JPH06227138A - 光記録ディスク - Google Patents
光記録ディスクInfo
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- JPH06227138A JPH06227138A JP5042127A JP4212793A JPH06227138A JP H06227138 A JPH06227138 A JP H06227138A JP 5042127 A JP5042127 A JP 5042127A JP 4212793 A JP4212793 A JP 4212793A JP H06227138 A JPH06227138 A JP H06227138A
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- JP
- Japan
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- dye
- optical recording
- light
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 記録層に、化５に示されるテトラアザペンタ
メチンシアニン系色素を含有させた光記録ディスクとす
る。 【化５】 〔化５において、Ｙ1 およびＹ2 は、それぞれ、炭素原
子および窒素原子とともに複素環を完成するのに必要な
原子群を表わし、Ｙ1 またはＹ2 で完成される複素環骨
格は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ1 およ
びＲ2 は、それぞれ炭化水素基を表わし、これらはそれ
ぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ3 は、水素原子ま
たは一価の基を表わす。Ｘ- は一価の陰イオンを表わ
す。〕 【効果】 再生劣化や光劣化を防止することができる。
メチンシアニン系色素を含有させた光記録ディスクとす
る。 【化５】 〔化５において、Ｙ1 およびＹ2 は、それぞれ、炭素原
子および窒素原子とともに複素環を完成するのに必要な
原子群を表わし、Ｙ1 またはＹ2 で完成される複素環骨
格は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ1 およ
びＲ2 は、それぞれ炭化水素基を表わし、これらはそれ
ぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ3 は、水素原子ま
たは一価の基を表わす。Ｘ- は一価の陰イオンを表わ
す。〕 【効果】 再生劣化や光劣化を防止することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、色素を主成分とする色
素膜からなる記録層を有する光記録ディスクに関する。
素膜からなる記録層を有する光記録ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、大容量情報担持媒体として、追記
型や書き換え可能型などの各種光記録ディスクが注目さ
れている。
型や書き換え可能型などの各種光記録ディスクが注目さ
れている。
【０００３】このような光記録ディスクのなかに、色素
を主成分とする色素膜を記録層として用いるものがあ
る。また、構造的には従来、汎用されている色素膜から
なる記録層上に空気層を設けたいわゆるエアーサンドイ
ッチ構造のものや、コンパクトディスク（ＣＤ）規格に
対応した再生が可能なものとして色素膜からなる記録層
に反射層を密着して設けた構造のものが提案されている
（日経エレクトロニクス１９８９年１月２３日号，Ｎ
ｏ．４６５，Ｐ１０７、社団法人近畿化学協会機能性色
素部会，１９８９年３月３日，大阪科学技術センター、
PROCEEDINGS SPIE-THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPT
ICAL ENGINEERING VOL.1078 PP80-87,"OPTICAL DATA ST
ORAGE TOPICAL MEETING"17-19,JANUARY 1989 LOS ANGEL
ES等）。
を主成分とする色素膜を記録層として用いるものがあ
る。また、構造的には従来、汎用されている色素膜から
なる記録層上に空気層を設けたいわゆるエアーサンドイ
ッチ構造のものや、コンパクトディスク（ＣＤ）規格に
対応した再生が可能なものとして色素膜からなる記録層
に反射層を密着して設けた構造のものが提案されている
（日経エレクトロニクス１９８９年１月２３日号，Ｎ
ｏ．４６５，Ｐ１０７、社団法人近畿化学協会機能性色
素部会，１９８９年３月３日，大阪科学技術センター、
PROCEEDINGS SPIE-THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPT
ICAL ENGINEERING VOL.1078 PP80-87,"OPTICAL DATA ST
ORAGE TOPICAL MEETING"17-19,JANUARY 1989 LOS ANGEL
ES等）。
【０００４】このような記録層に用いる色素としては、
耐熱性、耐水性等の点から、インドレニン系シアニン色
素が好ましく用いられている（特開昭５９−２４６９２
号等）。
耐熱性、耐水性等の点から、インドレニン系シアニン色
素が好ましく用いられている（特開昭５９−２４６９２
号等）。
【０００５】しかし、このようなインドレニン系シアニ
