JPH06240475A - Treatment of iron chloride based etchant containing nickel - Google Patents
Treatment of iron chloride based etchant containing nickelInfo
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- JPH06240475A JPH06240475A JP2694693A JP2694693A JPH06240475A JP H06240475 A JPH06240475 A JP H06240475A JP 2694693 A JP2694693 A JP 2694693A JP 2694693 A JP2694693 A JP 2694693A JP H06240475 A JPH06240475 A JP H06240475A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 エッチング工程で発生する余剰の塩化ニッケ
ル及び塩化第1鉄を含むエッチング液から、簡単な操作
で、しかも低い運転コストで、金属ニッケル、金属鉄を
回収し、発生する塩素ガスを安全に有効利用して当該液
を再生する。
【構成】 ニッケルを含む塩化鉄系のエッチング液を隔
膜電解法で処理し、陰極でニッケル及び鉄を電析回収す
るとともに、陽極室で発生する塩素ガスを塩化第1鉄含
有のエッチング液に導き、当該液を酸化する。
(57) [Summary] [Purpose] Recovery and generation of metallic nickel and metallic iron from an etching solution containing excess nickel chloride and ferrous chloride generated in the etching process with simple operation and at low operating cost. Recycle the liquid by safely and effectively utilizing chlorine gas. [Structure] An iron chloride-based etching solution containing nickel is treated by a diaphragm electrolysis method to deposit and recover nickel and iron at the cathode, and chlorine gas generated in the anode chamber is led to an etching solution containing ferrous chloride. , Oxidize the liquid.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ニッケルを含む塩化鉄
系のエッチング液の処理方法に関するもので、特に当該
エッチング液を隔膜電解処理するとともに、そこで発生
する塩素ガスを有効にエッチング液の再生処理に用いる
方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for treating an iron chloride-based etching solution containing nickel, in particular, electrolytically treating the etching solution with a diaphragm, and effectively regenerating the chlorine gas generated therein. It relates to a method used for processing.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば、カラー受像管の一構成部材たる
シャドウマスクは、鉄及びニッケルを主成分とする素材
の厚さ0.1〜0.3mmの薄板にエッチング処理を施
して、多数の電子ビーム開孔を穿設することで形成され
る。2. Description of the Related Art For example, a shadow mask, which is a component of a color picture tube, has a thin plate of 0.1 to 0.3 mm in thickness made of a material containing iron and nickel as main components, and is subjected to an etching treatment to produce a large number of electrons. It is formed by forming a beam opening.
【0003】そのエッチング工程において、鉄及びニッ
ケルを主成分とする素材を塩化第2鉄により開孔穿設す
る場合、成分中のニッケルについては、In the etching step, when a material containing iron and nickel as the main components is perforated with ferric chloride, the nickel contained in the components is
【0004】[0004]
【化1】 [Chemical 1]
【0005】なる反応により、また鉄については、By the reaction, and for iron,
【0006】[0006]
【化2】 [Chemical 2]
【0007】なる反応により、エッチング能力を有しな
いFeCl2とNiCl2を生成する。このように、3価
の鉄イオンが還元されてなる2価の鉄イオンやニッケル
イオンを含むエッチング廃液は、環境汚染防止上および
経済的要請から再生し、エッチング操作に再利用するこ
とが望ましい。By the above reaction, FeCl 2 and NiCl 2 having no etching ability are produced. As described above, it is desirable that the etching waste liquid containing divalent iron ions and nickel ions obtained by reducing the trivalent iron ions is regenerated from the viewpoint of preventing environmental pollution and economical requirements, and reused in the etching operation.
【0008】ニッケルを含む廃液からニッケルを除去す
ることについては、従来から幾つかの方法が提案されて
いる。Several methods have conventionally been proposed for removing nickel from a nickel-containing waste liquid.
【0009】例えば、、特開平4−11989号公報に
おいては、ニッケル等の重金属を含む塩化鉄系の廃液
に、鉄粉と少量の塩化第2鉄を混入して、酸化還元電位
とpHの調整を行ない、次の反応を生じさせて、ニッケ
ルを析出除去することが提案されている。[0009] For example, in Japanese Patent Laid-Open No. 4-11989, for example, iron powder and a small amount of ferric chloride are mixed into an iron chloride waste liquid containing a heavy metal such as nickel to adjust the redox potential and pH. It is proposed that nickel be deposited and removed by carrying out the following reaction to cause the following reaction.
【0010】[0010]
【化3】 [Chemical 3]
【0011】[0011]
【化4】 [Chemical 4]
【0012】この場合、投入した鉄の表面に不動態の膜
が形成されると、反応の進行を妨げるが、少量の塩化第
2鉄の混入により、当該膜の生成を防止し、鉄粉の表面
を活性化することで、鉄粉の反応を進行させると共に、
析出されたニッケルを当該鉄粉に付着させて沈殿物を生
じさせるものである。[0012] In this case, if a passive film is formed on the surface of the charged iron, the progress of the reaction is hindered, but by mixing a small amount of ferric chloride, the formation of the film is prevented and the iron powder is formed. By activating the surface, the reaction of iron powder proceeds and
The deposited nickel is adhered to the iron powder to generate a precipitate.
【0013】そして、エッチング工程で生じたFeCl
2や鉄粉の混入により上記反応式で形成されたFeCl2
は、エッチング能力を有せず、当該FeCl2を含むエ
ッチング液が増加するにつれて、エッチング能率が低下
するが、上記環境汚染防止上および経済的要請から、そ
のようなエッチング液のエッチング能力を回復させるこ
とが要望される。そのためには、当該FeCl2をエッ
チング能力を有する塩化第2鉄に再生する手立てが必要
である。FeCl formed in the etching process
FeCl 2 formed by the above reaction formula due to the mixture of 2 and iron powder
Has no etching ability, and the etching efficiency decreases as the etching solution containing FeCl 2 increases, but the etching ability of the etching solution is recovered from the above environmental pollution prevention and economical requirements. Is required. For that purpose, it is necessary to take measures to regenerate the FeCl 2 into ferric chloride having etching ability.
【0014】そこで、特開平4−11989号公報にお
いては、塩素ガスを吹き込むことによって、FeCl2
をFeCl3に酸化して、廃液の再生を行なうとしてい
る。Therefore, in Japanese Patent Laid-Open No. 4-11989, by blowing chlorine gas, FeCl 2
Is said to be oxidized to FeCl 3 to regenerate the waste liquid.
