JPH06228533A - 新規含フッ素フタロシアニン化合物、その製造方法、それを含む近赤外線吸収材料およびそれらを含む光記録媒体 - Google Patents
新規含フッ素フタロシアニン化合物、その製造方法、それを含む近赤外線吸収材料およびそれらを含む光記録媒体Info
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Landscapes
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
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Abstract
〜W4は4又は5位に位置し;X1〜X4, Y1〜Y4は各々独立
に(1)-(7) 群、W1〜W4は各々独立に(1)-(3) 群の置換基
から選ばれ;X1〜X4, Y1〜Y4の中で少なくとも2個は
(4),(5),(6),(7) 群から選ばれ;a,b,c,d は各々独立に
0-2 の整数、a,b,c,d の総和は1-4 であり;Mは無金
属、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を表す〕 【化2】 (4) -O-Cm H n ,(5)-S-Cm H n ,(6)-O-(CH2CH2O)g B ,
(7) -O-(CH2CH2CH2O)h G(A,B,G は各々独立にC数1-8
のアルキル(Ar)基、Z はH,C数1-4 のAr基,C数1-4
のアルコキシル基又はF、D,E はC数1-4 のAr基を表
し、g,h は各々独立に 1-5の整数、p,q,r は 0-2の整
数、mは1-12の整数、nはCm Hn なるAr基を飽和する
のに必要なH数)で示される含フッ素フタロシアニン化
合物。 【効果】 650-900nm の吸収波長域で所望の吸収波長制
御が可能。溶媒への溶解性及び耐光性に優れる。
Description
化合物およびその製造方法、ならびに近赤外域に吸収を
持ち溶媒への溶解性が高い近赤外線吸収材料およびそれ
を用いた光記録媒体に関するものである。
ーザーディスク,光メモリディスク,光カード等の光記
録媒体,液晶表示装置,光学文字読取機等における書込
みあるいは読み取りの為に、半導体レーザーが光源とし
て用いられるシステムの開発が活発である。特にCD,
PHOTO−CDあるいはCD−ROMは、大容量、高
速アクセスのデジタル記録媒体として音声、画像、コー
ドデータなどの保存再生用に大量に利用されている。こ
れらのシステムはいずれも半導体レーザーに感受するい
わゆる近赤外線吸収色素を必要とし、それら色素に関し
て特性の良好なものが求められている。又、光導電材
料,近赤外線吸収フィルター,眼精疲労防止剤,感熱転
写,感熱紙・感熱孔版等の光熱変換剤、近赤外光増感
剤、組織透過性の良い長波長域に吸収を持つ腫瘍治療用
感光性色素、あるいは自動車又は建材の熱線遮光剤など
近赤外線を吸収する物質、いわゆる近赤外線吸収色素へ
の開発要求が高まっている。中でも光、熱、温度等に対
して安定であり堅牢性に優れているフタロシアニン系化
合物については、用途に応じて必要とする吸収波長に制
御するべく、また用途に応じて必要とする溶媒に溶解す
るべく数多く検討されている。すなわち、近年デバイス
の多様化に伴い、また用途に応じて様々な吸収特性をも
つ色素が要求されているが、フタロシアニン系化合物の
吸収波長を制御することは困難であった。
いった煩雑な工程を用いないで色素を薄膜化する方法、
その際デバイスで用いる基板を侵さない溶媒を用いるこ
と、あるいは一緒に用いる樹脂へ溶解すること等を必要
としている理由から、各々の用途に応じた各種の溶媒に
高濃度に溶解する色素が要求されているが、フタロシア
ニン系化合物の大多数は溶媒不溶性のものであった。
スク,光メモリディスク,光カードなどの追記型光記録
媒体に用いる際には、前記の溶解度等の特性以外に特に
色素自体の反射率が高く、また光を吸収した際に発生す
る熱に対してできるだけ速やかに色素が分解することが
要求されているが、それらを満足するフタロシアニン化
合物は全く提案されていないのが、実情である。そのた
めに光記録媒体には通常シアニン色素が実用的に使われ
ている。しかしながら、シアニン色素は耐光性が悪いた
め用途範囲が限定されている。よって、耐光性の良いフ
タロシアニン化合物で前記特性を満足するものが求めら
れている。
タロシアニン化合物も最近開示されている。例えば、
3,6−オクタアルコキシフタロシアニン(特開昭61
−223058号)があげられるが、吸収波長の制御が
低波長側に限定されるという問題点を有しており、また
製造工程が複雑で安価なフタロシアニンを得ることがで
きないという問題点も有している。
−152685号、特開昭63−308073号、およ
び特開昭64−62361号には、フタロシアニン骨格
にチオエーテル基等を多数置換させることにより溶解度
を向上させると同時に、吸収波長を長波長化させた化合
物が開示されている。その中で、特開昭60−2095
83号、および特開昭61−152685号では、フタ
ロシアニン骨格、特に3,6位にチオエーテル基を導入
する合成例が開示されている。
位にクロル原子を有するフタロシアニン化合物と有機チ
オール化合物とをキノリン溶媒中、KOH存在下加熱し
て、3,6位にチオエーテル基を有するフタロシアニン
化合物を得ている。しかし、いずれも収率が20〜30
%程度であり製造効率に問題を有している。しかも依然
として溶解性が不十分でありまた吸収波長の範囲が限ら
れている。
昭61−152685号および特開昭64−62361
号には、フタロシアニン骨格に8〜16個のチオエーテ
ル基を多数導入する合成例も開示されている。その方法
は、フタロシアニン骨格のベンゼン核に8〜16個のク
ロル原子および/またはブロム原子を有するフタロシア
ニン化合物と有機チオール化合物とを、キノリン溶媒中
KOH存在下加熱してフタロシアニン骨格のベンゼン核
に8〜16個のチオエーテル基を有するフタロシアニン
を得るものである。
が20〜30%程度であり製造効率に問題を有してい
る。すなわち、クロル原子またはブロム原子のチオエー
テル基への置換性が悪い為に低収率となり、例えば、ク
ロル原子がチオエーテル基に全く置換されていないまま
の未反応フタロシアニン、あるいは一部のクロル原子が
チオエーテル基に置換した未反応型フタロシアニンが生
