JPH06230643A - 画像濃度制御装置 - Google Patents
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- JPH06230643A JPH06230643A JP5321067A JP32106793A JPH06230643A JP H06230643 A JPH06230643 A JP H06230643A JP 5321067 A JP5321067 A JP 5321067A JP 32106793 A JP32106793 A JP 32106793A JP H06230643 A JPH06230643 A JP H06230643A
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/50—Machine control of apparatus for electrographic processes using a charge pattern, e.g. regulating differents parts of the machine, multimode copiers, microprocessor control
- G03G15/5033—Machine control of apparatus for electrographic processes using a charge pattern, e.g. regulating differents parts of the machine, multimode copiers, microprocessor control by measuring the photoconductor characteristics, e.g. temperature, or the characteristics of an image on the photoconductor
- G03G15/5037—Machine control of apparatus for electrographic processes using a charge pattern, e.g. regulating differents parts of the machine, multimode copiers, microprocessor control by measuring the photoconductor characteristics, e.g. temperature, or the characteristics of an image on the photoconductor the characteristics being an electrical parameter, e.g. voltage
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 レ−ザビ−ム径の差異、正確には、レ−ザビ
−ム径の差異に起因して生ずる電位分布の差異による変
動を補償して、良好な階調表現を実現する。 【構成】 感光体表面をレ−ザビ−ムで露光して電位分
布を有する電荷潜像を形成する手段、該電位分布を検出
して記憶する手段、前記レ−ザビ−ムによる前記感光体
の基準の光減衰曲線LDCを参照して前記電位分布のピ
−ク電位に対応するピ−ク光量を求める手段、前記光減
衰曲線LDCを参照して前記ピ−ク光量の半値の光量に
対応する半値電位を求める手段、前記電位分布を参照し
て前記半値電位間の距離をビ−ム径とする手段、を有す
るビ−ム径検出装置。及び、該ビ−ム径検出装置により
検出されたビ−ム径に対応する階調補正デ−タのテ−ブ
ル群を選択し、AIDC時には、該選択したテ−ブル群
から、階調補正テ−ブルを選択する画像濃度制御装置。
−ム径の差異に起因して生ずる電位分布の差異による変
動を補償して、良好な階調表現を実現する。 【構成】 感光体表面をレ−ザビ−ムで露光して電位分
布を有する電荷潜像を形成する手段、該電位分布を検出
して記憶する手段、前記レ−ザビ−ムによる前記感光体
の基準の光減衰曲線LDCを参照して前記電位分布のピ
−ク電位に対応するピ−ク光量を求める手段、前記光減
衰曲線LDCを参照して前記ピ−ク光量の半値の光量に
対応する半値電位を求める手段、前記電位分布を参照し
て前記半値電位間の距離をビ−ム径とする手段、を有す
るビ−ム径検出装置。及び、該ビ−ム径検出装置により
検出されたビ−ム径に対応する階調補正デ−タのテ−ブ
ル群を選択し、AIDC時には、該選択したテ−ブル群
から、階調補正テ−ブルを選択する画像濃度制御装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レ−ザ−ビ−ム露光に
よる感光体上の電位分布を検出する装置と、その結果を
用いてAIDCを実行する画像濃度制御装置に関する。
よる感光体上の電位分布を検出する装置と、その結果を
用いてAIDCを実行する画像濃度制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】特開平3-271779号公報に於いて、本出願
人は、レ−ザダイオ−ドの交換によりレ−ザビ−ムのビ
−ム径が変更された場合に、変更後のビ−ム径に応じて
レ−ザの最大強度を変更したり、又は、変更後のビ−ム
径に応じてγテ−ブル(階調補正デ−タのテ−ブル)を
変更したりして、階調特性の変動を補償するようにした
画像形成方式を開示している。
人は、レ−ザダイオ−ドの交換によりレ−ザビ−ムのビ
−ム径が変更された場合に、変更後のビ−ム径に応じて
レ−ザの最大強度を変更したり、又は、変更後のビ−ム
径に応じてγテ−ブル(階調補正デ−タのテ−ブル)を
変更したりして、階調特性の変動を補償するようにした
画像形成方式を開示している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】レ−ザ光量を多段階に
変化させて階調表現を行う光強度変調方式では、副走査
方向yに、図1のような露光量分布を生ずる。なお、図
1に於いて、xは主走査方向、iは露光量である。
変化させて階調表現を行う光強度変調方式では、副走査
方向yに、図1のような露光量分布を生ずる。なお、図
1に於いて、xは主走査方向、iは露光量である。
【0004】いま、正規化された副走査方向の光量分布
をρa 、平均光量をiとすると、露光量分布ρ(i,
x,y)は、
をρa 、平均光量をiとすると、露光量分布ρ(i,
x,y)は、
【数1】ρ(i,x,y)=iρa (y) で与えられる。この計算結果を図2に示す。
【0005】また、上記光量分布iρa (y)での露光
によって感光体上に形成される電荷潜像の電位(減衰電
位)分布V(i,y)は、
によって感光体上に形成される電荷潜像の電位(減衰電
位)分布V(i,y)は、
【数2】V(i,y)=F(iρa (y)) =(VO −VR )exp(−iρa (y)/k)+VR で与えられる。この計算結果を図3に示す。ここに、V
O は帯電電位、VR は残留電位、kは感度定数である。
O は帯電電位、VR は残留電位、kは感度定数である。
【0006】光強度変調方式の階調表現では、副走査方
向yに上記の如き露光量分布を有しており、図4〜図7
に示す問題がある。図4は、平均光量iの値が低い場合
(画像濃度が低い場合)に於いて、レ−ザビ−ムのビ−
ム径が太い場合(図中左側)と細い場合(図中右側)の
各電荷潜像の電位分布と、該各電荷潜像を現像電位VB
で現像することにより感光体上に付着されるトナ−の量
との対応を示す図である。なお、トナ−付着量は、現像
電位VB と減衰電位(電荷潜像の電位)との差に比例す
る。図4より、平均光量iの低い領域では、ビ−ム径の
細い方が電位の谷が深いため、トナ−が付着し易いこと
がわかる。換言すれば、より低い平均光量iで、トナ−
の付着が始まることがわかる。
向yに上記の如き露光量分布を有しており、図4〜図7
に示す問題がある。図4は、平均光量iの値が低い場合
(画像濃度が低い場合)に於いて、レ−ザビ−ムのビ−
ム径が太い場合(図中左側)と細い場合(図中右側)の
各電荷潜像の電位分布と、該各電荷潜像を現像電位VB
で現像することにより感光体上に付着されるトナ−の量
との対応を示す図である。なお、トナ−付着量は、現像
電位VB と減衰電位(電荷潜像の電位)との差に比例す
る。図4より、平均光量iの低い領域では、ビ−ム径の
細い方が電位の谷が深いため、トナ−が付着し易いこと
がわかる。換言すれば、より低い平均光量iで、トナ−
の付着が始まることがわかる。
【0007】図5は、平均光量iの値が高い場合(画像
濃度が高い場合)に於いて、レ−ザビ−ムのビ−ム径が
太い場合(図中左側)と細い場合(図中右側)の各電荷
潜像の電位分布と、該各電荷潜像を現像電位VB で現像
することにより感光体上に付着されるトナ−の量との対
応を示す図である。図5より、平均光量iの高い領域で
は、ビ−ム径の太い方が電位の谷が現れ難いためトナ−
が均一に付着し易く、一方、ビ−ム径の細い場合には電
位の谷が現れ易いため、トナ−の付着量が全体として少
なくなることがわかる。
濃度が高い場合)に於いて、レ−ザビ−ムのビ−ム径が
太い場合(図中左側)と細い場合(図中右側)の各電荷
潜像の電位分布と、該各電荷潜像を現像電位VB で現像
することにより感光体上に付着されるトナ−の量との対
応を示す図である。図5より、平均光量iの高い領域で
は、ビ−ム径の太い方が電位の谷が現れ難いためトナ−
が均一に付着し易く、一方、ビ−ム径の細い場合には電
位の谷が現れ易いため、トナ−の付着量が全体として少
なくなることがわかる。
【0008】図4、図5等の特性を、図6に示す。図6
では、最大光量を或る所定値に設定された256段階の
光量レベルを横軸にとり、また、トナ−濃度(トナ−の
付着量)を縦軸にとって、ビ−ム径W1/2 を45μm〜
75μmまで5μm間隔で7段階に変えた場合の各特性
が示されている。図6より、ビ−ム径W1/2 が異なる
と、同一光量(同一平均光量i)に対するトナ−濃度の
異なる領域のあることがわかる。即ち、光量が低い領域
では、前記図4のように、ビ−ム径W1/2 の細い方が比
較的低光量でもトナ−の付着が生ずるため、トナ−濃度
が高くなる。これに対して、光量が高い領域では、前記
図5のように、ビ−ム径W1/2 の太い方がトナ−が全体