【0015】また、特開昭59−190367号公報に
おいては、NiCl2やFeCl2を含む組成物にオキシ
ム試薬を加えて、ニッケルを含む組成物を沈殿性錯塩に
変性し、当該沈殿性錯塩から分離された2価の鉄イオン
を含む組成物に塩素ガスを溶解させてFeCl3に再生
することが提案されている。Further, in JP-A-59-190367, an oxime reagent is added to a composition containing NiCl 2 or FeCl 2 to modify the composition containing nickel into a precipitating complex salt. It has been proposed to dissolve chlorine gas in the separated composition containing divalent iron ions to regenerate FeCl 3 .
【0016】[0016]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
4−11989号公報に開示された鉄粉を投入してニッ
ケルを析出除去する方法においては、エッチング工程以
外でも、鉄粉の混入によりFeCl2が形成され、これ
を酸化させるので、かなり多量の余剰FeCl3が発生
することとなり、その処理が問題となる。However, in the method of depositing and removing nickel by introducing the iron powder disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-11989, FeCl 2 is mixed by mixing the iron powder in addition to the etching step. Since it is formed and is oxidized, a considerably large amount of excess FeCl 3 is generated, and its treatment becomes a problem.
【0017】また特開昭59−190367号公報に開
示されたオキシム試薬を加えてニッケルを沈殿除去する
方法では、オキシム試薬の添加に伴い発生するニッケル
錯塩を廃棄物として排出することとしているので、その
処理が問題となる。またエッチング工程で発生するFe
Cl2を酸化させることで、エッチング素材による余剰
のFeCl3が発生することとなり、その処理も問題と
なる。Further, in the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-190367, in which nickel is precipitated and removed by adding an oxime reagent, the nickel complex salt generated by the addition of the oxime reagent is discharged as a waste. That process becomes a problem. In addition, Fe generated in the etching process
By oxidizing Cl 2 , excessive FeCl 3 is generated due to the etching material, and its treatment also poses a problem.
【0018】そこで本発明は、上記した従来方法での問
題に鑑み、エッチング工程で発生する余剰の塩化ニッケ
ル及び塩化第1鉄を含むエッチング液から、簡単な操作
で、しかも低い運転コストで、金属ニッケル、金属鉄を
回収し、発生する塩素ガスを安全に有効利用して当該液
を再生することを課題としている。In view of the above-mentioned problems in the conventional method, the present invention uses an etching solution containing surplus nickel chloride and ferrous chloride generated in the etching step, which enables simple operation and low operating cost. The challenge is to recover nickel and metallic iron, and safely and effectively utilize the chlorine gas generated to regenerate the liquid.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明によ
り、ニッケルを含む塩化鉄系のエッチング液を隔膜電解
法で処理し、陰極でニッケル及び鉄を電析回収するとと
もに、陽極室で発生する塩素ガスを塩化第1鉄含有のエ
ッチング液に導き、当該液を酸化することにより解決さ
れる。According to the present invention, the above-mentioned problems are generated in an anode chamber while treating an iron chloride-based etching solution containing nickel by a diaphragm electrolysis method to deposit and recover nickel and iron at a cathode. This is solved by introducing the chlorine gas to the etching solution containing ferrous chloride and oxidizing the solution.
【0020】本発明の基本概念は、エッチング液を隔膜
電解法と塩素ガス法の両方で処理することを内容とする
もので、とりわけ、隔膜電解槽の陽極室で発生する塩素
ガスすべてを塩素ガス法に利用するので、全く無駄が生
じない。The basic concept of the present invention is to treat the etching solution by both the diaphragm electrolysis method and the chlorine gas method. In particular, all chlorine gas generated in the anode chamber of the diaphragm electrolysis cell is chlorine gas. Since it is used for the law, there is no waste.
【0021】塩素ガス法については、例えば、特開平2
−254188号公報で指摘されているように、従来は
理論上のみの再生方法と考えられていたが、本発明者は
その有効性を確認するとともに、特に本方法のために開
発した密閉型の電解槽を使用し、高電流密度の電解で積
極的に塩素ガスを発生させ、吸収塔を併用することによ
って、当該公報で言及されている「環境衛生上の問題」
を回避することに成功したものである。The chlorine gas method is described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No.
As pointed out in Japanese Patent Laid-Open No. 254188, conventionally, it was considered to be a reproduction method only theoretically, but the present inventor confirmed its effectiveness, and in particular, the closed-type regeneration method developed for this method. By using an electrolyzer to positively generate chlorine gas by high current density electrolysis and using an absorption tower together, "environmental hygiene problem" mentioned in the publication
Has been successfully avoided.
【0022】本発明の詳細な工程を以下に説明する。The detailed steps of the present invention will be described below.
【0023】ニッケルを含む塩化鉄系のエッチング液を
隔膜電解槽の陽極室に導き、含有する2価の鉄イオンを
3価の鉄イオンに酸化するとともに塩素ガスを発生させ
る工程と、隔膜を介して陰極室に移動した金属イオンか
らニッケル及び鉄を電析回収する工程と、陽極室で発生
した塩素ガスで塩化第1鉄含有のエッチング液を酸化す
る工程とからエッチング液を再生処理するのが、好適で
ある。A step of introducing an iron chloride-based etching solution containing nickel into the anode chamber of the diaphragm electrolyzer to oxidize the divalent iron ions contained therein to trivalent iron ions and generate chlorine gas, and through the diaphragm. To recover nickel and iron from the metal ions that have moved to the cathode chamber and to oxidize the ferrous chloride-containing etching liquid with the chlorine gas generated in the anode chamber. Is preferred.
【0024】また、ニッケルを含む塩化鉄系のエッチン
グ液を隔膜電解槽の陰極室に導き、含有する金属イオン
からニッケル及び鉄を電析回収する工程と、隔膜を介し
て陽極室に移動した塩素イオンを酸化して塩素ガスを発
生させる工程と、還元電析により金属イオン濃度を減じ
た液を上記塩素ガスで酸化する工程とからエッチング液
を再生処理しても、好適である。その際、隔膜電解槽を
複数個備えるようにして、還元電析により金属イオン濃
度を減じた液を次段の陰極室に導き、ニッケル及び鉄を
電析回収するとともに、陽極室で塩素ガスを発生させる
繰り返し工程を加えるようにしてもよい。Further, a step of introducing an iron chloride-based etching solution containing nickel into the cathode chamber of the diaphragm electrolytic cell to deposit and recover nickel and iron from the metal ions contained therein, and chlorine transferred to the anode chamber through the diaphragm. It is also preferable to regenerate the etching solution from the step of oxidizing the ions to generate chlorine gas and the step of oxidizing the solution in which the metal ion concentration is reduced by reduction electrodeposition with the chlorine gas. At that time, by providing a plurality of diaphragm electrolyzers, the solution in which the metal ion concentration was reduced by reduction electrodeposition was introduced to the next cathode chamber, and nickel and iron were electrodeposited and recovered, and chlorine gas was discharged in the anode chamber. You may make it add the repeating process to generate.