成する。
物質のフタロシアニンとを互いに分離するのは実際上困
難であるために、実質的には種々の組成のフタロシアニ
ンの混合物しか得られないのが実情である。事実、特開
昭64−62361号ではシリカゲルカラムで分離後で
もポリチオール置換混合縮合型フタロシアニン組成物と
して記載されており、未反応型が残存しているのを物語
っている。なお、クロル原子が一部残存した場合それら
の溶解性は著しく低下する為、近赤外線吸収色素とし
て、あるいはその他の用途、例えば可視吸収フィルタ等
として溶解させて薄膜化させるには不利となる。
ロモテトラデカクロロフタロシアニンと2−アミノチオ
フェノールおよび4−メチルフェニルチオールの有機チ
オール混合物とを、DMF溶媒中でKOH存在下加熱し
てチオエーテル置換基を導入し、フタロシアニンを42
%の収率で得ている。しかし、この方法は異なる有機チ
オール混合物を同時に加えて反応させているので、一種
の組み合わせのチオエーテル置換基を有しているフタロ
シアニン混合物が得られることになり、単一な特性が得
られず吸収波長を制御する必要のある用途、例えばシア
ン色インクジェット用インクあるいは近赤外線吸収色素
として使う際に用途が限定されるという問題点を有して
いる。また溶解性を有しているが、まだ低レベルであり
薄膜化あるいは樹脂への溶解性の点で不十分である。
−62878号には、フタロシアニン核にアルコキシル
基、アルキルチオ基を導入した近赤外線吸収色素が提案
されているが、大半が実用性の乏しい3,6位に置換基
を有している出発原料を用いており実用的には問題があ
り、また溶解性を有しているが、まだ低レベルであり薄
膜化あるいは樹脂への溶解性の点で不十分である。また
4,5位へ置換基を導入するために4,5位を塩素化し
たものからフタロシアニンを誘導するのであるが、その
置換性の悪さから溶解性を落とす要因となる塩素原子が
残存しているという問題点も有している。
ニンが特開昭63−295578号に開示されている。
この公報によれば、モノブロモテトラデカクロロ銅フタ
ロシアニンと2−アミノチオフェノールおよび4−メチ
ルフェニルチオールの有機チオール混合物とを反応させ
て得られる、ヘプタ(4−メチルフェニルチオ)−テト
ラ(1−アミノ−2−チオ−フェニ−1,2−イレン)
−銅フタロシアニン等の置換チオ銅フタロシアニン混合
物を発煙硫酸によりスルホン化して、平均10個のスル
ホン酸基を有するフタロシアニンを得、その後テトラブ
チルアミン等の塩基性物質で処理してスルホンアミド基
等に変えることにより、アルコール性溶媒に対して溶解
性を有するフタロシアニンを得ている。
を有している。即ち、クロル原子が一部残存し易く、ク
ロル原子が一部残存した場合それらの溶解性は著しく低
下する。また、フタロシアニンが混合物で得られてお
り、近赤外線吸収色素として使う際単一な特性が得られ
ず用途が限定される。その上、非常に工程が煩雑であり
各々の工程の収率が低い。さらにスルホン化反応を水系
で行い、次いで透析により生成物の精製を行っており工
業的製造方法としては問題がある。
めに、特願平1−209599号、特願平2−1255
18号、特願平2−144292号において、オクタデ
カフルオロフタロシアニンのフッ素を選択的にアルキル
チオ基あるいはアリールチオ基で置換することにより吸
収の長波長化および溶媒溶解性の向上を試み、効果をあ
げた。しかしながら、さらに溶解性の向上した化合物が
好ましく、また吸収波長もさらに長波長化することが好
ましい。そこで本発明者らは、特願平4ー23541号
および特願平4ー27913号において、フタロシアニ
ン骨格の4,6位に置換基を導入することによりその解
決を図り、効果をあげた。
する前記事情に鑑みてなされたものである。すなわち、
本発明の目的は650〜900nmの吸収波長域におい
て目的に応じた吸収波長制御が可能であり、また用途に
応じた溶媒、例えば,アルコール性溶媒等に対して溶解
性に優れ、かつ耐光性に優れた新規なフタロシアニン化
合物を提供することにある。
の光記録媒体として用いる際、それらに必要な特性であ
る溶解度、吸収波長、熱分解特性、反射率、耐光性にお
いてすぐれた効果を発揮するものである。
ン化合物を効率よく、しかも高純度で製造する方法を提
供することにある。
式(I)で示される新規含フッ素フタロシアニン化合物
が前記目的を満足する化合物であることを見出して本発
明を完成させた。
(I):
子はベンゼン核の3位或いは6位に位置し、またY1,Y
2,Y3,Y4,W1,W2,W3 およびW4 は4位あるいは5位
に位置し;X1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3 およびY4 は
各々独立に下記(1)〜(7)群の置換基そしてW1,W
2,W3 およびW4 は各々独立に下記(1)〜(3)群の
置換基
−S−Cm Hn ,(6)群 −O−(CH2 C
H2 O) g B または(7)群 −O−(CH2 CH
2 CH2 O) h G(式中、A,BおよびGは各々独立に
炭素原子数1〜8個のアルキル基を表し、Zは水素原
子,炭素原子数1〜4個のアルキル基,炭素原子数1〜
4個のアルコキシル基またはフッ素原子を表し、Dおよ
びEは炭素原子数1〜4個のアルキル基を表し、g及び
hは各々独立に1〜5の整数であり、p,qおよびrは
0〜2の整数であり、mは1〜12の整数であり、nは
Cm Hn なる直鎖あるいは分岐したアルキル基又はシク
ロアルキル基を飽和するのに必要な水素原子数である)
から選ばれ;X1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3 およびY4
の中で少なくとも2個は(4), (5), (6)または
(7)群の置換基から選ばれ;a,b,c,およびdは
各々独立に0〜2の整数であり、かつa,b,cおよび
dの総和は1〜4であり;Mは無金属、金属、金属酸化
物または金属ハロゲン化物を表す。〕で示される含フッ
素フタロシアニン化合物が提供される。
−S−Cm Hn ,(6)群 −O−(CH2 C
H2 O) g B または(7)群 −O−(CH2 CH
2 CH2 O) h G(式中、A,BおよびGは各々独立に
炭素原子数1〜8個のアルキル基を表し、Zは水素原
子,炭素原子数1〜4個のアルキル基,炭素原子数1〜
4個のアルコキシル基またはフッ素原子を表し、Dおよ
