JPH06230325A - 光学部品の洗浄方法 - Google Patents
光学部品の洗浄方法Info
- Publication number
- JPH06230325A JPH06230325A JP3244493A JP3244493A JPH06230325A JP H06230325 A JPH06230325 A JP H06230325A JP 3244493 A JP3244493 A JP 3244493A JP 3244493 A JP3244493 A JP 3244493A JP H06230325 A JPH06230325 A JP H06230325A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical component
- pure water
- optical
- cleaning
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Eyeglasses (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 最終的な乾燥状態で、光学部品の表面にシミ
やヤケを残すことなく、純水による光学部品の洗浄が達
成でき、安定した製品の歩留りを確保できるようにした
光学部品の洗浄方法を提供する。 【構成】 ガラス光学部品を、所要温度に加温した純水
に浸漬し、その純水から引き上げる時の水切れの具合で
前記ガラス光学部品の表面の洗浄をなし、また、その表
面の乾燥を均一にするようにした光学部品の洗浄方法に
おいて、 ガラス光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／ｓ）
をＳ1 とし、その時のガラス光学部品の表面における純
水の表面張力（ｄｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、Ｓ1 ＝
５８１４／Ａ−８２±２で表わされる速度で、前記ガラ
ス光学部品の引き上げを行なうことを特徴とする。
やヤケを残すことなく、純水による光学部品の洗浄が達
成でき、安定した製品の歩留りを確保できるようにした
光学部品の洗浄方法を提供する。 【構成】 ガラス光学部品を、所要温度に加温した純水
に浸漬し、その純水から引き上げる時の水切れの具合で
前記ガラス光学部品の表面の洗浄をなし、また、その表
面の乾燥を均一にするようにした光学部品の洗浄方法に
おいて、 ガラス光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／ｓ）
をＳ1 とし、その時のガラス光学部品の表面における純
水の表面張力（ｄｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、Ｓ1 ＝
５８１４／Ａ−８２±２で表わされる速度で、前記ガラ
ス光学部品の引き上げを行なうことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主として、レンズ、ミ
ラー、プリズムなどの光学部品を洗浄するときに、その
光学部品の仕上り状態を、常に均一に保持できるように
工夫した光学部品の洗浄方法に関する。
ラー、プリズムなどの光学部品を洗浄するときに、その
光学部品の仕上り状態を、常に均一に保持できるように
工夫した光学部品の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光学部品の光学機能面の洗浄に
は、所要温度に加温したフロン蒸気あるいはアルコール
蒸気中に光学部品を浸漬し、加温状態で、このフロン蒸
気あるいはアルコール蒸気から前記光学部品を引き上げ
る時、その光学部品の光学機能面に付着した汚れなどを
洗い流している。
は、所要温度に加温したフロン蒸気あるいはアルコール
蒸気中に光学部品を浸漬し、加温状態で、このフロン蒸
気あるいはアルコール蒸気から前記光学部品を引き上げ
る時、その光学部品の光学機能面に付着した汚れなどを
洗い流している。
【０００３】しかし、フロンは、オゾンを破壊する物質
であり、地球を覆うオゾン層に悪影響があるため、環境
保護の観点から、今後の使用を禁止する方向が世界的に
示されている。また、アルコールを使用する場合には、
その引火性が問題となり、このため、消火装置などの安
全対策を施す必要から、費用がかかる上、使用上の管理
も厳密を要する。
であり、地球を覆うオゾン層に悪影響があるため、環境
保護の観点から、今後の使用を禁止する方向が世界的に
示されている。また、アルコールを使用する場合には、
その引火性が問題となり、このため、消火装置などの安
全対策を施す必要から、費用がかかる上、使用上の管理
も厳密を要する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、最近では、所
要温度に加温した純水中に光学部品を浸漬し、その引き
上げの時、表面の水分を少なくして引き上げることで、
乾燥させることが行なわれているが、この引き上げ速度
を適正にしないと、その後に、光学機能面などにシミや
ヤケを残すおそれがある。なお、ここで、［シミ］と
は、洗浄工程を終了した後、被洗浄物である光学部品の
表面に残る洗浄液残渣による表面の汚れであり、また、
［ヤケ］とは、被洗浄物の材質が、例えば、ガラスの場
合、水とガラス表面の化学反応により発生するくもりな
どを指している。このシミやヤケは、揮発性の低い液
体、例えば、水に被洗浄物を浸漬し、その後、引き上げ
た場合に多く発生し易い。また、ヤケは、水とガラスと
の接触が多い程、発生し易い。これは、光学部品を純水
から引き上げる時、かなりの水が光学部品の表面に付着