【0025】更に、ニッケルを含む塩化鉄系のエッチン
グ液を二段の隔膜電解槽の第1陰極室に導き、3価の鉄
イオンを2価の鉄イオンに還元する工程と、還元処理後
の当該液を冷却して塩化第1鉄を結晶として分離する工
程と、塩化第1鉄を分離した液を第2陰極室に導き、ニ
ッケル及び鉄を電析回収する工程と、還元電析により金
属イオン濃度を減じた液に上記塩化第1鉄結晶を再溶解
させる工程と、隔膜を介してそれぞれの陽極室に移動し
た塩素イオンを酸化して塩素ガスを発生させる工程と、
当該塩素ガスで、塩化第1鉄結晶を再溶解させた液を酸
化する工程とからエッチング液を再生処理することも、
一層好ましい。なぜならば、金属を電析回収する段階
で、鉄の濃度が低くなり、そのため回収金属中の鉄に対
するニッケルの比率を高めることができるからである。Further, a step of introducing an iron chloride-based etching solution containing nickel into the first cathode chamber of the two-stage diaphragm electrolysis cell to reduce trivalent iron ions to divalent iron ions, and a step after the reduction treatment. A step of cooling the liquid to separate ferrous chloride as crystals, a step of introducing the liquid from which ferrous chloride has been separated into a second cathode chamber to deposit and recover nickel and iron, and a metal by reduction electrodeposition A step of re-dissolving the ferrous chloride crystal in a liquid having a reduced ion concentration; a step of oxidizing chlorine ions transferred to each anode chamber through a diaphragm to generate chlorine gas;
It is also possible to regenerate the etching solution from the step of oxidizing the solution in which the ferrous chloride crystals are redissolved with the chlorine gas.
More preferable. This is because the concentration of iron becomes low at the stage of electrodepositing and recovering the metal, so that the ratio of nickel to iron in the recovered metal can be increased.
【0026】本発明で使用される電解隔膜としては、
陰極中に存在する3価から2価に還元された鉄の塩素錯
体が陽極側に移動することを制限し、多少の液面の揺れ
等では、陰極液と陽極液の混合が起こらない程度の気密
性を有し、できるかぎり電気抵抗の小さいものであ
り、できるだけ電極間の電気抵抗を上昇させないもの
であり、耐薬品性、とりわけ耐塩素化性に優れるもの
であって、膜自体が複極を形成しない、電気的に中
性、即ち、極性を持たないものである等の特性を有する
ことが要求され、例えば、モドアクリル、酢酸ビニル、
ポリエステル、PTFE、サラン等を挙げることができ
る。The electrolytic diaphragm used in the present invention includes:
Limiting the migration of the trivalent to divalent reduced iron chloride complex present in the cathode to the anode side, and even if the liquid level fluctuates slightly, mixing of the catholyte and anolyte does not occur. It is airtight, has the lowest possible electrical resistance, does not increase the electrical resistance between the electrodes as much as possible, has excellent chemical resistance, especially chlorination resistance, and the membrane itself is a bipolar electrode. It is required to have properties such as not forming, electrically neutral, that is, having no polarity, for example, modacrylic, vinyl acetate,
Examples thereof include polyester, PTFE, Saran and the like.
【0027】また電解槽での陽極には、塩素ガス発生の
際の過電圧を低下させる機能を有するものが求められ、
白金や、寸方安定アノード(dimentionaly stable anod
e、DSAと略称される)と称される(Ru−Sn)O2
/Ti、(Pt−Ir)O2/Tiを用いるのが好まし
い。陰極には、鉄、鉄-ニッケル合金、ニッケル、チタ
ン、カーボン等を用いるのが好ましい。これらの電極仕
様により、液に全く不純物を溶出させることなく、また
電極板から剥離しやすい金属の結晶を得ることができ
る。The anode in the electrolytic cell is required to have a function of lowering the overvoltage when chlorine gas is generated.
Platinum and dimentional y stable anod
e, abbreviated as DSA) (Ru-Sn) O 2
/ Ti, (Pt-Ir) O 2 / Ti is preferably used. It is preferable to use iron, iron-nickel alloy, nickel, titanium, carbon or the like for the cathode. With these electrode specifications, it is possible to obtain a metal crystal that is easy to peel from the electrode plate without elution of impurities in the liquid.
【0028】電解液は、液の電気抵抗を下げ実用的な電
流密度を保つために、50〜90℃に保持するのが好ま
しい。The electrolytic solution is preferably maintained at 50 to 90 ° C. in order to reduce the electric resistance of the solution and maintain a practical current density.
【0029】[0029]
【作用】例えば、ニッケル濃度が2.5〜15g/l程
度の低い場合には、2価の鉄イオン及びニッケルイオン
を含有するエッチング液を、先ず隔膜電解槽の陽極室に
導く。2価の鉄イオンはここで3価の鉄イオンに酸化再
生され、その一部は、2価の鉄イオンとニッケルイオン
と共に、陰極室に移動し、合金として還元電析される。For example, when the nickel concentration is as low as about 2.5 to 15 g / l, the etching solution containing divalent iron ions and nickel ions is first introduced into the anode chamber of the diaphragm electrolyzer. The divalent iron ions are oxidized and regenerated into trivalent iron ions, and a part of the divalent iron ions moves to the cathode chamber together with the divalent iron ions and nickel ions and undergoes reduction electrodeposition as an alloy.
【0030】陽極室では、塩素イオンが電子を失って塩
素ガスが発生する。当該塩素ガスは、吸収塔に導かれ
る。塩素ガスの発生により塩素濃度を減じ一部の2価の
鉄イオンを3価の鉄イオンに電解酸化された液は、陽極
室からエッチング槽に戻される。発生した塩素ガスによ
って、別の塩化第1鉄含有エッチング液を酸化して、再
生エッチャントとしてエッチング槽に戻す。In the anode chamber, chlorine ions lose electrons and chlorine gas is generated. The chlorine gas is introduced into the absorption tower. The liquid in which chlorine concentration is reduced by the generation of chlorine gas and a part of divalent iron ions is electrolytically oxidized into trivalent iron ions is returned from the anode chamber to the etching tank. The generated chlorine gas oxidizes another ferric chloride-containing etching solution and returns it to the etching tank as a regenerating etchant.