ン色素は、再生光の繰り返し照射による再生劣化や明室
保存下での光劣化が生じやすい欠点を有する。このた
め、色素と金属錯体クエンチャーとを混合して用いた
り、色素カチオンとクエンチャーアニオンとをイオン結
合させて結合体として用いることが提案されており、一
部実用化されている（特開昭５９−５９７９５号、同６
０−１１８７４８号、同６０−１１８７４９号等）。
ン色素は、再生光の繰り返し照射による再生劣化や明室
保存下での光劣化が生じやすい欠点を有する。このた
め、色素と金属錯体クエンチャーとを混合して用いた
り、色素カチオンとクエンチャーアニオンとをイオン結
合させて結合体として用いることが提案されており、一
部実用化されている（特開昭５９−５９７９５号、同６
０−１１８７４８号、同６０−１１８７４９号等）。
【０００６】しかし、このような方法では金属錯体クエ
ンチャーあるいは結合体の溶解性が十分でないなどの欠
点がある。また、混合物として用いたとき、例えばビス
（フェニレンジチオール）系のＮｉ錯体では、これ自体
の吸収波長が７００〜１０００nmであり、色素の吸収に
影響を与え、反射率が低下し、再生出力の低下を招く問
題もある。
ンチャーあるいは結合体の溶解性が十分でないなどの欠
点がある。また、混合物として用いたとき、例えばビス
（フェニレンジチオール）系のＮｉ錯体では、これ自体
の吸収波長が７００〜１０００nmであり、色素の吸収に
影響を与え、反射率が低下し、再生出力の低下を招く問
題もある。
【０００７】従って、それ自体で耐光性に優れた色素の
適用が望まれている。
適用が望まれている。
【０００８】なお、特開昭６２−１４４９９７号公報に
は、ホルマザンニッケル錯体系光吸収色素を記録層に含
有させた光学記録体が開示されている。
は、ホルマザンニッケル錯体系光吸収色素を記録層に含
有させた光学記録体が開示されている。
【０００９】上記公報に開示された色素は、耐光性に優
れるが、長波長側に吸収があるため、半導体レーザーの
波長で高反射にすることができず、ＣＤ規格に対応した
光記録ディスクの記録層には用いるのが適当でない。
れるが、長波長側に吸収があるため、半導体レーザーの
波長で高反射にすることができず、ＣＤ規格に対応した
光記録ディスクの記録層には用いるのが適当でない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、再生
劣化や光劣化がなく耐光性に優れ、ＣＤ規格への対応が
可能な光記録ディスクを提供することにある。
劣化や光劣化がなく耐光性に優れ、ＣＤ規格への対応が
可能な光記録ディスクを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（４）の本発明により達成される。 （１）基板上に色素を含有する色素膜からなる記録層を
有する光記録ディスクにおいて、前記色素膜は下記化２
で示されるテトラアザペンタメチンシアニン系色素を含
有する光記録ディスク。
（１）〜（４）の本発明により達成される。 （１）基板上に色素を含有する色素膜からなる記録層を
有する光記録ディスクにおいて、前記色素膜は下記化２
で示されるテトラアザペンタメチンシアニン系色素を含
有する光記録ディスク。
【００１２】
【化２】
【００１３】〔化２において、Ｙ1 およびＹ2 は、それ
ぞれ、炭素原子および窒素原子とともに複素環を完成す
るのに必要な原子群を表わし、Ｙ1 またはＹ2 で完成さ
れる複素環骨格は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ｒ1 およびＲ2 は、それぞれ、炭化水素基を表わ
し、これらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ
3 は、水素原子または一価の基を表わす。Ｘ- は一価の
陰イオンを表わす。〕 （２）前記色素の吸収極大が６００〜９００nmである上
記（１）の光記録ディスク。 （３）前記基板はグルーブを有し、前記色素膜からなる
記録層上に密着して反射層を積層して構成され、記録光
を前記グルーブ部の前記記録層に照射して記録部を形成
し、再生光により再生を行なう上記（１）または（２）
の光記録ディスク。 （４）前記記録光および再生光はレーザー光である上記
（１）ないし（３）のいずれかの光記録ディスク。
ぞれ、炭素原子および窒素原子とともに複素環を完成す
るのに必要な原子群を表わし、Ｙ1 またはＹ2 で完成さ
れる複素環骨格は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ｒ1 およびＲ2 は、それぞれ、炭化水素基を表わ
し、これらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ
3 は、水素原子または一価の基を表わす。Ｘ- は一価の
陰イオンを表わす。〕 （２）前記色素の吸収極大が６００〜９００nmである上
記（１）の光記録ディスク。 （３）前記基板はグルーブを有し、前記色素膜からなる
記録層上に密着して反射層を積層して構成され、記録光
を前記グルーブ部の前記記録層に照射して記録部を形成
し、再生光により再生を行なう上記（１）または（２）
の光記録ディスク。 （４）前記記録光および再生光はレーザー光である上記
（１）ないし（３）のいずれかの光記録ディスク。
【００１４】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。本発明の光記録ディスクは、化２で示され
るテトラアザペンタメチンシアニン系色素を含有する色
