JPH06228420A - 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 - Google Patents
芳香族ポリカーボネート樹脂組成物Info
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- JPH06228420A JPH06228420A JP5016319A JP1631993A JPH06228420A JP H06228420 A JPH06228420 A JP H06228420A JP 5016319 A JP5016319 A JP 5016319A JP 1631993 A JP1631993 A JP 1631993A JP H06228420 A JPH06228420 A JP H06228420A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 透明性、耐加水分解性、耐熱性、機械的強度
等を損なうことなく優れた帯電防止性を有する芳香族ポ
リカーボネート樹脂を提供する。 【構成】 芳香族ポリカーボネート樹脂に、特定のスル
ホン酸のアミン塩及び金属塩を夫々特定量配合してなる
芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
等を損なうことなく優れた帯電防止性を有する芳香族ポ
リカーボネート樹脂を提供する。 【構成】 芳香族ポリカーボネート樹脂に、特定のスル
ホン酸のアミン塩及び金属塩を夫々特定量配合してなる
芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は芳香族ポリカーボネート
樹脂組成物に関する。更に詳しくは透明性、耐熱性、耐
加水分解性、機械的強度等に優れた帯電防止性芳香族ポ
リカーボネート樹脂組成物に関する。
樹脂組成物に関する。更に詳しくは透明性、耐熱性、耐
加水分解性、機械的強度等に優れた帯電防止性芳香族ポ
リカーボネート樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】芳香族ポリカーボネート樹脂は優れた透
明性、耐熱性、機械的強度等を有するがゆえに電気、機
械、自動車、医療用途等に幅広く使用されている。しか
しながら芳香族ポリカーボネート樹脂は表面固有抵抗が
高く、接触や摩擦等で誘起された静電気が消失し難く、
成形品表面への埃の付着、人体への電撃による不快感、
更にはエレクトロニクス製品におけるノイズの発生や誤
動作を生じる等の問題がある。また、光ディスクにおい
ては埃の付着が大きな問題になる。
明性、耐熱性、機械的強度等を有するがゆえに電気、機
械、自動車、医療用途等に幅広く使用されている。しか
しながら芳香族ポリカーボネート樹脂は表面固有抵抗が
高く、接触や摩擦等で誘起された静電気が消失し難く、
成形品表面への埃の付着、人体への電撃による不快感、
更にはエレクトロニクス製品におけるノイズの発生や誤
動作を生じる等の問題がある。また、光ディスクにおい
ては埃の付着が大きな問題になる。
【０００３】従来、芳香族ポリカーボネート樹脂の帯電
を防止する方法としてスルホン酸のアルカリ金属塩を配
合する方法、スルホン酸のホスホニウム塩と亜リン酸エ
ステルを配合する方法（特開昭６４−１４２６７号公
報）、スルホン酸のアミン塩とリン酸エステルを配合す
る方法（特開平３−６４３６８号公報）等が提案されて
いる。しかしながら、これらの方法で得られる芳香族ポ
リカーボネート樹脂は透明性、色調、耐加水分解性等が
悪化し、更には成形加工時の耐熱性が低下する等の問題
がある。
を防止する方法としてスルホン酸のアルカリ金属塩を配
合する方法、スルホン酸のホスホニウム塩と亜リン酸エ
ステルを配合する方法（特開昭６４−１４２６７号公
報）、スルホン酸のアミン塩とリン酸エステルを配合す
る方法（特開平３−６４３６８号公報）等が提案されて
いる。しかしながら、これらの方法で得られる芳香族ポ
リカーボネート樹脂は透明性、色調、耐加水分解性等が
悪化し、更には成形加工時の耐熱性が低下する等の問題
がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は透明
性、耐加水分解性、耐熱性、機械的強度等を損なうこと
なく、優れた帯電防止性を有する芳香族ポリカーボネー
ト樹脂を提供することである。本発明者は、上記目的を
達成せんとして鋭意検討を重ねた結果、特定のスルホン
酸のアミン塩とスルホン酸のアルカリ金属塩又はアルカ
リ土類金属塩を夫々特定量併用することによって、芳香
族ポリカーボネート樹脂にその優れた透明性、耐加水分
解性、耐熱性、機械的強度等を損なうことなく優れた帯
電防止性を付与し得ることを究明し、本発明を完成し
た。
性、耐加水分解性、耐熱性、機械的強度等を損なうこと
