JPH0623153B2 - Process for producing indane derivative and its synthetic intermediate - Google Patents
Process for producing indane derivative and its synthetic intermediateInfo
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- JPH0623153B2 JPH0623153B2 JP1333176A JP33317689A JPH0623153B2 JP H0623153 B2 JPH0623153 B2 JP H0623153B2 JP 1333176 A JP1333176 A JP 1333176A JP 33317689 A JP33317689 A JP 33317689A JP H0623153 B2 JPH0623153 B2 JP H0623153B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はトロンボキサンA2拮抗剤として有用なインダン
誘導体の新規製法及びその合成中間体に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel method for producing an indane derivative useful as a thromboxane A 2 antagonist and a synthetic intermediate thereof.
(従来の技術) 4−{〔2−(ベンゼンスルホニルアミノ)インダン−
5−イル〕アセチルアミノ}−n−プロピオン酸もしく
は酪酸及びそれらのベンゼン環置換体またはその塩は、
トロンボキサンA2(ThromboxanA2、以下TxA2と称す
る)拮抗剤として有用な医薬化合物であり、該化合物の
製法は、種々特許出願されている(欧州特許出願公開03
17321及び特願昭63-323884号)。(Prior Art) 4-{[2- (benzenesulfonylamino) indane-
5-yl] acetylamino} -n-propionic acid or butyric acid and their benzene ring-substituted compounds or salts thereof are
Thromboxane A 2 (ThromboxanA 2, hereinafter referred to as TxA 2) is a useful pharmaceutical compound as an antagonist, preparation of the compounds have been variously patent application (EP 03
17321 and Japanese Patent Application No. 63-323884).
上記出願方法には、2−アミノインダン骨格の5位に側
鎖を導入する方法として、チオ酢酸誘導体もしくはシュ
ウ酸誘導体を用いた製法が記載されている。しかしなが
ら、工業的製法としては、臭気の発生を伴うチオ酢酸誘
導体の使用は極力避けねばならず、また、シュウ酸誘導
体を用いた場合のカルボニル基の還元方法としては、接
触還元や亜鉛−酢酸の組合せによる方法等が記載されて
いるが、反応の完結に長時間を要したり、一部副反応を
伴うため、さらに還元方法の改善が望まれていた。The above-mentioned application method describes a method using a thioacetic acid derivative or an oxalic acid derivative as a method for introducing a side chain into the 5-position of the 2-aminoindane skeleton. However, as an industrial production method, the use of a thioacetic acid derivative accompanied by generation of odor must be avoided as much as possible, and as a carbonyl group reduction method using an oxalic acid derivative, catalytic reduction or zinc-acetic acid Although a method by combination is described, it takes a long time to complete the reaction, or some side reactions are involved, and therefore, further improvement of the reduction method has been desired.
(発明が解決する課題) 本発明は、上記方法に較べて、操作性、収率及び純度の
改善された新規製法を提供するものである。(Problems to be Solved by the Invention) The present invention provides a novel production method having improved operability, yield and purity as compared with the above method.