したまま、上昇され、それが、乾燥過程で、上述の悪影
響となるためであると考えられる。
要温度に加温した純水中に光学部品を浸漬し、その引き
上げの時、表面の水分を少なくして引き上げることで、
乾燥させることが行なわれているが、この引き上げ速度
を適正にしないと、その後に、光学機能面などにシミや
ヤケを残すおそれがある。なお、ここで、［シミ］と
は、洗浄工程を終了した後、被洗浄物である光学部品の
表面に残る洗浄液残渣による表面の汚れであり、また、
［ヤケ］とは、被洗浄物の材質が、例えば、ガラスの場
合、水とガラス表面の化学反応により発生するくもりな
どを指している。このシミやヤケは、揮発性の低い液
体、例えば、水に被洗浄物を浸漬し、その後、引き上げ
た場合に多く発生し易い。また、ヤケは、水とガラスと
の接触が多い程、発生し易い。これは、光学部品を純水
から引き上げる時、かなりの水が光学部品の表面に付着
したまま、上昇され、それが、乾燥過程で、上述の悪影
響となるためであると考えられる。
【０００５】しかしながら、これ迄は、引き上げに際し
ての水の付着の状態は、純水の温度や引き上げ速度に依
存していると思われていても、これらを経験的に把握し
ているだけなので、その設定が適確ではなく、不良品の
発生が避けられない。
ての水の付着の状態は、純水の温度や引き上げ速度に依
存していると思われていても、これらを経験的に把握し
ているだけなので、その設定が適確ではなく、不良品の
発生が避けられない。
【０００６】
【発明の目的】本発明は、上記事情に基いてなされたも
ので、最終的な乾燥状態で、光学部品の表面にシミやヤ
ケを残すことなく、純水による光学部品の洗浄が達成で
き、安定した製品の歩留りを確保できるようにした光学
部品の洗浄方法を提供しようとするものである。
ので、最終的な乾燥状態で、光学部品の表面にシミやヤ
ケを残すことなく、純水による光学部品の洗浄が達成で
き、安定した製品の歩留りを確保できるようにした光学
部品の洗浄方法を提供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明では、ガ
ラス光学部品を、所要温度に加温した純水に浸漬し、そ
の純水から引き上げる時の水切れの具合で前記ガラス光
学部品の表面の洗浄をなし、また、その表面の乾燥を均
一にするようにした光学部品の洗浄方法において、ガラ
ス光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／ｓ）をＳ1 とし、そ
の時のガラス光学部品の表面における純水の表面張力
（ｄｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、 Ｓ1 ＝５８１４／Ａ−８２±２ で表わされる速度で、前記ガラス光学部品の引き上げを
行なうのである。
ラス光学部品を、所要温度に加温した純水に浸漬し、そ
の純水から引き上げる時の水切れの具合で前記ガラス光
学部品の表面の洗浄をなし、また、その表面の乾燥を均
一にするようにした光学部品の洗浄方法において、ガラ
ス光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／ｓ）をＳ1 とし、そ
の時のガラス光学部品の表面における純水の表面張力
（ｄｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、 Ｓ1 ＝５８１４／Ａ−８２±２ で表わされる速度で、前記ガラス光学部品の引き上げを
行なうのである。
【０００８】また、本発明では、少なくとも、その光学
機能面がアルミで構成される光学部品を、所要温度に加
温した純水に浸漬し、その純水から引き上げる時の水切
れの具合で前記光学部品の光学機能面の洗浄をなし、そ
の光学機能面の乾燥を均一にするようにした光学部品の
洗浄方法において、光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／
ｓ）をＳ2 とし、その時の光学部品の表面における純水
の表面張力（ｄｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、 Ｓ2 ＝２７５８／Ａ−３６±２ で表わされる速度で、前記光学部品の引き上げを行なう
のである。
機能面がアルミで構成される光学部品を、所要温度に加
温した純水に浸漬し、その純水から引き上げる時の水切
れの具合で前記光学部品の光学機能面の洗浄をなし、そ
の光学機能面の乾燥を均一にするようにした光学部品の
洗浄方法において、光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／
ｓ）をＳ2 とし、その時の光学部品の表面における純水
の表面張力（ｄｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、 Ｓ2 ＝２７５８／Ａ−３６±２ で表わされる速度で、前記光学部品の引き上げを行なう
のである。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の洗浄方法の実施例を、図１お
よび図２を参照して、具体的に詳述する。なお、図にお
いて、符号１は、純水製造装置であり、この純水製造装
置１で製造された純水は、ヒーター２を経由するとき、
所望温度に加温され、補助槽３に一時的に蓄えられる。
そして、ポンプ４によって、フィルター５を介して純水
洗浄槽７に供給される。この純水洗浄槽７には、エレベ
ータ６によって、光学部品が浸漬され、また、所定の引
き上げ速度で、引き上げられ、以後の乾燥工程にもたら
される。また、純水洗浄槽７は、オーバーフローの作用
で、余剰の純水（これには、洗浄作用により、洗い流さ
