JPH0623428B2 - 真空蒸着めつき装置の巻付けロ−ル - Google Patents
真空蒸着めつき装置の巻付けロ−ルInfo
- Publication number
- JPH0623428B2 JPH0623428B2 JP3777587A JP3777587A JPH0623428B2 JP H0623428 B2 JPH0623428 B2 JP H0623428B2 JP 3777587 A JP3777587 A JP 3777587A JP 3777587 A JP3777587 A JP 3777587A JP H0623428 B2 JPH0623428 B2 JP H0623428B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- strip
- winding roll
- surface roughness
- rmax
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は真空蒸着めっき装置の蒸着室内部に設けられる
改良された巻付けロールに関する。
改良された巻付けロールに関する。
［技術背景］ 真空蒸着めっきは、めっき金属蒸着雰囲気下の真空蒸着
室内に鋼帯等の金属帯（ストリップ）を導き、めっき金
属蒸着をストリップ表面に蒸着させる方法であり、現在
実用化されている真空蒸着めっき装置に設置されている
蒸着室には、その内部にストリップの進行方向を案内す
るための巻付けロールが設けられている。更に蒸着室内
部には蒸発槽が設けられており、該蒸発槽の上側にはめ
っき金属蒸気をストリップ表面に導くダクトが巻付けロ
ールに向って延設されている。
室内に鋼帯等の金属帯（ストリップ）を導き、めっき金
属蒸着をストリップ表面に蒸着させる方法であり、現在
実用化されている真空蒸着めっき装置に設置されている
蒸着室には、その内部にストリップの進行方向を案内す
るための巻付けロールが設けられている。更に蒸着室内
部には蒸発槽が設けられており、該蒸発槽の上側にはめ
っき金属蒸気をストリップ表面に導くダクトが巻付けロ
ールに向って延設されている。
蒸着室内部に導かれたストリップは巻付けロール外周に
圧接して、その向きを変え、導入側と略同じ側に送り出
される。ストリップが巻付けロールに圧接して反転され
る間に、ダクトを通じて送られためっき金属蒸気がスト
リップ表面に蒸着し、片面めっきが施される。両面めっ
きを施す場合には該蒸着室を２段に配設し、逐次、片面
めっきを行なうことによりストリップ両面をめっきす
る。
圧接して、その向きを変え、導入側と略同じ側に送り出
される。ストリップが巻付けロールに圧接して反転され
る間に、ダクトを通じて送られためっき金属蒸気がスト
リップ表面に蒸着し、片面めっきが施される。両面めっ
きを施す場合には該蒸着室を２段に配設し、逐次、片面
めっきを行なうことによりストリップ両面をめっきす
る。
上記両面めっきにおいては、１段目の蒸着室内部の巻付
けロールにはストリップ裏面が圧接して表面にめっきが
施され、２段目の蒸着室内部の巻付けロールには１段目
でめっきされたストリップの裏面、即ちめっき面が接触
し、未だめっきされていない裏面にめっきが施される。
けロールにはストリップ裏面が圧接して表面にめっきが
施され、２段目の蒸着室内部の巻付けロールには１段目
でめっきされたストリップの裏面、即ちめっき面が接触
し、未だめっきされていない裏面にめっきが施される。
以上のように両面めっきにおいては、２段目の巻付けロ
ールにはストリップのめっき面が圧接するので、巻付け
ロール表面はめっき面を損傷しないように出来るだけ平
滑であることが求められる。
ールにはストリップのめっき面が圧接するので、巻付け
ロール表面はめっき面を損傷しないように出来るだけ平
滑であることが求められる。
一方、巻付けロールは蒸着室内部に設置されており、め
っき金属蒸気雰囲気下にあるので、めっき金属蒸気が付
着しないように、ロール温度がめっき金属の蒸発温度以
上に保持されている。困に亜鉛めっきでは、亜鉛の融点
が419 ℃であることから、ストリップの板温を180 〜30
0 ℃とし、巻付けロールの温度を約500 ℃に保持してい
る。ストリップの板温が上昇すると、めっき層とストリ
ップ表面との間に脆弱な合金層が生じめっき密着性が損
なわれるので、ストリップの板温上昇は出来るだけ避け
なければならない。ここで巻付けロールの温度はストリ
ップの板温よりかなり高く保持されているので、ストリ
ップが巻付けロールに圧接する際に、ストリップは巻付
けロールからの熱伝達を受ける。この熱伝達を抑えるに
は巻付けロールとストリップとの接触面積が少ない程よ
く、このために巻付けロール表面は粗面であることが求