(課題を解決するための手段) 本発明によれば、一般式 (但し、R1は置換もしくは非置換フェニル基、ナフチル
基または含硫複素環式基、R2はカルボキシ低級アルキル
基もしくは低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を
表す。) で示されるインダン誘導体またはその塩は、 (1)一般式 (但し、R3はアミノ基の保護基を表す。) で示される化合物と一般式 HOOCCONH−R2 (III) (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示される4−オキサロアミノ酸化合物又はその反応性
誘導体とを縮合反応させて一般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるカルボニル化合物とした後、 (2)このカルボニル化合物(IV)またはその塩を還元し
て一般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるヒドロキシメチレン化合物とした後、(3)こ
のヒドロキシメチレン化合物(V)またはその塩と一般
式 R4COOH (VI) (但し、R4はアルキル基、フェニル基もしくは置換フェ
ニル基を表す。) で示されるカルボン酸化合物またはその反応性誘導体と
を縮合反応させて一般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるアルカノイルオキシメチレン化合物とした
後、 (4)このアルカノイルオキシメチレン化合物(VII)また
はその塩を還元して一般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるメチレン化合物とし、さらに (5)このメチレン化合物(VIII)またはその塩からアミ
ノ基の保護基(R3)を除去後、一般式 R1SO3H (IX) (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるスルホン酸化合物もしくはその反応性誘導体
と縮合反応させ、R2が低級アルコキシカルボニル低級ア
ルキル基である場合には、所望により加水分解して製造
することができる。(Means for Solving the Problems) According to the present invention, the general formula (However, R 1 represents a substituted or unsubstituted phenyl group, a naphthyl group or a sulfur-containing heterocyclic group, and R 2 represents a carboxy lower alkyl group or a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group.) , (1) General formula (Wherein R 3 represents a protecting group for an amino group) and a 4-oxaloamino acid compound represented by the general formula HOOCCONH-R 2 (III) (where the symbols have the same meanings as described above). Alternatively, the compound of general formula (However, the symbols have the same meanings as described above.), And (2) this carbonyl compound (IV) or a salt thereof is reduced to give a general formula (However, the symbols have the same meanings as described above), and (3) the hydroxymethylene compound (V) or a salt thereof and the general formula R 4 COOH (VI) (provided that R 4 Represents an alkyl group, a phenyl group or a substituted phenyl group.) And a carboxylic acid compound represented by (However, symbols have the same meanings as above.), And then (4) the alkanoyloxymethylene compound (VII) or a salt thereof is reduced to give the general formula (Where the symbols have the same meanings as described above), and (5) after removing the amino-protecting group (R 3 ) from the methylene compound (VIII) or a salt thereof, a compound of the general formula R 1 SO 3 H (IX) (where the symbols have the same meanings as described above) and the condensation reaction with a sulfonic acid compound or a reactive derivative thereof, and when R 2 is a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, If desired, it can be produced by hydrolysis.
アミノ基の保護基R3としては慣用の保護基、例えばホ
ルミル基、ベンジルオキシカルボニル基、トリフルオロ
アセチル基等を用いることができる。また、R2の低級ア
ルキル基及び低級アルコキシ基の好ましい例としては、
炭素数1〜4のアルキル基及びアルコキシ基があげら
れ、特に、低級アルキル基としては、エチル基もしくは
プロピル基が好ましい。R4のアルキル基としては、炭素
数に特に制限は無いが、ヒドロキシメチレン化合物
(V)をアルカノイルオキシメチレン化合物(VII)に
変換する際に、立体障害の少ないアルキル基が好まし
く、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、デシル
基、イソプロピル基等があげられる。さらに、R1及びR4
の置換フェニル基としては、クロロフェニル基、プロモ
フェニル基、メチルフェニル基等を好適に用いることが
できる。As the amino-protecting group R 3 , a conventional protecting group such as a formyl group, a benzyloxycarbonyl group and a trifluoroacetyl group can be used. Further, preferred examples of the lower alkyl group and the lower alkoxy group for R 2 include:
Examples thereof include an alkyl group and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and an ethyl group or a propyl group is particularly preferable as the lower alkyl group. The alkyl group of R 4 is not particularly limited in the number of carbon atoms, but when converting the hydroxymethylene compound (V) to the alkanoyloxymethylene compound (VII), an alkyl group having less steric hindrance is preferable. , Ethyl group, propyl group, decyl group, isopropyl group and the like. In addition, R 1 and R 4
As the substituted phenyl group, a chlorophenyl group, a promophenyl group, a methylphenyl group and the like can be preferably used.
化合物(II)と4−オキサロアミノ酸化合物(III)も
しくはその反応性誘導体との縮合反応は、適当な溶媒
中、ルイス酸触媒の存在下に実施することができる。化
合物(III)の反応性誘導体としては、対応する酸ハラ
イド化合物をあげることができる。また、溶媒としては
1,2−ジクロロエタン、塩化メチレン、ニトロベンゼ
ンを、ルイス酸触媒としては、塩化アルミニウムを好適
に用いることができる。本反応は、冷却下〜室温で実施
するのが好ましい。The condensation reaction of compound (II) with 4-oxaloamino acid compound (III) or its reactive derivative can be carried out in a suitable solvent in the presence of a Lewis acid catalyst. Examples of the reactive derivative of the compound (III) include corresponding acid halide compounds. Further, 1,2-dichloroethane, methylene chloride and nitrobenzene can be preferably used as the solvent, and aluminum chloride can be preferably used as the Lewis acid catalyst. This reaction is preferably carried out under cooling to room temperature.