れた塵埃などの汚れが浮遊しているが）をドレン８へと
導出する構成になっている。なお、この実施例では、エ
レベータ６によって純水洗浄槽７に搬送される光学部品
は、予め、洗浄剤槽９、純水槽１０、洗浄剤槽１１、純
水槽１２および１３を順次、経由して、その表面の化学
的な洗浄を終了している。
よび図２を参照して、具体的に詳述する。なお、図にお
いて、符号１は、純水製造装置であり、この純水製造装
置１で製造された純水は、ヒーター２を経由するとき、
所望温度に加温され、補助槽３に一時的に蓄えられる。
そして、ポンプ４によって、フィルター５を介して純水
洗浄槽７に供給される。この純水洗浄槽７には、エレベ
ータ６によって、光学部品が浸漬され、また、所定の引
き上げ速度で、引き上げられ、以後の乾燥工程にもたら
される。また、純水洗浄槽７は、オーバーフローの作用
で、余剰の純水（これには、洗浄作用により、洗い流さ
れた塵埃などの汚れが浮遊しているが）をドレン８へと
導出する構成になっている。なお、この実施例では、エ
レベータ６によって純水洗浄槽７に搬送される光学部品
は、予め、洗浄剤槽９、純水槽１０、洗浄剤槽１１、純
水槽１２および１３を順次、経由して、その表面の化学
的な洗浄を終了している。
【００１０】このような構成では、被洗浄物である光学
部品を、所要時間だけ、純水洗浄槽７に浸漬し、純水か
らの熱伝導で、その光学部品が所要温度まで加温された
段階で、以下に述べる引き上げ速度で、前記光学部品を
引き上げる時、純水の表面張力と、上記引き上げ速度と
の関係から、光学部品の表面が水に均一に濡れた状態
で、しかも、最低の付着水量で、光学部品の引き上げが
達成される。
部品を、所要時間だけ、純水洗浄槽７に浸漬し、純水か
らの熱伝導で、その光学部品が所要温度まで加温された
段階で、以下に述べる引き上げ速度で、前記光学部品を
引き上げる時、純水の表面張力と、上記引き上げ速度と
の関係から、光学部品の表面が水に均一に濡れた状態
で、しかも、最低の付着水量で、光学部品の引き上げが
達成される。
【００１１】本発明者によるこれまでの実験からは、次
のような結論が導かれている。すなわち、純水を用い
て、光学部品の洗浄を行なう場合、引き上げ時の被洗浄
物（光学部品）表面に対する水分の付着状態は、その後
の乾燥工程に大きく影響することが解っており、できる
だけ均一で、少ない付着状態を得ることが、シミ、ヤケ
の発生を回避する上で重要である。これには、光学部品
の引き上げ速度および純水の表面張力が、支配的要因と
して挙げられる。
のような結論が導かれている。すなわち、純水を用い
て、光学部品の洗浄を行なう場合、引き上げ時の被洗浄
物（光学部品）表面に対する水分の付着状態は、その後
の乾燥工程に大きく影響することが解っており、できる
だけ均一で、少ない付着状態を得ることが、シミ、ヤケ
の発生を回避する上で重要である。これには、光学部品
の引き上げ速度および純水の表面張力が、支配的要因と
して挙げられる。
【００１２】換言すれば、水分が塊となって光学部品の
表面に付着すると、引き上げ後、乾燥工程で、その個所
の水分の蒸発に時間が掛かり、ヤケの発生や塵埃の付着
が起こる。そのため、引き上げに際しては、光学部品の
表面に付着する水分の広がりが均一であることが必要
で、これには、純水の表面張力を配慮する必要がある。
一方、光学部品の引き上げは、洗浄工程の稼動効率に直
接影響するから、できるだけ、大きな速度で達成される
ことが望まれるが、前記表面張力による均一な水膜の確
保のためには、おのずと、引き上げ速度に制約を受ける
ことになる。
表面に付着すると、引き上げ後、乾燥工程で、その個所
の水分の蒸発に時間が掛かり、ヤケの発生や塵埃の付着
が起こる。そのため、引き上げに際しては、光学部品の
表面に付着する水分の広がりが均一であることが必要
で、これには、純水の表面張力を配慮する必要がある。
一方、光学部品の引き上げは、洗浄工程の稼動効率に直
接影響するから、できるだけ、大きな速度で達成される
ことが望まれるが、前記表面張力による均一な水膜の確
保のためには、おのずと、引き上げ速度に制約を受ける
ことになる。
【００１３】そこで、本発明者は、引き上げ速度が表面
張力に反比例すると仮定し、引き上げ速度Ｓについて、
次の実験式を立てた。 Ｓ＝Ｘ／Ａ＋Ｙ なお、上式で、Ａは純水の表面張力であり、Ｘ、Ｙは上
式を満足する係数および補正係数である。ここで、純水
の表面張力は、その純水の温度に対応して変化するの
で、先ず、対象の光学部品の最適引き上げ速度（引き上
げに際して、できるだけ薄く、かつ、均一な水膜を光学
部品の表面に確保するに足る最大引き上げ速度）と、洗
浄用の純水の温度との関係を実験によって求め、これか
ら、実験式の各係数を確定する必要がある。
張力に反比例すると仮定し、引き上げ速度Ｓについて、
次の実験式を立てた。 Ｓ＝Ｘ／Ａ＋Ｙ なお、上式で、Ａは純水の表面張力であり、Ｘ、Ｙは上
式を満足する係数および補正係数である。ここで、純水
の表面張力は、その純水の温度に対応して変化するの
で、先ず、対象の光学部品の最適引き上げ速度（引き上
げに際して、できるだけ薄く、かつ、均一な水膜を光学
部品の表面に確保するに足る最大引き上げ速度）と、洗
浄用の純水の温度との関係を実験によって求め、これか
ら、実験式の各係数を確定する必要がある。
【００１４】実験の結果、シミ、ヤケの発生しない条件
での最大引き上げ速度は、次の表のとおりである。な
お、光学部品としては、その表面がガラス（対象とし
て、レンズ、プリズムなどを想定）の場合と、アルミ
（対象として、ポリゴンミラーなどを想定）の場合とに
分けて、各最大引き上げ速度を求めている。
での最大引き上げ速度は、次の表のとおりである。な
