搬入できるだけ
低温側及び高温側ヒーターブロックをリードフレームの
幅方向に移動させることを特徴とするものである。
このような半導体組立装置によれば、低温側ヒーターブ
ロックと高温側ヒーターブロックとにそれぞれ複数枚の
リードフレームを幅方向に並列させるので、装置本体を
コンパクト化することができる。また、2種の高温雰囲
気を与えることができるので、Agペーストにクラック
を生じさせることがない。
ロックと高温側ヒーターブロックとにそれぞれ複数枚の
リードフレームを幅方向に並列させるので、装置本体を
コンパクト化することができる。また、2種の高温雰囲
気を与えることができるので、Agペーストにクラック
を生じさせることがない。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
図において、基台1上には2本のスライドガイド2、2
が平行に載置され、このスライドガイド2、2上にはス
ライダー3、…を介して可動テーブル4が支持されてい
る。この可動テーブル4上に、低温側ヒーターブロック
5及び高温側ヒーターブロック6がリードフレームの長
手方向(進行方向)に沿うように載置されている。これ
ら両ヒーターブロック5、6の上面には、それぞれリー
ドフレームの幅方向に沿って複数、例えば5枚のリード
フレームを収納できるように溝が形成されている。
が平行に載置され、このスライドガイド2、2上にはス
ライダー3、…を介して可動テーブル4が支持されてい
る。この可動テーブル4上に、低温側ヒーターブロック
5及び高温側ヒーターブロック6がリードフレームの長
手方向(進行方向)に沿うように載置されている。これ
ら両ヒーターブロック5、6の上面には、それぞれリー
ドフレームの幅方向に沿って複数、例えば5枚のリード
フレームを収納できるように溝が形成されている。
また、前記基台1上にはパルスモーター7が取付けら
れ、カップリング8と接続して送りネジ9を回転させる
ようになっている。この送りネジ9は、前記可動テーブ
ル4の下面に取付けられた図示しないネジと噛合して可
動テーブル4をリードフレームの進行方向と垂直方向へ
移動させる作用を有する。
れ、カップリング8と接続して送りネジ9を回転させる
ようになっている。この送りネジ9は、前記可動テーブ
ル4の下面に取付けられた図示しないネジと噛合して可
動テーブル4をリードフレームの進行方向と垂直方向へ
移動させる作用を有する。
更に、前記両ヒーターブロック5、6の上方にはリード
フレーム搬送機構が配設されている。このリードフレー
ム搬送機構は、支持体10に取付けられた左右送りシリ
ンダ11、この左右送りシリンダ11に従動する上下用
シリンダ12a、12b、これら上下用シリンダ12
a、12bに支持板13a、13bを介して下方へ向か
って取付けられた送りピン14、…により構成されてい
る。この送りピン14、…は、リードフレームの両端部
に設けられた送り孔に挿入される。
フレーム搬送機構が配設されている。このリードフレー
ム搬送機構は、支持体10に取付けられた左右送りシリ
ンダ11、この左右送りシリンダ11に従動する上下用
シリンダ12a、12b、これら上下用シリンダ12
a、12bに支持板13a、13bを介して下方へ向か
って取付けられた送りピン14、…により構成されてい
る。この送りピン14、…は、リードフレームの両端部
に設けられた送り孔に挿入される。
上記半導体組立装置(キュア装置)は、マウント装置と
ボディング装置との中間に設置され、前記低温側ヒータ
ーブロック5側にはマウント装置のガイドレール20
が、また前記高温ヒーターブロック6側にはボンディン
グ装置のガイドレール30がそれぞれ配設されている。
ボディング装置との中間に設置され、前記低温側ヒータ
ーブロック5側にはマウント装置のガイドレール20
が、また前記高温ヒーターブロック6側にはボンディン
グ装置のガイドレール30がそれぞれ配設されている。
上記キュア装置の作用を説明する。マウント工程を終
え、多数の半導体ペレットがマウントされたリードフレ
ーム40は、マウント装置から図中A矢印の方向へガイ
ドレール20に沿って自動的に供給される。リードフレ
ーム40の両端部には送り孔40a、40aが設けられ
ている。リードフレーム40がマウント装置から供給さ
れると、まず上下用シリンダ12a、12bが作動して
支持板13a、13bとともに送りピン14、…が図中
矢印で示すように移動し、リードフレーム40の送り
孔40a、40aに挿入される。次に、左右送りシリン
ダ11が作動し、送りピン14、…が図中矢印で示す
ように1フレーム分移動する。これによりリードフレー
ム40全体が一度に低温側ヒーターブロック5の第1の
溝内へ送り込まれる。つづいて、上下用シリンダ12
a、12bが作動して送りピン14、…が図中矢印で
示すように移動し、更に左右送りシリンダ11が作動し
て送りピン14、…が図中矢印で示すように移動して
最初の位置に戻る。
え、多数の半導体ペレットがマウントされたリードフレ
ーム40は、マウント装置から図中A矢印の方向へガイ
ドレール20に沿って自動的に供給される。リードフレ
ーム40の両端部には送り孔40a、40aが設けられ
ている。リードフレーム40がマウント装置から供給さ
れると、まず上下用シリンダ12a、12bが作動して
支持板13a、13bとともに送りピン14、…が図中
矢印で示すように移動し、リードフレーム40の送り
孔40a、40aに挿入される。次に、左右送りシリン
ダ11が作動し、送りピン14、…が図中矢印で示す
ように1フレーム分移動する。これによりリードフレー
ム40全体が一度に低温側ヒーターブロック5の第1の
溝内へ送り込まれる。つづいて、上下用シリンダ12
a、12bが作動して送りピン14、…が図中矢印で