カルボニル化合物(IV)またはその塩の還元反応は、適
当な溶媒中、水素化ホウ素アルカリ金属の存在下に実施
するか、あるいは触媒の存在下、接触還元によって実施
することができる。前者の場合、水素化ホウ素アルカリ
金属として、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カ
リウム、水素化ホウ素リチウム等を用い、冷却下〜室温
で実施するのが好ましい。一方、後者の場合、触媒とし
て、例えば、ラネーニッケル、酸化白金、あるいは10%
パラジウム−炭素の如きパラジウム系触媒を用い、水素
雰囲気下、室温〜加熱下で実施するのが好ましい。いず
れの還元反応においても、溶媒としては低級アルカノー
ル、グリコール類、セルソルブ類、テトラヒドロフラ
ン、水及びそれらの混合物を好適に用いることができ
る。The reduction reaction of the carbonyl compound (IV) or a salt thereof can be carried out in the presence of an alkali metal borohydride in a suitable solvent, or by catalytic reduction in the presence of a catalyst. In the former case, it is preferable to use sodium borohydride, potassium borohydride, lithium borohydride or the like as the alkali metal borohydride, and carry out under cooling to room temperature. On the other hand, in the latter case, as a catalyst, for example, Raney nickel, platinum oxide, or 10%
It is preferable to carry out the reaction at room temperature to under heating in a hydrogen atmosphere using a palladium-based catalyst such as palladium-carbon. In any reduction reaction, a lower alkanol, a glycol, a cellosolve, tetrahydrofuran, water or a mixture thereof can be preferably used as a solvent.
ヒドロキシメチレン化合物(V)またはその塩とカルボ
ン酸化合物(VI)又はその反応性誘導体との縮合反応
は、適当な溶媒中、縮合剤の存在下に実施することがで
きる。化合物(VI)の反応性誘導体としては、慣用の反
応性誘導体、例えば対応する酸無水物または酸ハライド
化合物をあげることができる。また、溶媒としてはテト
ラヒドロフラン、クロロホルム、塩化メチレンを、縮合
剤としては、トリ低級アルキルアミン、ピリジン、4−
ジメチルアミノピリジン、炭酸アルカリ金属、N,N′
−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N′−カルボ
ニルジイミダゾール等を好適に用いることができる。本
反応は、室温〜加温下で実施するのが好ましい。The condensation reaction of the hydroxymethylene compound (V) or its salt with the carboxylic acid compound (VI) or its reactive derivative can be carried out in a suitable solvent in the presence of a condensing agent. The reactive derivative of the compound (VI) may be a conventional reactive derivative such as a corresponding acid anhydride or acid halide compound. Further, tetrahydrofuran, chloroform and methylene chloride are used as a solvent, and tri-lower alkylamine, pyridine and 4- are used as a condensing agent.
Dimethylaminopyridine, alkali metal carbonate, N, N '
-Dicyclohexylcarbodiimide, N, N'-carbonyldiimidazole and the like can be preferably used. This reaction is preferably carried out at room temperature to under heating.
アルカノイルオキシメチレン化合物(VII)またはその
塩の還元反応は、適当な溶媒中、ギ酸アンモニウム及び
触媒の存在下に実施することができる。溶媒としては低
級アルカノールを、触媒としては、上記接触還元と同様
の触媒を好適に用いることができる。本反応は、窒素気
流下、室温〜加熱下で実施するのが好ましい。The reduction reaction of the alkanoyloxymethylene compound (VII) or a salt thereof can be carried out in the presence of ammonium formate and a catalyst in a suitable solvent. A lower alkanol can be suitably used as the solvent, and a catalyst similar to the above catalytic reduction can be suitably used as the catalyst. This reaction is preferably carried out under a nitrogen stream at room temperature to under heating.
メチレン化合物(VIII)またはその塩からのアミノ基の
保護基(R3)の除去は、例えば、加水分解、加溶媒分解、
酸処理、還元の如き常法により実施することができる。Removal of the amino-protecting group (R 3 ) from the methylene compound (VIII) or a salt thereof includes, for example, hydrolysis, solvolysis,
It can be carried out by a conventional method such as acid treatment or reduction.