お、光学部品としては、その表面がガラス（対象とし
て、レンズ、プリズムなどを想定）の場合と、アルミ
（対象として、ポリゴンミラーなどを想定）の場合とに
分けて、各最大引き上げ速度を求めている。
【００１５】
【表１】 今、表１から、カラスの場合については、６０℃の表面
張力６６．８４１、および、８０℃の表面張力 ６３．
２０９を、実験式に代入して、また、アルミの場合とに
ついては、４０℃の表面張力７０．２２４、および、６
０℃の表面張力６６．８４１を、実験式に代入して、各
係数を求めると、Ｘ1 ＝５８１４、Ｙ1＝−８２、Ｘ2
＝２７５８、Ｙ2 ＝ −３６が得られる。この場合、前
処理工程における洗浄性で、被洗浄物（光学部品）の表
面状態が相違する点を、実験結果から想定し、補正係数
の許容幅を±２mm/sと設定した。これにより、ガラス、
アルミの何れについても、最大引き上げ速度Ｓ1 および
Ｓ2 が下記の実験式で求められることになる。 Ｓ1 ＝５８１４／Ａ−８２±２ Ｓ2 ＝２７５８／Ａ−３６±２ なお、水の表面張力は、２０〜１００℃の範囲でγ＝ａ
−ｂｔ−ｃｔ2 の式で近似されることが知られている
（ただし、ｔ：液温度（℃）、ａ：７６．２４、ｂ：
０．１３７９、ｃ：３．１２４×１０-4で、Wilhelmy法
による）。また、上述の純水には、通常の水質のものが
用いられる。例えば、これは、比抵抗１０ＭΩ・ｃｍ以
上、純水中の０．２μｍ径の粒子数は１００個／ｍｌ以
下、そして、総有機炭素量１ｍｇ／ｌ以下である。
張力６６．８４１、および、８０℃の表面張力 ６３．
２０９を、実験式に代入して、また、アルミの場合とに
ついては、４０℃の表面張力７０．２２４、および、６
０℃の表面張力６６．８４１を、実験式に代入して、各
係数を求めると、Ｘ1 ＝５８１４、Ｙ1＝−８２、Ｘ2
＝２７５８、Ｙ2 ＝ −３６が得られる。この場合、前
処理工程における洗浄性で、被洗浄物（光学部品）の表
面状態が相違する点を、実験結果から想定し、補正係数
の許容幅を±２mm/sと設定した。これにより、ガラス、
アルミの何れについても、最大引き上げ速度Ｓ1 および
Ｓ2 が下記の実験式で求められることになる。 Ｓ1 ＝５８１４／Ａ−８２±２ Ｓ2 ＝２７５８／Ａ−３６±２ なお、水の表面張力は、２０〜１００℃の範囲でγ＝ａ
−ｂｔ−ｃｔ2 の式で近似されることが知られている
（ただし、ｔ：液温度（℃）、ａ：７６．２４、ｂ：
０．１３７９、ｃ：３．１２４×１０-4で、Wilhelmy法
による）。また、上述の純水には、通常の水質のものが
用いられる。例えば、これは、比抵抗１０ＭΩ・ｃｍ以
上、純水中の０．２μｍ径の粒子数は１００個／ｍｌ以
下、そして、総有機炭素量１ｍｇ／ｌ以下である。
【００１６】次に、本発明の洗浄方法が、上記実験式に
基く最大引き上げ速度で実施された場合の成果を、以下
の実施例で検証する。 実施例 １ 図２で示すような洗浄処理工程において、直径３０ｍ
ｍ、厚さ中心部５ｍｍ、端部１ｍｍの光学レンズ１０個
を、各槽に１分当て浸漬し、周波数２８ｋＨｚ、出力１
２００Ｗで、超音波洗浄を行なった後、図１に示すよう
な６０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、５ｍ
ｍ／ｓの引き上げ速度で、光学レンズを引き上げ、その
表面に、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。洗浄・乾
燥が終了した光学レンズを、１５０Ｗのライトの透過光
により目視して、この表面におけるシミ、ヤケなどの有
無について、評価を行ない、この結果を表２に示し、ま
た、光学レンズの表面にＭｇＦ2 膜を約２００ｎｍの厚
さでコーティングした後、６５℃の雰囲気内で、１００
０時間、耐久テストを行ない、その後、上述同様の目視
による評価を行ない、この結果を表３に示した。
基く最大引き上げ速度で実施された場合の成果を、以下
の実施例で検証する。 実施例 １ 図２で示すような洗浄処理工程において、直径３０ｍ
ｍ、厚さ中心部５ｍｍ、端部１ｍｍの光学レンズ１０個
を、各槽に１分当て浸漬し、周波数２８ｋＨｚ、出力１
２００Ｗで、超音波洗浄を行なった後、図１に示すよう
な６０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、５ｍ
ｍ／ｓの引き上げ速度で、光学レンズを引き上げ、その
表面に、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。洗浄・乾
燥が終了した光学レンズを、１５０Ｗのライトの透過光
により目視して、この表面におけるシミ、ヤケなどの有
無について、評価を行ない、この結果を表２に示し、ま
た、光学レンズの表面にＭｇＦ2 膜を約２００ｎｍの厚
さでコーティングした後、６５℃の雰囲気内で、１００
０時間、耐久テストを行ない、その後、上述同様の目視
による評価を行ない、この結果を表３に示した。
【００１７】実施例 ２ 実施例１と同様の方法で、直径１５０ｍｍ、厚さ中心部
２０ｍｍ、端部５ｍｍの光学レンズ１０個の洗浄・乾燥
を行なった。前述と同様な目視による評価の結果は、同
じく表２および３に示す。
２０ｍｍ、端部５ｍｍの光学レンズ１０個の洗浄・乾燥
を行なった。前述と同様な目視による評価の結果は、同
じく表２および３に示す。
【００１８】実施例 ３ 実施例１と同様の方法で、直径３００ｍｍ、厚さ中心部
５０ｍｍで、端部１０ｍｍの光学レンズ１０個の洗浄・
乾燥を行なった。前述と同様な目視による評価の結果
は、同じく表２および３に示す。
５０ｍｍで、端部１０ｍｍの光学レンズ１０個の洗浄・
乾燥を行なった。前述と同様な目視による評価の結果
は、同じく表２および３に示す。