なく、優れた帯電防止性を有する芳香族ポリカーボネー
ト樹脂を提供することである。本発明者は、上記目的を
達成せんとして鋭意検討を重ねた結果、特定のスルホン
酸のアミン塩とスルホン酸のアルカリ金属塩又はアルカ
リ土類金属塩を夫々特定量併用することによって、芳香
族ポリカーボネート樹脂にその優れた透明性、耐加水分
解性、耐熱性、機械的強度等を損なうことなく優れた帯
電防止性を付与し得ることを究明し、本発明を完成し
た。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、芳香族ポリカ
ーボネート樹脂１００重量部に対し下記一般式［１］
ーボネート樹脂１００重量部に対し下記一般式［１］
【０００６】
【化３】
【０００７】［式中、Ｒ1 は炭素数１〜４０のアルキル
基、アルキルアリール基又はアルキルジフェニルエーテ
ル基であり、Ａは炭素数１〜３０の炭化水素基を有する
第三級アミンである］で表されるスルホン酸のアミン塩
０．１〜１０重量部及び下記一般式［２］
基、アルキルアリール基又はアルキルジフェニルエーテ
ル基であり、Ａは炭素数１〜３０の炭化水素基を有する
第三級アミンである］で表されるスルホン酸のアミン塩
０．１〜１０重量部及び下記一般式［２］
【０００８】
【化４】
【０００９】［式中、Ｒ2 は炭素数１〜４０のアルキル
基、アルキルアリール基又はアルキルジフェニルエーテ
ル基であり、Ｂはアルカリ金属又はアルカリ土類金属
で、ｎはアルカリ金属の場合１、アルカリ土類金属の場
合２である］で表されるスルホン酸の金属塩を０．００
１〜０．３重量部配合してなる芳香族ポリカーボネート
樹脂組成物に係るものである。
基、アルキルアリール基又はアルキルジフェニルエーテ
ル基であり、Ｂはアルカリ金属又はアルカリ土類金属
で、ｎはアルカリ金属の場合１、アルカリ土類金属の場
合２である］で表されるスルホン酸の金属塩を０．００
１〜０．３重量部配合してなる芳香族ポリカーボネート
樹脂組成物に係るものである。
【００１０】本発明で対象とする芳香族ポリカーボネー
ト樹脂は、二価フェノールとカーボネート前駆物質、又
は二価フェノール、芳香族二価カルボン酸とカーボネー
ト前駆物質の反応によって得られる芳香族ポリカーボネ
ート樹脂や芳香族ポリエステルカーボネート樹脂であ
る。通常、ホスゲンを使用する界面重縮合反応又は炭酸
ジエステルを使用するエステル交換反応によって得られ
る。
ト樹脂は、二価フェノールとカーボネート前駆物質、又
は二価フェノール、芳香族二価カルボン酸とカーボネー
ト前駆物質の反応によって得られる芳香族ポリカーボネ
ート樹脂や芳香族ポリエステルカーボネート樹脂であ
る。通常、ホスゲンを使用する界面重縮合反応又は炭酸
ジエステルを使用するエステル交換反応によって得られ
る。
【００１１】ここで使用する二価フェノールとしては
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通
称ビスフェノールＡ］を主たる対象とするが、その一部
又は全部を他の二価フェノールで置換えてもよい。他の
二価フェノールとしては例えば１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン等があげられ
る。
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通
称ビスフェノールＡ］を主たる対象とするが、その一部
又は全部を他の二価フェノールで置換えてもよい。他の
二価フェノールとしては例えば１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン等があげられ
る。
【００１２】ホスゲンを使用する界面重縮合反応では、
通常酸結合剤の水溶液に二価フェノールを溶解し、溶媒
の存在下に反応させる。酸結合剤としては例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化
物が使用され、溶媒としては例えば塩化メチレン、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化炭化水素が使用される。反応
に際し、通常末端停止剤が使用される。末端停止剤とし
ては例えばp-tert−ブチルフェノールのような一価フェ
ノールが好ましく、その使用量は二価フェノールに対し
０．０１〜１０モル％、好ましくは０．０３〜８モル％
である。反応温度は０〜４０℃、好ましくは２０〜３０
℃であり、反応時間は１０分〜１０時間程度である。反
応の進行に伴い反応系のpHを９以上に保持することが好
ましい。また、反応を促進させるために触媒を用いても
よく、触媒としては例えばトリエチルアミン、テトラ−
ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチ
ルホスホニウムブロマイド等の三級アミン、四級アンモ