ひきつづくスルホン酸化合物(IX)もしくはその反応性
誘導体との縮合反応は、縮合剤の存在または非存在下に
実施することができる。化合物(IX)の反応性誘導体と
しては、慣用の反応性誘導体、例えば対応するスルホニ
ルハライド化合物が好適にあげられる。縮合剤として
は、例えば炭酸アルカリ金属、炭酸水素アルカリ金属、
トリ低級アルキルアミン、ピリジンなど慣用のものをい
ずれも用いることができる。本反応は適当な溶媒(例え
ば、水、酢酸エチル)中冷却〜加温下で実施するのが好
ましい。The subsequent condensation reaction with the sulfonic acid compound (IX) or its reactive derivative can be carried out in the presence or absence of a condensing agent. Preferable examples of the reactive derivative of the compound (IX) include a conventional reactive derivative such as a corresponding sulfonyl halide compound. As the condensing agent, for example, alkali metal carbonate, alkali metal hydrogen carbonate,
Any conventional one such as tri-lower alkylamine and pyridine can be used. This reaction is preferably carried out in a suitable solvent (eg, water, ethyl acetate) under cooling to heating.
R2が低級アルコキシカルボニル低級アルキル基である場
合の加水分解は、例えば、塩基または酸で処理すること
により実施することができる。塩基としては例えば水酸
化アルカリ金属を、酸としては、例えば鉱酸を適宜用い
ることができる。本加水分解反応は適当な溶媒(例えば
水、低級アルカノール)中、冷却〜加温下で実施するの
が好ましい。When R 2 is a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, hydrolysis can be carried out by, for example, treating with a base or an acid. As the base, for example, an alkali metal hydroxide can be appropriately used, and as the acid, for example, a mineral acid can be appropriately used. This hydrolysis reaction is preferably carried out in a suitable solvent (eg water, lower alkanol) under cooling to heating.
上記反応における化合物(IV)、(V)、(VII)及び
(VIII)の塩としては、例えばアルカリ金属塩、アルカ
リ土類金属塩等を用いることができる。As the salts of the compounds (IV), (V), (VII) and (VIII) in the above reaction, for example, alkali metal salts, alkaline earth metal salts and the like can be used.
また、本発明の目的化合物(I)はインダン骨格の2位
に存在する不斉炭素原子に基づく2種の光学異性体及び
その混合物のいずれをも包含するが、上記反応はすべて
ラセミ化を伴わずに進行するため、光学活性な原料化合
物を用いれば、目的化合物(I)も光学活性体として得
ることができる。Further, the object compound (I) of the present invention includes both two kinds of optical isomers based on an asymmetric carbon atom present at the 2-position of the indane skeleton and a mixture thereof, but all the above reactions involve racemization. Since the reaction proceeds without any reaction, the target compound (I) can be obtained as an optically active substance by using an optically active starting compound.
(実施例) 実施例1 (1)水素化ホウ素ナトリウム3.4gをエタノール340mlに
懸濁し、15℃にて4-〔(2-ホルミルアミノインダン-5-
イル)オキサリルアミノ〕−n−酪酸メチルエステル80
gを徐々に加える。15〜20℃にて2時間攪拌する。反応
終了後、エタノールを留去する。残渣をクロロホルムに
溶解、洗浄、乾燥後、溶媒を留去して4-〔2-(2-ホルミ
ルアミノインダン-5-イル)-2-ヒドロキシアセチルアミ
ノ〕−n−酪酸メチルエステル80gを粘性油状物として
得る。(Example) Example 1 (1) 3.4 g of sodium borohydride was suspended in 340 ml of ethanol, and 4-[(2-formylaminoindan-5-
Il) oxalylamino] -n-butyric acid methyl ester 80
Gradually add g. Stir for 2 hours at 15-20 ° C. After the reaction is completed, ethanol is distilled off. The residue was dissolved in chloroform, washed and dried, then the solvent was distilled off and 80 g of 4- [2- (2-formylaminoindan-5-yl) -2-hydroxyacetylamino] -n-butyric acid methyl ester was obtained as a viscous oil. Get as a thing.