【００１９】実施例 ４ 実施例１と同様の方法で、直径３００ｍｍ、厚さ中心部
５０ｍｍで、端部１０ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄
し、８０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、１
０ｍｍ／ｓの引き上げ速度で、光学レンズを引き上げ、
３分間、８０℃の温風を吹き付ける。その後、前述と同
様な目視による評価の結果は、同じく表２および３に示
す。
５０ｍｍで、端部１０ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄
し、８０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、１
０ｍｍ／ｓの引き上げ速度で、光学レンズを引き上げ、
３分間、８０℃の温風を吹き付ける。その後、前述と同
様な目視による評価の結果は、同じく表２および３に示
す。
【００２０】実施例 ５ 実施例１と同様の方法で、直径３０ｍｍ、厚さ中心部５
ｍｍ、端部１ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄し、８０℃
の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、１０ｍｍ／ｓ
の引き上げ速度で、光学レンズを引き上げ、３分間、８
０℃の温風を吹き付ける。その後、前述と同様な目視に
よる評価の結果は、同じく表２および３に示す。
ｍｍ、端部１ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄し、８０℃
の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、１０ｍｍ／ｓ
の引き上げ速度で、光学レンズを引き上げ、３分間、８
０℃の温風を吹き付ける。その後、前述と同様な目視に
よる評価の結果は、同じく表２および３に示す。
【００２１】実施例 ６ 図２で示すような洗浄処理工程において、直径３０ｍ
ｍ、厚さ５ｍｍの鏡面加工をした光学アルミ１０個を、
各槽に１分当て浸漬し、周波数２００ｋＨｚ、出力６０
０Ｗで、超音波洗浄を行なった後、図１に示すような４
０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、３ｍｍ／
ｓの引き上げ速度で、光学アルミを引き上げ、その表面
に、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。洗浄・乾燥が
終了した後、光学アルミの６００ｎｍ反射率を測定した
結果は、表４に示す通りである。
ｍ、厚さ５ｍｍの鏡面加工をした光学アルミ１０個を、
各槽に１分当て浸漬し、周波数２００ｋＨｚ、出力６０
０Ｗで、超音波洗浄を行なった後、図１に示すような４
０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、３ｍｍ／
ｓの引き上げ速度で、光学アルミを引き上げ、その表面
に、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。洗浄・乾燥が
終了した後、光学アルミの６００ｎｍ反射率を測定した
結果は、表４に示す通りである。
【００２２】実施例 ７ 実施例６と同様な方法で、直径３０ｍｍ、厚さ５ｍｍの
鏡面加工をした光学アルミ１０個を、図１に示すような
５０℃の純水洗浄槽で１分間浸漬し、その後、４ｍｍ／
ｓの引き上げ速度で、光学アルミを引き上げ、その表面
に対して、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。洗浄・
乾燥が終了した後、光学アルミの６００ｎｍ反射率を測
定した結果は、表４に示す通りである。
鏡面加工をした光学アルミ１０個を、図１に示すような
５０℃の純水洗浄槽で１分間浸漬し、その後、４ｍｍ／
ｓの引き上げ速度で、光学アルミを引き上げ、その表面
に対して、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。洗浄・
乾燥が終了した後、光学アルミの６００ｎｍ反射率を測
定した結果は、表４に示す通りである。
【００２３】実施例 ８ 実施例６と同様な方法で、直径３０ｍｍ、厚さ５ｍｍの
鏡面加工をした光学アルミ１０個を、図１に示すような
６０℃の純水洗浄槽で１分間浸漬し、その後、５ｍｍ／
ｓの引き上げ速度で、光学アルミを引き上げ、その表面
に対して、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。洗浄・
乾燥が終了した後、光学アルミの６００ｎｍ反射率を測
定した結果は、表４に示す通りである。
鏡面加工をした光学アルミ１０個を、図１に示すような
６０℃の純水洗浄槽で１分間浸漬し、その後、５ｍｍ／
ｓの引き上げ速度で、光学アルミを引き上げ、その表面
に対して、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。洗浄・
乾燥が終了した後、光学アルミの６００ｎｍ反射率を測
定した結果は、表４に示す通りである。
【００２４】本発明の洗浄方法の優位性を示すために、
本発明の技術範囲外に設定した実験比較例を、以下に示
す。 比較例 １ 実施例４と同様な方法で、直径３００ｍｍ、厚さ中心部
５０ｍｍで、端部１０ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄
し、８０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、２