ニウム化合物、四級ホスホニウム化合物等があげられ
る。更に必要に応じて酸化防止剤等を加えることもでき
る。
通常酸結合剤の水溶液に二価フェノールを溶解し、溶媒
の存在下に反応させる。酸結合剤としては例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化
物が使用され、溶媒としては例えば塩化メチレン、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化炭化水素が使用される。反応
に際し、通常末端停止剤が使用される。末端停止剤とし
ては例えばp-tert−ブチルフェノールのような一価フェ
ノールが好ましく、その使用量は二価フェノールに対し
０．０１〜１０モル％、好ましくは０．０３〜８モル％
である。反応温度は０〜４０℃、好ましくは２０〜３０
℃であり、反応時間は１０分〜１０時間程度である。反
応の進行に伴い反応系のpHを９以上に保持することが好
ましい。また、反応を促進させるために触媒を用いても
よく、触媒としては例えばトリエチルアミン、テトラ−
ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチ
ルホスホニウムブロマイド等の三級アミン、四級アンモ
ニウム化合物、四級ホスホニウム化合物等があげられ
る。更に必要に応じて酸化防止剤等を加えることもでき
る。
【００１３】炭酸ジエステルを使用するエステル交換反
応は、不活性ガス雰囲気下で二価フェノールと炭酸ジエ
ステルとを加熱しながら撹拌して生成するアルコール又
はフェノールを留出させることで行われる。反応温度は
生成するアルコール又はフェノールの沸点等により異な
るが、通常１２０〜３５０℃の範囲である。反応後期に
は系を減圧にして生成するアルコール又はフェノールの
留出を容易にさせる。
応は、不活性ガス雰囲気下で二価フェノールと炭酸ジエ
ステルとを加熱しながら撹拌して生成するアルコール又
はフェノールを留出させることで行われる。反応温度は
生成するアルコール又はフェノールの沸点等により異な
るが、通常１２０〜３５０℃の範囲である。反応後期に
は系を減圧にして生成するアルコール又はフェノールの
留出を容易にさせる。
【００１４】炭酸ジエステルとしては例えばジフェニル
カーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェ
ニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチル
カーボネート、ジブチルカーボネート等があげられ、な
かでもジフェニルカーボネートが好ましい。重合速度を
速めるために重合触媒を使用することができ、重合触媒
としては例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等の
アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、ホウ素や
アルミニウムの水酸化物、アルカリ金属塩、アルカリ土
類金属塩、第４級アンモニウム塩、アルカリ金属やアル
カリ土類金属のアルコキシド、アルカリ金属やアルカリ
土類金属の有機酸塩、亜鉛化合物、ホウ素化合物、ケイ
素化合物、ゲルマニウム化合物、有機スズ化合物、鉛化
合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合
物、ジルコニウム化合物等の通常エステル化反応やエス
テル交換反応に使用される触媒があげられる。触媒は単
独で使用してもよいし、二種以上併用してもよい。触媒
の使用量は原料の二価フェノールに対し０．０００１〜
１重量％、好ましくは０．０００５〜０．５重量％の範
囲で選ばれる。
カーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェ
ニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチル
カーボネート、ジブチルカーボネート等があげられ、な
かでもジフェニルカーボネートが好ましい。重合速度を
速めるために重合触媒を使用することができ、重合触媒
としては例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等の
アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、ホウ素や
アルミニウムの水酸化物、アルカリ金属塩、アルカリ土
類金属塩、第４級アンモニウム塩、アルカリ金属やアル
カリ土類金属のアルコキシド、アルカリ金属やアルカリ
土類金属の有機酸塩、亜鉛化合物、ホウ素化合物、ケイ
素化合物、ゲルマニウム化合物、有機スズ化合物、鉛化
合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合