(2)本品80gをテトラヒドロフラン540mlに溶解し、トリ
エチルアミン34.9g、無水酢酸29.4gを加える。次い
で、4-ジメチルアミノピリジン0.2gを加える。25〜30
℃にて1時間攪拌後、メタノール40mlを加え、過剰の無
水酢酸を分解する。溶媒留去後、残渣をクロロホルムに
溶解、洗浄、乾燥後、溶媒を留去して、4-〔2-アセトキ
シ-2-(2-ホルミルアミノインダン-5-イル)アセチルア
ミノ〕−n−酪酸メチルエステル90gを粘性油状物とし
て得る。 (2) 80 g of this product is dissolved in 540 ml of tetrahydrofuran, and 34.9 g of triethylamine and 29.4 g of acetic anhydride are added. Then 0.2 g of 4-dimethylaminopyridine is added. 25-30
After stirring at ℃ for 1 hour, 40 ml of methanol is added to decompose excess acetic anhydride. After the solvent was distilled off, the residue was dissolved in chloroform, washed and dried, and then the solvent was distilled off to give 4- [2-acetoxy-2- (2-formylaminoindan-5-yl) acetylamino] -n-butyric acid. 90 g of the methyl ester are obtained as viscous oil.
(3)本品90gをメタノール600mlに溶解し、窒素気流下10
%パラジウム−炭素9.6gを加える。次いでギ酸アンモ
ニウム60.8gを加え、20℃で15時間攪拌する。反応後、
溶媒を留去する。残渣をクロロホルムに溶解、洗浄、乾
燥後、溶媒を留去する。残渣を酢酸エチル−イソプロピ
ルエーテル混液から再結晶して4-〔(2-ホルミルアミノ
インダン-5-イル)アセチルアミノ〕−n−酪酸メチル
エステル59.8gを得る。 (3) Dissolve 90 g of this product in 600 ml of methanol, and in a nitrogen stream 10
% 9.6 g of palladium-carbon is added. Next, 60.8 g of ammonium formate is added, and the mixture is stirred at 20 ° C. for 15 hours. After the reaction
The solvent is distilled off. The residue is dissolved in chloroform, washed and dried, and then the solvent is distilled off. The residue is recrystallized from a mixed solution of ethyl acetate-isopropyl ether to obtain 5-9.8 g of 4-[(2-formylaminoindan-5-yl) acetylamino] -n-butyric acid methyl ester.
m.p.89〜93℃ (4)本品56.1gをメタノール1000mlに溶解し、5%塩化
水素−メタノール溶液を加え、室温にて3日間攪拌す
る。反応後溶媒を留去し、残渣をエーテル−イソプロピ
ルアルコール混液で結晶化し、さらにメタノール−エー
テル混液から再結晶して4−〔(2−アミノインダン−
5−イル)アセチルアミノ〕−n−酪酸メチルエステル
・塩酸塩49.5gを無色針状晶として得る。m. p. 89-93 ° C (4) 56.1 g of this product is dissolved in 1000 ml of methanol, 5% hydrogen chloride-methanol solution is added, and the mixture is stirred at room temperature for 3 days. After the reaction, the solvent was distilled off, the residue was crystallized with an ether-isopropyl alcohol mixed solution, and recrystallized from a methanol-ether mixed solution to give 4-[(2-aminoindan-
5-yl) acetylamino] -n-butyric acid methyl ester hydrochloride (49.5 g) is obtained as colorless needle crystals.
m.p.200〜201℃ (5)本品42.5g、4−クロロフェニルスルホニルクロリ
ド27.6g、炭酸カリウム54.4g、酢酸エチル1000ml及び
水1000mlの混合物を、室温にて15分間攪拌する。反応
後、有機層を分取し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、酢
酸エチル−n-ヘキサン混液から再結晶して4−{〔2−
〔(4−クロロフェニル)スルホニルアミノ〕インダン
−5−イル〕アセチルアミノ}−n−酪酸メチルエステ
ル57.1gを得る。m. p. 200 to 201 ° C. (5) A mixture of 42.5 g of this product, 27.6 g of 4-chlorophenylsulfonyl chloride, 54.4 g of potassium carbonate, 1000 ml of ethyl acetate and 1000 ml of water is stirred at room temperature for 15 minutes. After the reaction, the organic layer was separated, washed and dried, the solvent was distilled off, and recrystallized from a mixed solution of ethyl acetate-n-hexane to give 4-{[2-
57.1 g of [(4-chlorophenyl) sulfonylamino] indan-5-yl] acetylamino} -n-butyric acid methyl ester are obtained.