びEは炭素原子数1〜4個のアルキル基を表し、g及び
hは各々独立に1〜5の整数であり、p,qおよびrは
0〜2の整数であり、mは1〜12の整数であり、nは
Cm Hn なる直鎖あるいは分岐したアルキル基又はシク
ロアルキル基を飽和するのに必要な水素原子数である)
を表し;i,j,k,およびlは各々独立に1および2
の整数であり;Mは無金属、金属、金属酸化物または金
属ハロゲン化物を表す。〕で示される含フッ素フタロシ
アニン化合物と、下記一般式(III): XH (III) 〔式中、Xは:
−S−Cm Hn ,(6)群 −O−(CH2 C
H2 O) g B または(7)群 −O−(CH2 CH
2 CH2 O) h G(式中、A,BおよびGは各々独立に
炭素原子数1〜8個のアルキル基を表し、Zは水素原
子,炭素原子数1〜4個のアルキル基,炭素原子数1〜
4個のアルコキシル基またはフッ素原子を表し、Dおよ
びEは炭素原子数1〜4個のアルキル基を表し、g及び
hは各々独立に1〜5の整数であり、p,qおよびrは
0〜2の整数であり、mは1〜12の整数であり、nは
Cm Hn なる直鎖あるいは分岐したアルキル基又はシク
ロアルキル基を飽和するのに必要な水素原子数である)
を表す。〕で示されるアルコールもしくはチオールと反
応せしめることを特徴とする新規含フッ素フタロシアニ
ン化合物の製造方法を提供する。
(I)で示される化合物において、フタロシアニン骨格
の芳香族環中に適宜のフッ素原子(フタロシアニン骨格
の3位あるいは6位に導入する)と適宜のオキシ化合物
の置換基および場合によっては適宜のメルカプト置換基
を導入することによって、650nm〜900nmに吸
収をもつ近赤外線吸収材料としての従来の問題点を解決
できることを見出した。特に本発明では、適宜のフッ素
原子と芳香族環をもつオキシ化合物または芳香族環をも
つメルカプト化合物をフタロシアニン骨格に導入するこ
とにより、従来の問題点であった耐光性が著しく改善で
きることを見いだし、さらにこれらの置換基のみでは溶
解性が付与できないので、溶解性置換基として脂肪族系
の置換基を一部導入することによって本発明を完成させ
た。耐光性が改善できた理由としては、芳香族環のπ系
の広がりによる共鳴効果と耐光性の良いフッ素原子の相
乗効果によるものと考えられる。
おいて示される(1)及び(2)群で区分けされた置換
基としては具体的には例えば、フェノキシ、o−メチル
フェノキシ、p−メチルフェノキシ、2,6−ジメチル
フェノキシ、o−メトキシフェノキシ、p−メトキシフ
ェノキシ、o−フルオロフェノキシ、p−フルオロフェ
ノキシ、2,3,5,6−テトラフルオロフェノキシ、
o−メトキシカルボニルフェノキシ、p−メトキシカル
ボニルフェノキシ、m−メトキシカルボニルフェノキ
シ、o−エトキシカルボニルフェノキシ、p−エトキシ
カルボニルフェノキシ、m−エトキシカルボニルフェノ
キシ、o−ブトキシカルボニルフェノキシ、p−ブトキ
シカルボニルフェノキシ、m−ブトキシカルボニルフェ
ノキシ、o−メチル−p−メトキシカルボニルフェノキ
シ、o−メトキシ−p−メトキシカルボニルフェノキ
シ、o−フルオロ−p−メトキシカルボニルフェノキ
シ、テトラフルオロ−p−エトキシカルボニルフェノキ
シ、o−エトキシカルボニル−p−メチルフェノキシ、
o−ブトキシカルボニル−p−メチルフェノキシ、o−
ブトキシカルボニル−p−フルオロフェノキシ、p−メ
チル−m−ブトキシカルボニルフェノキシ、ジメチルア
ミノフェノキシ、ジエチルアミノフェノキシ、ジブチル
アミノフェノキシ等が挙げられる。
おいて示される(3)群で区分けされた置換基としては
具体的には例えば、フェニルチオ、o−メチルフェニル
チオ、p−メチルフェニルチオ、2,6−ジメチルフェ
ニルチオ、o−メトキシフェニルチオ、p−メトキシフ
ェニルチオ、o−フルオロフェニルチオ、p−フルオロ
フェニルチオ、2,3,5,6−テトラフルオロフェニ
ルチオ、o−メトキシカルボニルフェニルチオ、p−メ
トキシカルボニルフェニルチオ、m−メトキシカルボニ
ルフェニルチオ、o−エトキシカルボニルフェニルチ
オ、p−エトキシカルボニルフェニルチオ、m−エトキ
シカルボニルフェニルチオ、o−ブトキシカルボニルフ
ェニルチオ、p−ブトキシカルボニルフェニルチオ、m
−ブトキシカルボニルフェニルチオ、o−メチル−p−
メトキシカルボニルフェニルチオ、o−メトキシ−p−
メトキシカルボニルフェニルチオ、o−フルオロ−p−
メトキシカルボニルフェニルチオ、テトラフルオロ−p
−エトキシカルボニルフェニルチオ、o−エトキシカル
ボニル−p−メチルフェニルチオ、o−ブトキシカルボ
ニル−p−メチルフェニルチオ、o−ブトキシカルボニ
ル−p−フルオロフェニルチオ、p−メチル−m−ブト
キシカルボニルフェニルチオ等が挙げられる。
おいて示される(4)群で区分けされた置換基としては
具体的には例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、tertー
ブトキシ、直鎖または分岐状のペンチルオキシ、直鎖ま
たは分岐状のヘキシルオキシ、直鎖または分岐状のヘプ
チルオキシ、直鎖または分岐状のオクチルオキシ、直鎖
または分岐状のノニルオキシ、直鎖または分岐状のデシ
ルオキシ、直鎖または分岐状のヘンデシルオキシ、直鎖
または分岐状のドデシルオキシ、シクロヘキシルオキシ
等が挙げられる。
おいて示される(5)群で区分けされた置換基としては
具体的には例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピル
チオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチ
オ、tertーブチルチオ、直鎖または分岐状のペンチ
ルチオ、直鎖または分岐状のヘキシルチオ、直鎖または
分岐状のヘプチルチオ、直鎖または分岐状のオクチルチ
オ、直鎖または分岐状のノニルチオ、直鎖または分岐状
のデシルチオ、直鎖または分岐状のヘンデシルチオ、直
鎖または分岐状のドデシルチオ、シクロヘキシルチオ等
が挙げられる。
おいて示される(6)及び(7)群で区分けされた置換
基としては具体的には例えば、メトキシエトキシ、エト
キシエトキシ、3´,6´−オキサヘプチルオキシ、3
´,6´−オキサオクチルオキシ、3´,6´,9´−
オキサデシルオキシ、3´,6´,9´−オキサヘンデ