物、ジルコニウム化合物等の通常エステル化反応やエス
テル交換反応に使用される触媒があげられる。触媒は単
独で使用してもよいし、二種以上併用してもよい。触媒
の使用量は原料の二価フェノールに対し０．０００１〜
１重量％、好ましくは０．０００５〜０．５重量％の範
囲で選ばれる。
【００１５】芳香族ポリカーボネート樹脂の分子量は、
特に限定する必要はないが、粘度平均分子量で表して通
常１０，０００以上、好ましくは１３，０００〜２０
０，０００である。
特に限定する必要はないが、粘度平均分子量で表して通
常１０，０００以上、好ましくは１３，０００〜２０
０，０００である。
【００１６】本発明で使用するスルホン酸のアミン塩は
前記一般式［１］で表されるものであり、式中Ｒ1 は炭
素数１〜４０のアルキル基、アルキルアリール基又はア
ルキルジフェニルエーテル基であり、例えばオクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、エイコシ
ル基、２−エチルヘキシル基、ノニルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、ドデシルナフチル基、ドデシルジフェ
ニルエーテル基、２−エチルヘキシルジフェニルエーテ
ル基等があげられる。Ｒ1 の炭素数が４０を越えると帯
電防止効果が劣るようになる。Ａは炭素数１〜３０の炭
化水素基を有する第三級アミンであり、下記一般式
［３］
前記一般式［１］で表されるものであり、式中Ｒ1 は炭
素数１〜４０のアルキル基、アルキルアリール基又はア
ルキルジフェニルエーテル基であり、例えばオクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、エイコシ
ル基、２−エチルヘキシル基、ノニルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、ドデシルナフチル基、ドデシルジフェ
ニルエーテル基、２−エチルヘキシルジフェニルエーテ
ル基等があげられる。Ｒ1 の炭素数が４０を越えると帯
電防止効果が劣るようになる。Ａは炭素数１〜３０の炭
化水素基を有する第三級アミンであり、下記一般式
［３］
【００１７】
【化５】
【００１８】［式中、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は夫々同一又
は異なる炭素数１〜３０の炭化水素基であり、Ｒ3 及び
Ｒ4 は相互に連絡して窒素原子と共に複素環を形成して
いてもよい］で表されるものであって、Ｒ3 、Ｒ4 及び
Ｒ5 としては例えばメチル基、プロピル基、ヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、ラウリル基、オレイル基、
ステアリル基等のアルキル基、フェニル基、ノニルフェ
ニル基、ドデシルフェニル基等のアルキルフェニル基、
ベンジル基等のアラルキル基、シクロヘキシル基等のシ
クロアルキル基等があげられる。また、これら炭化水素
基には置換基が導入されていてもよく、例えばヒドロキ
シアルキル基又はヒドロキシアルキル基にアルキレンオ
キサイドが付加した基の末端をエーテルやエステルで封
鎖した基等があげられる。これらＲ3 、Ｒ4 及びＲ5 の
炭素数が３０を越えると帯電防止効果が劣るようにな
る。かかるスルホン酸のアミン塩の具体例としてプロピ
ルスルホン酸オクチルジメチルアミン、オクチルスルホ
ン酸ヘキシルジメチルアミン、ドデシルスルホン酸ドデ
シルジプロピルアミン、オクタデシルスルホン酸オクチ
ルジエチルアミン、ノニルベンゼンスルホン酸ステアリ
ルジ（メトキシエチル）アミン、ドデシルベンゼンスル
ホン酸ジドデシルメチルアミン、ドデシルナフタレンス
ルホン酸ベヘニルジプロピルアミン、ドデシルジフェニ
ルエーテルスルホン酸ドデシルジプロピルアミン等があ
げられ、これらは単独で使用しても又は二種以上併用し
てもよい。
は異なる炭素数１〜３０の炭化水素基であり、Ｒ3 及び
Ｒ4 は相互に連絡して窒素原子と共に複素環を形成して
いてもよい］で表されるものであって、Ｒ3 、Ｒ4 及び
Ｒ5 としては例えばメチル基、プロピル基、ヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、ラウリル基、オレイル基、
ステアリル基等のアルキル基、フェニル基、ノニルフェ
ニル基、ドデシルフェニル基等のアルキルフェニル基、
ベンジル基等のアラルキル基、シクロヘキシル基等のシ
クロアルキル基等があげられる。また、これら炭化水素
基には置換基が導入されていてもよく、例えばヒドロキ
シアルキル基又はヒドロキシアルキル基にアルキレンオ
キサイドが付加した基の末端をエーテルやエステルで封
鎖した基等があげられる。これらＲ3 、Ｒ4 及びＲ5 の
炭素数が３０を越えると帯電防止効果が劣るようにな
る。かかるスルホン酸のアミン塩の具体例としてプロピ