【0031】ニッケル濃度が比較的高い場合には、2価
の鉄イオン及びニッケルイオンを含有するエッチング液
を、上記とは逆に、先ず隔膜電解槽の陰極室に導く。エ
ッチング液に含まれる金属イオンは還元電析され、ニッ
ケルや鉄を含む合金が回収される。When the nickel concentration is relatively high, an etching solution containing divalent iron ions and nickel ions is first introduced into the cathode chamber of the diaphragm electrolyzer, contrary to the above. The metal ions contained in the etching solution are subjected to reduction electrodeposition to recover an alloy containing nickel or iron.
【0032】一方、陽極室では、塩素イオンが酸化され
て塩素ガスを発生する。当該塩素ガスは、吸収塔に集め
られる。塩素ガスの発生により塩素濃度を減じ還元電析
により金属イオン濃度を減じた液は、陰極室から抜き出
され、塩素ガスによって酸化再生されて、エッチング槽
に戻される。On the other hand, in the anode chamber, chlorine ions are oxidized to generate chlorine gas. The chlorine gas is collected in the absorption tower. The liquid whose chlorine concentration has been reduced by generation of chlorine gas and whose metal ion concentration has been reduced by reduction electrodeposition is extracted from the cathode chamber, oxidized and regenerated by chlorine gas, and returned to the etching tank.
【0033】塩化第1鉄の溶解度が塩化第2鉄のそれよ
りも小さいことを利用して、陰極液を冷却し、塩化第1
鉄を一旦結晶分離することで、電解条件を変えて、ニッ
ケルを効率良く回収することが可能である。Taking advantage of the fact that the solubility of ferrous chloride is smaller than that of ferric chloride, the catholyte is cooled to obtain ferric chloride.
By once crystallizing iron, nickel can be efficiently recovered by changing the electrolysis conditions.
【0034】本発明においては、通常の電解方法では発
生を極力抑えるように考慮されていた塩素ガスを、完全
密閉された系内においてエッチング液の再生に積極的に
利用するものである。In the present invention, chlorine gas, which has been considered to suppress the generation as much as possible in the usual electrolysis method, is positively utilized for regeneration of the etching solution in a completely sealed system.
【0035】[0035]
【実施例】以下に、本発明の実施例を挙げて更に具体的
に説明する。エッチング液の組成に応じて最適な方法が
選択される。電解方法は、電解毎に液を全量抜き出すバ
ッチ方式、濃度調整された電解液の循環する電解槽に、
電解液濃度が一体に保たれるように一定量の原液を供給
し、一定量の液を抜き出して回収する連続方式のいずれ
かを選択すればよく、場合によっては両方式を組み合わ
せてもよい。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples. The optimum method is selected according to the composition of the etching solution. The electrolysis method is a batch method in which the entire amount of liquid is extracted for each electrolysis, and an electrolytic cell in which the electrolytic solution whose concentration is adjusted circulates,
It suffices to select one of continuous methods in which a fixed amount of the stock solution is supplied so as to keep the concentration of the electrolytic solution in an integrated manner, and a fixed amount of the solution is withdrawn and recovered.
【0036】実施例1 図1に概念的に示された装置において、エッチング工程
に供されたエッチング原液は、エッチング槽1から、エ
ッチング廃液として、7ml/minの流量で、モドアク
リル製隔膜を有し電解電圧4Vの隔膜電解槽2の陽極室
3(電極;(Ru−Sn)O2/Ti)に導かれる。エ
ッチング槽1から引き出されたエッチング原液の一部
は、吸収塔5に導かれる。陽極室3では、2価の鉄イオ
ンが3価の鉄イオンに酸化され、その一部の3価鉄イオ
ンは、2価の鉄イオンとニッケルイオンと共に、隔膜を
介して陰極室4(電極;Ti)に移動する。 Example 1 In the apparatus conceptually shown in FIG. 1, the etching stock solution used in the etching process was used as an etching waste solution from the etching tank 1 at a flow rate of 7 ml / min and had a modacrylic membrane. It is guided to; anode chamber 3 of the diaphragm electrolytic cell 2 of the electrolytic voltage 4V ((Ru-Sn) O 2 / Ti electrode). A part of the stock solution for etching drawn out from the etching tank 1 is introduced into the absorption tower 5. In the anode chamber 3, divalent iron ions are oxidized into trivalent iron ions, and a part of the trivalent iron ions together with the divalent iron ions and nickel ions are intercalated into the cathode chamber 4 (electrode; Ti).
【0037】陽極では、塩素イオンが電子を奪われて、
塩素ガスを発生する。この塩素ガスは、吸収塔5に導か
れる。この導入塩素ガスによって、エッチング槽1から
引き出され吸収塔5に導かれたエッチング原液の一部
は、塩化第1鉄が塩化第2鉄にされる。このように酸化
再生された塩化第2鉄を含む液は、再生エッチャントと
してエッチング槽1に戻される。また塩素ガスの発生に
より塩素濃度を減じた陽極液も、再生エッチャントとし
てエッチング槽1に戻される。At the anode, chlorine ions are deprived of electrons,
Generates chlorine gas. This chlorine gas is guided to the absorption tower 5. Due to this introduced chlorine gas, ferrous chloride is converted to ferric chloride in a part of the stock solution for etching, which is extracted from the etching tank 1 and guided to the absorption tower 5. The liquid containing ferric chloride oxidized and regenerated in this manner is returned to the etching tank 1 as a regenerating etchant. In addition, the anolyte whose chlorine concentration is reduced by the generation of chlorine gas is also returned to the etching tank 1 as a regenerating etchant.
【0038】隔膜を介して陰極室4に移動した金属イオ
ンのうち、3価の鉄イオンは電子を受け取り、一旦、2
価の鉄イオンとなる。陰極室4では、陰極液が流入・流
出して循環する。電解に伴い、陰極液のpHが上昇し、
スラッジが発生するので、これを濾過しながら陰極液を
循環するのが好ましい。この陰極室4で、金属イオンが
還元電析される。析出回収された金属の組成を調べたと
ころ、鉄88.6%、ニッケル3.0%、銅5.9%、
クロム1.2%、コバルト0.3%の結果を得た。回収
金属の量は、2.0g/hであった。析出金属1gあた
りの電解電力は、4.2Wh/gであった。Of the metal ions that have moved to the cathode chamber 4 through the diaphragm, the trivalent iron ions receive electrons and once
It becomes a valent iron ion. In the cathode chamber 4, the catholyte flows in and out and circulates. With electrolysis, the pH of the catholyte increases,
Since sludge is generated, it is preferable to circulate the catholyte while filtering the sludge. In this cathode chamber 4, metal ions are reduced and electrodeposited. When the composition of the metal recovered by precipitation was investigated, iron 88.6%, nickel 3.0%, copper 5.9%,
The results were 1.2% chromium and 0.3% cobalt. The amount of recovered metal was 2.0 g / h. The electrolysis power per 1 g of deposited metal was 4.2 Wh / g.