められる。
っき金属蒸気雰囲気下にあるので、めっき金属蒸気が付
着しないように、ロール温度がめっき金属の蒸発温度以
上に保持されている。困に亜鉛めっきでは、亜鉛の融点
が419 ℃であることから、ストリップの板温を180 〜30
0 ℃とし、巻付けロールの温度を約500 ℃に保持してい
る。ストリップの板温が上昇すると、めっき層とストリ
ップ表面との間に脆弱な合金層が生じめっき密着性が損
なわれるので、ストリップの板温上昇は出来るだけ避け
なければならない。ここで巻付けロールの温度はストリ
ップの板温よりかなり高く保持されているので、ストリ
ップが巻付けロールに圧接する際に、ストリップは巻付
けロールからの熱伝達を受ける。この熱伝達を抑えるに
は巻付けロールとストリップとの接触面積が少ない程よ
く、このために巻付けロール表面は粗面であることが求
められる。
以上のように、両面めっきを施す場合の巻付けロール
は、めっき面への当り疵を防止するためには、その表面
が平滑であることが求められ、他方、ストリップへの熱
伝達を抑制するためにはその表面が粗面であることが求
められる。
は、めっき面への当り疵を防止するためには、その表面
が平滑であることが求められ、他方、ストリップへの熱
伝達を抑制するためにはその表面が粗面であることが求
められる。
［問題解決の知見］ 本発明者等は、巻付けロールの中央部と両側部の表面粗
度を変え、ロール中央部の表面粗度を大きくして熱伝達
を抑制し、ロール両側部の表面粗度を小さくしてめっき
面の当り疵を防止することにより、上記相反する要請を
同時に充足できることを見出した。
度を変え、ロール中央部の表面粗度を大きくして熱伝達
を抑制し、ロール両側部の表面粗度を小さくしてめっき
面の当り疵を防止することにより、上記相反する要請を
同時に充足できることを見出した。
［発明の構成］ 本発明によれば、蒸着室内部に配設され、ストリップに
接触してこれを案内する巻付けロールであって、ロール
両側部の表面粗度がロール中央部の表面粗度の1/2〜1/3
である巻付けロールが提供される。
接触してこれを案内する巻付けロールであって、ロール
両側部の表面粗度がロール中央部の表面粗度の1/2〜1/3
である巻付けロールが提供される。
また、上記巻付けロールの好適な実施態様として、(a)
ロール中央部の表面粗度がＲmax 30μｍ〜60μｍ、好ま
しくはＲmax 30μｍ〜35μｍであり、ロール両側部の表
面粗度Ｒmax 10μｍ〜30μｍ、好ましくはＲmax 15μｍ
〜20μｍである巻付けロール、(b) クラウンロールであ
り、ロール中央部のフラット部の表面粗度がロール両側
部の表面粗度より大きい巻付けロールが夫々提供され
る。
ロール中央部の表面粗度がＲmax 30μｍ〜60μｍ、好ま
しくはＲmax 30μｍ〜35μｍであり、ロール両側部の表
面粗度Ｒmax 10μｍ〜30μｍ、好ましくはＲmax 15μｍ
〜20μｍである巻付けロール、(b) クラウンロールであ
り、ロール中央部のフラット部の表面粗度がロール両側
部の表面粗度より大きい巻付けロールが夫々提供され
る。
蒸発めっき装置の概略を第１図に示す。
蒸着室１０、１１の前後には蒸着室内部の真空を保持す
るため多数の真空室（シールロール室）１２に区画され
た搬送路１３が接続している。鋼帯１４はシールロール
室群を経て、蒸着室１０、１１に導かれる。蒸着室内部
には鋼帯１４を案内する巻付けロール１５、１６と、め
っき浴を貯留する蒸発槽１７、１８が配設されている。
蒸発槽１７、１８の上部には鋼帯表面にめっき金属蒸気
を案内するダクト１９、２０が巻付けロール１５、１６
に向って延設されている。巻付けロール１５１６回転自
在に軸支されており、鋼帯１４の移動に伴ない回転す
る。
るため多数の真空室（シールロール室）１２に区画され
た搬送路１３が接続している。鋼帯１４はシールロール
室群を経て、蒸着室１０、１１に導かれる。蒸着室内部
には鋼帯１４を案内する巻付けロール１５、１６と、め
っき浴を貯留する蒸発槽１７、１８が配設されている。
蒸発槽１７、１８の上部には鋼帯表面にめっき金属蒸気
を案内するダクト１９、２０が巻付けロール１５、１６
に向って延設されている。巻付けロール１５１６回転自
在に軸支されており、鋼帯１４の移動に伴ない回転す
る。
第２図に示すように巻付けロール１６の形状はクラウン
ロールであることが好ましく、該ロールの表面はその中
央のフラット部３０の粗度Ｒ１と両側のテーパ部分３１
の粗度Ｒ２とが異なり、Ｒ２はＲ１の約1/2 〜1/3 であ
る。具体的には好適な実施態様において、ロール中央フ
ラット部分の表面粗度Ｒ１はＲmax 30μｍ〜60μｍ、好
ましくはＲmax 30μｍ〜35μｍであり、ロール両側テー