に一様に付着するため、トナ−濃度が高くなる。なお、
光量レベルが72付近の中間の領域では、トナ−濃度
は、ビ−ム径W1/2 にかかわらず、略同じである。
では、最大光量を或る所定値に設定された256段階の
光量レベルを横軸にとり、また、トナ−濃度(トナ−の
付着量)を縦軸にとって、ビ−ム径W1/2 を45μm〜
75μmまで5μm間隔で7段階に変えた場合の各特性
が示されている。図6より、ビ−ム径W1/2 が異なる
と、同一光量(同一平均光量i)に対するトナ−濃度の
異なる領域のあることがわかる。即ち、光量が低い領域
では、前記図4のように、ビ−ム径W1/2 の細い方が比
較的低光量でもトナ−の付着が生ずるため、トナ−濃度
が高くなる。これに対して、光量が高い領域では、前記
図5のように、ビ−ム径W1/2 の太い方がトナ−が全体
に一様に付着するため、トナ−濃度が高くなる。なお、
光量レベルが72付近の中間の領域では、トナ−濃度
は、ビ−ム径W1/2 にかかわらず、略同じである。
【0009】図7には、後述のAIDCによりトナ−付
着量の最大値を一定に制御した場合の、256段階の光
量レベルに対するトナ−濃度の特性が、図6同様に、ビ
−ム径W1/2 毎に示されている。図7より、光量(平均
光量i)の高い領域では、ビ−ム径W1/2 の差異による
トナ−濃度の差異はAIDCによって補償されるが、光
量の低い領域では、上記の差異が、より顕著になってい
ることがわかる。
着量の最大値を一定に制御した場合の、256段階の光
量レベルに対するトナ−濃度の特性が、図6同様に、ビ
−ム径W1/2 毎に示されている。図7より、光量(平均
光量i)の高い領域では、ビ−ム径W1/2 の差異による
トナ−濃度の差異はAIDCによって補償されるが、光
量の低い領域では、上記の差異が、より顕著になってい
ることがわかる。
【0010】このように、特に光強度変調方式では、ビ
−ム径W1/2 により階調特性が影響されるため、前記特
開平3-271779号公報のように階調特性の変動を補償する
技術が与えられているのであるが、図4及び図5での議
論より明らかなように、階調特性は、ビ−ム径W1/2 の
差異のみによって変動するのではなく、正確には、ビ−
ム径W1/2 の差異によって電荷潜像の電位分布に差異が
生ずるため、これによって変動している。
−ム径W1/2 により階調特性が影響されるため、前記特
開平3-271779号公報のように階調特性の変動を補償する
技術が与えられているのであるが、図4及び図5での議
論より明らかなように、階調特性は、ビ−ム径W1/2 の
差異のみによって変動するのではなく、正確には、ビ−
ム径W1/2 の差異によって電荷潜像の電位分布に差異が
生ずるため、これによって変動している。
【0011】したがって、ビ−ム径W1/2 が同じである
にもかかわらず、電荷潜像の電位分布に差異が生ずる場
合には、前記特開平3-271779号公報の方式では、対応で
きない。図21は、同図(a)の光量分布のレ−ザビ−
ムで感光体を露光したときに形成されるべき理想的な電
荷潜像の電位分布((b)の破線)と、現実に形成され
る電荷潜像の電位分布((b)の実線)の一例とを示
し、両者には明らかに差異がある。このような電位分布
の差異は、感光体の表面状態の差による露光光拡散や基
材の表面処理の差による電荷拡散の差などに起因して生
ずるものであるが、これらは、感光体の製造上のバラツ
キ、環境条件、感光体の劣化程度などによって個々に異
なるものである。したがって、前記ビ−ム径の差異によ
る階調補正のみでは、充分に対応できない。図19は、
同一ビ−ム径により形成された電位分布を示したもので
あり、上記の如く感光体の表面状態の差などによる拡散
が多い場合は、(a)のように分布の山と谷の電位差
(ΔVs)が小さくなり、拡散が少ない場合は、(b)
のように電位差(ΔVs)が大きくなる。したがって、
前記ビ−ム径の差による階調変動と同様に、図20のよ
うな電位分布の山と谷の電位差(ΔVs)による階調変
動が生じる。つまり、最大濃度を一定にした場合、電位
差(ΔVs)が大きい場合は低濃度部が早めに立ち上が
り、電位差(ΔVs)が小さい場合は立ち上がりが遅れ
るものである。
にもかかわらず、電荷潜像の電位分布に差異が生ずる場
合には、前記特開平3-271779号公報の方式では、対応で
きない。図21は、同図(a)の光量分布のレ−ザビ−
ムで感光体を露光したときに形成されるべき理想的な電
荷潜像の電位分布((b)の破線)と、現実に形成され
る電荷潜像の電位分布((b)の実線)の一例とを示
し、両者には明らかに差異がある。このような電位分布
の差異は、感光体の表面状態の差による露光光拡散や基
材の表面処理の差による電荷拡散の差などに起因して生
ずるものであるが、これらは、感光体の製造上のバラツ
キ、環境条件、感光体の劣化程度などによって個々に異
なるものである。したがって、前記ビ−ム径の差異によ
る階調補正のみでは、充分に対応できない。図19は、
同一ビ−ム径により形成された電位分布を示したもので
あり、上記の如く感光体の表面状態の差などによる拡散
が多い場合は、(a)のように分布の山と谷の電位差
(ΔVs)が小さくなり、拡散が少ない場合は、(b)
のように電位差(ΔVs)が大きくなる。したがって、
前記ビ−ム径の差による階調変動と同様に、図20のよ
うな電位分布の山と谷の電位差(ΔVs)による階調変
動が生じる。つまり、最大濃度を一定にした場合、電位
差(ΔVs)が大きい場合は低濃度部が早めに立ち上が
り、電位差(ΔVs)が小さい場合は立ち上がりが遅れ
るものである。
【0012】本発明は上記の事情に鑑みたものであり、
ビ−ム径や、感光体での光,電荷拡散の差異により生ず
る電位分布の差異による階調変動を補償して、良好な階
調表現を実現することを目的とする。
ビ−ム径や、感光体での光,電荷拡散の差異により生ず
る電位分布の差異による階調変動を補償して、良好な階
調表現を実現することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明のビ−ム径検出装
置は、一様に帯電された感光体の表面をレ−ザビ−ムで
露光走査して電位分布を有する電荷潜像を形成する手段
と、前記電荷潜像の電位分布を検出する手段と、前記電
位分布を記憶する手段と、前記電位分布の電位差ギャッ
プ(max−min電位差)を算出する手段を有する装
置である。
置は、一様に帯電された感光体の表面をレ−ザビ−ムで
露光走査して電位分布を有する電荷潜像を形成する手段
と、前記電荷潜像の電位分布を検出する手段と、前記電
位分布を記憶する手段と、前記電位分布の電位差ギャッ
プ(max−min電位差)を算出する手段を有する装
置である。
【0014】本発明の画像濃度制御装置は、所定のグリ
ッド電位に制御した帯電チャ−ジャにより一様の電位に
帯電させた感光体の表面に、所定の光量のレ−ザビ−ム
で基準の電荷潜像を形成し、これを、所定の現像電位に
制御した現像器でトナ−現像して、この基準のトナ−像
の濃度を検出し、本番の画像形成時に於いて、前記基準
のトナ−像の濃度に応じて前記グリッド電位と前記現像
電位とを制御することにより、画像の濃度を最適に制御
する画像濃度制御装置に於いて;電位分布検出手段と、
階調補正デ−タを複数の電位分布に各々対応して且つ前
記基準のトナ−像の濃度に各々対応して記憶している記
憶手段と、前記電位分布検出手段により検出された電位
分布(電位差(ギャップ))に対応する階調補正デ−タ
群を選択する第1選択手段と、前記第1選択手段により
選択された前記デ−タ群から前記基準のトナ−像の濃度
に対応するデ−タを選択する第2選択手段と、を有する
装置である。
ッド電位に制御した帯電チャ−ジャにより一様の電位に
帯電させた感光体の表面に、所定の光量のレ−ザビ−ム
で基準の電荷潜像を形成し、これを、所定の現像電位に
制御した現像器でトナ−現像して、この基準のトナ−像
の濃度を検出し、本番の画像形成時に於いて、前記基準
のトナ−像の濃度に応じて前記グリッド電位と前記現像
電位とを制御することにより、画像の濃度を最適に制御
する画像濃度制御装置に於いて;電位分布検出手段と、
階調補正デ−タを複数の電位分布に各々対応して且つ前
記基準のトナ−像の濃度に各々対応して記憶している記
憶手段と、前記電位分布検出手段により検出された電位
分布(電位差(ギャップ))に対応する階調補正デ−タ
群を選択する第1選択手段と、前記第1選択手段により
選択された前記デ−タ群から前記基準のトナ−像の濃度
に対応するデ−タを選択する第2選択手段と、を有する
装置である。
【0015】
【作用】電位分布検出装置では、レ−ザ−ビ−ムにより
感光体上に形成された電荷潜像の電位分布が検出されて
記憶される。次に、記憶された電位分布より、max値
(谷)とmin値(山)の電位差:ΔVsを算出する。
感光体上に形成された電荷潜像の電位分布が検出されて
記憶される。次に、記憶された電位分布より、max値
(谷)とmin値(山)の電位差:ΔVsを算出する。
【0016】画像濃度制御装置では、電位分布検出装置
により検出された電位差:ΔVsに対応する階調補正デ
−タ群が、第1選択手段により選択される。次に、AI
DCによる基準のトナ−像の濃度が検出され、該濃度に
対応する階調補正デ−タが、上記第1選択手段によって
選択された上記デ−タ群の中から、第2選択手段によっ
て選択される。
により検出された電位差:ΔVsに対応する階調補正デ
−タ群が、第1選択手段により選択される。次に、AI
DCによる基準のトナ−像の濃度が検出され、該濃度に
対応する階調補正デ−タが、上記第1選択手段によって
選択された上記デ−タ群の中から、第2選択手段によっ
て選択される。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を、 〔1〕デジタルカラ−複写機の機構 〔2〕複写機の制御回路及び画像信号処理 〔3〕潜像電位分布の検出及び画像濃度制御 の順に説明する。
【0018】〔1〕デジタルカラ−複写機の機構 まず、図22、図8に即して、実施例のデジタルカラ−
複写機の概要を説明する。次に、図9、図10に即し
て、この複写機の感光体41の近傍に設けられている微小
電位センサ44を説明する。
複写機の概要を説明する。次に、図9、図10に即し
て、この複写機の感光体41の近傍に設けられている微小