素膜を記録層として有するものである。
に説明する。本発明の光記録ディスクは、化２で示され
るテトラアザペンタメチンシアニン系色素を含有する色
素膜を記録層として有するものである。
【００１５】化２の色素は、吸収極大が６００〜９００
nm、好ましくは６００〜７５０nmであり、コンパクト・
ディスク（ＣＤ）規格に対応した光記録ディスクの記録
層に用いて適する。また、この色素は、耐光性に優れる
ため、媒体の再生光による劣化や明室保存による光劣化
を防止することができる。したがって、耐光性改善のた
めに、従来、インドレニン系シアニン色素などにおい
て、用いられていた金属錯体クエンチャーなどを用いる
必要がなくなり、これとの併用に伴なう弊害（例えば、
色素含有塗布液調製の際の溶解度の低下や反射率の低下
など）をなくすことができる。
nm、好ましくは６００〜７５０nmであり、コンパクト・
ディスク（ＣＤ）規格に対応した光記録ディスクの記録
層に用いて適する。また、この色素は、耐光性に優れる
ため、媒体の再生光による劣化や明室保存による光劣化
を防止することができる。したがって、耐光性改善のた
めに、従来、インドレニン系シアニン色素などにおい
て、用いられていた金属錯体クエンチャーなどを用いる
必要がなくなり、これとの併用に伴なう弊害（例えば、
色素含有塗布液調製の際の溶解度の低下や反射率の低下
など）をなくすことができる。
【００１６】化２について記す。化２において、Ｙ1 お
よびＹ2 は、それぞれ、炭素原子および窒素原子ととも
に複素環を完成するのに必要な原子群を表わし、Ｙ1 ま
たはＹ2 で完成される複素環骨格は同一でも異なってい
てもよいが、合成上同一骨格であることが好ましい。こ
のような複素環骨格には、好ましくは、ベンゾチアゾー
ル骨格、チアゾール骨格、オキサゾール骨格、ベンゾオ
キサゾール骨格、ピリジン骨格、キノリン骨格、イミダ
ゾール骨格などが挙げられる。
よびＹ2 は、それぞれ、炭素原子および窒素原子ととも
に複素環を完成するのに必要な原子群を表わし、Ｙ1 ま
たはＹ2 で完成される複素環骨格は同一でも異なってい
てもよいが、合成上同一骨格であることが好ましい。こ
のような複素環骨格には、好ましくは、ベンゾチアゾー
ル骨格、チアゾール骨格、オキサゾール骨格、ベンゾオ
キサゾール骨格、ピリジン骨格、キノリン骨格、イミダ
ゾール骨格などが挙げられる。
【００１７】Ｙ1 またはＹ2 によって完成される複素環
は、置換可能な位置に置換基を有していてもよく、この
ような置換基にはハロゲン原子、アルキル基、アリール
基、アシル基、アミノ基等が挙げられる。
は、置換可能な位置に置換基を有していてもよく、この
ような置換基にはハロゲン原子、アルキル基、アリール
基、アシル基、アミノ基等が挙げられる。
【００１８】Ｒ1 およびＲ2 は、それぞれ炭化水素基を
表わし、これらは同一でも異なっていてもよい。炭化水
素基としては、アルキル基、シクロアルキル基等が挙げ
られる。アルキル基としては、炭素数１〜４のものが好
ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
がある。またシクロアルキル基としてはシクロヘキシル
基等が挙げられる。このものは、置換基を有していても
よく、このような置換基としてはハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、エーテル基、エステル基、複素環基
等が挙げられる。なかでも、無置換のアルキル基が好ま
しく、特にはメチル基等が好ましい。
表わし、これらは同一でも異なっていてもよい。炭化水
素基としては、アルキル基、シクロアルキル基等が挙げ
られる。アルキル基としては、炭素数１〜４のものが好
ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
がある。またシクロアルキル基としてはシクロヘキシル
基等が挙げられる。このものは、置換基を有していても
よく、このような置換基としてはハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、エーテル基、エステル基、複素環基
等が挙げられる。なかでも、無置換のアルキル基が好ま
しく、特にはメチル基等が好ましい。
【００１９】Ｒ3 は各々水素原子または一価の基を表わ
す。一価の基としては、置換もしくは無置換のアルキル
基、アリール基、エステル基、アシル基もしくは複素環
基が挙げられ、これらの一価の基のなかで置換可能なも
のは、置換基を有していてもよい。置換基を有する場合
の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アミノ基、複素環基、ニトロ基等が
挙げられる。具体的には、アルキル基として、総炭素数
１〜１１のメチル基、エチル基等；アリール基として、
フェニル基、ｐ−クロルフェニル基、ｐ−ニトロフェニ
ル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基等；
エステル基としてメトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、フェノキシカルボニル基、ナフトオキシカル
ボニル基、アリルオキシカルボニル基、シクロヘキシル
オキシカルボニル基等；アシル基としては、アセチル
基、プロピオノイル基、シクロヘキシルカルボニル基、
ベンゾイル基、ナフトイル基、アクリロイル基等；複素
環基としては、２−ピリジル基等がある。特に、Ｒ3 と
しては水素原子、アリール基（フェニル基、ｐ−ニトロ