示すように移動し、更に左右送りシリンダ11が作動し
て送りピン14、…が図中矢印で示すように移動して
最初の位置に戻る。
次いで、ステップモーター7が作動して移動テーブル4
上の低温側及び高温側ヒーターブロック5、6が図中矢
印で示すように移動する。この移動は、両ヒーターブ
ロック5、6の第2の溝がマウント装置及びボンディン
グ装置のガイドレール20、30と一直線状になる距離
だけ行われる。
上の低温側及び高温側ヒーターブロック5、6が図中矢
印で示すように移動する。この移動は、両ヒーターブ
ロック5、6の第2の溝がマウント装置及びボンディン
グ装置のガイドレール20、30と一直線状になる距離
だけ行われる。
次いで、リードフレーム搬送機構が上述した矢印〜
の動作を繰り返し、新たにマウント装置から供給された
リードフレーム40が低温側ヒーターブロック5の第2
の溝内に送り込まれる。つづいて、ステップモーター7
が作動して可動テーブル4上の両ヒーターブロック5、
6が図中矢印で示すように移動する。
の動作を繰り返し、新たにマウント装置から供給された
リードフレーム40が低温側ヒーターブロック5の第2
の溝内に送り込まれる。つづいて、ステップモーター7
が作動して可動テーブル4上の両ヒーターブロック5、
6が図中矢印で示すように移動する。
以上の動作を繰返して両ヒーターブロック5、6が矢印
市で示すような移動を行ない、送りピン14、…が矢
印〜の移動を行なった後には、低温側ヒーターブロ
ック5の全ての溝にリードフレーム40が収納されてい
る。その後、ステップモーター7は逆転して可動テーブ
ル4上の両ヒーターブロック5、6は矢印に示すよう
に移動して最初の位置に戻る。この時、低温側ヒーター
ブロック5の第1の溝内に収納されているリードフレー
ム40はマウント処理時間×5回分の間低温側のキュア
雰囲気に放置されたことになる。
市で示すような移動を行ない、送りピン14、…が矢
印〜の移動を行なった後には、低温側ヒーターブロ
ック5の全ての溝にリードフレーム40が収納されてい
る。その後、ステップモーター7は逆転して可動テーブ
ル4上の両ヒーターブロック5、6は矢印に示すよう
に移動して最初の位置に戻る。この時、低温側ヒーター
ブロック5の第1の溝内に収納されているリードフレー
ム40はマウント処理時間×5回分の間低温側のキュア
雰囲気に放置されたことになる。
次いで、以上の動作を繰返すと、マウント装置から新た
に供給されたリードフレーム40は低温側ヒーターブロ
ック5の溝内に順次収納され、低温側ヒーターブロック
5内に収納されていたリードフレーム40は高温側ヒー
ターブロック6の溝内に順次収納される。更に、以上の
動作を繰返すと、高温側ヒーターブロック6の溝内に収
納されたリードフレーム40は、ガイドレール30に沿
って順次ボディング装置へ送られる。
に供給されたリードフレーム40は低温側ヒーターブロ
ック5の溝内に順次収納され、低温側ヒーターブロック
5内に収納されていたリードフレーム40は高温側ヒー
ターブロック6の溝内に順次収納される。更に、以上の
動作を繰返すと、高温側ヒーターブロック6の溝内に収
納されたリードフレーム40は、ガイドレール30に沿
って順次ボディング装置へ送られる。
以上の工程において、ダイマウントされたリードフレー
ム40は、低温側ヒーターブロック5上に搬送されて3
0〜40秒間加熱された後、高温側ヒーターブロック6
上に搬送される。ここで、低温側ヒーターブロック5上
での加熱時間が10秒以上であれば、半導体ペレットが
位置ずれしない程度にAgペーストが硬化することが予
め確認されている。したがって、リードフレーム40を
低温側ヒーターブロック5から高温側ヒーターブロック
6へ搬送する際、半導体ペレットの位置ずれは生じな
い。
ム40は、低温側ヒーターブロック5上に搬送されて3
0〜40秒間加熱された後、高温側ヒーターブロック6
上に搬送される。ここで、低温側ヒーターブロック5上
での加熱時間が10秒以上であれば、半導体ペレットが
位置ずれしない程度にAgペーストが硬化することが予
め確認されている。したがって、リードフレーム40を
低温側ヒーターブロック5から高温側ヒーターブロック
6へ搬送する際、半導体ペレットの位置ずれは生じな
い。
このようなキュア装置によれば、低温側ヒーターブロッ
ク5と高温側ヒーターブロック6とにそれぞれ複数枚
(上記実施例では5枚)のリードフレーム40の幅方向
に並列させることができるので、従来の装置のようにリ
ードフレームを長手方向に一列に並べるものと異なり、
キュアヒーター部分が2フレーム分の長さでよく、装置
本体をコンパクト化することができる。
ク5と高温側ヒーターブロック6とにそれぞれ複数枚
(上記実施例では5枚)のリードフレーム40の幅方向
に並列させることができるので、従来の装置のようにリ
ードフレームを長手方向に一列に並べるものと異なり、
キュアヒーター部分が2フレーム分の長さでよく、装置
本体をコンパクト化することができる。
また、低温側ヒーターブロック5と高温側ヒーターブロ
ック6とにより、2種のキュア雰囲気を与えることがで
きるので、Agペーストが急激に温度上昇するのを防止
することができ、硬化したAgペーストにクラックを生
じさせることがない。
ック6とにより、2種のキュア雰囲気を与えることがで
きるので、Agペーストが急激に温度上昇するのを防止
することができ、硬化したAgペーストにクラックを生
じさせることがない。
なお、本発明において、送りピンの数等は適宜設定する
ことができる。また、リードフレームを搬送できるもの
であれば、送りピンに限らず他の構成のものでもよい。
更に、ヒーターブロックの上面に設けるリード収納用の
溝の数等も適宜選択することができる。