電位センサ44を説明する。
【0019】[1-1] 複写機の概要 この複写機は、画像読取部(イメ−ジリ−ダ部)10と、
画像記録部(プリンタ部)50とから成る。画像読取部10
では、原稿画像が読み取られて電気信号が生成され、該
電気信号に基づいてレ−ザダイオ−ド駆動用の画像デ−
タが生成される。
画像記録部(プリンタ部)50とから成る。画像読取部10
では、原稿画像が読み取られて電気信号が生成され、該
電気信号に基づいてレ−ザダイオ−ド駆動用の画像デ−
タが生成される。
【0020】まず、原稿台ガラス15上に画像面を下向き
に載置される原稿が、パルスモ−タ11の駆動力で移動さ
れるスキャナ13によって露光走査される。これにより、
画像反射光は、スキャナ13に搭載されたイメ−ジセンサ
(CCD)14で、原稿画像の濃度に対応する電気信号に
光電変換される。次に、この電気信号は、画像信号処理
部20に入力されて所定の処理を施され、レ−ザダイオ−
ド駆動用の画像デ−タとされる。この画像信号処理につ
いては後述する。次に、この画像デ−タは、プリントヘ
ッド制御部31へ送られる。
に載置される原稿が、パルスモ−タ11の駆動力で移動さ
れるスキャナ13によって露光走査される。これにより、
画像反射光は、スキャナ13に搭載されたイメ−ジセンサ
(CCD)14で、原稿画像の濃度に対応する電気信号に
光電変換される。次に、この電気信号は、画像信号処理
部20に入力されて所定の処理を施され、レ−ザダイオ−
ド駆動用の画像デ−タとされる。この画像信号処理につ
いては後述する。次に、この画像デ−タは、プリントヘ
ッド制御部31へ送られる。
【0021】画像記録部50では、レ−ザ光L によって感
光体ドラム41の表面に書き込まれる静電潜像が、対応す
る色のトナ−(シアンC、マゼンタM、イエロ−Y、ブ
ラックBk)で各々現像され、これが、転写ドラム51に
巻付けられている用紙上に順次重ねて転写された後、定
着装置62により熱圧着されて定着される。
光体ドラム41の表面に書き込まれる静電潜像が、対応す
る色のトナ−(シアンC、マゼンタM、イエロ−Y、ブ
ラックBk)で各々現像され、これが、転写ドラム51に
巻付けられている用紙上に順次重ねて転写された後、定
着装置62により熱圧着されて定着される。
【0022】まず、前記画像デ−タの取り込まれたプリ
ントヘッド制御部31により制御されるレ−ザ装置32か
ら、前記画像デ−タで変調されるレ−ザ光L が出力され
る。このレ−ザ光L は、定速回転されている感光体ドラ
ム41の表面に入射され、その表面を軸方向に走査(主走
査)する。こうして、感光体ドラム41の表面には、前記
画像デ−タに対応する静電潜像が形成される。なお、感
光体ドラム41は、レ−ザ光L の入射位置の上流側で、帯
電チャ−ジャ43により一様に帯電されている。この帯電
電位VO は、帯電チャ−ジャ43のグリッド電位VG によ
って制御されるものであるが、詳細については後述す
る。
ントヘッド制御部31により制御されるレ−ザ装置32か
ら、前記画像デ−タで変調されるレ−ザ光L が出力され
る。このレ−ザ光L は、定速回転されている感光体ドラ
ム41の表面に入射され、その表面を軸方向に走査(主走
査)する。こうして、感光体ドラム41の表面には、前記
画像デ−タに対応する静電潜像が形成される。なお、感
光体ドラム41は、レ−ザ光L の入射位置の上流側で、帯
電チャ−ジャ43により一様に帯電されている。この帯電
電位VO は、帯電チャ−ジャ43のグリッド電位VG によ
って制御されるものであるが、詳細については後述す
る。
【0023】感光体ドラム41に形成された静電潜像は、
次に、現像器ユニット45に設けられている4つの現像器
(シアントナ−用の現像器45C 、マゼンタトナ−用の現
像器45M 、イエロ−トナ−用の現像器45Y 、ブラックト
ナ−用の現像器45K )の何れかにより現像されて可視化
される。現像器の選択は、プリンタ制御部201(図24参
照)から指令される。また、選択された現像器(現像器
45r;図8)を現像位置に設定するための現像器ユニット
45の上下方向の移動は、複写機制御部231(図24参照)
により制御される現像ユニットモ−タ71の駆動力で行わ
れる。なお、現像位置の上流側には微小電位センサ44が
設けられており、また、下流側にはAIDCセンサ210
が設けられている。これらについては後述する。
次に、現像器ユニット45に設けられている4つの現像器
(シアントナ−用の現像器45C 、マゼンタトナ−用の現
像器45M 、イエロ−トナ−用の現像器45Y 、ブラックト
ナ−用の現像器45K )の何れかにより現像されて可視化
される。現像器の選択は、プリンタ制御部201(図24参
照)から指令される。また、選択された現像器(現像器
45r;図8)を現像位置に設定するための現像器ユニット
45の上下方向の移動は、複写機制御部231(図24参照)
により制御される現像ユニットモ−タ71の駆動力で行わ
れる。なお、現像位置の上流側には微小電位センサ44が
設けられており、また、下流側にはAIDCセンサ210
が設けられている。これらについては後述する。
【0024】現像されて可視化されたトナ−像は、次
に、転写ドラム51に巻付けられている用紙上に、転写チ
ャ−ジャ57の吸引力で転写される。ここに、用紙は、用
紙トレイ52〜54の何れか、又は、中間トレイ64から引き
出されて、搬送ロ−ラ群によってタイミングロ−ラ対55
まで搬送された後、所定のタイミングで転写ドラム51に
巻付けられている。なお、56は用紙吸着用の吸着チャ−
ジャ、58,59 は用紙分離用の除電チャ−ジャ、60は用紙
分離用の分離爪である。また、感光体ドラム41及び転写
ドラム51は、ドラム駆動モ−タ72により同期して駆動さ
れる。
に、転写ドラム51に巻付けられている用紙上に、転写チ
ャ−ジャ57の吸引力で転写される。ここに、用紙は、用
紙トレイ52〜54の何れか、又は、中間トレイ64から引き
出されて、搬送ロ−ラ群によってタイミングロ−ラ対55
まで搬送された後、所定のタイミングで転写ドラム51に
巻付けられている。なお、56は用紙吸着用の吸着チャ−
ジャ、58,59 は用紙分離用の除電チャ−ジャ、60は用紙
分離用の分離爪である。また、感光体ドラム41及び転写
ドラム51は、ドラム駆動モ−タ72により同期して駆動さ
れる。
【0025】こうして最大4色(フルカラ−時)のトナ
−像を転写された用紙は、次に、転写ドラム51から剥が
されて、搬送ベルト61により定着装置62へ搬送され、該
定着装置62で熱圧着による画像定着処理を施された後、
機外の排紙トレイ63へ排出され、又は、中間トレイ64へ
収納される。なお、中間トレイ64への収納前に反転装置
65によりスイッチバックされた場合は、次回の画像は裏
面側に形成される。また、搬送ロ−ラ群、搬送ベルト61
等は、メインモ−タ73により駆動される。
−像を転写された用紙は、次に、転写ドラム51から剥が
されて、搬送ベルト61により定着装置62へ搬送され、該
定着装置62で熱圧着による画像定着処理を施された後、
機外の排紙トレイ63へ排出され、又は、中間トレイ64へ
収納される。なお、中間トレイ64への収納前に反転装置
65によりスイッチバックされた場合は、次回の画像は裏
面側に形成される。また、搬送ロ−ラ群、搬送ベルト61
等は、メインモ−タ73により駆動される。
【0026】[1-2] 微小電位センサ44 前述のように、現像位置(選択された現像器45r の位
置;図8参照)の上流側且つ露光位置の下流側には、感
光体ドラム41の表面の微小領域の電位を検出するための
微小電位センサ44が設けられている。この微小電位セン
サ44は、静電気学会誌10.4(1986)217−2
24及び12.3(1988)210−215に記載さ
れているように、径の小さな測定電極と、その周囲を覆
う径の小さな絶縁層と、その周囲に設けられたガ−ド電
極とから構成されている。
置;図8参照)の上流側且つ露光位置の下流側には、感
光体ドラム41の表面の微小領域の電位を検出するための
微小電位センサ44が設けられている。この微小電位セン
サ44は、静電気学会誌10.4(1986)217−2
24及び12.3(1988)210−215に記載さ
れているように、径の小さな測定電極と、その周囲を覆
う径の小さな絶縁層と、その周囲に設けられたガ−ド電
極とから構成されている。
【0027】この微小電位センサ44は、図9の等価回路
に示すように、電位Vs に帯電されている試料(感光体
ドラム41)の表面に測定電極を近接させ、静電容量Ca
の静電誘導により誘起される電荷を測定用コンデンサC
i で電圧に変換して、入力インピ−ダンスの大きな増幅
器で増幅するものである。
に示すように、電位Vs に帯電されている試料(感光体
ドラム41)の表面に測定電極を近接させ、静電容量Ca
の静電誘導により誘起される電荷を測定用コンデンサC
i で電圧に変換して、入力インピ−ダンスの大きな増幅
器で増幅するものである。
【0028】図9に於いて、充放電用抵抗Ri が十分大
きければ、電位Vp は、
きければ、電位Vp は、
【数3】Ci Vp =Ca (Vp −Vs ) より、
【数4】Vp =(Ca /(Ca −Ci ))Vs として求められる。
【0029】〔2〕複写機の制御回路及び画像信号処理 次に、図23〜図26に即して、上記複写機の制御回路
と画像信号処理について説明する。図23は画像読取部
10を、図24は画像記録部50を、図25は画像信号の処
理過程を、図26は画像記録部50の要部を、各々示す。
と画像信号処理について説明する。図23は画像読取部
10を、図24は画像記録部50を、図25は画像信号の処
理過程を、図26は画像記録部50の要部を、各々示す。
【0030】画像読取部10は、図23のイメ−ジリ−ダ
制御部101 によって制御される。即ち、イメ−ジリ−ダ
制御部101 は、ドライブI/O103 を介して前記スキャ
ナ13に搭載された露光ランプ12の点灯/消灯を制御する
とともに、ドライブI/O103 とパラレルI/O104 を
介して前記パルスモ−タ11駆動用のスキャンモ−タドラ
イバ105 を制御する。また、イメ−ジリ−ダ制御部101
には、前記スキャナ13を所定位置で検出する位置検出ス
イッチ102 からの検出信号がドライブI/O103 を介し