シルオキシ、3´,6´,9´,12−オキサトリデシ
ルオキシ、メトキシブトキシ、エトキシブトキシ、4
´,8´−オキサノニルオキシ、4´,8´−オキサデ
ニルオキシ、4´,8´,12´−オキサトリデシルオ
キシ、4´,8´,12´,16−オキサヘプタデシル
オキシ等が挙げられる。
るMで示されるフタロシアニン化合物の中心金属として
は具体的には例えば、Cu、Zn、Pb、Fe、Ni、
Co、Pd、AlCl、AlI、InCl,InI、G
aCl、GaI、TiCl2、TiO、VCl2 、V
O、SnCl2 及びGeCl2 等が挙げられる。
各種置換基のベンゼン環中の位置とその位置での配位の
数としては例えば、下記表1および表2の色素骨格N
o.1〜No.32のものが挙げられる。なお表のX1
〜X4 ,Y1 〜Y4 ,W1 〜W4 は前記一般式(I)と
同じである。
一般式(III) より製造される前記一般式(I)の新規な
フタロシアニン化合物の製造方法においては、使用する
有機溶剤は出発原料に対し反応性を示さない不活性溶媒
であればいずれでもよく、例えばピリジン,N,N−ジ
メチルホルムアミド,N,N−ジメチルアセトアミド,
N−メチル−2−ピロリジノン,トリエチルアミン,ト
リ−n−ブチルアミン,キノリンなどの塩基性溶媒、ア
セトニトリル,ベンゾニトリルなどのニトリル類、ジイ
ソプロピルエーテルなどのエーテル類、イソプロピルア
ルコール,n−ブチルアルコールなどのアルコール類、
ベンゼン,トルエンなどの炭化水素類、クロロホルム,
1,2−ジクロロエタン,1,1,2,2−テトラクロ
ロエタンなどのハロゲン系溶媒などを用いることがで
き、好ましくは、塩基性溶媒、ニトリル類である。特に
好ましくは、ピリジン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、トリエチルアミン、アセトニトリルである。また場
合によれば、特別の有機溶媒を使用せず反応試剤を溶媒
を兼ねて使用することもできる。特に脂肪族系のアルコ
キシ基を導入する際は、特別の有機溶媒を使用せずに、
例えばn−ブトキシを導入するのにはブタノール中で行
うのが好ましい。
せることが好ましい。使用するアルカリ性物質として
は、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化ナトリウ
ム等が挙げられ、これらは単独もしくは混合物で使用す
ることができる。
般式(II)で示される含フッ素フタロシアニンは2〜30
部の範囲で仕込むことが好ましく、一般式(II)で示され
る含フッ素フタロシアニン1モルに対して、一般式(II
I) で表されるアルコール類あるいはチオール類は8.
8〜120部の範囲で仕込むことが好ましく、特に好ま
しくは12部〜36部の範囲である。また、アルカリ性
物質は、アルコール類又はチオール類1モルに対し0.
9〜3.0モルの範囲内で用いることが好ましく、特に
好ましくは1モル〜1.5モルの間である。
は、30〜250℃の範囲が好ましく、特に80〜18
0℃の範囲が好ましい。
フタロシアニンは例えば下記のスキームの第一法または
第二法のそれぞれの第一ステップおよび第二ステップに
従って合成できる。
テップおよび第二ステップの製造方法については特願昭
61−173710号、特願昭61−288671、特
願昭63−65806、特願昭63−213830、特
願平1−103554、特願平1−103554、特願
平2−144292、特願平4ー23846、特願平4
ー28185、特願平4ー274125などに開示して
いる。
は一般式(II)および(III) におけるX,Yおよびi〜l
と同じである。なお第一法の第二ステップには、第一ス
テップで得られたフタロニトリル以外にテトラフルオロ
フタロニトリルを50%以下の比率で一緒に出発原料と
して用いることもできる。これらによって、通常前記に
示すYなる置換基の導入数をフタロシアニンのベンゼン
環中に2個〜4個の範囲内で制御したものができる。
ゼン環に前記一般式(I)の(4)群、(5)群、
(6)群または(7)群の置換基より選ばれた脂肪族系
オキシ化合物またはメルカプト化合物が導入されるが、
それらの置換基は主に溶解性に寄与するので、溶解性を
付与させるのに必要な数だけ導入できる。従って、通常
2〜4個の範囲内で導入するのが好ましく、多すぎると
耐光性が悪くなるので好ましくない。
ニン骨格のベンゼン環中の3,6位に4〜7個導入され
るが、特に4〜6個導入するのが好ましい。少なすぎる
と耐光性が悪くなり、多すぎると吸収波長スペクトルの
制御に悪影響を及ぼす。
ンゼン環に前記一般式(I)の(1)群、(2)群また
は(3)群の置換基より選ばれた芳香族系オキシ化合物
またはメルカプト化合物が導入されるが、その際4,5
位は少なくとも4個導入され、また全体では通常5〜9
個導入するのが好ましい。少ないと吸収波長スペクトル
に悪影響を及ぼし、多すぎると相対的にフッ素原子が減
少するので耐光性が悪くなる。
物は、溶解性が高く、反射率、熱分解特性、耐光性に優
れているので、特にそれらの特性を必要としているCD
またはCD−ROMのプレーヤに対して互換性、共用性
を有する追記型光記録媒体あるいは光ディスク、レーザ
ーディスク、光カード等の光記録媒体に用いる際に優れ
た効果が発揮できるものである。
ロシアニン化合物において、下記一般式(IV):
子はベンゼン核の3位あるいは6位に位置し、またY1,
Y2,Y3,Y4,W1,W2,W3,およびW4 は4位あるいは5
位に位置し;X1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3 およびY4
は各々独立に下記(1),(2),(4),(6),(7)群の
置換基、W1,W2,W3 およびW4 は各々独立に下記
(1),(2)群の置換基
−O−(CH2 CH2 O) g B または(7)群
−O−(CH2 CH2 CH2 O) h G(式中、A,B
およびGは各々独立に炭素原子数1〜8個のアルキル基
を表し、Zは水素原子,炭素原子数1〜4個のアルキル
基,炭素原子数1〜4個のアルコキシル基またはフッ素
原子を表し、DおよびEは炭素原子数1〜4個のアルキ
ル基を表し、g及びhは各々独立に1〜5の整数であ
り、pおよびrは0〜2の整数であり、mは1〜12の
整数であり、nはCm Hn なる直鎖あるいは分岐したア
ルキル基又はシクロアルキル基を飽和するのに必要な水