０ｍｍ／ｓの引き上げ速度（この点が異なる）で、光学
レンズを引き上げて、３分間、８０℃の温風を吹き付け
る。その後、前述と同様な目視による評価の結果は、同
じく表２および３に示す。
本発明の技術範囲外に設定した実験比較例を、以下に示
す。 比較例 １ 実施例４と同様な方法で、直径３００ｍｍ、厚さ中心部
５０ｍｍで、端部１０ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄
し、８０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、２
０ｍｍ／ｓの引き上げ速度（この点が異なる）で、光学
レンズを引き上げて、３分間、８０℃の温風を吹き付け
る。その後、前述と同様な目視による評価の結果は、同
じく表２および３に示す。
【００２５】比較例 ２ 実施例３と同様な方法で、直径３００ｍｍ、厚さ中心部
５０ｍｍで、端部１０ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄
し、６０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、１
０ｍｍ／ｓの引き上げ速度（この点が異なる）で、光学
レンズを引き上げて、３分間、８０℃の温風を吹き付け
る。その後、前述と同様な目視による評価の結果は、同
じく表２および３に示す。
５０ｍｍで、端部１０ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄
し、６０℃の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、１
０ｍｍ／ｓの引き上げ速度（この点が異なる）で、光学
レンズを引き上げて、３分間、８０℃の温風を吹き付け
る。その後、前述と同様な目視による評価の結果は、同
じく表２および３に示す。
【００２６】比較例 ３ 実施例１と同様な方法で、直径３０ｍｍ、厚さ中心部５
ｍｍ、端部１ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄し、６０℃
の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、１０ｍｍ／ｓ
の引き上げ速度（この点が異なる）で、光学レンズを引
き上げて、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。その
後、前述と同様な目視による評価の結果は同じく表２お
よび３に示す。
ｍｍ、端部１ｍｍの光学レンズ１０個を洗浄し、６０℃
の純水洗浄槽で、１分間浸漬し、その後、１０ｍｍ／ｓ
の引き上げ速度（この点が異なる）で、光学レンズを引
き上げて、３分間、８０℃の温風を吹き付ける。その
後、前述と同様な目視による評価の結果は同じく表２お
よび３に示す。
【００２７】比較例 ４ 実施例７と同様な方法で、直径３０ｍｍ、厚さ５ｍｍの
鏡面加工をした光学アルミ１０個を、図１に示すような
５０℃の純水洗浄槽で１分間浸漬し、その後、７ｍｍ／
ｓの引き上げ速度（この点が異なる）で、光学アルミを
引き上げ、その表面に対して、３分間、８０℃の温風を
吹き付ける。洗浄・乾燥が終了した後、光学アルミの６
００ｎｍ反射率を測定した結果は、表４に示す通りであ
る。
鏡面加工をした光学アルミ１０個を、図１に示すような
５０℃の純水洗浄槽で１分間浸漬し、その後、７ｍｍ／
ｓの引き上げ速度（この点が異なる）で、光学アルミを
引き上げ、その表面に対して、３分間、８０℃の温風を
吹き付ける。洗浄・乾燥が終了した後、光学アルミの６
００ｎｍ反射率を測定した結果は、表４に示す通りであ
る。
【００２８】比較例 ５ 実施例８と同様な方法で、直径３０ｍｍ、厚さ５ｍｍの
鏡面加工をした光学アルミ１０個を、図１に示すような
６０℃の純水洗浄槽で１分間浸漬し、その後、８ｍｍ／
ｓの引き上げ速度（この点が異なる）で、光学アルミを
引き上げ、その表面に対して、３分間、８０℃の温風を
吹き付ける。洗浄・乾燥が終了した後、光学アルミの６
００ｎｍ反射率を測定した結果は、表４に示す通りであ
る。
鏡面加工をした光学アルミ１０個を、図１に示すような
６０℃の純水洗浄槽で１分間浸漬し、その後、８ｍｍ／
ｓの引き上げ速度（この点が異なる）で、光学アルミを
引き上げ、その表面に対して、３分間、８０℃の温風を
吹き付ける。洗浄・乾燥が終了した後、光学アルミの６
００ｎｍ反射率を測定した結果は、表４に示す通りであ
る。
【００２９】
【表２】
【００３０】
【表３】
【００３１】
【表４】
【００３２】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、ガラス
光学部品を、所要温度に加温した純水に浸漬し、その純
水から引き上げる時の水切れの具合で前記ガラス光学部
品の表面の洗浄をなし、また、その表面の乾燥を均一に
するようにした光学部品の洗浄方法において、ガラス光
学部品の引き上げ速度（ｍｍ／ｓ）をＳ1 とし、その時
のガラス光学部品の表面における純水の表面張力（ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、Ｓ1 ＝５８１４／Ａ−８２
±２で表わされる速度で、前記ガラス光学部品の引き上
げを行なうのである。
光学部品を、所要温度に加温した純水に浸漬し、その純
水から引き上げる時の水切れの具合で前記ガラス光学部
品の表面の洗浄をなし、また、その表面の乾燥を均一に
するようにした光学部品の洗浄方法において、ガラス光
学部品の引き上げ速度（ｍｍ／ｓ）をＳ1 とし、その時
のガラス光学部品の表面における純水の表面張力（ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、Ｓ1 ＝５８１４／Ａ−８２