て入力される。
制御部101 によって制御される。即ち、イメ−ジリ−ダ
制御部101 は、ドライブI/O103 を介して前記スキャ
ナ13に搭載された露光ランプ12の点灯/消灯を制御する
とともに、ドライブI/O103 とパラレルI/O104 を
介して前記パルスモ−タ11駆動用のスキャンモ−タドラ
イバ105 を制御する。また、イメ−ジリ−ダ制御部101
には、前記スキャナ13を所定位置で検出する位置検出ス
イッチ102 からの検出信号がドライブI/O103 を介し
て入力される。
【0031】また、イメ−ジリ−ダ制御部101 は、画像
制御部106 に接続されている。この画像制御部106 は、
前記スキャナ13に搭載された前記CCD14と、前記画像
信号処理部20とに接続されて、図25の如く前記画像信
号処理部20での画像信号の処理過程を制御している。即
ち、CCD14から出力される画像信号は、まず、A/D
21にてRGBの多値画像デ−タに変換される。次に、シ
ェ−ディング補正回路22にてシェ−ディング補正された
後、log変換回路23にて画像の濃度デ−タに変換され
る。次に、アンダ−カラ−リム−ブ・黒加刷回路24にて
余分な黒の発色を除去されるとともに真の黒デ−タをR
GBデ−タから生成される。次に、マスキング処理回路
25にて順次Y・M・C・Bkにマスキング処理された
後、濃度補正回路26にて所定の係数を乗ずる補正処理を
施される。その後、空間周波数補正回路27での補正処理
を施されて、図24のプリンタ制御部201 へ送られる。
制御部106 に接続されている。この画像制御部106 は、
前記スキャナ13に搭載された前記CCD14と、前記画像
信号処理部20とに接続されて、図25の如く前記画像信
号処理部20での画像信号の処理過程を制御している。即
ち、CCD14から出力される画像信号は、まず、A/D
21にてRGBの多値画像デ−タに変換される。次に、シ
ェ−ディング補正回路22にてシェ−ディング補正された
後、log変換回路23にて画像の濃度デ−タに変換され
る。次に、アンダ−カラ−リム−ブ・黒加刷回路24にて
余分な黒の発色を除去されるとともに真の黒デ−タをR
GBデ−タから生成される。次に、マスキング処理回路
25にて順次Y・M・C・Bkにマスキング処理された
後、濃度補正回路26にて所定の係数を乗ずる補正処理を
施される。その後、空間周波数補正回路27での補正処理
を施されて、図24のプリンタ制御部201 へ送られる。
【0032】画像記録部50は、図24のプリンタ制御部
201 により制御される。このプリンタ制御部201 のCP
Uでは、制御ROM202 内に格納されているプログラム
にしたがって、図27〜図31の各処理(後述)が実行
される。このためプリンタ制御部201 には、微小電位セ
ンサ44、AIDCセンサ210 等のセンサからの検出信
号、操作パネル221 からのキ−操作信号が入力される。
また、デ−タROM203 には、階調補正デ−タのγテ−
ブル、後述の各表等が格納されており、後述の各処理に
於いて参照若しくは選択される。
201 により制御される。このプリンタ制御部201 のCP
Uでは、制御ROM202 内に格納されているプログラム
にしたがって、図27〜図31の各処理(後述)が実行
される。このためプリンタ制御部201 には、微小電位セ
ンサ44、AIDCセンサ210 等のセンサからの検出信
号、操作パネル221 からのキ−操作信号が入力される。
また、デ−タROM203 には、階調補正デ−タのγテ−
ブル、後述の各表等が格納されており、後述の各処理に
於いて参照若しくは選択される。
【0033】また、プリンタ制御部201 からは、パラレ
ルI/O241 とドライブI/O242を介して、帯電チャ
−ジャ43のグリッド電位VG を発生するためのVG 発生
ユニット243 に対する制御信号が出力されるとともに、
現像位置に設定された現像器45r の現像電位VB を発生
するためのVB 発生ユニット244 に対する制御信号が出
力される。また、パラレルI/O262 とドライブI/O
261 を介して、前記レ−ザ装置32内の半導体レ−ザ264
を駆動するための半導体レ−ザドライバ263 に対する制
御信号が出力される。なお、階調表現は、半導体レ−ザ
264 の発光強度の変調によって行われる。また、表示パ
ネル232 に対する制御信号が出力されるとともに、複写
制御部231 との間で複写動作制御用の通信が行われる。
ルI/O241 とドライブI/O242を介して、帯電チャ
−ジャ43のグリッド電位VG を発生するためのVG 発生
ユニット243 に対する制御信号が出力されるとともに、
現像位置に設定された現像器45r の現像電位VB を発生
するためのVB 発生ユニット244 に対する制御信号が出
力される。また、パラレルI/O262 とドライブI/O
261 を介して、前記レ−ザ装置32内の半導体レ−ザ264
を駆動するための半導体レ−ザドライバ263 に対する制
御信号が出力される。なお、階調表現は、半導体レ−ザ
264 の発光強度の変調によって行われる。また、表示パ
ネル232 に対する制御信号が出力されるとともに、複写
制御部231 との間で複写動作制御用の通信が行われる。
【0034】図26は、プリンタ制御部201 に於ける画
像デ−タ処理を示す。前記画像信号処理部20からの8ビ
ットの画像デ−タは、まず、インタ−フェ−ス251 を介
して、ファ−ストイン・ファ−ストアウト(FIFO)
メモリ252 に入力される。FIFOメモリ252 は、主走
査方向の所定の行数分の画像の階調デ−タを記憶できる
ラインバッファメモリであり、画像読取部10と画像記録
部50との動作クロック周波数の相違を吸収するために設
けられている。
像デ−タ処理を示す。前記画像信号処理部20からの8ビ
ットの画像デ−タは、まず、インタ−フェ−ス251 を介
して、ファ−ストイン・ファ−ストアウト(FIFO)
メモリ252 に入力される。FIFOメモリ252 は、主走
査方向の所定の行数分の画像の階調デ−タを記憶できる
ラインバッファメモリであり、画像読取部10と画像記録
部50との動作クロック周波数の相違を吸収するために設
けられている。
【0035】FIFOメモリ252 からの画像デ−タは、
γ補正部253 に入力される。γ補正部253 では、ビ−ム
径算出処理(図30)とAIDC動作処理(図31・何
れも後述)とにより選択されたγ補正デ−タが取り込ま
れ、このγ補正デ−タを参照して入力デ−タに対するγ
補正が行われて、D/A254 へ送られる。
γ補正部253 に入力される。γ補正部253 では、ビ−ム
径算出処理(図30)とAIDC動作処理(図31・何
れも後述)とにより選択されたγ補正デ−タが取り込ま
れ、このγ補正デ−タを参照して入力デ−タに対するγ
補正が行われて、D/A254 へ送られる。
【0036】D/A254 から出力されるアナログ電圧信
号は、次に、CPUからのゲイン設定値に対応してゲイ
ン切換信号発生回路256 から送信される切換信号により
切り換えられるスイッチSW1 〜SW8(パワ−P1〜P8に対
応) で設定されるゲインで増幅されて、ドライブI/O
261 を介して半導体レ−ザドライバ263 へ送られる。こ
れにより半導体レ−ザ264 が、対応する強度で発光され
る。また、上記半導体レ−ザドライバ263 には、クロッ
ク切換回路257 によって切り換えられるクロック1、又
は、クロック2が、パラレルI/O262 を介して入力さ
れる。
号は、次に、CPUからのゲイン設定値に対応してゲイ
ン切換信号発生回路256 から送信される切換信号により
切り換えられるスイッチSW1 〜SW8(パワ−P1〜P8に対
応) で設定されるゲインで増幅されて、ドライブI/O
261 を介して半導体レ−ザドライバ263 へ送られる。こ
れにより半導体レ−ザ264 が、対応する強度で発光され
る。また、上記半導体レ−ザドライバ263 には、クロッ
ク切換回路257 によって切り換えられるクロック1、又
は、クロック2が、パラレルI/O262 を介して入力さ
れる。
【0037】〔3〕潜像電位分布の検出及び画像濃度制
御 次に、図27〜図31に即して、プリンタ制御部201 で
の処理を説明する。図27はプリンタ制御部201 での処
理のメインル−チン、図28は図27のVG 補正処理、
図29は図27の光量補正処理、図30は図27のビ−
ム径算出処理、図31は図27のAIDC動作処理を示
す。
御 次に、図27〜図31に即して、プリンタ制御部201 で
の処理を説明する。図27はプリンタ制御部201 での処
理のメインル−チン、図28は図27のVG 補正処理、
図29は図27の光量補正処理、図30は図27のビ−
ム径算出処理、図31は図27のAIDC動作処理を示
す。
【0038】[3-1] メインル−チン プリンタ制御部201 のCPUでは、例えば、電源のオン
によって処理がスタ−トされ、まず、初期設定処理(S1
1) が行われる。また、初期設定処理が完了すると、操
作パネル上のプリントスイッチのオンが待機される。ま
た、プリントスイッチがオンされると(S13;YES) 、下記
の処理が実行される。
によって処理がスタ−トされ、まず、初期設定処理(S1
1) が行われる。また、初期設定処理が完了すると、操
作パネル上のプリントスイッチのオンが待機される。ま
た、プリントスイッチがオンされると(S13;YES) 、下記
の処理が実行される。
【0039】VG 補正処理(S15);感光体41の帯電電位
は、帯電チャ−ジャ43のグリッド電位VG を制御するこ
とにより、電位VG に対応する所望の電位VO に設定さ
れる筈である。しかし、感光体41の感度の変化や帯電チ
ャ−ジャ43の汚れ等に起因して、グリッド電位を電位V
G に制御したとしても、図12のように、感光体41の帯
電電位が、電位VG に対応する電位VO にならないで、
電位VO'(≠VO )になってしまう場合がある。この場
合、電位VO'に帯電された感光体41の表面を、AIDC
の基準の光量のレ−ザビ−ムで露光したとしても、減衰
電位(電荷潜像の電位)は、上記基準の光量と上記電位
VO とに対応する所望の電位VI にならないで、電位V
I'(≠VI )になってしまう。しかるに、感光体41への
トナ−の付着量は、現像電位VB と減衰電位との差に比