素原子数である)から選ばれ;X1,X2,X3,X4,Y1,Y
2,Y3 およびY4 の中で少なくとも2個は(4), (6)
または(7)群の置換基から選ばれ;a,b,c,およ
びdは各々独立に0〜2の整数であり、かつa,b,c
およびdの総和は1〜4であり;Mは無金属、金属、金
属酸化物または金属ハロゲン化物を表す。〕で示される
含フッ素フタロシアニン化合物を用いることにより、透
明な樹脂性基板、該基板状に設けられた記録層及び金属
の反射層からなるコンパクトデイスク対応の追記型光記
録媒体として、例えばオーディオ等の音楽再生用のC
D、写真保存用のPHOTO−CDまたはコンピュータ
用のCD−ROMのプレーヤに対して互換性、共用性を
有する追記型光記録媒体として効果を発揮できる。
号の記録、または読みだしを行うための光が透過するも
のが好ましい。光の透過率としては85%以上であって
かつ光学異方性の小さいものが望ましい。例えば、ガラ
ス、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニール樹脂、ポリスチ
レン樹脂、エポキシ樹脂などからなる基板が挙げられ
る。これらの中で光学特性成形のしやすさ又は機械的強
度などからポリカーボネート樹脂が好ましい。
て、その上に金属の反射膜層が形成される。反射層とし
て使用する金属はAl,Ag,Au,Cu,Ptなどが
挙げられ、この反射層は通常、真空蒸着、スパッター法
などの方法により形成される。
含む記録層を基板上に成膜させるためには、通常塗布法
を用いるのが良い。方法としてはスピンコート法、ディ
ップ法あるいはロールコート法によって可能である。と
くにスピンコート法が好ましい。その際使用する有機溶
剤は、基板を侵さないものを用いる。例えば、ヘキサ
ン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族、脂環式炭
化水素系あるいはメチルアルコール、イソプロピルアル
コール、アリルアルコール、メチルセロソルブ、エチル
セロソルブなどのアルコール系の溶媒が好ましい。本発
明の前記色素はアルコール系に特に良く溶解するのでこ
れらの溶媒を用いるのが良い。
換性の観点から、基板を通しての読み出しレーザー光に
対する反射率は60%以上であることが必要とされる。
これらはそれぞれの色素にあわせて膜厚を最適化するこ
とによって可能である。通常50nm〜300nmが良
い。
説明する。
ルオロ−4−テトラキス(n−ブトキシ)亜鉛フタロシ
アニン1.08g(1ミリモル)、フェノール5.64
g(60ミリモル)、水酸化カリウム2.02g(36
ミリモル)およびピリジン20mlを仕込み、110℃
で2時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水酸化
カリウム水溶液中に投入し、生成した固形分を水で洗浄
することにより、目的物の緑色ケーキ1.12gを得
た。分析の結果、この化合物はフッ素原子を4個含有し
ていることが判明した。(収率67.1%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 704.5nm(ε
=2.80×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 4.57% 68.84% 6.69% 4.54% 分析値 4.48% 69.05% 6.65% 4.39% この化合物の赤外吸収スペクトルを図1に示す。
1と同様に操作し、目的物の緑色ケーキ1.05gを得
た。分析の結果、この化合物はフッ素原子を6個含有し
ていることが判明した。(収率68.5%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 700.0nm(ε
=2.46×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 4.36% 66.08% 7.34% 7.47% 分析値 4.42% 65.88% 7.45% 7.29% この化合物の赤外吸収スペクトルを図2に示す。
テトラキス(n−ブトキシ)亜鉛フタロシアニンの代わ
りに3,5,6−ドデカフルオロ−4−テトラキス(n
−ブトキシ)コバルトフタロシアニン1.08g(1ミ
リモル)を用い、反応時間を1時間にした以外、実施例
1と同様に操作し、目的物の青色ケーキ0.92gを得
た。分析の結果、この化合物はフッ素原子を6個含有し
ていることが判明した。(収率60.6%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 690.5nm(ε
=1.23×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 4.38% 66.36% 7.37% 7.50% 分析値 4.32% 66.21% 7.30% 7.58% この化合物の赤外吸収スペクトルを図3に示す。
テトラキス(n−ブトキシ)亜鉛フタロシアニンの代わ
りに、3,5,6−ドデカフルオロ−4−テトラキス
(n−オクチルオキシ)亜鉛フタロシアニン1.31g
(1ミリモル)を用いた以外、実施例1と同様に行な
い、目的物の緑色ケーキ1.24gを得た。
個含有していることが判明した。(収率65.0%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 697.0nm(ε
=1.47×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 5.73% 70.82% 5.90% 4.00% 分析値 5.71% 70.66% 5.92% 3.89% この化合物の赤外吸収スペクトルを図4に示す。
テトラキス(n−ブトキシ)亜鉛フタロシアニンの代わ
りに3,5,6−ドデカフルオロ−4−テトラキス(2
−メトキシエトキシ)亜鉛フタロシアニン1.09g
(1ミリモル)を用い、フェノールの代わりにp−フル
オロフェノール6.72g(60ミリモル)を用いた以
外実施例1と行ない、目的物の緑色ケーキ1.31gを
得た。分析の結果、この化合物はフッ素原子を12個含
有していることが判明した。(収率68.2%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 707.0nm(ε