±２で表わされる速度で、前記ガラス光学部品の引き上
げを行なうのである。
【００３３】また、本発明は、少なくとも、その光学機
能面がアルミで構成される光学部品を、所要温度に加温
した純水に浸漬し、その純水から引き上げる時の水切れ
の具合で前記光学部品の光学機能面の洗浄をなし、その
光学機能面の乾燥を均一にするようにした光学部品の洗
浄方法において、光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／ｓ）
をＳ2 とし、その時の光学部品の光学機能面における純
水表面張力（ｄｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、Ｓ2 ＝２
７５８／Ａ−３６±２で表わされる速度で、前記光学部
品の引き上げを行なうのである。
能面がアルミで構成される光学部品を、所要温度に加温
した純水に浸漬し、その純水から引き上げる時の水切れ
の具合で前記光学部品の光学機能面の洗浄をなし、その
光学機能面の乾燥を均一にするようにした光学部品の洗
浄方法において、光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／ｓ）
をＳ2 とし、その時の光学部品の光学機能面における純
水表面張力（ｄｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、Ｓ2 ＝２
７５８／Ａ−３６±２で表わされる速度で、前記光学部
品の引き上げを行なうのである。
【００３４】従って、最終的な乾燥状態で、光学部品の
表面にシミやヤケを残すことなく、純水による光学部品
の洗浄が達成でき、安定した製品の歩留りを確保できる
という効果が得られる。
表面にシミやヤケを残すことなく、純水による光学部品
の洗浄が達成でき、安定した製品の歩留りを確保できる
という効果が得られる。
【図１】本発明の実施例を示すための装置の概略構成図
である。
である。
【図２】本発明の洗浄方法での前段洗浄工程を示す概略
構成図である。
構成図である。
１ 純水製造装置 ２ ヒーター ３ 補助槽 ４ ポンプ ５ フィルター ６ エレベータ ７ 純水洗浄槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 進 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス光学部品を、所要温度に加温した
純水に浸漬し、その純水から引き上げる時の水切れの具
合で前記ガラス光学部品の表面の洗浄をなし、また、そ
の表面の乾燥を均一にするようにした光学部品の洗浄方
法において、ガラス光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／
ｓ）をＳ1 とし、その時のガラス光学部品の表面におけ
る純水の表面張力（ｄｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、 Ｓ1 ＝５８１４／Ａ−８２±２ で表わされる速度で、前記ガラス光学部品の引き上げを
行なうことを特徴とする光学部品の洗浄方法。 - 【請求項２】 少なくとも、その光学機能面がアルミで
構成される光学部品を、所要温度に加温した純水に浸漬
し、その純水から引き上げる時の水切れの具合で前記光
学部品の光学機能面の洗浄をなし、その光学機能面の乾
燥を均一にするようにした光学部品の洗浄方法におい
て、 光学部品の引き上げ速度（ｍｍ／ｓ）をＳ2 とし、その
時の光学部品の光学機能面における純水の表面張力（ｄ
ｙｎｅ／ｃｍ）をＡとする時、 Ｓ2 ＝２７５８／Ａ−３６±２ で表わされる速度で、前記光学部品の引き上げを行なう
ことを特徴とする光学部品の洗浄方法。 - 【請求項３】 純水の温度を４０〜１００℃の範囲とし
たことを特徴とする請求項１あるいは２に記載の光学部
品の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3244493A JPH06230325A (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | 光学部品の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3244493A JPH06230325A (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | 光学部品の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06230325A true JPH06230325A (ja) | 1994-08-19 |
Family
ID=12359140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3244493A Pending JPH06230325A (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | 光学部品の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06230325A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5868864A (en) * | 1995-11-27 | 1999-02-09 | Minolta Co., Ltd. | Washing method using pure water |