【0039】78〜82℃の範囲に調整された隔膜電解
槽に入る直前の廃液の組成、循環する陰極液の組成、再
生エッチャントの組成は、それぞれ表1に示される通り
である。Table 1 shows the composition of the waste liquid, the composition of the circulating catholyte, and the composition of the regenerated etchant immediately before entering the diaphragm electrolyzer, which is adjusted to the range of 78 to 82 ° C.
【0040】[0040]
【表1】 [Table 1]
【0041】実施例2 図2に概念的に示された装置において、エッチング工程
に供されたエッチング原液は、エッチング槽1から、エ
ッチング廃液として、5ml/minの流量で、モドアク
リル製隔膜を有し電解電圧4.5Vの隔膜電解槽2の陰
極室4(電極;Ti)に導かれる。当該陰極室4では、
3価の鉄イオンが2価の鉄イオンに還元され、更に金属
イオンが還元電析される。隔膜を介して陽極室3(電
極;(Ru−Sn)O2/Ti)に移動した塩素イオン
は、陽極で酸化されて塩素ガスを発生する。発生した塩
素ガスは、吸収塔5に導かれる。隔膜電解槽2の陽極液
は、陽極室3を流入・流出して循環する。 Example 2 In the apparatus conceptually shown in FIG. 2, the undiluted etching solution used in the etching process has a modacrylic membrane as a waste etching solution from the etching tank 1 at a flow rate of 5 ml / min. It is introduced to the cathode chamber 4 (electrode; Ti) of the diaphragm electrolyzer 2 having an electrolysis voltage of 4.5V. In the cathode chamber 4,
Trivalent iron ions are reduced to divalent iron ions, and further metal ions are subjected to reduction electrodeposition. Chlorine ions that have moved to the anode chamber 3 (electrode; (Ru-Sn) O 2 / Ti) via the diaphragm are oxidized at the anode to generate chlorine gas. The generated chlorine gas is guided to the absorption tower 5. The anolyte in the diaphragm electrolyzer 2 circulates in and out of the anode chamber 3.
【0042】還元電析により金属イオン濃度を減じた陰
極液は、吸収塔5に導かれて、当該吸収塔5に導入され
た塩素ガスによって、塩化第1鉄が塩化第2鉄にされ
る。酸化再生された塩化第2鉄を含む液は、再生エッチ
ャントとしてエッチング槽1に戻される。The catholyte whose metal ion concentration has been reduced by reduction electrodeposition is introduced into the absorption tower 5, and the chlorine gas introduced into the absorption tower 5 turns ferrous chloride into ferric chloride. The liquid containing ferric chloride that has been oxidized and regenerated is returned to the etching tank 1 as a regenerating etchant.
【0043】陰極室4で析出回収された金属の組成を調
べたところ、鉄35.0%、ニッケル56.5%、銅
3.8%、クロム0.9%の結果を得た。回収金属の量
は、8.5g/hであった。析出金属1gあたりの電解
電力は、15.0Wh/gであった。When the composition of the metal deposited and recovered in the cathode chamber 4 was examined, the results were iron 35.0%, nickel 56.5%, copper 3.8% and chromium 0.9%. The amount of recovered metal was 8.5 g / h. The electrolysis power per 1 g of deposited metal was 15.0 Wh / g.
【0044】68〜72℃の範囲に調整された隔膜電解
槽に入る直前の廃液の組成、吸収塔に入る前の陰極液の
組成、循環する陽極液の組成、吸収塔を出た再生エッチ
ャントの組成は、それぞれ表2に示される通りである。The composition of the waste liquid just before entering the diaphragm electrolyzer adjusted to 68 to 72 ° C., the composition of the catholyte before entering the absorption tower, the composition of the circulating anolyte, and the composition of the regenerated etchant leaving the absorption tower. The composition is as shown in Table 2, respectively.
【0045】[0045]
【表2】 [Table 2]
【0046】実施例3 図3に概念的に示された装置において、エッチング工程
に供されたエッチング原液は、エッチング槽1から、エ
ッチング廃液として、5ml/minの流量で、モドアク
リル製隔膜を有し電解電圧4Vの第1隔膜電解槽2の陰
極室4(電極;Ti)に導かれる。陰極室4では、3価
の鉄イオンが2価の鉄イオンに還元され、一部の金属イ
オンは還元電析される。隔膜を介して陽極室3(電極;
(Ru−Sn)O2/Ti)に移動した塩素イオンは、
陽極で酸化されて塩素ガスを発生する。発生した塩素ガ
スは、吸収塔5に導かれる。第1隔膜電解槽2の陽極液
は、陽極室3を流入・流出して循環する。 Example 3 In the apparatus conceptually shown in FIG. 3, the stock solution for etching used in the etching step has a modacrylic membrane as a waste etching solution from the etching tank 1 at a flow rate of 5 ml / min. It is introduced into the cathode chamber 4 (electrode; Ti) of the first diaphragm electrolyzer 2 with an electrolysis voltage of 4V. In the cathode chamber 4, trivalent iron ions are reduced to divalent iron ions, and some metal ions are electro-deposited by reduction. Anode chamber 3 (electrode;
Chloride ions transferred to (Ru-Sn) O 2 / Ti) are
It is oxidized at the anode to generate chlorine gas. The generated chlorine gas is guided to the absorption tower 5. The anolyte in the first diaphragm electrolyzer 2 circulates in and out of the anode chamber 3.
【0047】還元電析により金属イオン濃度を減じ、陽
極室3への移動で塩素イオン濃度も減じた第1隔膜電解
槽2の陰極液は、同じくモドアクリル製隔膜を有し電解
電圧4.5Vの第2隔膜電解槽6の陰極室7(電極;T
i)に導かれる。陰極室7では、金属イオンが還元電析
される。第1隔膜電解槽2と第2隔膜電解槽6とから析
出回収された金属の組成を調べたところ、鉄7.0%、
ニッケル13.2%、銅78.0%、クロム0.25
%、スズ1.9%の結果を得た。回収金属の量は、9.
1g/hであった。析出金属1gあたりの電解電力は、
15Wh/gであった。The catholyte of the first diaphragm electrolyzer 2 whose metal ion concentration has been reduced by reduction electrodeposition and whose chloride ion concentration has been reduced by transfer to the anode chamber 3 has the same modacrylic membrane and has an electrolysis voltage of 4.5V. The cathode chamber 7 of the second diaphragm electrolyzer 6 (electrode; T
i). In the cathode chamber 7, metal ions are reduced and electrodeposited. When the composition of the metal deposited and recovered from the first diaphragm electrolyzer 2 and the second diaphragm electrolyzer 6 was investigated, iron 7.0%,
Nickel 13.2%, Copper 78.0%, Chromium 0.25
%, Tin 1.9%. The amount of recovered metal is 9.