フェニル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基等）などが
好ましい。
す。一価の基としては、置換もしくは無置換のアルキル
基、アリール基、エステル基、アシル基もしくは複素環
基が挙げられ、これらの一価の基のなかで置換可能なも
のは、置換基を有していてもよい。置換基を有する場合
の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アミノ基、複素環基、ニトロ基等が
挙げられる。具体的には、アルキル基として、総炭素数
１〜１１のメチル基、エチル基等；アリール基として、
フェニル基、ｐ−クロルフェニル基、ｐ−ニトロフェニ
ル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基等；
エステル基としてメトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、フェノキシカルボニル基、ナフトオキシカル
ボニル基、アリルオキシカルボニル基、シクロヘキシル
オキシカルボニル基等；アシル基としては、アセチル
基、プロピオノイル基、シクロヘキシルカルボニル基、
ベンゾイル基、ナフトイル基、アクリロイル基等；複素
環基としては、２−ピリジル基等がある。特に、Ｒ3 と
しては水素原子、アリール基（フェニル基、ｐ−ニトロ
フェニル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基等）などが
好ましい。
【００２０】Ｘ- は一価の陰イオンを表わし、Ｃｌ
Ｏ4 -、Ｉ- 、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、パラトルエンスルホン酸
イオンなどが挙げられる。
Ｏ4 -、Ｉ- 、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、パラトルエンスルホン酸
イオンなどが挙げられる。
【００２１】化２で示される色素のなかでも化３のもの
が好ましい。
が好ましい。
【００２２】
【化３】
【００２３】化３において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘ- は
各々化２のものと同義である。Ｒ5およびＲ6 は、各々
水素原子または化２においてＲ3 で表わされる一価の基
と同様のものを表わし、Ｒ5 、Ｒ6 は水素原子が好まし
い。
各々化２のものと同義である。Ｒ5およびＲ6 は、各々
水素原子または化２においてＲ3 で表わされる一価の基
と同様のものを表わし、Ｒ5 、Ｒ6 は水素原子が好まし
い。
【００２４】化３において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ5 、
Ｒ6 、Ｘ- が以下の組合わせであるものが好適である。
これらの化合物の吸収極大（λmax ）を併記する。
Ｒ6 、Ｘ- が以下の組合わせであるものが好適である。
これらの化合物の吸収極大（λmax ）を併記する。
【００２５】例示化合物 Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ5 Ｒ6 Ｘ- （１） CH3- CH3- H H H ClO4 -(λmax670nm) （２） CH3- CH3- C6H5- H H ClO4 -(λmax670nm) （３） CH3- CH3- p-NO2-C6H4- H H ClO4 -(λmax660nm) （４） CH3- CH3- p-(CH3)2N-C6H4- H H ClO4 -(λmax670nm)
【００２６】化２の色素は公知のものであり、Liebigs,
Ann. Chem., 609, 172(1957) 、Liebigs, Ann. Chem.,
667, 72(1962)等の記載にしたがって、あるいはこれら
の記載に準じて合成することができる。
Ann. Chem., 609, 172(1957) 、Liebigs, Ann. Chem.,
667, 72(1962)等の記載にしたがって、あるいはこれら
の記載に準じて合成することができる。
【００２７】本発明においては、さらに耐光性を向上さ
せるために、記録層に、クエンチャーを含有させてもよ
い。
せるために、記録層に、クエンチャーを含有させてもよ
い。
【００２８】記録層は、色素および塗布溶媒である有機
溶剤、さらに場合によってはクエンチャーを含有する塗
布液を用い、この塗布液を回転する基板上に展開塗布す
るスピンコート法により形成されることが好ましい。記
録層形成のための塗布液に用いる有機溶剤としては、ケ
トアルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、
セロソルブ系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系等から
適宜選択すればよい。特に、ケトアルコール系（ジアセ
トンアルコールなど）、セロソルブ系（メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブなど）を用いることが好ましく、
色素の溶解性を考慮して、ハロゲン化アルコール系、特
にフッ素化アルコール（２，２，２−トリフルオロエタ
ノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プ
ロパノール、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフル
オロ−１−ブタノール、２，２，３，３−テトラフルオ
ロ−１−プロパノール等）を用いることも好ましい。
溶剤、さらに場合によってはクエンチャーを含有する塗
布液を用い、この塗布液を回転する基板上に展開塗布す
るスピンコート法により形成されることが好ましい。記
録層形成のための塗布液に用いる有機溶剤としては、ケ
トアルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、
セロソルブ系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系等から
適宜選択すればよい。特に、ケトアルコール系（ジアセ
トンアルコールなど）、セロソルブ系（メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブなど）を用いることが好ましく、
色素の溶解性を考慮して、ハロゲン化アルコール系、特
にフッ素化アルコール（２，２，２−トリフルオロエタ
ノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プ
ロパノール、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフル
オロ−１−ブタノール、２，２，３，３−テトラフルオ
ロ−１−プロパノール等）を用いることも好ましい。
【００２９】スピンコート後、必要に応じて塗膜を乾燥
させる。このようにして形成される記録層の厚さは、目
的とする反射率などに応じて適宜設定されるものである
が、通常、１０００〜３０００A 程度である。
させる。このようにして形成される記録層の厚さは、目
的とする反射率などに応じて適宜設定されるものである
が、通常、１０００〜３０００A 程度である。
【００３０】なお、塗布液における色素含有量は、２〜
１５wt% 、好ましくは２〜１０wt%とするのがよい。な
お、塗布液には適宜バインダー、分散剤、安定剤等、場
合によってはクエンチャーを含有させてもよい。
１５wt% 、好ましくは２〜１０wt%とするのがよい。な
お、塗布液には適宜バインダー、分散剤、安定剤等、場
合によってはクエンチャーを含有させてもよい。
【００３１】このような色素膜を記録層として基板上に
有する光記録ディスクとして、図１には、その一構成例
が示されている。図１は、部分断面図である。図１に示
される光記録ディスク１は、記録層上に反射層を密着し
て有するＣＤ規格に対応した再生が可能な密着型光記録
ディスクである。図示のように、光記録ディスク１は、
基板２表面に前記のような色素を主成分とする記録層３
を有し、記録層３に密着して、反射層４、保護膜５を有
する。
有する光記録ディスクとして、図１には、その一構成例
が示されている。図１は、部分断面図である。図１に示
される光記録ディスク１は、記録層上に反射層を密着し
て有するＣＤ規格に対応した再生が可能な密着型光記録
ディスクである。図示のように、光記録ディスク１は、
基板２表面に前記のような色素を主成分とする記録層３
を有し、記録層３に密着して、反射層４、保護膜５を有
する。
【００３２】基板２は、ディスク状のものであり、基板
２の裏面側からの記録および再生を可能とするために、
記録光および再生光（波長６００〜９００nm程度、特に
波長７７０〜９００nm程度の半導体レーザー光、特に７
８０nm）に対し、実質的に透明（好ましくは透過率８８
％以上）な樹脂あるいはガラスを用いて形成するのがよ
い。また、大きさは、直径６４〜２００mm程度、厚さ
１．２mm程度のものとする。
２の裏面側からの記録および再生を可能とするために、
記録光および再生光（波長６００〜９００nm程度、特に
波長７７０〜９００nm程度の半導体レーザー光、特に７
８０nm）に対し、実質的に透明（好ましくは透過率８８
％以上）な樹脂あるいはガラスを用いて形成するのがよ
い。また、大きさは、直径６４〜２００mm程度、厚さ
１．２mm程度のものとする。
【００３３】基板２の記録層３形成面には、図１に示す
ように、トラッキング用のグルーブ２３が形成される。
グルーブ２３は、スパイラル状の連続型グルーブである
ことが好ましく、深さは０．１〜０．２５μm 、幅は
０．３５〜０．５０μm 、グルーブピッチは１．５〜
１．７μm であることが好ましい。グルーブをこのよう
な構成とすることにより、グルーブ部の反射レベルを下
げることなく、良好なトラッキング信号を得ることがで
きる。特にグルーブ幅を０．３５〜０．５０μm に規制
することは重要であり、グルーブ幅を０．３５μm 未満
とすると、十分な大きさのトラッキング信号が得られに
くく、記録時のトラッキングのわずかなオフセットによ
って、ジッターが大きくなりやすい。また０．５０μm
をこえると、再生信号の波形歪みが生じやすく、クロス
トロークの増大の原因となる。
ように、トラッキング用のグルーブ２３が形成される。
グルーブ２３は、スパイラル状の連続型グルーブである
ことが好ましく、深さは０．１〜０．２５μm 、幅は
０．３５〜０．５０μm 、グルーブピッチは１．５〜
１．７μm であることが好ましい。グルーブをこのよう
な構成とすることにより、グルーブ部の反射レベルを下
げることなく、良好なトラッキング信号を得ることがで
きる。特にグルーブ幅を０．３５〜０．５０μm に規制
することは重要であり、グルーブ幅を０．３５μm 未満
とすると、十分な大きさのトラッキング信号が得られに
くく、記録時のトラッキングのわずかなオフセットによ
って、ジッターが大きくなりやすい。また０．５０μm