例するものであるから、この場合のトナ−の付着量は、 現像電位VB −減衰電位VI' に比例することとなって、所望の値との誤差が生ずる。
このため、ステップS15 に於いて、帯電電位を所望の電
位VO に設定できるように、グリッド電位VG が補正さ
れる。
は、帯電チャ−ジャ43のグリッド電位VG を制御するこ
とにより、電位VG に対応する所望の電位VO に設定さ
れる筈である。しかし、感光体41の感度の変化や帯電チ
ャ−ジャ43の汚れ等に起因して、グリッド電位を電位V
G に制御したとしても、図12のように、感光体41の帯
電電位が、電位VG に対応する電位VO にならないで、
電位VO'(≠VO )になってしまう場合がある。この場
合、電位VO'に帯電された感光体41の表面を、AIDC
の基準の光量のレ−ザビ−ムで露光したとしても、減衰
電位(電荷潜像の電位)は、上記基準の光量と上記電位
VO とに対応する所望の電位VI にならないで、電位V
I'(≠VI )になってしまう。しかるに、感光体41への
トナ−の付着量は、現像電位VB と減衰電位との差に比
例するものであるから、この場合のトナ−の付着量は、 現像電位VB −減衰電位VI' に比例することとなって、所望の値との誤差が生ずる。
このため、ステップS15 に於いて、帯電電位を所望の電
位VO に設定できるように、グリッド電位VG が補正さ
れる。
【0040】光量補正処理(S17);上記基準の電位VO に
帯電させた感光体41の表面を、AIDCの基準の光量で
露光すると、減衰電位(電荷潜像の電位)は、上記電位
VO と上記基準の光量とに対応する所望の電位VI にな
る筈である。しかし、環境条件(温度,湿度)、或い
は、感光体41の耐久(磨耗)等による感光体の感度の変
化に起因して、上記の条件で露光したとしても、図13
のように、減衰電位が所望の電位VI にならないで、電
位VI'' (≠VI )になってしまう場合がある。この場
合のトナ−の付着量は、 現像電位VB −減衰電位VI'' に比例することとなって、所望の値との誤差が生ずる。
このため、ステップS17 に於いて、所望の電位VI に減
衰させ得るように、レ−ザビ−ムの光量が補正される。
なお、図14は、VG 及び光量の両者の補正が必要な場
合を示す。
帯電させた感光体41の表面を、AIDCの基準の光量で
露光すると、減衰電位(電荷潜像の電位)は、上記電位
VO と上記基準の光量とに対応する所望の電位VI にな
る筈である。しかし、環境条件(温度,湿度)、或い
は、感光体41の耐久(磨耗)等による感光体の感度の変
化に起因して、上記の条件で露光したとしても、図13
のように、減衰電位が所望の電位VI にならないで、電
位VI'' (≠VI )になってしまう場合がある。この場
合のトナ−の付着量は、 現像電位VB −減衰電位VI'' に比例することとなって、所望の値との誤差が生ずる。
このため、ステップS17 に於いて、所望の電位VI に減
衰させ得るように、レ−ザビ−ムの光量が補正される。
なお、図14は、VG 及び光量の両者の補正が必要な場
合を示す。
【0041】電位分布検出処理(S19) 図6に示すように、光量の低い領域(画像濃度の低い領
域)ではビ−ム径の細い方がトナ−濃度が高くなり、光
量の高い領域(画像濃度の高い領域)ではビ−ム径の太
い方がトナ−が高くなる。ところが、感光体の表面状態
の差による露光光拡散や基材の表面処理の差による電荷
拡散の差などに起因して、同じビ−ム径でも電位分布に
差異が生じ、階調再現にビ−ム径のみで補正した場合に
は誤差が生じる。このため、上記の誤差を補償できるよ
うに、ステップS19 に於いてレ−ザ−ビ−ムによる電位
分布(電位差)が算出されて対応するγテ−ブル群が選
択される。
域)ではビ−ム径の細い方がトナ−濃度が高くなり、光
量の高い領域(画像濃度の高い領域)ではビ−ム径の太
い方がトナ−が高くなる。ところが、感光体の表面状態
の差による露光光拡散や基材の表面処理の差による電荷
拡散の差などに起因して、同じビ−ム径でも電位分布に
差異が生じ、階調再現にビ−ム径のみで補正した場合に
は誤差が生じる。このため、上記の誤差を補償できるよ
うに、ステップS19 に於いてレ−ザ−ビ−ムによる電位
分布(電位差)が算出されて対応するγテ−ブル群が選
択される。
【0042】AIDC動作処理(S21);このステップで
は、補正後のグリッド電位VG で基準の電位VO に一様
に帯電された感光体の表面に、補正後の光量のレ−ザビ
−ムにより、基準の減衰電位VI の電荷潜像が形成され
る。次に、この電荷潜像が、基準の現像電位VB に制御
した現像器45r でトナ−現像されて基準のトナ−像が形
成され、この基準のトナ−像の濃度が、AIDC210 セ
ンサで検出される。次に、上記AIDC210 センサの検
出値に基づき、帯電チャ−ジャ43のグリッド電位VG
と、現像器45r の現像電位VB と、γテ−ブルとが選択
される。
は、補正後のグリッド電位VG で基準の電位VO に一様
に帯電された感光体の表面に、補正後の光量のレ−ザビ
−ムにより、基準の減衰電位VI の電荷潜像が形成され
る。次に、この電荷潜像が、基準の現像電位VB に制御
した現像器45r でトナ−現像されて基準のトナ−像が形
成され、この基準のトナ−像の濃度が、AIDC210 セ
ンサで検出される。次に、上記AIDC210 センサの検
出値に基づき、帯電チャ−ジャ43のグリッド電位VG
と、現像器45r の現像電位VB と、γテ−ブルとが選択
される。
【0043】コピ−処理(S23);複写制御部231 との間で
デ−タを送受しつつ、コピ−動作に必要な処理が実行さ
れる。コピ−動作時に於いて、帯電チャ−ジャ43のグリ
ッド電位VG 、現像器45r の現像電位VB 、γテ−ブル
としては、AIDC動作処理(S21) で選択されたデ−タ
が採用される。
デ−タを送受しつつ、コピ−動作に必要な処理が実行さ
れる。コピ−動作時に於いて、帯電チャ−ジャ43のグリ
ッド電位VG 、現像器45r の現像電位VB 、γテ−ブル
としては、AIDC動作処理(S21) で選択されたデ−タ
が採用される。
【0044】[3-2] VG 補正処理;S15 まず、感光体ドラム41等の駆動用のドラム駆動モ−タ7
2、搬送ロ−ラ群等駆動用のメインモ−タ73がオンされ
る(S101)。また、メイン・転写前イレ−サがオンされる
(S103)。
2、搬送ロ−ラ群等駆動用のメインモ−タ73がオンされ
る(S101)。また、メイン・転写前イレ−サがオンされる
(S103)。
【0045】次に、グリッド電位VG のデ−タとして、
検出用の或る所定値が設定される(S105)。また、帯電チ
ャ−ジャ43がオンされるとともに、そのグリッド電位V
G が上記検出用の所定値のデ−タで定まる値に制御され
る(S107)。次に、VO 検出許可タイマT1 がスタ−トさ
れる(S109)。このタイマT1 の値は、帯電チャ−ジャ43
がオンされた後、感光体ドラム41の帯電電位が安定する
のに十分な時間に設定されている。
検出用の或る所定値が設定される(S105)。また、帯電チ
ャ−ジャ43がオンされるとともに、そのグリッド電位V
G が上記検出用の所定値のデ−タで定まる値に制御され
る(S107)。次に、VO 検出許可タイマT1 がスタ−トさ
れる(S109)。このタイマT1 の値は、帯電チャ−ジャ43
がオンされた後、感光体ドラム41の帯電電位が安定する
のに十分な時間に設定されている。
【0046】VO 検出許可タイマT1 が終了すると(S11
3;YES)、該タイマT1 がリセットされる(S115)。また、
微小電位センサ44により、該センサ44の対向位置の感光
体ドラム41の帯電電位が検出される(S117)。検出は50回
行われ、50個の検出デ−タが揃うと(S119;YES)、その平
均値が、帯電電位VO として代入される(S121)。
3;YES)、該タイマT1 がリセットされる(S115)。また、
微小電位センサ44により、該センサ44の対向位置の感光
体ドラム41の帯電電位が検出される(S117)。検出は50回
行われ、50個の検出デ−タが揃うと(S119;YES)、その平
均値が、帯電電位VO として代入される(S121)。
【0047】次に、表1に示すVG 補正テ−ブルを参照
して、上記の検出電位VO に基づいて、VG の補正量Δ
VG が演算される。
して、上記の検出電位VO に基づいて、VG の補正量Δ
VG が演算される。
【表1】 例えば、微小電位センサ44の出力の50回の平均値が3.85
[V] 〜(3.95[V]) であれば、該微小電位センサ44の対向
位置の検出電位VO は、770[V]〜(790[V])である。ま
た、この検出電位770[V]〜(790[V])に対応して、グリッ
ド電位VG の補正量ΔVG は、+20[V] となる。
[V] 〜(3.95[V]) であれば、該微小電位センサ44の対向
位置の検出電位VO は、770[V]〜(790[V])である。ま
た、この検出電位770[V]〜(790[V])に対応して、グリッ
ド電位VG の補正量ΔVG は、+20[V] となる。
【0048】この表1は、図15のVG −VO 特性に基
づいて作成されている。即ち、本実施例のVG の設定範
囲に於いて、VG −VO 特性の傾きは略同じである。こ
のため、例えば、設定グリッド電位VG(=S105の設定電
位VG)に対応する検出電位VO(=S121の検出電位(=破
線上の値))と、所望の帯電電位VO(=S105の設定電位V
G に対応する実線上の値)が、図示の如く異なる場合
は、上記所望の帯電電位VO の値の破線上のポイントを
求め、該ポイントに対応するグリッド電位を、補正後の
グリッド電位VG とする。即ち、ΔVG の補正を行う。
これにより、感光体ドラム41を所望の電位VO に帯電さ
せ得る。なお、表1に示される現像位置表面電位が、セ
ンサ位置表面電位VO よりも低下している理由は、上記
微小電位センサ44の位置から現像器45r の位置まで感光
体ドラム41が回転する間に、電位が減衰するためであ
る。
づいて作成されている。即ち、本実施例のVG の設定範
囲に於いて、VG −VO 特性の傾きは略同じである。こ
のため、例えば、設定グリッド電位VG(=S105の設定電
位VG)に対応する検出電位VO(=S121の検出電位(=破
線上の値))と、所望の帯電電位VO(=S105の設定電位V