m.p.128〜129℃ (6)本品50.2gのメタノール溶液500mlに攪拌下、室温に
て、1N−水酸化ナトリウム水溶液270mlを加え、つい
で同温にて2時間攪拌する。反応後、冷却攪拌下、6N
−塩酸44mlにてpH4とし、メタノールを留去し、10
%塩酸を加えてpH1とし、酢酸エチル−テトラヒドロ
フラン混液で抽出する。乾燥後、溶媒を留去し、残渣を
テトラヒドロフラン220mlに溶かし、イソプロピルエー
テル600mlを加えて結晶化して4−{〔2−〔(4−ク
ロロフェニル)スルホニルアミノ〕インダン−5−イ
ル〕アセチルアミノ}−n−酪酸46.2gを得る。収率:
95% m.p. 123.5〜125.5℃ ナトリウム塩 m.p. 196.1℃(分解) 実施例2 (1)対応原料化合物を実施例1−(2)と同様に処理して4-
〔2-(2-ホルミルアミノインダン-5-イル)-2-(2-メチ
ルプロピオニルオキシ)アセチルアミノ〕−n−酪酸メ
チルエステルを得る。m. p. 128-129 [deg.] C. (6) To 500 ml of a solution of 50.2 g of this product under stirring at room temperature is added 270 ml of 1N sodium hydroxide aqueous solution, and then the mixture is stirred at the same temperature for 2 hours. After the reaction, under cooling and stirring, 6N
-Adjust the pH to 4 with 44 ml of hydrochloric acid and remove the methanol by distillation to give 10
% Hydrochloric acid to adjust the pH to 1, and extract with a mixed solution of ethyl acetate-tetrahydrofuran. After drying, the solvent was distilled off, the residue was dissolved in 220 ml of tetrahydrofuran, and 600 ml of isopropyl ether was added for crystallization to give 4-{[2-[(4-chlorophenyl) sulfonylamino] indan-5-yl] acetylamino}-. 46.2 g of n-butyric acid are obtained. yield:
95% mp 123.5-125.5 ° C Sodium salt mp 196.1 ° C (decomposition) Example 2 (1) The corresponding starting material compound was treated in the same manner as in Example 1- (2) to give 4-
[2- (2-Formylaminoindan-5-yl) -2- (2-methylpropionyloxy) acetylamino] -n-butyric acid methyl ester is obtained.
(2)本品を実施例1−(3)と同様に処理して4-〔(2-ホル
ミルアミノインダン-5-イル)アセチルアミノ〕−n−
酪酸メチルエステルを得る。 (2) This product was treated in the same manner as in Example 1- (3) to give 4-[(2-formylaminoindan-5-yl) acetylamino] -n-.
Butyric acid methyl ester is obtained.
(3)本品を実施例1−(4)〜(6)と同様に処理して4−
{〔2−〔(4−クロロフェニル)スルホニルアミノ〕
インダン−5−イル〕アセチルアミノ}−n−酪酸を得
る。(3) This product was treated in the same manner as in Example 1- (4) to (6), and 4-
{[2-[(4-chlorophenyl) sulfonylamino]]
Indan-5-yl] acetylamino} -n-butyric acid is obtained.
〔原料化合物の調製〕 (1)2−アミノインダン124.1gにギ酸エチルエス
テル500mlを加え、23時間還流する。余剰のギ酸エ
チルエステルを留去し、酢酸エチルに加熱して溶解、炭
末処理後、溶媒を留去し、n−ヘキサンで結晶化して2
−ホルミルアミノインダン144gを得る。[Preparation of raw material compound] (1) To 124.1 g of 2-aminoindane, 500 ml of ethyl formate was added, and the mixture was refluxed for 23 hours. Excessive formic acid ethyl ester was distilled off, heated and dissolved in ethyl acetate, treated with carbon powder, the solvent was distilled off, and crystallized with n-hexane to obtain 2
-144 g of formylaminoindan are obtained.