=3.55×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 3.25% 59.54% 6.46% 13.14% 分析値 3.22% 59.39% 6.50% 12.99% この化合物の赤外吸収スペクトルを図5に示す。
テトラキス(n−ブトキシ)亜鉛フタロシアニンの代わ
りに、テトラデカフルオロビス(3´,6´,9´−オ
キサデシルオキシ)亜鉛フタロシアニン1.15g(1
ミリモル)を用いた以外、実施例1と同様に行ない、目
的物の緑色ケーキ1.09gを得た。分析の結果、この
化合物はフッ素原子を6個含有していることが判明し
た。(収率62.2%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 712.5nm(ε
=2.09×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 4.04% 64.63% 6.41% 6.52% 分析値 3.97% 64.73% 6.39% 6.45% この化合物の赤外吸収スペクトルを図6に示す。
シ安息香酸エチル9.97g(60ミリモル)を用いた
以外は実施例1と同様に行ない、目的物の青色ケーキ
1.12gを得た。分析の結果、この化合物はフッ素原
子を6個含有していることが判明した。(収率57.4
%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 695.5nm(ε
=1.57×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 4.63% 62.53% 5.72% 5.82% 分析値 4.66% 62.44% 5.68% 5.93% この化合物の赤外吸収スペクトルを図7に示す。
の製法 実施例1において、3,5,6−ドデカフルオロ−4−
テトラキス(n−ブトキシ)亜鉛フタロシアニンの代わ
りに、3,5,6−ドデカフルオロ−4−テトラキス
(n−ブチルチオ)オキシバナジウムフタロシアニン
1.15g(1ミリモル)を用いた以外は実施例1と同
様に行ない、目的物の茶色ケーキ1.05gを得た。分
析の結果、この化合物はフッ素原子を4個含有している
ことが判明した。(収率60.5%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 755.0nm(ε
=2.51×105 ) 元素分析 H C N S F 理論値 4.40% 66.23% 6.44% 7.37% 4.37% 分析値 4.50% 66.15% 6.35% 7.48% 4.30% この化合物の赤外吸収スペクトルを図8に示す。
トキシフェノキシ)銅フタロシアニン1.70g(1ミ
リモル)、tert−ブチルアルコール20ml、水酸
化カリウム0.67g(12ミリモル)を仕込み、還流
温度で2時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水
に投入し生成した固形分を水で洗浄することにより、目
的物の緑色ケーキ1.18gを得た。分析の結果、この
化合物はフッ素原子を4個含有していることが判明し
た。(収率61.8%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 710.0nm(ε
=2.88×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 4.85% 65.28% 5.86% 3.97% 分析値 4.77% 65.39% 5.85% 4.03% 次に、本発明の効果を明確にするために下記に示す方法
によって、参考例1から参考例5に示す5つの化合物を
合成した。なお参考例1〜5における色素骨格は表3に
示した。
施例1と同様に行ない、目的物の緑色ケーキ0.99g
を得た。分析の結果、この化合物はフッ素原子を1個含
有していることが判明した。(収率52.4%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 715.5nm(ε
=1.69×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 4.83% 72.16% 5.91% 1.00% 分析値 4.81% 72.31% 5.78% 1.05% 〔参考例2〕 色素骨格No.B 亜鉛フタロシアニンの製法 100mlの四ツ口フラスコに、3,6−ジフルオロ−
4,5−ジフェノキシフタロニトリル3.48g(10
ミリモル)、ヨウ化亜鉛0.96g(3ミリモル)およ
びベンゾニトリル20mlを仕込み、175℃で4時間
反応させた。反応終了後、溶媒を流去し固形分をアセト
ンで洗浄することにより、目的物の緑色ケーキ3.17
gを得た。分析の結果、この化合物はフッ素原子を8個
含有していることが判明した。(収率87.0%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 DMF中 696.5nm(ε=3.45
×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 2.76% 65.88% 7.68% 10.42% 分析値 2.68% 65.82% 7.70% 10.35% 〔参考例3〕 色素骨格No.C 亜鉛フタロシアニンの製法 3,5,6−ドデカフルオロ−4−テトラキス(フェノ
キシ)亜鉛フタロシアニン1.16g(1ミリモル)、
n−ブチルアルコール20ml、水酸化カリウム0.6
7g(12ミリモル)を仕込み、還流温度で6時間反応
させた。反応終了後、反応混合物を水に投入し生成した
固形分を水で洗浄することにより、目的物の緑色ケーキ
1.41gを得た。分析の結果、この化合物はフッ素原
子を1個含有していることが判明した。(収率80.5
%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 723.0nm(ε
=2.26×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 6.82% 68.34% 6.38% 1.08% 分析値 6.66% 68.39% 6.49% 1.16% 〔参考例4〕 色素骨格No.D 銅フタロシアニンの製法 参考例3において、3,5,6−ドデカフルオロ−4−
テトラキス(フェノキシ)亜鉛フタロシアニンの代わり
