JPH0623575A - 液晶マスク式レーザマーカによりマーキングされた製品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明の目的は、視認性に優れたパターンが刻
印された製品を得ることが出来る液晶マスク式レーザマ
ーカによりマーキングされた製品を提供することにあ
る。 【構成】レーザ発振器１からのレーザ光を液晶マスク５
に入射し、マスク上の刻印パターン４を製品１１上に転
写する。製品の刻印パターンの一部に垂直部を含み、こ
の垂直部から見て左右の少なくとも一方側に傾斜した傾
斜部を、凸凹部に構成した。 【効果】凸凹部で乱反射して視認性に優れたパターンが
刻印された製品を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶マスクのパターンを
透過したレーザ光を製品に照射し、製品にパターンをマ
ーキングしたレーザマーカに関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に被加工物たとえば電子部品は、そ
の製造番号，製造年月，名称等の符号を刻印し、出所を
明示している。従来、レーザ光による刻印方法として
は、金属製マスクあるいは、ガラス製マスクにレーザ光
を照射しマスク上の文字や記号等の印字情報を被加工物
に転写するマスク式マーカと、集光されたレーザビーム
を被加工物上で走査し一筆書きの要領で刻印するスキャ
ン式マーカが製品化されている。

【０００３】マスク式マーカによるマーキングは図４、
に示すように、シャープな刻印が得られるのが特徴であ
るが、刻印内容を変更するには、マスクそのものを交換
しなければならないという問題がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】一方、スキャン式マー
カによるマーキングは、刻印内容を制御装置により自由
に変更できるという特徴があるが、図５に示すように、
中心部で深く、周辺部で浅い刻印となりシャープさに欠
けるという問題がある。

【０００５】本発明の目的は、視認性に優れたパターン
が刻印された製品を得ることが出来る液晶マスク式レー
ザマーカによりマーキングされた製品を提供することに
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の製品のパターンマーキングの一部に垂直
部を含み、この垂直部から見て左右の少なくとも一方側
に傾斜した傾斜部を、凸凹部に構成することにある。

【０００７】

【作用】凸凹部では光の乱反射が増して、刻印を認識し
やすくなった。

【０００８】

【実施例】以下、本発明の実施例を図１ないし図３によ
り説明する。

【０００９】図１はマスクとして、本発明による液晶マ
スクを使用したレーザマーカの斜視図で、本例では液晶
マスクとしてツイストネマティック型液晶を使用した場
合について述べる。

【００１０】レーザ発振器１からの直線偏光のレーザ光
２は、制御卓３からの制御信号により、刻印パターン４
（英文字のＲ）が表示されている液晶マスク５に入射す
る。出射光は刻印パターン４の情報を有するレーザ光６
と背景部のレーザ光７の二種類になるが、後者はビーム
スプリッタ８を通過して吸収板９に至る。前者はビーム
スプリッタ８で反射されて結像レンズ１０により製品１
１上に照射されパターンが転写される。１２は製品１１
を乗せたベルトコンベーアの移動方向を示す。製品上に
刻印されたパターンの拡大図を図２に示し、図３は図２
の拡大断面図であるが、液晶マスク５を使用したマーキ
ングＲではパターンがドットで形成されるため、曲線部
１３と傾斜部１４が階段状になることである。即ち、曲
線部１３と傾斜部１４とは垂直部１１Ａ又は横部１１Ｂ
に対して左右の一方側に傾斜しており、曲線部１３と傾
斜部１４とは階段状又は凸凹に構成されている。

【００１１】このため、液晶マスク５を使用したマーキ
ングＲは、エッジ部分１３、あるいは１４での光の乱反
射によって、シャープになり、従来のマスク式マーカの
パターンと比較して、刻印を認識しやすくなる。

【００１２】また、図３に示すように断面内でも微小な
突起１５が生じ、この部分でも光の乱反射１６を起こ
す。このような突起１５は金属マスク等を使用した従来
マーカでは生じない。なお、刻印パターンの情報を有す
るレーザ光６をビームスプリッタ８で反射させることに
より、背景部のレーザ光７と分離しているが、これは反
射によるレーザ光の損失の方が透過によるレーザ光の損
失より少ないことによる。

【００１３】また、上記、実施例では液晶マスクとして
ツイストネマティック型液晶を使用した場合について述
べたが、ＴＦＴ液晶等他の駆動方式の液晶でもパターン
がドットで形成されるものであればその効果は変わらな
い。また、使用されるレーザ光の波長や発振形態（連続
波，パルス波）でもその効果は変わらない。

【００１４】

【発明の効果】以上述べたように、液晶マスクを使用し
た本発明のレーザマーカによれば視認性に優れるパター
ンが刻印された製品を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の実施例として示した液晶マスク
を使用したレーザマーカの概略説明図である。

【図２】図２は図１の製品上に刻印されたパターンの拡
大平面図である。

【図３】図３は図１の製品上に刻印されたパターンの拡
大断面図である。

【図４】図４は従来のマスクマーカで刻印されたパター
ンの拡大断面図である。

【図５】図５は従来のスキャン式マーカで刻印されたパ
ターンの拡大断面図である。

【符号の説明】

１…レーザマーカ発振器、２…レーザ光、４…刻印パタ
ーン、５…液晶マスク、８…ビームスプリッタ、１１…
製品。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】パターンマスクとして液晶セルを使用した
   レーザマーカによりパターンをマーキングされた製品に
   おいて、上記製品のパターンマーキングの一部に垂直部
   を含み、この垂直部から見て左右の少なくとも一方側に
   傾斜した傾斜部を、凸凹部に構成したことを特徴とする
   液晶マスク式レーザマーカによりマーキングされた製
   品。