m.p. 74.5〜76℃ (2)4−(オキサロアミノ)−n−酪酸メチルエステル
0.3水和物11.67gを塩化メチレン100mlに懸
濁し、氷冷攪拌下、オキサリルクロリド15.23gの
塩化メチレン50ml溶液を滴下し、ジメチルホルムアミ
ド1滴を加え、室温で2.5時間攪拌する。反応後、溶
媒を留去して4−(クロロオキサリルアミノ)−n−酪
酸メチルエステルを得る。mp 74.5-76 ° C. (2) 4- (oxaloamino) -n-butyric acid methyl ester 0.3hydrate 11.67 g was suspended in 100 ml of methylene chloride, and with stirring under ice cooling, 15.23 g of oxalyl chloride in methylene chloride. A 50 ml solution is added dropwise, one drop of dimethylformamide is added, and the mixture is stirred at room temperature for 2.5 hours. After the reaction, the solvent is distilled off to obtain 4- (chlorooxalylamino) -n-butyric acid methyl ester.
本品の1,2−ジクロロエタン50ml溶液を粉末塩化ア
ルミニウム32.0gの1,2−ジクロロエタン50ml
懸濁液に冷却攪拌下、10分間かけて滴下する。次に2
−ホルミルアミノインダン6.45gの1,2−ジクロ
ロエタン50ml溶液を5℃以下で15分間かけて滴下
し、室温で2時間攪拌する。氷冷下に氷水及び酢酸エチ
ルを加え、酢酸エチルを抽出し、洗浄、乾燥する。濾過
後、溶媒を留去し、さらに酢酸エチルに溶解、炭末処理
後、溶媒を留去し、酢酸エチル−イソプロピルエーテル
混液から再結晶して4−〔(2−ホルミルアミノインダ
ン−5−イル)オキサリルアミノ〕−n−酪酸メチルエ
ステル11.77gを無色プリズム晶として得る。50 ml of 1,2-dichloroethane solution of this product is powdered aluminum chloride 32.0 g of 1,2-dichloroethane 50 ml.
The suspension is added dropwise over 10 minutes with cooling and stirring. Then 2
A solution of 6.45 g of formylaminoindan in 50 ml of 1,2-dichloroethane was added dropwise at 5 ° C. or lower over 15 minutes, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Ice water and ethyl acetate are added under ice cooling, and ethyl acetate is extracted, washed and dried. After filtration, the solvent was distilled off, the residue was dissolved in ethyl acetate, treated with carbon powder, the solvent was distilled off, and recrystallized from an ethyl acetate-isopropyl ether mixed solution to give 4-[(2-formylaminoindan-5-yl). ) Oxalylamino] -n-butyric acid methyl ester 11.77 g is obtained as colorless prism crystals.
m.p. 100〜102℃ (発明の効果) 本発明の方法によれば、中間体としてアルカノイルオキ
シメチレン化合物(VII)を用いれば、2−アミノイン
ダン骨格5位に導入されたシュウ酸誘導体のカルボニル
基を、短時間に、かつ、副反応を伴わずに還元してメチ
レン基に変換することができる。それゆえ、本発明によ
れば、硫黄化合物を用いることなく目的化合物(I)を
高収率・高純度で得ることができ、かつ、操作性を顕著
に改善できるという工業的に有利な製法である。mp 100 to 102 ° C. (Effect of the invention) According to the method of the present invention, when the alkanoyloxymethylene compound (VII) is used as an intermediate, the carbonyl group of the oxalic acid derivative introduced at the 5-position of the 2-aminoindane skeleton is It can be reduced and converted to a methylene group in a short time without involving side reactions. Therefore, according to the present invention, the target compound (I) can be obtained in high yield and high purity without using a sulfur compound, and the operability can be remarkably improved by an industrially advantageous production method. is there.