に、3,5,6−ドデカフルオロ−4−テトラキス(ブ
トキシ)銅フタロシアニン1.08g(1ミリモル)を
用いた以外、参考例3と同様に操作することにより目的
物の緑色ケーキ1.26gを得た。分析の結果この化合
物はフッ素原子を1個含有していることが判明した。
(収率75.1%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 メチルセルソルブ中 719.0nm(ε
=2.15×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 8.12% 65.94% 6.69% 1.13% 分析値 8.02% 66.09% 6.55% 1.18% 〔参考例5〕 色素骨格No.E オキシバナジウムフタロシアニンの
製法 実施例1において、3,5,6−ドデカフルオロ−4−
テトラキス(n−ブトキシ)亜鉛フタロシアニンの代わ
りに、3,6−オクタフルオロ−4,5−オクタキス
(ブチルチオ)オキシバナジウムフタロシアニン1.4
3g(1ミリモル)を用い、反応時間を24時間にした
以外は実施例1と同様に行ない、目的物の茶色ケーキ
1.14gを得た。(収率56.2%) 可視吸収スペクトル 最大吸収波長 DMF中 805.0nm(ε=1.88
×105 ) 元素分析 H C N F 理論値 5.58% 66.54% 5.54% 0.00% 分析値 5.49% 66.65% 5.62% 0.00%
られたフタロシアニン化合物を、近赤外線吸収材料とし
て使用するのに必要な特性である吸収波長、溶解度およ
び耐光性を測定し、その結果を下記表4に示した。
った。
解させ、ガラス基板上にスピンコート法により色素薄膜
を作成し試料とした。この試料をキセノン耐光性試験機
(照射光量10万Lux)にセットし、経時での吸光度
の減少を測定した。そして、100時間経過後の吸光度
の残存率により次の三段階の評価を行った。
率 80%以上 △ : 100時間経過後の吸光度の残存率 30%
〜80% × : 100時間経過後の吸光度の残存率 30%
未満 またメチルセロソルブ中での溶解度を測定し、次の三段
階の評価を行った。 ○ : 5%以上の溶解度 △ : 2%〜5%の溶解度 × : 2%未満
1.6μmの螺旋状の案内溝を有する厚さ1.2mm、
外径120mm、内径15mmのポリカーボネート樹脂
基板上に、実施例6で得られた化合物をメトキシセロソ
ルブに6%の濃度で溶解した塗液を、スピンコーターを
用いて120nmに成膜した。次に、このようにして得
られた塗布膜の上に金を膜厚70nmで真空蒸着により
成膜した。さらに、この上に紫外線硬化型の樹脂からな
る保護コート膜を設けて、光記録媒体を作成した。
0nm〜800nmの波長域での反射率を測定したとこ
ろ、71%であり安定した光学特性が得られていた。
の半導体レーザーを使用し、6.5mWの出力で線速
1.3m/sにおいてEMF信号を記録したところ、記
録が可能であった。得られた信号を解析した結果、市販
のCDプレーヤで再生できるレベルであった。
例6で得られた化合物の代わりに実施例9の化合物を用
いた以外は、実施例10と同じように操作して光記録媒
体を作成し、実施例10と同様の評価を行った。その結
果、作成反射率は74%であり安定した光学特性が得ら
れた。
の半導体レーザーを使用し、7.5mWの出力で線速
1.4m/sにおいてEMF信号を記録したところ、記
録が可能であった。得られた信号を解析した結果、市販
のCDプレーヤで再生できるレベルであった。
合物は、フタロシアニン骨格の芳香族環中に適宜のフッ
素原子(フタロシアニン骨格の3位あるいは6位に導入
する)と適宜のオキシ化合物の置換基および場合によっ
ては適宜のメルカプト置換基を導入することによって、
650nm〜900nmに吸収をもつ近赤外線吸収材料
としての従来の問題点を解決できることを見出したもの
である。すなわち、本発明では、フタロシアニン骨格中
のベンゼン環に通常2〜4個の範囲内で、脂肪族系オキ
シ化合物またはメルカプト化合物を導入し溶解性を付与
させ、フッ素原子をフタロシアニン骨格のベンゼン環中
の3,6位に3〜7個(好ましくは4〜7個)導入し、
更にフタロシアニン骨格のベンゼン環に芳香族系オキシ
化合物またはメルカプト化合物を導入することによっ
て、従来技術の問題点であった溶解性フタロシアニンの
耐光性を著しく改善できたものである。参考例1〜5の
ものは、前記の置換基の範囲を外れたものであるが、た
とえ溶解性が良好でも耐光性がなかったり、あるいは耐
光性があっても溶解性が乏しいなど近赤外線吸収材料と
して使用する範囲が限定されるのに対して、本発明のフ
タロシアニン化合物は耐光性、溶解性共に優れている。
としている、例えば半導体レーザーを使う光記録媒体、
液晶表示装置、光学文字読取機等における書き込みある
いは読み取りの為の近赤外線吸収色素、近赤外光増感
剤、感熱転写,感熱紙・感熱孔版等の光熱変換剤、近赤
外線吸収フィルター、眼精疲労防止剤あるいは光導電材
料等、さらに組織透過性の良い長波長域に吸収を持つ腫
瘍治療用感光性色素、さらに自動車あるいは建材の熱線
遮光剤などに効果的に用いることができる。
化合物は、溶解性、耐光性以外に反射率、熱分解特性に
も優れているので、特にそれらの特性を必要としてい
る、コンパクトディスク,レーザーディスク,光メモリ
ーディスク,光カード等の光記録媒体、その中でも特に
レーザー光による情報の記録、再生を行うCD、PHO
TO−CDまたはCD−ROMを用いるプレーヤに対し
て互換性、共用性を有する追記型光記録媒体に用いる際
に、優れた効果が発揮できる。
吸収材料として、例えば、撮像管に用いる色分解フィル
ター、液晶表示素子、カラーブラウン管選択吸収フィル
ター、カラートナー、インクジェット用インク、改ざん
偽造防止用バーコード用インク等に用いる際に優れた効
果を発揮するものである。
吸収スペクトルである。
吸収スペクトルである。
吸収スペクトルである。
吸収スペクトルである。
吸収スペクトルである。
吸収スペクトルである。
吸収スペクトルである。
吸収スペクトルである。
Claims (5)
- 【請求項1】下記一般式(I): 【化1】 〔式中、X1,X2,X3,X4 およびフッ素原子はベンゼン
核の3位あるいは6位に位置し、またY1,Y2,Y3,Y4,
W1,W2,W3 およびW4 は4位あるいは5位に位置し;