パ部分の表面粗度Ｒ２はＲmax 10μｍ〜30μｍ、好まし
くはＲmax 10μｍ〜20μｍである。巻付けロールの表面
粗度Ｒ１、Ｒ２を上記範囲に設定することによりストリ
ップと巻付けロールとの接触面積が減少し、ストリップ
への熱伝達が抑制される。
ロールであることが好ましく、該ロールの表面はその中
央のフラット部３０の粗度Ｒ１と両側のテーパ部分３１
の粗度Ｒ２とが異なり、Ｒ２はＲ１の約1/2 〜1/3 であ
る。具体的には好適な実施態様において、ロール中央フ
ラット部分の表面粗度Ｒ１はＲmax 30μｍ〜60μｍ、好
ましくはＲmax 30μｍ〜35μｍであり、ロール両側テー
パ部分の表面粗度Ｒ２はＲmax 10μｍ〜30μｍ、好まし
くはＲmax 10μｍ〜20μｍである。巻付けロールの表面
粗度Ｒ１、Ｒ２を上記範囲に設定することによりストリ
ップと巻付けロールとの接触面積が減少し、ストリップ
への熱伝達が抑制される。
尚、Ｒ1：Ｒmax 30μｍ〜35μｍ、Ｒ2：Ｒmax 15μｍ〜
20μｍのとき、巻付けロールとストリップ間の熱伝達係
数αは約75であり比較的小さい。
20μｍのとき、巻付けロールとストリップ間の熱伝達係
数αは約75であり比較的小さい。
また巻付けロールの形状をクラウンロールとし、ロール
両側部の表面粗度を小さくすることによりストリップめ
っき面の当り疵の発生が確実に防止される。ストリップ
が巻付けロールからの熱伝達により僅かに膨張する場
合、ストリップはその長さ方向よりも板幅方向に熱膨張
の影響を受け易く、ストリップの両側部分に疵を発生し
易い。本発明の巻付けロールは、ロール両側部の表面粗
度を小さくすることによりストリップ側端部との接触を
滑らかにし、更にロールの形状をクラウンロールとする
ことによりストリップ両側部分と巻付けロールとの接触
圧を軽減し、めっき面の疵を確実に防止する。
両側部の表面粗度を小さくすることによりストリップめ
っき面の当り疵の発生が確実に防止される。ストリップ
が巻付けロールからの熱伝達により僅かに膨張する場
合、ストリップはその長さ方向よりも板幅方向に熱膨張
の影響を受け易く、ストリップの両側部分に疵を発生し
易い。本発明の巻付けロールは、ロール両側部の表面粗
度を小さくすることによりストリップ側端部との接触を
滑らかにし、更にロールの形状をクラウンロールとする
ことによりストリップ両側部分と巻付けロールとの接触
圧を軽減し、めっき面の疵を確実に防止する。
表面粗度Ｒ１を有するロール中央部３０の広さＬは、最
大ストリップ幅の約1/1.5 〜1/2 に相当する程度が好ま
しく、具体的には、一例として板幅が760 〜1250ｍｍの
鋼帯に対し、胴長約1800mmの巻付けロールを用いると
き、フラット部分３０の広さ約700 mm、テーパ部分の広
さ、片側約550mmであれば良い。
大ストリップ幅の約1/1.5 〜1/2 に相当する程度が好ま
しく、具体的には、一例として板幅が760 〜1250ｍｍの
鋼帯に対し、胴長約1800mmの巻付けロールを用いると
き、フラット部分３０の広さ約700 mm、テーパ部分の広
さ、片側約550mmであれば良い。
表面粗度加工の方法は特に限定されず、例えば、セラミ
ックス溶射処理を施すことにより好適な表面粗度を得る
ことが出来る。該溶射処理工程の一例を以下に示す。
ックス溶射処理を施すことにより好適な表面粗度を得る
ことが出来る。該溶射処理工程の一例を以下に示す。
下地研摩→ショットブラスト→ブラッシング→ショット
ブラスト→セラミック溶射→バフ研摩 ［実施例および比較例］ 第１図に示す真空蒸着めっき装置において、第２段目の
蒸着室に設置される巻付けロールとして、次表に示す表
面粗度Ｒ１、Ｒ２を有する巻付けロールを用い、板幅12
19mmの鋼帯の両面に亜鉛蒸着めっきを施したところ、次
表に示すようにめっき面に当り疵は全く認められず、ま
た合金層も形成されなかった。
ブラスト→セラミック溶射→バフ研摩 ［実施例および比較例］ 第１図に示す真空蒸着めっき装置において、第２段目の
蒸着室に設置される巻付けロールとして、次表に示す表
面粗度Ｒ１、Ｒ２を有する巻付けロールを用い、板幅12
19mmの鋼帯の両面に亜鉛蒸着めっきを施したところ、次
表に示すようにめっき面に当り疵は全く認められず、ま
た合金層も形成されなかった。
一方、ロールにテーパが施されておらず、ロール表面全
体の粗度がＲmax 50〜60μｍ、熱伝達係数αが20〜30の
巻付けロールを用い、前記実施例と同一の条件で亜鉛め
っきを施したとこと、次表に示すようにめっき面に疵の
発生がみられた。
体の粗度がＲmax 50〜60μｍ、熱伝達係数αが20〜30の
巻付けロールを用い、前記実施例と同一の条件で亜鉛め
っきを施したとこと、次表に示すようにめっき面に疵の