をこえると、再生信号の波形歪みが生じやすく、クロス
トロークの増大の原因となる。
【００３４】基板２は、材質的には、樹脂を用いること
が好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ア
モルファスポリオレフィン、ＴＰＸ、ポリスチレン系樹
脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そして、このよ
うな樹脂を用いて射出成形等の公知の方法に従って製造
することができる。グルーブ２３は、基板２の成形時に
形成することが好ましい。なお、基板２製造後に２Ｐ法
等によりグルーブ２３を有する樹脂層を形成してもよ
い。また、場合によってはガラス基板を用いてもよい。
が好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ア
モルファスポリオレフィン、ＴＰＸ、ポリスチレン系樹
脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そして、このよ
うな樹脂を用いて射出成形等の公知の方法に従って製造
することができる。グルーブ２３は、基板２の成形時に
形成することが好ましい。なお、基板２製造後に２Ｐ法
等によりグルーブ２３を有する樹脂層を形成してもよ
い。また、場合によってはガラス基板を用いてもよい。
【００３５】図１に示されるように、基板２に設層され
る記録層３は、前記の色素含有塗布液を用い、前記のよ
うに、好ましくはスピンコート法により形成されたもの
である。スピンコートは通常の条件に従い、内周から外
周にかけて、回転数を５００〜５０００rpm の間で調整
するなどして行なえばよい。
る記録層３は、前記の色素含有塗布液を用い、前記のよ
うに、好ましくはスピンコート法により形成されたもの
である。スピンコートは通常の条件に従い、内周から外
周にかけて、回転数を５００〜５０００rpm の間で調整
するなどして行なえばよい。
【００３６】このようにして形成される記録層３の厚さ
は、乾燥膜厚で、５００〜３０００A （５０〜３００n
m）とすることが好ましい。この範囲外では反射率が低
下して、ＣＤ規格に対応した再生を行なうことが難しく
なる。この際、グルーブ２３内の記録トラック内の記録
層３の膜厚を１０００A （１００nm）以上、特に１５０
０〜３０００A （１５０〜３００nm）とすると、変調度
がきわめて大きくなる。
は、乾燥膜厚で、５００〜３０００A （５０〜３００n
m）とすることが好ましい。この範囲外では反射率が低
下して、ＣＤ規格に対応した再生を行なうことが難しく
なる。この際、グルーブ２３内の記録トラック内の記録
層３の膜厚を１０００A （１００nm）以上、特に１５０
０〜３０００A （１５０〜３００nm）とすると、変調度
がきわめて大きくなる。
【００３７】このようにして形成される記録層３は、Ｃ
Ｄ信号を記録する場合、その記録光および再生光波長に
おける消衰係数（複素屈折率の虚部）ｋは、０．０２〜
０．０５であることが好ましい。ｋが０．０２未満とな
ると記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録
を行なうことが困難である。また、ｋが０．０５を超え
ると、反射率が７０％を下回ってしまい、ＣＤ規格によ
る再生を行なうことが困難である。また、記録層３の屈
折率（複素屈折率の実部）ｎは、２．０〜２．６とな
る。ｎ＜２．０では反射率が低下し、また再生信号が小
さくなり、ＣＤ規格による再生が困難となる傾向にあ
る。
Ｄ信号を記録する場合、その記録光および再生光波長に
おける消衰係数（複素屈折率の虚部）ｋは、０．０２〜
０．０５であることが好ましい。ｋが０．０２未満とな
ると記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録
を行なうことが困難である。また、ｋが０．０５を超え
ると、反射率が７０％を下回ってしまい、ＣＤ規格によ
る再生を行なうことが困難である。また、記録層３の屈
折率（複素屈折率の実部）ｎは、２．０〜２．６とな
る。ｎ＜２．０では反射率が低下し、また再生信号が小
さくなり、ＣＤ規格による再生が困難となる傾向にあ
る。
【００３８】図１に示されるように、記録層３上には、
直接密着して反射層４が設層される。反射層４として
は、Ａｕ、Ｃｕ等の高反射率金属ないし合金を用いるの
がよい。反射層４の厚さは５００A 以上であることが好
ましく、蒸着、スパッタ等により設層すればよい。ま
た、厚さの上限に特に制限はないが、コスト、生産作業
時間等を考慮すると、１２００A 程度以下であることが
好ましい。これにより、反射層４単独での反射率は、９
０％以上、媒体の未記録部の基板を通しての反射率は、
６０％以上、特に７０％以上が得られる。
直接密着して反射層４が設層される。反射層４として
は、Ａｕ、Ｃｕ等の高反射率金属ないし合金を用いるの
がよい。反射層４の厚さは５００A 以上であることが好
ましく、蒸着、スパッタ等により設層すればよい。ま
た、厚さの上限に特に制限はないが、コスト、生産作業
時間等を考慮すると、１２００A 程度以下であることが
好ましい。これにより、反射層４単独での反射率は、９
０％以上、媒体の未記録部の基板を通しての反射率は、
６０％以上、特に７０％以上が得られる。
【００３９】図１に示されるように、反射層４上には、
保護膜５が設層される。保護膜５は、例えば紫外線硬化
樹脂等の各種樹脂材質から、通常は、０．５〜１００μ
m 程度の厚さに設層すればよい。保護膜５は、層状であ