ことができる。また、リードフレームを搬送できるもの
であれば、送りピンに限らず他の構成のものでもよい。
更に、ヒーターブロックの上面に設けるリード収納用の
溝の数等も適宜選択することができる。
(発明の効果) 以上詳述した如く本発明によれば、装置本体のサイズが
小さく、しかも硬化したAgペーストにクラックを生じ
させることのない半導体組立装置(キュア装置)を提供
できるものである。
小さく、しかも硬化したAgペーストにクラックを生じ
させることのない半導体組立装置(キュア装置)を提供
できるものである。
図は本発明の実施例における半導体組立装置(キュア装
置)の斜視図である。 1……基台、2……スライドガイド、3……スライダ
ー、4……可動テーブル、5……低温側ヒーターブロッ
ク、6……高温側ヒーターブロック、7……ステップモ
ーター、8……カップリング、9……送りネジ、10…
…支持体、11……左右送りシリンダ、12a、12b
……上下用シリンダ、13a,13b……支持板、14
……送りピン、20、30……ガイドレール、40……
リードフレーム、40a……送り孔。
置)の斜視図である。 1……基台、2……スライドガイド、3……スライダ
ー、4……可動テーブル、5……低温側ヒーターブロッ
ク、6……高温側ヒーターブロック、7……ステップモ
ーター、8……カップリング、9……送りネジ、10…
…支持体、11……左右送りシリンダ、12a、12b
……上下用シリンダ、13a,13b……支持板、14
……送りピン、20、30……ガイドレール、40……
リードフレーム、40a……送り孔。
Claims (1)
- 【請求項1】複数の半導体ペレットが接着剤を介してマ
ウントされたリードフレームを高温雰囲気にさらし、前
記接着剤を硬化させる半導体組立装置において、リード
フレームの長手方向に沿って配設され、それぞれ複数枚
のリードフレームを幅方向に並べて加熱し得る低温側ヒ
ーターブロック及び高温側ヒーターブロックと、リード
フレームを所定の時間間隔で低温側ヒーターブロック、
次いで高温側ヒーターブロックへと搬入して所定時間放
置した後、高温側ヒーターブロックから搬出するリード
フレーム搬送機構と、前記両ヒーターブロックをリード
フレームの幅方向に沿って移動させる駆動機構とを具備
し、前記低温側及び高温側ヒーターブロックにリードフ
レームをその長手方向に沿って一枚搬入する毎に、新た
なリードフレームを一枚搬入できるだけ低温側及び高温
側ヒーターブロックをリードフレームの幅方向に移動さ
せることを特徴とする半導体組立装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59273414A JPH0622251B2 (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 半導体組立装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59273414A JPH0622251B2 (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 半導体組立装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61154041A JPS61154041A (ja) | 1986-07-12 |
| JPH0622251B2 true JPH0622251B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=17527555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59273414A Expired - Lifetime JPH0622251B2 (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 半導体組立装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0622251B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2605725B2 (ja) * | 1987-08-12 | 1997-04-30 | ソニー株式会社 | 半導体装置組立システム |
| JPS6482638A (en) * | 1987-09-25 | 1989-03-28 | Toshiba Corp | Bonding device |
| JPH0291341U (ja) * | 1989-01-05 | 1990-07-19 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52154370A (en) * | 1976-06-18 | 1977-12-22 | Hitachi Ltd | Photo resist film treatment apparatus of semiconductor wafers |
| JPS59208734A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-27 | Hitachi Ltd | ペレツトボンデイング装置 |
-
1984
- 1984-12-26 JP JP59273414A patent/JPH0622251B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61154041A (ja) | 1986-07-12 |
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