G に対応する実線上の値)が、図示の如く異なる場合
は、上記所望の帯電電位VO の値の破線上のポイントを
求め、該ポイントに対応するグリッド電位を、補正後の
グリッド電位VG とする。即ち、ΔVG の補正を行う。
これにより、感光体ドラム41を所望の電位VO に帯電さ
せ得る。なお、表1に示される現像位置表面電位が、セ
ンサ位置表面電位VO よりも低下している理由は、上記
微小電位センサ44の位置から現像器45r の位置まで感光
体ドラム41が回転する間に、電位が減衰するためであ
る。
【0049】こうして演算されたΔVG が、デ−タ1 に
セットされ(S125)、このデ−タ1 の値が従前のVG に加
えられて、新たなVG デ−タとして設定される(S127)。
これにより、図17の(a)→(b)の破線の如く、光
減衰曲線LDCが、所望の特性(実線)に近づく。
セットされ(S125)、このデ−タ1 の値が従前のVG に加
えられて、新たなVG デ−タとして設定される(S127)。
これにより、図17の(a)→(b)の破線の如く、光
減衰曲線LDCが、所望の特性(実線)に近づく。
【0050】[3-3] 光量補正処理;S17 まず、或る所定光量の光量デ−タが、検出用の光量デ−
タとして設定される(S201)。この光量としては、図11
に示すように、0.05[mW/cm2]間隔で用意された0.70〜2.
25[mW/cm2]の中の何れかの光量を最大光量として選択
し、且つ、その選択した最大光量を、0 〜255 の合計25
6 段階に区分して設定されるレベル中の最大のレベル
(レベル255)に合致させた場合に於ける、略中間領域の
レベルの光量が選択されて、設定される。ここでは、例
えば、最大光量を1.15[mW/cm2]とした場合に於けるレベ
ル64の光量が設定されるものとする。
タとして設定される(S201)。この光量としては、図11
に示すように、0.05[mW/cm2]間隔で用意された0.70〜2.
25[mW/cm2]の中の何れかの光量を最大光量として選択
し、且つ、その選択した最大光量を、0 〜255 の合計25
6 段階に区分して設定されるレベル中の最大のレベル
(レベル255)に合致させた場合に於ける、略中間領域の
レベルの光量が選択されて、設定される。ここでは、例
えば、最大光量を1.15[mW/cm2]とした場合に於けるレベ
ル64の光量が設定されるものとする。
【0051】次に、レ−ザダイオ−ド264 が、上記の設
定された所定光量、即ち、最大光量を1.15[mW/cm2]とし
た場合のレベル64の光量で、オンされる(S203)。
定された所定光量、即ち、最大光量を1.15[mW/cm2]とし
た場合のレベル64の光量で、オンされる(S203)。
【0052】次に、Vi 検出許可タイマT2 がスタ−ト
される(S205)。このタイマT2 の値は、前記VG 補正処
理による補正後のVG での帯電電位VO を、ステップS2
03でオンされたレ−ザの露光により減衰された感光体ド
ラム41上の部分が、微小電位センサ44の位置まで達する
時間に設定されている。
される(S205)。このタイマT2 の値は、前記VG 補正処
理による補正後のVG での帯電電位VO を、ステップS2
03でオンされたレ−ザの露光により減衰された感光体ド
ラム41上の部分が、微小電位センサ44の位置まで達する
時間に設定されている。
【0053】次に、Vi 検出許可タイマT2 が終了する
と(S209;YES)、該タイマT2 がリセットされる(S211)。
また、微小電位センサ44により、該センサ44の対向位置
の感光体ドラム41の電位が検出される(S213)。即ち、ス
テップS203での露光により形成された電荷潜像の電位
(減衰電位)が検出される(S213)。上記減衰電位の検出
は50回行われ、50個の検出デ−タが揃うと(S215;YES)、
その平均値が演算されて、減衰電位Vi として代入され
る(S217)。
と(S209;YES)、該タイマT2 がリセットされる(S211)。
また、微小電位センサ44により、該センサ44の対向位置
の感光体ドラム41の電位が検出される(S213)。即ち、ス
テップS203での露光により形成された電荷潜像の電位
(減衰電位)が検出される(S213)。上記減衰電位の検出
は50回行われ、50個の検出デ−タが揃うと(S215;YES)、
その平均値が演算されて、減衰電位Vi として代入され
る(S217)。
【0054】次に、表2に示す光量補正テ−ブルを参照
して、上記の減衰電位Vi に対応する最大光量(MAX
光量)が演算されて光量デ−タLDとされる(S219)。例
えば、微小電位センサ44の出力の50回の平均値が2.025
[V]〜(2.10[V]) であれば、該微小電位センサ44の対向
位置の検出電位(減衰電位)Vi は、405[V]〜(420[V])
である。また、この検出電位(減衰電位)Vi =405[V]
〜(420[V])に対応する最大光量は、1.05[mW/cm2]とな
る。
して、上記の減衰電位Vi に対応する最大光量(MAX
光量)が演算されて光量デ−タLDとされる(S219)。例
えば、微小電位センサ44の出力の50回の平均値が2.025
[V]〜(2.10[V]) であれば、該微小電位センサ44の対向
位置の検出電位(減衰電位)Vi は、405[V]〜(420[V])
である。また、この検出電位(減衰電位)Vi =405[V]
〜(420[V])に対応する最大光量は、1.05[mW/cm2]とな
る。
【表2】
【0055】なお、表2に示される現像位置表面電位
が、センサ位置表面電位Vi よりも低下している理由
は、上記微小電位センサ44の位置から現像器45r の位置
まで感光体ドラム41が回転する間に、電位が減衰するた
めである。また、表2は、微小電位センサ44による検出
電位(減衰電位)Vi と、設定された最大光量との間
に、図16に示す関係があるため、この特性に基づいて
作成されている。
が、センサ位置表面電位Vi よりも低下している理由
は、上記微小電位センサ44の位置から現像器45r の位置
まで感光体ドラム41が回転する間に、電位が減衰するた
めである。また、表2は、微小電位センサ44による検出
電位(減衰電位)Vi と、設定された最大光量との間
に、図16に示す関係があるため、この特性に基づいて
作成されている。
【0056】上記の如く演算された光量デ−タLDは、
次に、ステップS221に於いてセットされる。このように
して、図17の(b)→(c)の破線の如く、光減衰曲
線LDCが、所望の特性(実線)と略同じになる。
次に、ステップS221に於いてセットされる。このように
して、図17の(b)→(c)の破線の如く、光減衰曲
線LDCが、所望の特性(実線)と略同じになる。
【0057】[3-4] 電位分布算出処理;S19 まず、前記補正後の光量デ−タLDの中間領域のレベル
の光量、ここでは、レベル64の光量がセットされる。即
ち、中間レベルに於いて光減衰曲線LDCの傾きが最も
大きくなるため、中間レベルの光量がセットされるので
ある。なお、各最大光量には、表3の如くコ−ドが付与
されている。
の光量、ここでは、レベル64の光量がセットされる。即
ち、中間レベルに於いて光減衰曲線LDCの傾きが最も
大きくなるため、中間レベルの光量がセットされるので
ある。なお、各最大光量には、表3の如くコ−ドが付与
されている。
【表3】
【0058】次に、レ−ザ発光タイミングが切り換えら
れる(S203)。例えば、副走査方向で1ドットおきに発光
されるように、発光タイミングが切り換えられる。これ
により、図18の(a)のように電位の谷が形成され
る。なお、例えば、4ドット毎に1回発光させて図18
の(b)のように電位の谷を形成させてもよい。
れる(S203)。例えば、副走査方向で1ドットおきに発光
されるように、発光タイミングが切り換えられる。これ
により、図18の(a)のように電位の谷が形成され
る。なお、例えば、4ドット毎に1回発光させて図18
の(b)のように電位の谷を形成させてもよい。
【0059】次に、電位分布検出許可タイマT3 がスタ
−トされる(S305)。このタイマT3の値は、前記VG 補
正処理による補正後のVG による帯電電位VO を、前記
ステップS301の光量で前記ステップS303の如くオン・オ
フされるレ−ザの露光によって減衰された感光体ドラム
41上の部分が、微小電位センサ44の位置まで達する時間
に設定されている。
−トされる(S305)。このタイマT3の値は、前記VG 補
正処理による補正後のVG による帯電電位VO を、前記
ステップS301の光量で前記ステップS303の如くオン・オ
フされるレ−ザの露光によって減衰された感光体ドラム
41上の部分が、微小電位センサ44の位置まで達する時間
に設定されている。
【0060】次に、電位分布検出許可タイマT3 が終了
すると(S309;YES)、該タイマT3 がリセットされる(S31
1)。また、微小電位センサ44により、該センサ44の対向
位置の感光体ドラム41の電位分布が検出され(S313)、検
出が終了すると(S315)、その検出結果が記憶される(S31
7)。
すると(S309;YES)、該タイマT3 がリセットされる(S31
1)。また、微小電位センサ44により、該センサ44の対向
位置の感光体ドラム41の電位分布が検出され(S313)、検
出が終了すると(S315)、その検出結果が記憶される(S31
7)。
【0061】次に、上記の如く検出された電位分布のm
ax(谷)とmin(山)の値を算出し、その差ΔVs
を求める(S319)。
ax(谷)とmin(山)の値を算出し、その差ΔVs
を求める(S319)。
【0062】次に、電位差ΔVs−階調補正テ−ブル群
の対応を示す表4より、上記電位差ΔVsに対応する階
調補正テ−ブル群の番号(GM1〜GM7の何れかの番
号)が選択され、これが、階調補正テ−ブル群GMとさ
れる(S321)。なお、表4は、上記電位差:ΔVsを変化
させた時の階調変動から算出したものである。
の対応を示す表4より、上記電位差ΔVsに対応する階
調補正テ−ブル群の番号(GM1〜GM7の何れかの番
号)が選択され、これが、階調補正テ−ブル群GMとさ
れる(S321)。なお、表4は、上記電位差:ΔVsを変化
させた時の階調変動から算出したものである。