ってもシート状であってもよい。保護膜５は、スピンコ
ート、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等
の通常の方法により形成すればよい。
保護膜５が設層される。保護膜５は、例えば紫外線硬化
樹脂等の各種樹脂材質から、通常は、０．５〜１００μ
m 程度の厚さに設層すればよい。保護膜５は、層状であ
ってもシート状であってもよい。保護膜５は、スピンコ
ート、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等
の通常の方法により形成すればよい。
【００４０】本発明の光記録ディスクは、図示例のよう
な密着型の光記録ディスクに限らず、色素を含有する記
録層を有するものであれば、いずれであってもよい。こ
のようなものとしては、エアーサンドイッチ構造のピッ
ト形成型光記録ディスク等が挙げられ、本発明を適用す
ることによって、同様の効果が得られる。
な密着型の光記録ディスクに限らず、色素を含有する記
録層を有するものであれば、いずれであってもよい。こ
のようなものとしては、エアーサンドイッチ構造のピッ
ト形成型光記録ディスク等が挙げられ、本発明を適用す
ることによって、同様の効果が得られる。
【００４１】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【００４２】実施例１ 図１に示される構成の光記録ディスクサンプルNo. １を
作製した。まず、直径１２０mm、厚さ１．２mmのポリカ
ーボネート樹脂基板上に、スピンコート法により色素を
含有する記録層を形成した。この記録層上に、反射層を
形成し、さらに、保護膜を形成した。
作製した。まず、直径１２０mm、厚さ１．２mmのポリカ
ーボネート樹脂基板上に、スピンコート法により色素を
含有する記録層を形成した。この記録層上に、反射層を
形成し、さらに、保護膜を形成した。
【００４３】記録層３形成に用いた塗布液は、色素およ
び有機溶剤を含有するものであり、色素としては、例示
化合物（１）を用いた。色素の含有量は４wt% とした。
び有機溶剤を含有するものであり、色素としては、例示
化合物（１）を用いた。色素の含有量は４wt% とした。
【００４４】有機溶剤としては、２，２，３，３−テト
ラフルオロ−１−プロパノールを用いた。また、記録層
の厚さは２００nmとした。反射層はＡｕとし、スパッタ
法により厚さ８５nmに形成した。そして、この上に紫外
線硬化型のアクリル樹脂の保護膜（膜厚５μm ）を形成
した。
ラフルオロ−１−プロパノールを用いた。また、記録層
の厚さは２００nmとした。反射層はＡｕとし、スパッタ
法により厚さ８５nmに形成した。そして、この上に紫外
線硬化型のアクリル樹脂の保護膜（膜厚５μm ）を形成
した。
【００４５】上記サンプルNo. １について、７８０nmで
の反射率を測定した。この結果、反射率は６７％であ
り、ＣＤ規格を十分対応することがわかった。
の反射率を測定した。この結果、反射率は６７％であ
り、ＣＤ規格を十分対応することがわかった。
【００４６】さらに、サンプルNo. １において反射層を
設けないサンプルを作製し、その初期透過率Ｔ0 を測定
し、８万ルックスのキセノンランプを１０時間照射し
た。照射後の透過率Ｔを測定し、１００−（Ｔ−Ｔ0 ）
×１００／Ｔ0 にて色素残存率を算出した。
設けないサンプルを作製し、その初期透過率Ｔ0 を測定
し、８万ルックスのキセノンランプを１０時間照射し
た。照射後の透過率Ｔを測定し、１００−（Ｔ−Ｔ0 ）
×１００／Ｔ0 にて色素残存率を算出した。
【００４７】この結果、色素残存率は９９％であり、イ
ンドレニン系シアニン色素〔例えば、化４に示されるも
の〕の色素残存率が３５％程度であるのに比較して格段
の向上がみられた。
ンドレニン系シアニン色素〔例えば、化４に示されるも
の〕の色素残存率が３５％程度であるのに比較して格段
の向上がみられた。
【００４８】
【化４】
【００４９】
【発明の効果】本発明によれば、ＣＤ規格に対応したも
のとすることができる。また、再生劣化や光劣化を防止
することができ、耐光性に優れたものとなる。
のとすることができる。また、再生劣化や光劣化を防止
することができ、耐光性に優れたものとなる。
【図１】本発明の光記録ディスクの一例を示す部分断面
図である。
図である。
１ 光記録ディスク ２ 基板 ２３ グルーブ ３ 記録層 ４ 反射層 ５ 保護膜
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年７月８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１３】〔化２において、Ｙ１およびＹ２は、それ
ぞれ、炭素原子および窒素原子とともに複素環を完成す
るのに必要な原子群を表わし、Ｙ１またはＹ２で完成さ
れる複素環骨格は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、炭化水素基を表わ
し、これらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ
３は、水素原子または一価の基を表わす。Ｘ−は一価の
陰イオンを表わす。〕 （２）前記色素の吸収極大が６００〜９００ｎｍである
上記（１）の光記録ディスク。 （３）前記基板はグルーブを有し、前記色素膜からなる
記録層上に密着して反射層を積層して構成され、記録光
を前記グルーブ部の前記記録層に照射して記録部を形成
し、再生光により再生を行なう上記（１）または（２）