It was 1 g / h. The electrolysis power per 1 g of deposited metal is
It was 15 Wh / g.
【0048】隔膜を介して陽極室8(電極;(Ru−S
n)O2/Ti)に移動した塩素イオンは、第1隔膜電
解槽と同じく陽極で酸化されて塩素ガスを発生する。発
生した塩素ガスは、吸収塔5に導かれる。第2隔膜電解
槽6の陽極液も、陽極室8を流入・流出して循環する。
金属イオン濃度が減じ、陽極室8への移動で塩素イオン
濃度も減じた第2隔膜電解槽6の陰極液は、吸収塔5に
導かれ、導入された塩素ガスと接触する。その結果、塩
化第1鉄が塩化第2鉄にされる。酸化再生された塩化第
2鉄を含む液は、再生エッチャントとしてエッチング槽
1に戻される。Anode chamber 8 (electrode; (Ru-S
n) Chlorine ions transferred to O 2 / Ti) are oxidized at the anode as in the first diaphragm electrolyzer to generate chlorine gas. The generated chlorine gas is guided to the absorption tower 5. The anolyte in the second diaphragm electrolyzer 6 also circulates in and out of the anode chamber 8.
The catholyte of the second diaphragm electrolyzer 6 whose metal ion concentration has been reduced and whose chlorine ion concentration has also been reduced by moving to the anode chamber 8 is introduced into the absorption tower 5 and contacts the introduced chlorine gas. As a result, ferrous chloride is converted to ferric chloride. The liquid containing ferric chloride that has been oxidized and regenerated is returned to the etching tank 1 as a regenerating etchant.
【0049】第1隔膜電解槽に入る直前の廃液の組成、
68〜72℃の範囲にそれぞれ調整された第1隔膜電解
槽・第2隔膜電解槽での陰極液及び陽極液の組成、再生
エッチャントの組成は、それぞれ表3に示される通りで
ある。Composition of the waste liquid immediately before entering the first diaphragm electrolyzer,
Table 3 shows the compositions of the catholyte and the anolyte and the composition of the regenerating etchant in the first diaphragm electrolytic cell and the second diaphragm electrolytic cell, respectively, adjusted to 68 to 72 ° C.
【0050】[0050]
【表3】 [Table 3]
【0051】実施例4 図3に概念的に示された装置において、エッチング工程
に供された実施例3とは異なる組成のエッチング原液
は、エッチング槽1から、エッチング廃液として、実施
例3と同様に第1隔膜電解槽2の陰極室4に導かれる。 Example 4 In the apparatus conceptually shown in FIG. 3, an etching stock solution having a composition different from that of Example 3 used in the etching process was discharged from the etching tank 1 as an etching waste solution and was used as in Example 3. Then, it is introduced into the cathode chamber 4 of the first diaphragm electrolyzer 2.
【0052】組成以外については実施例と同じ条件で電
解を行ない、第1隔膜電解槽2と第2隔膜電解槽6とか
ら析出回収された金属の組成を調べたところ、鉄71.
0%、ニッケル6.5%、銅17.2%、クロム0.2
%、コバルト0.04%、亜鉛0.03%の結果を得
た。回収金属の量は、7.0g/hであった。析出金属
1gあたりの電解電力は、7.2Wh/gであった。Electrolysis was carried out under the same conditions as in the example except for the composition, and the composition of the metal deposited and recovered from the first diaphragm electrolytic cell 2 and the second diaphragm electrolytic cell 6 was investigated. Iron 71.
0%, nickel 6.5%, copper 17.2%, chromium 0.2
%, Cobalt 0.04%, zinc 0.03%. The amount of recovered metal was 7.0 g / h. The electrolysis power per 1 g of deposited metal was 7.2 Wh / g.
【0053】第1隔膜電解槽に入る直前の廃液の組成、
78〜82℃の範囲にそれぞれ調整された第1隔膜電解
槽・第2隔膜電解槽での陰極液及び陽極液の組成、再生
エッチャントの組成は、それぞれ表4に示される通りで
ある。Composition of waste liquid immediately before entering the first diaphragm electrolyzer,
Table 4 shows the compositions of the catholyte and anolyte and the composition of the regeneration etchant in the first and second diaphragm electrolyzers and the second diaphragm electrolyzers, respectively, adjusted to the range of 78 to 82 ° C.
【0054】[0054]
【表4】 [Table 4]
【0055】実施例5 図4に概念的に示された装置において、エッチング工程
に供されたエッチング原液は、エッチング槽1から、エ
ッチング廃液として、5ml/minの流量で、モドアク
リル製隔膜を有し電解電圧4Vの第1隔膜電解槽2の陰
極室4(電極;Ti)に導かれる。陰極室4では、3価
の鉄イオンが2価の鉄イオンに還元される。還元された
2価の鉄イオンを含む陰極液を切替弁9で開閉調整され
た2個の冷却槽10のいずれかに導き、冷却する。塩化
第1鉄は塩化第2鉄に比べて、その溶解度が小さく、結
晶として分離可能である。 Example 5 In the apparatus conceptually shown in FIG. 4, the etching stock solution used in the etching step has a modacrylic membrane as a waste etching solution from the etching tank 1 at a flow rate of 5 ml / min. It is introduced into the cathode chamber 4 (electrode; Ti) of the first diaphragm electrolyzer 2 with an electrolysis voltage of 4V. In the cathode chamber 4, trivalent iron ions are reduced to divalent iron ions. The catholyte containing the reduced divalent iron ions is introduced into one of the two cooling tanks 10 whose opening and closing is adjusted by the switching valve 9 and is cooled. Ferrous chloride has a smaller solubility than ferric chloride and can be separated as crystals.
【0056】冷却槽10において、沈降した結晶を分離
したオーバーフロー液は、同じくモドアクリル製隔膜を
有し電解電圧4.5Vの第2隔膜電解槽6の陰極室7
(電極;Ti)に導かれる。In the cooling tank 10, the overflow liquid from which the precipitated crystals are separated is the cathode chamber 7 of the second diaphragm electrolytic tank 6 which also has a modacrylic diaphragm and has an electrolytic voltage of 4.5V.
(Electrode; Ti).
【0057】一方、隔膜を介して陽極室3(電極;(R
u−Sn)O2/Ti)に移動した塩素イオンは、陽極
で酸化されて塩素ガスを発生する。発生した塩素ガス
は、第1吸収塔5に導かれる。第1隔膜電解槽2の陽極
液は、陽極室3を流入・流出して循環する。On the other hand, the anode chamber 3 (electrode; (R
u-Sn) O 2 / Ti ) chlorine ions moved to generates chlorine gas is oxidized at the anode. The generated chlorine gas is guided to the first absorption tower 5. The anolyte in the first diaphragm electrolyzer 2 circulates in and out of the anode chamber 3.