【表4】 また、このように選択された階調補正テ−ブル群GM
が、γテ−ブルのセレクトデ−タとしてセットされる(S
323)。
が、γテ−ブルのセレクトデ−タとしてセットされる(S
323)。
【0063】[3-5] AIDC動作処理;S21 まず、感光体ドラム41の地肌の濃度(トナ−の付着され
ていない濃度)が、AIDCセンサ210 によって検出さ
れる(S401)。次に、最大のグリッド電位VG で帯電さ
れ、且つ、最大の光量で露光され、さらに、シアントナ
−により最大の現像電位VB で現像されたトナ−像(シ
アンのベタ像)の濃度が、AIDCセンサ210 によって
検出される(S403)。この濃度レベルは、AIDCセンサ
210 の出力が飽和するレベルである。上記ステップS40
1、S403での検出値の差に基づき、センサ感度が求めら
れ、その補正が行われる。
ていない濃度)が、AIDCセンサ210 によって検出さ
れる(S401)。次に、最大のグリッド電位VG で帯電さ
れ、且つ、最大の光量で露光され、さらに、シアントナ
−により最大の現像電位VB で現像されたトナ−像(シ
アンのベタ像)の濃度が、AIDCセンサ210 によって
検出される(S403)。この濃度レベルは、AIDCセンサ
210 の出力が飽和するレベルである。上記ステップS40
1、S403での検出値の差に基づき、センサ感度が求めら
れ、その補正が行われる。
【0064】次に、シアンのハ−フト−ンの濃度が検出
される(S405)。即ち、前記VG 補正処理による補正後の
VG によって感光体ドラム41の表面が帯電され、該帯電
された表面が、前記光量補正処理による補正後の最大光
量の中間レベル(例えば、センサ感度が最良となるレベ
ル80程度)にセットされたレ−ザビ−ムによって露光さ
れる。次に、上記露光により形成された電荷潜像が、所
定の現像電位VB に設定された現像器によりトナ−現像
されて、そのトナ−像の濃度(トナ−付着量)が、AI
DCセンサ210 によって検出される。ここで、トナ−付
着量(トナ−濃度)は、AIDCセンサ210 によって検
出される正反射光と散乱反射光との差に基づいて演算さ
れる。また、マゼンタ、イエロ−、ブラックの各ハ−フ
ト−ンの濃度についても、上記と同様に検出される(S40
7,S409,S411)。
される(S405)。即ち、前記VG 補正処理による補正後の
VG によって感光体ドラム41の表面が帯電され、該帯電
された表面が、前記光量補正処理による補正後の最大光
量の中間レベル(例えば、センサ感度が最良となるレベ
ル80程度)にセットされたレ−ザビ−ムによって露光さ
れる。次に、上記露光により形成された電荷潜像が、所
定の現像電位VB に設定された現像器によりトナ−現像
されて、そのトナ−像の濃度(トナ−付着量)が、AI
DCセンサ210 によって検出される。ここで、トナ−付
着量(トナ−濃度)は、AIDCセンサ210 によって検
出される正反射光と散乱反射光との差に基づいて演算さ
れる。また、マゼンタ、イエロ−、ブラックの各ハ−フ
ト−ンの濃度についても、上記と同様に検出される(S40
7,S409,S411)。
【0065】こうして、各色のハ−フト−ンの濃度が検
出されると、次に、AIDCテ−ブルが選択される(S41
3)。即ち、上記各色の各トナ−付着量に応じたレベルL
BAに対応する(VG,VB,γ)のデ−タが、表5より選
択される。ここで、γ(階調補正テ−ブル)は、電位分
布算出処理で選択されたテ−ブル群GMから選択され
る。また、表5に於いて、VG とVB は負であるが、絶
対値で示されている。
出されると、次に、AIDCテ−ブルが選択される(S41
3)。即ち、上記各色の各トナ−付着量に応じたレベルL
BAに対応する(VG,VB,γ)のデ−タが、表5より選
択される。ここで、γ(階調補正テ−ブル)は、電位分
布算出処理で選択されたテ−ブル群GMから選択され
る。また、表5に於いて、VG とVB は負であるが、絶
対値で示されている。
【表5】
【0066】また、このように選択されたデ−タに基づ
いて、コピ−処理(図27・S23)が実行される。上記
で、グリッド電位VG(帯電電位VO)と現像電位VB との
差を或る範囲内に維持しつつ、ステップS405〜S411での
検出濃度に応じて、帯電電位VO と現像電位VB とを制
御する理由は、グリッド電位VG(帯電電位VO)と現像電
位VB との差が上記或る範囲を外れると、キャリア付
着、又は、トナ−かぶりを生ずるためである。また、前
述のように、反転現像系のトナ−付着量は、現像電位差
(現像電位VB と減衰電位Vi の差)に比例するため、
上記のように制御することで、トナ−濃度を制御できる
のである。
いて、コピ−処理(図27・S23)が実行される。上記
で、グリッド電位VG(帯電電位VO)と現像電位VB との
差を或る範囲内に維持しつつ、ステップS405〜S411での
検出濃度に応じて、帯電電位VO と現像電位VB とを制
御する理由は、グリッド電位VG(帯電電位VO)と現像電
位VB との差が上記或る範囲を外れると、キャリア付
着、又は、トナ−かぶりを生ずるためである。また、前
述のように、反転現像系のトナ−付着量は、現像電位差
(現像電位VB と減衰電位Vi の差)に比例するため、
上記のように制御することで、トナ−濃度を制御できる
のである。
【0067】上記実施例では、画像安定化のための各制
御を、各コピ−動作に先立って毎回実行しているが、必
ずしも毎回実行しなくてもよい。例えば、コピ−枚数や
時間をカウントしておき、所定枚数毎に実行したり、所
定時間毎に実行するようにしてもよい。また、環境(温
度,湿度)変動をモニタして、変動値が所定値を越えた
時に実行するようにしてもよい。また、上記実施例で
は、帯電電位VO をグリッド電位VG で制御している
が、他の方式でもよい。
御を、各コピ−動作に先立って毎回実行しているが、必
ずしも毎回実行しなくてもよい。例えば、コピ−枚数や
時間をカウントしておき、所定枚数毎に実行したり、所
定時間毎に実行するようにしてもよい。また、環境(温
度,湿度)変動をモニタして、変動値が所定値を越えた
時に実行するようにしてもよい。また、上記実施例で
は、帯電電位VO をグリッド電位VG で制御している
が、他の方式でもよい。
【0068】
【発明の効果】以上、本発明の電位分布検出装置では、
レ−ザ−ビ−ム露光による電位分布を検出し、電位分布
のmax値(谷)とmin値(山)の電位差:ΔVsを
求めるものである。また、本発明の画像濃度制御装置で
は、上記電位分布検出装置により検出された電位差:Δ
Vsに対応するγ補正テ−ブル(階調補正デ−タのテ−
ブル)群を選択して、これに基づいて画像濃度を制御し
ている。
レ−ザ−ビ−ム露光による電位分布を検出し、電位分布
のmax値(谷)とmin値(山)の電位差:ΔVsを
求めるものである。また、本発明の画像濃度制御装置で
は、上記電位分布検出装置により検出された電位差:Δ
Vsに対応するγ補正テ−ブル(階調補正デ−タのテ−
ブル)群を選択して、これに基づいて画像濃度を制御し
ている。
【0069】このため、出力されるレ−ザビ−ム径が同
じ場合に於いて、感光体の製造上のバラツキ,環境条件
(温度・湿度),感光体の劣化等、個々の感光体毎に異
なる原因で生ずる表面状態の差による光拡散の差や、基
材の表面処理の差による電荷拡散の差などに起因して生
ずる電荷潜像の電位分布の差異に対応でき、従って、該
電位分布の差異に起因して生ずる階調特性の変動を補償
できる。即ち、より良好な階調表現を実現できる。
じ場合に於いて、感光体の製造上のバラツキ,環境条件
(温度・湿度),感光体の劣化等、個々の感光体毎に異
なる原因で生ずる表面状態の差による光拡散の差や、基
材の表面処理の差による電荷拡散の差などに起因して生
ずる電荷潜像の電位分布の差異に対応でき、従って、該
電位分布の差異に起因して生ずる階調特性の変動を補償
できる。即ち、より良好な階調表現を実現できる。
【図1】光強度変調方式の光量分布図である。
【図2】光強度変調方式の副走査方向の光量分布図であ
る。
る。
【図3】光強度変調方式の副走査方向の電位分布図であ
る。
る。
【図4】レ−ザビ−ム径の太い場合と細い場合の電荷潜
像の電位分布と感光体上のトナ−付着量を、画像濃度の
低い場合について示す説明図である。
像の電位分布と感光体上のトナ−付着量を、画像濃度の
低い場合について示す説明図である。
【図5】レ−ザビ−ム径の太い場合と細い場合の電荷潜
像の電位分布と感光体上のトナ−付着量を、画像濃度の
高い場合について示す説明図である。
像の電位分布と感光体上のトナ−付着量を、画像濃度の
高い場合について示す説明図である。
【図6】光量と画像濃度の関係をレ−ザビ−ム径を変え
て示す特性図である。
て示す特性図である。
【図7】AIDCにより最大トナ−付着量を一定に制御
した場合に於ける光量と画像濃度の関係をレ−ザビ−ム
径を変えて示す特性図である。
した場合に於ける光量と画像濃度の関係をレ−ザビ−ム
径を変えて示す特性図である。
【図8】実施例装置の部材の配置を示す模式図である。
【図9】微小電位センサの等価回路図である。
【図10】微小電位センサの外観を示す図である。
【図11】各最大光量について256段階の光量レベル
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図12】グリッド電位が同じでも帯電電位が異なる場
合があり、その場合には同一露光量に対する減衰電位も
異なることを示す説明図である。
合があり、その場合には同一露光量に対する減衰電位も
異なることを示す説明図である。
【図13】帯電電位及び露光量が同じでも感光体の感度
の差異により減衰電位が異なる場合のあることを示す説
明図である。
の差異により減衰電位が異なる場合のあることを示す説
明図である。
【図14】図12と図13の要因が両者とも発生した場
合には、同一露光量に対する減衰電位が一層異なること
を示す説明図である。
合には、同一露光量に対する減衰電位が一層異なること
を示す説明図である。
【図15】グリッド電位と帯電電位の関係を示す特性図
である。
である。
【図16】表面電位と最大光量との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図17】グリッド電位の補正と光量の補正により、光