| US11998035B2 (en) | 2017-12-31 | 2024-06-04 | Evertron Holdings Pte Ltd | Moisture control apparatus and moisture control method |
| US12102108B2 (en) | 2017-08-03 | 2024-10-01 | Evertron Holdings Pte. Ltd. | Ingredient control method and ingredient control device |
| US12133546B2 (en) | 2017-12-31 | 2024-11-05 | Evertron Holdings Pte Ltd. | Moisture control apparatus, moisture control method, program, storage medium, produced object, product, apparatus, and facility |
-
1993
- 1993-01-29 JP JP3244493A patent/JPH06230325A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5868864A (en) * | 1995-11-27 | 1999-02-09 | Minolta Co., Ltd. | Washing method using pure water |
| US12102108B2 (en) | 2017-08-03 | 2024-10-01 | Evertron Holdings Pte. Ltd. | Ingredient control method and ingredient control device |
| US11998035B2 (en) | 2017-12-31 | 2024-06-04 | Evertron Holdings Pte Ltd | Moisture control apparatus and moisture control method |
| US12133546B2 (en) | 2017-12-31 | 2024-11-05 | Evertron Holdings Pte Ltd. | Moisture control apparatus, moisture control method, program, storage medium, produced object, product, apparatus, and facility |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6946035B2 (en) | Method of cleaning substrate | |
| US2383469A (en) | Method of cleaning and coating glass, plastics, and other surfaces | |
| US6391117B2 (en) | Method of washing substrate with UV radiation and ultrasonic cleaning | |
| JPH0132173B2 (ja) | ||
| CH639749A5 (fr) | Procede d'elimination d'eau d'une masse de matiere intumescente humide, masse ainsi formee et son utilisation dans un panneau coupe-feu. | |
| JP2001293442A (ja) | 光学素子の洗浄方法 | |
| JP3530639B2 (ja) | 精密洗浄方法 | |
| JP2756381B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| US2037716A (en) | Process for the graining and surfacing of metal photolithographic and offset press plates | |
| JP2610441B2 (ja) | ワークの乾燥方法 | |
| JPH07299426A (ja) | 精密洗浄方法および洗浄装置 | |
| JP7557967B2 (ja) | 偏光フィルムの製造方法 | |
| TW201318719A (zh) | 使用超音波震盪液體以清潔基板之方法 | |
| JPH10167761A (ja) | ガラス製品 | |
| US3406034A (en) | Treatment of a phosphor screen in a cathode ray tube | |
| JP3835768B2 (ja) | 精密光学素子の洗浄方法 | |
| JPH09208995A (ja) | 純水を用いた洗浄方法 | |
| JPH11305002A (ja) | レンズ洗浄方法及び装置 | |
| JP2000343049A (ja) | 洗浄装置および洗浄方法 | |
| JP3170058B2 (ja) | 半導体装置の製造方法およびそれに使用されるベーパ乾燥装置 | |
| JP2003075626A (ja) | カラーフィルタ基板の洗浄方法 | |
| JPS59129374A (ja) | 洗浄乾燥装置 | |
| JPH06216103A (ja) | セラミック等の加工物の洗浄方法 | |
| JPH08318232A (ja) | 洗浄方法 | |
| JPH0466174A (ja) | 洗浄後の水切り乾燥方法 |