【0058】鉄成分の濃度が減じられたオーバーフロー
液を受け入れた陰極室7では、金属イオンが還元電析さ
れる。この第2隔膜電解槽6から析出回収された金属の
組成を調べたところ、鉄15.5%、ニッケル81.0
%、銅0.05%の結果を得た。回収金属の量は、4.
8g/hであった。析出金属1gあたりの電解電力は、
13.5Wh/gであった。In the cathode chamber 7 which has received the overflow liquid in which the concentration of the iron component has been reduced, metal ions are reduced and electrodeposited. When the composition of the metal deposited and recovered from the second diaphragm electrolyzer 6 was investigated, iron 15.5%, nickel 81.0
%, Copper 0.05% were obtained. The amount of recovered metal is 4.
It was 8 g / h. The electrolysis power per 1 g of deposited metal is
It was 13.5 Wh / g.
【0059】隔膜を介して陽極室8(電極;(Ru−S
n)O2/Ti)に移動した塩素イオンは、第1隔膜電
解槽と同じく陽極で酸化されて塩素ガスを発生する。発
生した塩素ガスは、第2吸収塔11に導かれる。第2隔
膜電解槽6の陽極液も、陽極室8を流入・流出して循環
する。金属イオン濃度が減じ、陽極室8への移動で塩素
イオン濃度も減じた第2隔膜電解槽6の陰極液は、第2
吸収塔11に導かれ、導入された塩素ガスと接触して、
2価の鉄イオンを3価の鉄イオンに酸化する。Anode chamber 8 (electrode; (Ru-S
n) Chlorine ions transferred to O 2 / Ti) are oxidized at the anode as in the first diaphragm electrolyzer to generate chlorine gas. The generated chlorine gas is guided to the second absorption tower 11. The anolyte in the second diaphragm electrolyzer 6 also circulates in and out of the anode chamber 8. The catholyte in the second diaphragm electrolyzer 6 whose metal ion concentration has decreased and chlorine ion concentration has also decreased due to movement to the anode chamber 8 is the second
It is guided to the absorption tower 11 and comes into contact with the introduced chlorine gas,
It oxidizes divalent iron ions to trivalent iron ions.
【0060】酸化された塩化第2鉄を含む当該液は、切
替弁9の閉鎖によって第1陰極室4からの液導入を停止
しているいずれかの冷却槽10に導かれ、ここで塩化第
1鉄の結晶を溶解する。結晶の堆積量に応じて冷却槽1
0を切り替えて、一方で冷却を、他方で結晶の溶解を行
なうものである。塩化第1鉄の結晶を溶解した回収液は
第1吸収塔5に導かれ、導入された塩素ガスと接触し
て、2価の鉄イオンをほぼ全量3価の鉄イオンに酸化再
生して、エッチング槽1に戻される。The liquid containing the oxidized ferric chloride is introduced into any one of the cooling tanks 10 in which the introduction of the liquid from the first cathode chamber 4 is stopped by closing the switching valve 9, and the ferric chloride is introduced therein. 1 Melt iron crystals. Cooling tank 1 according to the amount of crystals deposited
0 is switched to perform cooling on the one hand and melting of crystals on the other hand. The recovered liquid in which the ferrous chloride crystals are dissolved is introduced into the first absorption tower 5 and brought into contact with the introduced chlorine gas to oxidize and regenerate almost all divalent iron ions into trivalent iron ions. It is returned to the etching tank 1.
【0061】第1隔膜電解槽に入る直前の廃液の組成、
68〜72℃の範囲にそれぞれ調整された第1隔膜電解
槽・第2隔膜電解槽での循環陽極液の組成、オーバーフ
ロー液の組成、第2隔膜電解槽での陰極液の組成、塩化
第1鉄の結晶を溶解し冷却槽を出た回収液の組成、再生
エッチャントの組成は、それぞれ表5に示される通りで
ある。Composition of the waste liquid immediately before entering the first diaphragm electrolyzer,
The composition of the circulating anolyte in the first and second diaphragm electrolyzers, the composition of the overflow liquor, the composition of the catholyte in the second diaphragm electrolyzer, and the first chloride Table 5 shows the composition of the recovered liquid that melted the iron crystals and exited the cooling tank, and the composition of the regenerated etchant.
【0062】[0062]
【表5】 [Table 5]
【0063】実施例6 図4に概念的に示された装置において、実施例5と同様
にエッチング液の処理を行なった。 Example 6 In the apparatus conceptually shown in FIG. 4, the etching solution was treated in the same manner as in Example 5.
【0064】第2隔膜電解槽6から析出回収された金属
の組成を調べたところ、鉄46.5%、ニッケル48.
4%、銅0.06%の結果を得た。回収金属の量は、1
2.6g/hであった。析出金属1gあたりの電解電力
は、10.5Wh/gであった。When the composition of the metal deposited and recovered from the second diaphragm electrolyzer 6 was examined, iron 46.5%, nickel 48.
Results of 4% and copper 0.06% were obtained. The amount of recovered metal is 1
It was 2.6 g / h. The electrolysis power per 1 g of deposited metal was 10.5 Wh / g.
【0065】第1隔膜電解槽に入る直前の廃液の組成、
第1隔膜電解槽・第2隔膜電解槽での循環陽極液の組
成、オーバーフロー液の組成、第2隔膜電解槽での陰極
液の組成、塩化第1鉄の結晶を溶解し冷却槽を出た回収
液の組成、再生エッチャントの組成は、それぞれ表6に
示される通りである。Composition of the waste liquid immediately before entering the first diaphragm electrolyzer,
The composition of the circulating anolyte in the first diaphragm electrolyzer and the second diaphragm electrolyzer, the composition of the overflow liquid, the composition of the catholyte in the second diaphragm electrolyzer, the ferrous chloride crystals were dissolved, and the cooling bath was discharged. The composition of the recovered liquid and the composition of the regeneration etchant are as shown in Table 6, respectively.
【0066】[0066]
【表6】 [Table 6]
【0067】[0067]
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明は以下の効果を奏するものである。As is apparent from the above description,
The present invention has the following effects.
【0068】本発明は、エッチング液を隔膜電解法と塩
素ガス法の両方で処理するので、無駄なく当該液を再生
することができる。In the present invention, since the etching solution is treated by both the diaphragm electrolysis method and the chlorine gas method, the solution can be regenerated without waste.