X1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3 およびY4 は各々独立に
下記(1)〜(7)群の置換基そしてW1,W2,W3 およ
びW4 は各々独立に下記(1)〜(3)群の置換基 【化2】 【化3】 【化4】 (4)群 −O−Cm Hn ,(5)群 −S−C
m Hn ,(6)群 −O−(CH2 CH2 O) g B
または(7)群 −O−(CH2 CH2 CH2 O)
h G(式中、A,BおよびGは各々独立に炭素原子数1
〜8個のアルキル基を表し、Zは水素原子,炭素原子数
1〜4個のアルキル基,炭素原子数1〜4個のアルコキ
シル基またはフッ素原子を表し、DおよびEは炭素原子
数1〜4個のアルキル基を表し、g及びhは各々独立に
1〜5の整数であり、p,qおよびrは0〜2の整数で
あり、mは1〜12の整数であり、nはCm Hn なる直
鎖あるいは分岐したアルキル基又はシクロアルキル基を
飽和するのに必要な水素原子数である)から選ばれ;X
1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3 およびY4 の中で少なくと
も2個は(4), (5), (6)または(7)群の置換基か
ら選ばれ;a,b,c,およびdは各々独立に0〜2の
整数であり、かつa,b,cおよびdの総和は1〜4で
あり;Mは無金属、金属、金属酸化物または金属ハロゲ
ン化物を表す。〕で示されることを特徴とする含フッ素
フタロシアニン化合物。 - 【請求項2】下記一般式(II): 【化5】 〔式中、Yは、 【化6】 【化7】 【化8】 (4)群 −O−Cm Hn ,(5)群 −S−C
m Hn ,(6)群 −O−(CH2 CH2 O) g B
または(7)群 −O−(CH2 CH2 CH2 O)
h G(式中、A,BおよびGは各々独立に炭素原子数1
〜8個のアルキル基を表し、Zは水素原子,炭素原子数
1〜4個のアルキル基,炭素原子数1〜4個のアルコキ
シル基またはフッ素原子を表し、DおよびEは炭素原子
数1〜4個のアルキル基を表し、g及びhは各々独立に
1〜5の整数であり、p,qおよびrは0〜2の整数で
あり、mは1〜12の整数であり、nはCm Hn なる直
鎖あるいは分岐したアルキル基又はシクロアルキル基を
飽和するのに必要な水素原子数である)を表し;i,
j,k,およびlは各々独立に1および2の整数であ
り;Mは無金属、金属、金属酸化物または金属ハロゲン
化物を表す。〕で示される含フッ素フタロシアニン化合
物と、下記一般式(III):XH (III)〔式
中、Xは: 【化9】 【化10】 【化11】 (4)群 −O−Cm Hn ,(5)群 −S−C
m Hn ,(6)群 −O−(CH2 CH2 O) g B
または(7)群 −O−(CH2 CH2 CH2 O)
h G(式中、A,BおよびGは各々独立に炭素原子数1
〜8個のアルキル基を表し、Zは水素原子,炭素原子数
1〜4個のアルキル基,炭素原子数1〜4個のアルコキ
シル基またはフッ素原子を表し、DおよびEは炭素原子
数1〜4個のアルキル基を表し、g及びhは各々独立に
1〜5の整数であり、p,qおよびrは0〜2の整数で
あり、mは1〜12の整数であり、nはCm Hn なる直
鎖あるいは分岐したアルキル基又はシクロアルキル基を
飽和するのに必要な水素原子数である)を表す。〕で示
されるアルコールもしくはチオールと反応せしめること
を特徴とする請求項1記載の含フッ素フタロシアニン化
合物の製造方法。 - 【請求項3】請求項1記載の含フッ素フタロシアニン化
合物を有し、650nm〜900nmの範囲に吸収を有
する近赤外線吸収材料。 - 【請求項4】請求項1記載の含フッ素フタロシアニン化
合物を記録層中に含有することを特徴とする光記録媒
体。 - 【請求項5】透明な樹脂性基板上に、近赤外線吸収剤を
含有する記録層および、金属の反射層がこの順に設けら
れたコンパクトディスク対応の追記型光記録媒体におい
て、該近赤外線吸収剤が下記一般式(IV) : 【化12】 〔式中、X1,X2,X3,X4 およびフッ素原子はベンゼン
核の3位あるいは6位に位置し、またY1,Y2,Y3,Y4,
W1,W2,W3,およびW4 は4位あるいは5位に位置し;
X1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3 およびY4 は各々独立に
下記(1),(2),(4),(6),(7)群の置換基、W1,
W2,W3 およびW4 は各々独立に下記(1),(2)群の
置換基 【化13】 【化14】 (4)群 −O−Cm Hn ,(6)群 −O−
(CH2 CH2 O) g B または(7)群 −O−
(CH2 CH2 CH2 O) h G(式中、A,BおよびG
は各々独立に炭素原子数1〜8個のアルキル基を表し、
Zは水素原子,炭素原子数1〜4個のアルキル基,炭素
原子数1〜4個のアルコキシル基またはフッ素原子を表
し、DおよびEは炭素原子数1〜4個のアルキル基を表
し、g及びhは各々独立に1〜5の整数であり、pおよ
びrは0〜2の整数であり、mは1〜12の整数であ
り、nはCm Hn なる直鎖あるいは分岐したアルキル基
又はシクロアルキル基を飽和するのに必要な水素原子数
である)から選ばれ;X1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3 お
よびY4 の中で少なくとも2個は(4), (6)または
(7)群の置換基から選ばれ;a,b,c,およびdは
各々独立に0〜2の整数であり、かつa,b,cおよび
dの総和は1〜4であり;Mは無金属、金属、金属酸化
物または金属ハロゲン化物を表す。〕で示される含フッ
素フタロシアニン化合物であることを特徴とする光記録
媒体。
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| JP01766993A JP3576182B2 (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | 新規含フッ素フタロシアニン化合物、その製造方法、それを含む近赤外線吸収材料およびそれらを含む光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
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