ルスルホン酸オクチルジメチルアミン、オクチルスルホ
ン酸ヘキシルジメチルアミン、ドデシルスルホン酸ドデ
シルジプロピルアミン、オクタデシルスルホン酸オクチ
ルジエチルアミン、ノニルベンゼンスルホン酸ステアリ
ルジ（メトキシエチル）アミン、ドデシルベンゼンスル
ホン酸ジドデシルメチルアミン、ドデシルナフタレンス
ルホン酸ベヘニルジプロピルアミン、ドデシルジフェニ
ルエーテルスルホン酸ドデシルジプロピルアミン等があ
げられ、これらは単独で使用しても又は二種以上併用し
てもよい。
【００１９】上記スルホン酸のアミン塩と併用するスル
ホン酸の金属塩は前記一般式［２］で表されるものであ
り、式中Ｒ2 は炭素数１〜４０のアルキル基、アルキル
アリール基又はアルキルジフェニルエーテル基であり、
前記一般式［１］のＲ1 の説明と同様のものがあげられ
る。ＢはLi、Na、Ｋ、Mg、Ca、Ba等のようなアルカリ金
属又はアルカリ土類金属であり、特にLi、Na、Ｋ、Caが
好ましい。かかるスルホン酸の金属塩の具体例としてプ
ロピルスルホン酸ナトリウム、オクチルスルホン酸リチ
ウム、ドデシルスルホン酸カリウム、オクタデシルスル
ホン酸カルシウム、プロピルベンゼンスルホン酸リチウ
ム、ノニルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸カリウム、ドデシルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、ドデシルジフェニルエーテルスルホン
酸ナトリウム等があげられ、これらは単独で使用しても
又は二種以上併用してもよい。
ホン酸の金属塩は前記一般式［２］で表されるものであ
り、式中Ｒ2 は炭素数１〜４０のアルキル基、アルキル
アリール基又はアルキルジフェニルエーテル基であり、
前記一般式［１］のＲ1 の説明と同様のものがあげられ
る。ＢはLi、Na、Ｋ、Mg、Ca、Ba等のようなアルカリ金
属又はアルカリ土類金属であり、特にLi、Na、Ｋ、Caが
好ましい。かかるスルホン酸の金属塩の具体例としてプ
ロピルスルホン酸ナトリウム、オクチルスルホン酸リチ
ウム、ドデシルスルホン酸カリウム、オクタデシルスル
ホン酸カルシウム、プロピルベンゼンスルホン酸リチウ
ム、ノニルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸カリウム、ドデシルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、ドデシルジフェニルエーテルスルホン
酸ナトリウム等があげられ、これらは単独で使用しても
又は二種以上併用してもよい。
【００２０】上記スルホン酸のアミン塩の配合量は、芳
香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．１
〜１０重量部であり、０．５〜５重量部が好ましい。
０．１重量部未満では充分な帯電防止効果が得られ難
く、１０重量部を越えると得られる組成物の機械的物性
が低下するようになる。また、スルホン酸の金属塩はの
配合量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に
対して０．００１〜０．３重量部であり、０．００５〜
０．２重量部が好ましい。０．００１重量部未満では充
分な加水分解性の改善効果が得られ難く、０．３重量部
を越えると得られる組成物の透明性が低下するようにな
る。
香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．１
〜１０重量部であり、０．５〜５重量部が好ましい。
０．１重量部未満では充分な帯電防止効果が得られ難
く、１０重量部を越えると得られる組成物の機械的物性
が低下するようになる。また、スルホン酸の金属塩はの
配合量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に
対して０．００１〜０．３重量部であり、０．００５〜
０．２重量部が好ましい。０．００１重量部未満では充
分な加水分解性の改善効果が得られ難く、０．３重量部
を越えると得られる組成物の透明性が低下するようにな
る。
【００２１】上記スルホン酸のアミン塩はスルホン酸を
第三級アミンで常法により中和することにより得られ、
スルホン酸の金属塩はスルホン酸をアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の化合物で常法により中和することによ
り得られる。両者は別々に作成した後所定量を任意の順
序で又は予め混合して芳香族ポリカーボネート樹脂に配
合することができる。また、スルホン酸を先ず所定量の
第三級アミンで常法により中和した後続けて所定量のア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属の化合物で常法により