【0069】また本発明による方法は、鉄、ニッケルの
みでなく、銅、スズ、クロム、亜鉛等の金属を電析又は
スラッジとして分離させ得るため、エッチング液中に含
まれるこれら不純物の濃度を一定値以上に上昇させるこ
となく、循環使用できるという長所もある。In the method according to the present invention, not only iron and nickel but also metals such as copper, tin, chromium and zinc can be separated as electrodeposition or sludge, so that the concentration of these impurities contained in the etching solution can be kept constant. It also has the advantage that it can be used in cycles without increasing above the value.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本発明の一実施例に係る概念フロー図である。FIG. 1 is a conceptual flow diagram according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の別の実施例に係る概念フロー図であ
る。FIG. 2 is a conceptual flow diagram according to another embodiment of the present invention.
【図3】本発明の更に別の実施例に係る概念フロー図で
ある。FIG. 3 is a conceptual flow chart according to still another embodiment of the present invention.
【図4】冷却槽を備えた本発明の別の実施例に係る概念
フロー図である。FIG. 4 is a conceptual flow diagram according to another embodiment of the present invention including a cooling bath.
1 エッチング槽 2 隔膜電解槽 3 吸収塔 1 etching tank 2 diaphragm electrolysis tank 3 absorption tower
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷村 裕次 東京都三鷹市下連雀八丁目10番16号 日鉄 鉱業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yuji Tanimura 8-10-16 Shimorenjaku, Mitaka City, Tokyo Nittetsu Mining Co., Ltd.
Claims (5)
を隔膜電解法で処理し、陰極でニッケル及び鉄を電析回
収するとともに、陽極室で発生する塩素ガスを塩化第1
鉄含有のエッチング液に導き、当該液を酸化することを
特徴とするエッチング液の処理方法。1. An iron chloride-based etching solution containing nickel is treated by a diaphragm electrolysis method to deposit and recover nickel and iron at a cathode, and chlorine gas generated in an anode chamber is converted into chlorine chloride.
A method for treating an etching solution, which comprises introducing the etching solution containing iron and oxidizing the solution.
を隔膜電解槽の陽極室に導き、含有する2価の鉄イオン
を3価の鉄イオンに酸化するとともに塩素ガスを発生さ
せる工程と、隔膜を介して陰極室に移動した金属イオン
からニッケル及び鉄を電析回収する工程と、陽極室で発
生した塩素ガスで塩化第1鉄含有のエッチング液を酸化
する工程とからなるエッチング液の処理方法。2. A step of introducing an iron chloride-based etching solution containing nickel into an anode chamber of a diaphragm electrolyzer to oxidize divalent iron ions contained therein to trivalent iron ions and generate chlorine gas, and a diaphragm. Method for treating an etching solution, which comprises a step of electrodepositing and recovering nickel and iron from metal ions transferred to the cathode chamber through a cathode, and a step of oxidizing the etching solution containing ferrous chloride with chlorine gas generated in the anode chamber .
を隔膜電解槽の陰極室に導き、含有する金属イオンから
ニッケル及び鉄を電析回収する工程と、隔膜を介して陽
極室に移動した塩素イオンを酸化して塩素ガスを発生さ
せる工程と、還元電析により金属イオン濃度を減じた液
を上記塩素ガスで酸化する工程とからなるエッチング液
の処理方法。3. A step of introducing an iron chloride-based etching solution containing nickel into a cathode chamber of a diaphragm electrolytic cell to deposit and recover nickel and iron from metal ions contained therein, and chlorine transferred to the anode chamber through the diaphragm. A method for treating an etching solution, comprising a step of oxidizing ions to generate chlorine gas, and a step of oxidizing a solution of which metal ion concentration is reduced by reduction electrodeposition with the chlorine gas.
を複数段の隔膜電解槽の最初の陰極室に導き、ニッケル
及び鉄を電析回収する工程と、隔膜を介して陽極室に移
動した塩素イオンを酸化して塩素ガスを発生させる工程
と、還元電析により金属イオン濃度を減じた液を次段の
陰極室に導き、ニッケル及び鉄を電析回収するととも
に、陽極室で塩素ガスを発生させる少なくとも1回の繰
り返し工程と、最終段の陰極室から抜き出した液を上記
塩素ガスで酸化する工程とからなるエッチング液の処理
方法。4. A step of introducing an iron chloride-based etching solution containing nickel into the first cathode chamber of a multi-stage membrane electrolytic cell to deposit and recover nickel and iron, and chlorine transferred to the anode chamber through the membrane. A step of oxidizing chlorine ions to generate chlorine gas, and introducing a liquid whose metal ion concentration has been reduced by reduction electrodeposition to the next cathode chamber to deposit and recover nickel and iron, and also generate chlorine gas in the anode chamber. A method of treating an etching solution, which comprises at least one repeating step of performing the above step and a step of oxidizing the solution extracted from the cathode chamber at the final stage with the chlorine gas.
を二段の隔膜電解槽の第1陰極室に導き、3価の鉄イオ
ンを2価の鉄イオンに還元する工程と、還元処理後の当
該液を冷却して塩化第1鉄を結晶として分離する工程
と、塩化第1鉄を分離した液を第2陰極室に導き、ニッ
ケル及び鉄を電析回収する工程と、還元電析により金属
イオン濃度を減じた液に上記塩化第1鉄結晶を再溶解さ
せる工程と、隔膜を介してそれぞれの陽極室に移動した
塩素イオンを酸化して塩素ガスを発生させる工程と、当
該塩素ガスで、塩化第1鉄結晶を再溶解させた液を酸化
する工程とからなるエッチング液の処理方法。5. A step of introducing an iron chloride-based etching solution containing nickel into a first cathode chamber of a two-stage diaphragm electrolysis cell to reduce trivalent iron ions to divalent iron ions, and after the reduction treatment. A step of cooling the liquid to separate ferrous chloride as crystals, a step of introducing the liquid from which ferrous chloride has been separated into a second cathode chamber to deposit and recover nickel and iron, and a metal by reduction electrodeposition A step of re-dissolving the ferrous chloride crystals in a liquid having a reduced ion concentration, a step of oxidizing chlorine ions transferred to each anode chamber through a diaphragm to generate chlorine gas, and the chlorine gas. A method of treating an etching solution, which comprises a step of oxidizing a solution in which ferrous chloride crystals are redissolved.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2694693A JPH06240475A (en) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | Treatment of iron chloride based etchant containing nickel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2694693A JPH06240475A (en) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | Treatment of iron chloride based etchant containing nickel |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06240475A true JPH06240475A (en) | 1994-08-30 |
Family
ID=12207327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2694693A Pending JPH06240475A (en) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | Treatment of iron chloride based etchant containing nickel |
Country Status (1)
| Country | Link |
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