減衰曲線を所望の特性に近づける様子を示す特性図であ
る。
減衰曲線を所望の特性に近づける様子を示す特性図であ
る。
【図18】レ−ザビ−ム走査後の副走査方向の電位分布
図である。
図である。
【図19】同一のビ−ム径のレ−ザビ−ムで露光しても
電位分布や電位差が異なる様子を示す説明図である。
電位分布や電位差が異なる様子を示す説明図である。
【図20】光量と画像濃度の関係を電位差を変えて示す
特性図である。
特性図である。
【図21】レ−ザ光量と減衰電位の関係を示す説明図で
ある。
ある。
【図22】実施例の複写機の機構を示す模式図である。
【図23】上記複写機の画像読取部の制御回路を示すブ
ロック図である。
ロック図である。
【図24】上記複写機の画像記録部の制御回路を示すブ
ロック図である。
ロック図である。
【図25】上記複写機の画像読取部の画像信号処理を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図26】上記複写機の画像記録部の画像信号処理を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図27】上記複写機のCPUでの処理を示すフロ−チ
ャ−トである。
ャ−トである。
【図28】図27のVG 補正処理を示すフロ−チャ−ト
である。
である。
【図29】図27の光量補正処理を示すフロ−チャ−ト
である。
である。
【図30】図27の電位分布算出処理を示すフロ−チャ
−トである。
−トである。
【図31】図27のAIDC動作処理を示すフロ−チャ
−トである。
−トである。
10 画像読取部 13 スキャナ 14 CCD 20 画像信号処理部 32 レ−ザ装置 41 感光体ドラム 43 帯電チャ−ジャ 44 微小電位センサ 45r 現像位置の現像器 50 画像記録部 51 転写ドラム 57 転写チャ−ジャ 101 イメ−ジリ−ダ制御部 201 プリンタ制御部 203 デ−タROM 210 AIDCセンサ 243 VG発生ユニット 244 VB発生ユニット 253 γ補正部 263 半導体レ−ザドライバ 264 半導体レ−ザ
Claims (1)
- 【請求項1】 所定のグリッド電位に制御した帯電チャ
−ジャにより一様の電位に帯電させた感光体の表面に、
所定の光量のレ−ザビ−ムで基準の電荷潜像を形成し、
これを、所定の現像電位に制御した現像器でトナ−現像
して、この基準のトナ−像の濃度を検出し、本番の画像
形成時に於いて、前記基準のトナ−像の濃度に応じて前
記グリッド電位と前記現像電位とを制御することによ
り、画像の濃度を最適に制御する画像濃度制御装置に於
いて、 一様に帯電された感光体の表面をレ−ザビ−ムで露光走
査して、電位分布を有する電荷潜像を形成する手段と、 前記電荷潜像の電位分布を検出する手段と、その検出結
果に応じて電位状態を算出する手段と、 各々の電位分布(状態)に対応し、且つ、前記基準のト
ナ−像の濃度に各々対応する階調補正デ−タ(群)を記
憶している記憶手段と、 前記電位分布検出手段により検出された電位分布に対応
する階調補正デ−タ(群)を選択する第1選択手段と、 前記第1選択手段により選択された前記デ−タ(群)か
ら前記基準のトナ−像の濃度に対応するデ−タを選択す
る第2選択手段と、 を有する画像濃度制御装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5321067A JPH06230643A (ja) | 1992-12-10 | 1993-11-26 | 画像濃度制御装置 |
| US08/163,827 US5499079A (en) | 1992-12-10 | 1993-12-09 | Image density control apparatus and method for controlling image density on a photoconductor surface |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-353161 | 1992-12-10 | ||
| JP35316192 | 1992-12-10 | ||
| JP5321067A JPH06230643A (ja) | 1992-12-10 | 1993-11-26 | 画像濃度制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06230643A true JPH06230643A (ja) | 1994-08-19 |
Family
ID=26570346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5321067A Pending JPH06230643A (ja) | 1992-12-10 | 1993-11-26 | 画像濃度制御装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5499079A (ja) |
| JP (1) | JPH06230643A (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69514963T2 (de) * | 1994-06-30 | 2000-06-29 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Elektrografisches Gerät und Bilderzeugungsverfahren |
| US5809052A (en) * | 1995-06-06 | 1998-09-15 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Semiconductor laser array driving method, semiconductor laser array driving device and image forming apparatus |
| JPH0916039A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Minolta Co Ltd | 画像形成装置 |
| JPH0934189A (ja) * | 1995-07-19 | 1997-02-07 | Mita Ind Co Ltd | 複写機の濃度調整方法および濃度調整装置 |
| JP3234138B2 (ja) * | 1995-10-12 | 2001-12-04 | シャープ株式会社 | 画像安定化装置 |
| US5749019A (en) * | 1996-09-09 | 1998-05-05 | Xerox Corporation | Look up table to control non-linear xerographic process |
| JP3496439B2 (ja) * | 1997-03-12 | 2004-02-09 | ミノルタ株式会社 | 画像形成装置 |
| US6281963B1 (en) * | 1998-03-24 | 2001-08-28 | Seiko Epson Corporation | Image forming apparatus |
| US6122468A (en) * | 1998-10-09 | 2000-09-19 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for forming toner images |
| US7929876B2 (en) * | 2006-11-27 | 2011-04-19 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
| JP4743247B2 (ja) * | 2008-09-29 | 2011-08-10 | ブラザー工業株式会社 | 画像形成装置 |
| JP5105203B2 (ja) * | 2009-04-27 | 2012-12-26 | ブラザー工業株式会社 | 画像形成装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3408336A1 (de) * | 1983-03-08 | 1984-09-13 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Bildreproduktionssystem |
| US5206686A (en) * | 1990-03-20 | 1993-04-27 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Apparatus for forming an image with use of electrophotographic process including gradation correction |
| US5305057A (en) * | 1991-07-05 | 1994-04-19 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus having correction means for modifying image density signals according to a gradation correction table |
| JP3116485B2 (ja) * | 1991-12-16 | 2000-12-11 | ミノルタ株式会社 | デジタル画像形成装置 |
| JP3147458B2 (ja) * | 1992-02-05 | 2001-03-19 | ミノルタ株式会社 | デジタル画像形成法 |
-
1993
- 1993-11-26 JP JP5321067A patent/JPH06230643A/ja active Pending
- 1993-12-09 US US08/163,827 patent/US5499079A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5499079A (en) | 1996-03-12 |
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