中和するか、又は第三級アミンとアルカリ金属又はアル
カリ土類金属の化合物を所定のモル比に混合した後スル
ホン酸を中和して所定割合のスルホン酸のアミン塩と金
属塩の混合物を作成して使用することもできる。
第三級アミンで常法により中和することにより得られ、
スルホン酸の金属塩はスルホン酸をアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の化合物で常法により中和することによ
り得られる。両者は別々に作成した後所定量を任意の順
序で又は予め混合して芳香族ポリカーボネート樹脂に配
合することができる。また、スルホン酸を先ず所定量の
第三級アミンで常法により中和した後続けて所定量のア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属の化合物で常法により
中和するか、又は第三級アミンとアルカリ金属又はアル
カリ土類金属の化合物を所定のモル比に混合した後スル
ホン酸を中和して所定割合のスルホン酸のアミン塩と金
属塩の混合物を作成して使用することもできる。
【００２２】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物を製造するには、任意の方法が採用される。例えば各
成分をタンブラー、スーパーミキサー、ナウタミキサー
等を用いてドライブレンドし、押出機によりペレット化
した後所望の成形に供する方法が最も簡便である。ま
た、本発明の樹脂組成物は、射出成形、押出成形、ブロ
ー成形、圧縮成形等任意の成形に供することができる。
物を製造するには、任意の方法が採用される。例えば各
成分をタンブラー、スーパーミキサー、ナウタミキサー
等を用いてドライブレンドし、押出機によりペレット化
した後所望の成形に供する方法が最も簡便である。ま
た、本発明の樹脂組成物は、射出成形、押出成形、ブロ
ー成形、圧縮成形等任意の成形に供することができる。
【００２３】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、必要に応じて他の添加剤例えばエステル系、シ
リコン系等の離型剤、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフ
ェノン系、サリシレート系、シアノアクリレート系等の
紫外線吸収剤、アンソラキノン系等の赤外線吸収剤、ハ
ロゲン系、リン系、塩類等の難燃剤、熱安定剤、酸化防
止剤、ガラス繊維、炭素繊維、金属繊維、ウィスカー
類、カーボンブラック、炭酸カルシウム、ガラスビーズ
等の充填剤、染料、顔料等の着色剤等を配合してもよ
い。またポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリアリレート、ポリカプロラクトン、AS樹
脂、 ABS樹脂、 MBS樹脂等の樹脂を配合してもよい。
物には、必要に応じて他の添加剤例えばエステル系、シ
リコン系等の離型剤、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフ
ェノン系、サリシレート系、シアノアクリレート系等の
紫外線吸収剤、アンソラキノン系等の赤外線吸収剤、ハ
ロゲン系、リン系、塩類等の難燃剤、熱安定剤、酸化防
止剤、ガラス繊維、炭素繊維、金属繊維、ウィスカー
類、カーボンブラック、炭酸カルシウム、ガラスビーズ
等の充填剤、染料、顔料等の着色剤等を配合してもよ
い。またポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリアリレート、ポリカプロラクトン、AS樹
脂、 ABS樹脂、 MBS樹脂等の樹脂を配合してもよい。
【００２４】
【実施例】以下に実施例をあげて更に説明する。なお、
実施例中の部は重量部であり、色相、透明性、耐加水分
解性及び表面固有抵抗は下記の方法で測定した。
実施例中の部は重量部であり、色相、透明性、耐加水分
解性及び表面固有抵抗は下記の方法で測定した。
【００２５】(a) 色相は５０mm×５０mm×２mmの平板を
射出成形機［住友重機（株）製ネオマット N１５０／７
５］によりシリンダー温度２８０℃、成形サイクル３５
秒で成形し、得られた平板のｂ値をスガ試験（株）製色
差計により測定した。ｂ値が大きい程色が悪いことを示
す。
射出成形機［住友重機（株）製ネオマット N１５０／７
５］によりシリンダー温度２８０℃、成形サイクル３５
秒で成形し、得られた平板のｂ値をスガ試験（株）製色
差計により測定した。ｂ値が大きい程色が悪いことを示
す。
【００２６】(b) 透明性は射出成形して得た上記平板の
全光線透過率を日本電色（株）製 NDH−Σ８０により測
定した。 (c) 耐加水分解性は射出成形して得た上記平板をタバイ
エスペック（株）製 PR-２ GP 恒温恒湿機により７０℃
×９０％RHで１０００時間湿熱処理した後の分子量保持