の光記録ディスク。 （４）前記記録光および再生光はレーザー光である上記
（３）の光記録ディスク。
ぞれ、炭素原子および窒素原子とともに複素環を完成す
るのに必要な原子群を表わし、Ｙ１またはＹ２で完成さ
れる複素環骨格は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、炭化水素基を表わ
し、これらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ
３は、水素原子または一価の基を表わす。Ｘ−は一価の
陰イオンを表わす。〕 （２）前記色素の吸収極大が６００〜９００ｎｍである
上記（１）の光記録ディスク。 （３）前記基板はグルーブを有し、前記色素膜からなる
記録層上に密着して反射層を積層して構成され、記録光
を前記グルーブ部の前記記録層に照射して記録部を形成
し、再生光により再生を行なう上記（１）または（２）
の光記録ディスク。 （４）前記記録光および再生光はレーザー光である上記
（３）の光記録ディスク。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４６】さらに、サンプルＮｏ．１において反射層
を設けないサンプルを作製し、その初期透過率Ｔｏを測
定し、８万ルックスのキセノンランプを１０時間照射し
た。照射後の透過率Ｔを測定し、（１００−Ｔ）×１０
０／（１００−Ｔｏ）にて色素残存率を算出した。
を設けないサンプルを作製し、その初期透過率Ｔｏを測
定し、８万ルックスのキセノンランプを１０時間照射し
た。照射後の透過率Ｔを測定し、（１００−Ｔ）×１０
０／（１００−Ｔｏ）にて色素残存率を算出した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 誠七 東京都中央区日本橋馬喰町一丁目７番６号 大日精化工業株式会社内 (72)発明者 南波 憲良 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 新海 正博 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 北川 寿美子 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上に色素を含有する色素膜からなる
記録層を有する光記録ディスクにおいて、 前記色素膜は下記化１で示されるテトラアザペンタメチ
ンシアニン系色素を含有する光記録ディスク。 【化１】 〔化１において、Ｙ1 およびＹ2 は、それぞれ、炭素原
子および窒素原子とともに複素環を完成するのに必要な
原子群を表わし、Ｙ1 またはＹ2 で完成される複素環骨
格は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ1 およ
びＲ2 は、それぞれ、炭化水素基を表わし、これらはそ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ3 は、水素原子
または一価の基を表わす。Ｘ- は一価の陰イオンを表わ
す。〕 - 【請求項２】 前記色素の吸収極大が６００〜９００nm
である請求項１の光記録ディスク。 - 【請求項３】 前記基板はグルーブを有し、前記色素膜
からなる記録層上に密着して反射層を積層して構成さ
れ、記録光を前記グルーブ部の前記記録層に照射して記
録部を形成し、再生光により再生を行なう請求項１また
は２の光記録ディスク。 - 【請求項４】 前記記録光および再生光はレーザー光で
ある請求項１ないし３のいずれかの光記録ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04212793A JP3268868B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | 光記録ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04212793A JP3268868B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | 光記録ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06227138A true JPH06227138A (ja) | 1994-08-16 |
| JP3268868B2 JP3268868B2 (ja) | 2002-03-25 |
Family
ID=12627280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04212793A Expired - Fee Related JP3268868B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | 光記録ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3268868B2 (ja) |
-
1993
- 1993-02-05 JP JP04212793A patent/JP3268868B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3268868B2 (ja) | 2002-03-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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