発生がみられた。
第１図は真空蒸着めっき装置の部分概略図、第２図は巻
付けロールの説明図。 図面中、１０、１１……蒸着室 １２……真空室、１３……搬送路 １４……鋼帯、１５、１６……巻付けロール １７、１８……蒸発槽、１９、２０……ダクト ３０……フラット部、３１……テーパ部
付けロールの説明図。 図面中、１０、１１……蒸着室 １２……真空室、１３……搬送路 １４……鋼帯、１５、１６……巻付けロール １７、１８……蒸発槽、１９、２０……ダクト ３０……フラット部、３１……テーパ部
フロントページの続き (72)発明者 柳 謙一 広島県広島市西区観音新町４丁目６番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内 (72)発明者 古川 平三郎 広島県広島市西区観音新町４丁目６番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内 (72)発明者 橋本 律男 広島県広島市西区観音新町４丁目６番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内 (72)発明者 田口 俊夫 広島県広島市西区観音新町４丁目６番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】蒸着室内部に配設され、ストリップに接触
してこれを案内する巻付けロールであって、ロール両側
部の表面粗度がロール中央部の表面粗度の1/2〜1/3であ
る巻付けロール。 - 【請求項２】ロール中央部の表面粗度がＲmax 60μｍ〜
30μｍ、好ましくはＲmax 30μｍ〜35μｍであり、ロー
ル両側部の表面粗度Ｒmax 30μｍ〜10μｍ、好ましくは
Ｒmax 15μｍ〜20μｍである特許請求の範囲第１項の巻
付けロール。 - 【請求項３】クラウンロールであり、ロール中央部のフ
ラット部の表面粗度がロール両側部の表面粗度より大き
い特許請求の範囲第１項または第２項の巻付けロール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3777587A JPH0623428B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 真空蒸着めつき装置の巻付けロ−ル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3777587A JPH0623428B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 真空蒸着めつき装置の巻付けロ−ル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63206470A JPS63206470A (ja) | 1988-08-25 |
| JPH0623428B2 true JPH0623428B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=12506857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3777587A Expired - Lifetime JPH0623428B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 真空蒸着めつき装置の巻付けロ−ル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0623428B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007009615A1 (de) | 2007-02-26 | 2008-08-28 | Leybold Optics Gmbh | Anlage und Verfahren zur Vakuumbehandlung von bandförmigen Substraten |
| JP7263105B2 (ja) * | 2019-05-08 | 2023-04-24 | 株式会社アルバック | 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 |
-
1987
- 1987-02-23 JP JP3777587A patent/JPH0623428B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63206470A (ja) | 1988-08-25 |
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