率（％）で示した。
全光線透過率を日本電色（株）製 NDH−Σ８０により測
定した。 (c) 耐加水分解性は射出成形して得た上記平板をタバイ
エスペック（株）製 PR-２ GP 恒温恒湿機により７０℃
×９０％RHで１０００時間湿熱処理した後の分子量保持
率（％）で示した。
【００２７】
【数１】
【００２８】(d) 表面固有抵抗は射出成形して得た上記
平板の表面固有抵抗を東亜電波（株）製 SM-８２１０極
超絶縁計により測定した。
平板の表面固有抵抗を東亜電波（株）製 SM-８２１０極
超絶縁計により測定した。
【００２９】
【実施例１〜９及び比較例１〜４】ビスフェノールＡと
ホスゲンから製造した粘度平均分子量２３０００の芳香
族ポリカーボネート樹脂１００部に表１記載の帯電防止
剤を表記載の量（部）添加し、スーパーミキサーにより
混合し、３０φの押出成形機により２６０℃で押出して
ペレットになし、このペレットを１２０℃で６時間熱風
乾燥した後評価用平板を射出成形し、評価した。評価結
果を表１に示した。
ホスゲンから製造した粘度平均分子量２３０００の芳香
族ポリカーボネート樹脂１００部に表１記載の帯電防止
剤を表記載の量（部）添加し、スーパーミキサーにより
混合し、３０φの押出成形機により２６０℃で押出して
ペレットになし、このペレットを１２０℃で６時間熱風
乾燥した後評価用平板を射出成形し、評価した。評価結
果を表１に示した。
【００３０】なお、表１中の帯電防止剤を表す記号は下
記の通りである。 A-１：ドデシルスルホン酸ドデシルジプロピルアミン A-２：ドデシルベンゼンスルホン酸ジドデシルメチルア
ミン A-３：ドデシルジフェニルエーテルスルホン酸ジドデシ
ルメチルアミン A-４：ドデシルスルホン酸ジドデシルメチルアミン B-１：ドデシルスルホン酸カリウム B-２：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム B-３：ドデシルジフェニルエーテルスルホン酸リチウム B-４：ドデシルスルホン酸ナトリウム C-１：ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホ
ニウム
記の通りである。 A-１：ドデシルスルホン酸ドデシルジプロピルアミン A-２：ドデシルベンゼンスルホン酸ジドデシルメチルア
ミン A-３：ドデシルジフェニルエーテルスルホン酸ジドデシ
ルメチルアミン A-４：ドデシルスルホン酸ジドデシルメチルアミン B-１：ドデシルスルホン酸カリウム B-２：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム B-３：ドデシルジフェニルエーテルスルホン酸リチウム B-４：ドデシルスルホン酸ナトリウム C-１：ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホ
ニウム
【００３１】
【表１】
【００３２】
【発明の効果】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組
成物は、樹脂本来の優れた透明性、耐熱性、耐加水分解
性、機械的強度等を損なうことなく、優れた帯電防止性
を有しているので電気用途、機械用途、自動車用途、医
療用途、更には光ディスク用基板材料として極めて有用
である。
成物は、樹脂本来の優れた透明性、耐熱性、耐加水分解
性、機械的強度等を損なうことなく、優れた帯電防止性
を有しているので電気用途、機械用途、自動車用途、医
療用途、更には光ディスク用基板材料として極めて有用
である。
Claims (1)
- 【請求項１】 芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量
部に対し下記一般式［１］ 【化１】 ［式中、Ｒ1 は炭素数１〜４０のアルキル基、アルキル
アリール基又はアルキルジフェニルエーテル基であり、
Ａは炭素数１〜３０の炭化水素基を有する第三級アミン
である］で表されるスルホン酸のアミン塩０．１〜１０
重量部及び下記一般式［２］ 【化２】 ［式中、Ｒ2 は炭素数１〜４０のアルキル基、アルキル
アリール基又はアルキルジフェニルエーテル基であり、
Ｂはアルカリ金属又はアルカリ土類金属で、ｎはアルカ
リ金属の場合１、アルカリ土類金属の場合２である］で
表されるスルホン酸の金属塩０．００１〜０．３重量部
を配合してなる芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5016319A JP2875130B2 (ja) | 1993-02-03 | 1993-02-03 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5016319A JP2875130B2 (ja) | 1993-02-03 | 1993-02-03 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06228420A true JPH06228420A (ja) | 1994-08-16 |