Claims (4)
ルコキシカルボニル低級アルキル基、R3はアミノ基の保
護基、R4はアルキル基、フェニル基もしくは置換フェニ
ル基を表す。) で示されるアルカノイルオキシメチレン化合物またはそ
の塩を還元することを特徴とする一般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるメチレン化合物またはその塩の製法。1. A general formula (Wherein R 2 represents a carboxy lower alkyl group or a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, R 3 represents a protecting group for an amino group, R 4 represents an alkyl group, a phenyl group or a substituted phenyl group). Or a general formula characterized by reducing its salt (However, the symbols have the same meanings as described above.) A method for producing a methylene compound or a salt thereof.
ルコキシカルボニル低級アルキル基、R3はアミノ基の保
護基を表す。) で示されるカルボニル化合物またはその塩を還元して一
般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるヒドロキシメチレン化合物とした後、 (2)このヒドロキシメチレン化合物またはその塩と一般
式 R4COOH (但し、R4はアルキル基、フェニル基もしくは置換フェ
ニル基を表す。) で示されるカルボン酸化合物又はその反応性誘導体とを
縮合反応させて一般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるアルカノイルオキシメチレン化合物とした
後、 (3)このアルカノイルオキシメチレン化合物またはその
塩を還元することを特徴とする一般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるメチレン化合物またはその塩の製法。(2) (1) General formula (However, R 2 represents a carboxy lower alkyl group or a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, and R 3 represents a protective group for an amino group.) Or a salt thereof is reduced to give a compound of the general formula (Where the symbols have the same meanings as described above), and (2) the hydroxymethylene compound or salt thereof and the general formula R 4 COOH (wherein R 4 is an alkyl group or a phenyl group). Or a substituted phenyl group), and a carboxylic acid compound represented by (Where the symbols have the same meanings as described above), and (3) the general formula characterized by reducing the alkanoyloxymethylene compound or a salt thereof. (However, the symbols have the same meanings as described above.) A method for producing a methylene compound or a salt thereof.
ルコキシカルボニル低級アルキル基、R3はアミノ基の保
護基、R4はアルキル基、フェニル基もしくは置換フェニ
ル基を表す。) で示されるアルカノイルオキシメチレン化合物またはそ
の塩を還元した後、アミノ基の保護基(R3)を除去し、さ
らに一般式 R1SO3H (但し、R1は置換もしくは非置換フェニル基、ナフチル
基または含硫複素環式基を表す。) で示されるスルホン酸化合物もしくはその反応性誘導体
と縮合反応させ、R2が低級アルコキシカルボニル低級ア
ルキル基である場合には、所望により加水分解し、要す
れば、生成物をその塩とすることを特徴とする一般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。) で示されるインダン誘導体またはその塩の製法。3. General formula (Wherein R 2 represents a carboxy lower alkyl group or a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, R 3 represents a protecting group for an amino group, R 4 represents an alkyl group, a phenyl group or a substituted phenyl group). Alternatively, after reducing the salt thereof, the protecting group (R 3 ) for the amino group is removed, and further the general formula R 1 SO 3 H (wherein R 1 is a substituted or unsubstituted phenyl group, naphthyl group or sulfur-containing heterocyclic group) is used. When the R 2 is a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, it is optionally hydrolyzed and, if necessary, the product is General formula characterized by being salt (However, the symbols have the same meanings as described above.) A method for producing an indane derivative or a salt thereof represented by the above.
ルコキシカルボニル低級アルキル基、R3はアミノ基の保
護基、R4はアルキル基、フェニル基もしくは置換フェニ
ル基を表す。) で示されるアルカノイルオキシメチレン化合物またはそ
の塩。4. A general formula (Wherein R 2 represents a carboxy lower alkyl group or a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, R 3 represents a protecting group for an amino group, R 4 represents an alkyl group, a phenyl group or a substituted phenyl group). Or its salt.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1333176A JPH0623153B2 (en) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | Process for producing indane derivative and its synthetic intermediate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1333176A JPH0623153B2 (en) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | Process for producing indane derivative and its synthetic intermediate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03190854A JPH03190854A (en) | 1991-08-20 |
| JPH0623153B2 true JPH0623153B2 (en) | 1994-03-30 |
Family
ID=18263151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1333176A Expired - Lifetime JPH0623153B2 (en) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | Process for producing indane derivative and its synthetic intermediate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0623153B2 (en) |
-
1989
- 1989-12-21 JP JP1333176A patent/JPH0623153B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03190854A (en) | 1991-08-20 |
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