| JP2875130B2 JP2875130B2 (ja) | 1999-03-24 |
Family
ID=11913178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5016319A Expired - Fee Related JP2875130B2 (ja) | 1993-02-03 | 1993-02-03 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2875130B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5849822A (en) * | 1995-08-17 | 1998-12-15 | Teijin Limited | Thermoplastic resin composition superior in transparency and antistatic property |
| US6914092B1 (en) | 1999-08-16 | 2005-07-05 | Bayer Aktiengesellschaft | Antistatic agent |
| US7169333B2 (en) | 2000-05-12 | 2007-01-30 | Bayer Aktiengesellschaft | Antistatic agent |
| WO2011131728A1 (de) | 2010-04-23 | 2011-10-27 | Bayer Materialscience Ag | Polymeres antistatikum |
| CN104159977B (zh) * | 2012-02-29 | 2017-09-12 | 日本乳化剂株式会社 | 热塑性树脂组合物 |
-
1993
- 1993-02-03 JP JP5016319A patent/JP2875130B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5849822A (en) * | 1995-08-17 | 1998-12-15 | Teijin Limited | Thermoplastic resin composition superior in transparency and antistatic property |
| US6914092B1 (en) | 1999-08-16 | 2005-07-05 | Bayer Aktiengesellschaft | Antistatic agent |
| US7169333B2 (en) | 2000-05-12 | 2007-01-30 | Bayer Aktiengesellschaft | Antistatic agent |
| WO2011131728A1 (de) | 2010-04-23 | 2011-10-27 | Bayer Materialscience Ag | Polymeres antistatikum |
| DE102010018235A1 (de) | 2010-04-23 | 2011-10-27 | Bayer Materialscience Ag | Polymeres Antistatikum |
| CN102959011A (zh) * | 2010-04-23 | 2013-03-06 | 拜耳知识产权有限责任公司 | 聚合物抗静电剂 |
| US9290590B2 (en) | 2010-04-23 | 2016-03-22 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Polymeric anti-static agent |
| CN104159977B (zh) * | 2012-02-29 | 2017-09-12 | 日本乳化剂株式会社 | 热塑性树脂组合物 |
| US10113049B2 (en) * | 2012-02-29 | 2018-10-30 | Nippon Nyukazai Co., Ltd. | Thermoplastic resin composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2875130B2 (ja) | 1999-03-24 |
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|---|---|---|---|
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