JPH06247917A - N置換カルバモイルエチル(メタ)アクリレートの製造方法 - Google Patents
N置換カルバモイルエチル(メタ)アクリレートの製造方法Info
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- JPH06247917A JPH06247917A JP3291593A JP3291593A JPH06247917A JP H06247917 A JPH06247917 A JP H06247917A JP 3291593 A JP3291593 A JP 3291593A JP 3291593 A JP3291593 A JP 3291593A JP H06247917 A JPH06247917 A JP H06247917A
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Landscapes
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、カルバモイル基含有の(メタ)ア
クリレートに関する。詳しくは、水溶性アミドモノマー
であるカルバモイル基含有の(メタ)アクリレートの新
規合成方法に関するものである。 【構成】 (メタ)アクリル酸と一般式(1)の化合物
とを反応させることを特徴とする一般式(2)で示され
るN置換カルバモイルエチル(メタ)アクリレートの製
造方法である。 【化1】 【化2】 (式中R1及びR2は水素原子または炭素数が1〜4のア
ルキル基を式中R3は水素原子またはメチル基を表わ
す)
クリレートに関する。詳しくは、水溶性アミドモノマー
であるカルバモイル基含有の(メタ)アクリレートの新
規合成方法に関するものである。 【構成】 (メタ)アクリル酸と一般式(1)の化合物
とを反応させることを特徴とする一般式(2)で示され
るN置換カルバモイルエチル(メタ)アクリレートの製
造方法である。 【化1】 【化2】 (式中R1及びR2は水素原子または炭素数が1〜4のア
ルキル基を式中R3は水素原子またはメチル基を表わ
す)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カルバモイル基含有の
(メタ)アクリレートに関する。詳しくは、水溶性アミ
ドモノマーであるカルバモイル基含有の(メタ)アクリ
レートの新規合成方法に関するものである。
(メタ)アクリレートに関する。詳しくは、水溶性アミ
ドモノマーであるカルバモイル基含有の(メタ)アクリ
レートの新規合成方法に関するものである。
【0002】本発明により得られたN置換カルバモイル
エチル(メタ)アクリレートは、モノマーのままで感光
性樹脂やレジスト等の反応性希釈剤とし用いることがで
きるほか、重合させてアミド基を含有する(共)重合体
として、凝集剤、分散剤、土壌改良剤、土質安定剤、紙
力増強剤、接着剤、塗料等の広い用途に利用できる。
エチル(メタ)アクリレートは、モノマーのままで感光
性樹脂やレジスト等の反応性希釈剤とし用いることがで
きるほか、重合させてアミド基を含有する(共)重合体
として、凝集剤、分散剤、土壌改良剤、土質安定剤、紙
力増強剤、接着剤、塗料等の広い用途に利用できる。
【0003】
【従来の技術】カルバモイルエチル(メタ)アクリレー
トの製造方法としては、β−オキシプロピオンアミドと
(メタ)アクリル酸クロリドから得られる方法が知られ
ている(結城平明,竹谷豊,高分子化学,第25巻,第
280号,515,(1968))。
トの製造方法としては、β−オキシプロピオンアミドと
(メタ)アクリル酸クロリドから得られる方法が知られ
ている(結城平明,竹谷豊,高分子化学,第25巻,第
280号,515,(1968))。
【0004】しかし、従来公知の製造方法では、高価な
原料を使用しなくてはならないこと、および腐食性ガス
である塩化水素が副生するという問題があり、工業的に
用いることは困難である。
原料を使用しなくてはならないこと、および腐食性ガス
である塩化水素が副生するという問題があり、工業的に
用いることは困難である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の弊害
を生じさせずカルバモイルエチル(メタ)アクリレート
を得るための製法を提供することを目的とする。
を生じさせずカルバモイルエチル(メタ)アクリレート
を得るための製法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、カルバモ
イルエチル(メタ)アクリレートを安価に得る方法につ
いて鋭意研究を重ねた結果、画期的な製法を見いだして
本発明を完成するに到った。
イルエチル(メタ)アクリレートを安価に得る方法につ
いて鋭意研究を重ねた結果、画期的な製法を見いだして
本発明を完成するに到った。
【0007】すなわち、本発明は、(メタ)アクリル酸
と一般式(1)の化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式(2)で示されるN置換カルバモイルエチル
(メタ)アクリレートの製造方法である。
と一般式(1)の化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式(2)で示されるN置換カルバモイルエチル
(メタ)アクリレートの製造方法である。
【0008】
【化3】
【0009】
【化4】
【0010】(式中R1及びR2は水素原子または炭素数
が1〜4のアルキル基を式中R3は水素原子またはメチ
ル基を表わす) 本発明に用いられるN置換アクリルアミドとしては、ア
クリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N,N−ジ
メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、
N,N−ジエチルアクリルアミド、N−n−プロピルア
クリルアミド、N,N−ジ−n−プロピルアクリルアミ
ド、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジイソ
プロピルアクリルアミド、N−n−ブチルアクリルアミ
ド、N,N−ジ−n−ブチルアクリルアミド、N−イソ
ブチルアクリルアミド、N,N−ジイソブチルアクリル
アミド、N−sec−ブチルアクリルアミド、N,N−ジ
−sec−ブチルアクリルアミド、N−tert−ブチルアク
リルアミド、N,N−ジ−tert−ブチルアクリルアミド
等が挙げられる。
が1〜4のアルキル基を式中R3は水素原子またはメチ
ル基を表わす) 本発明に用いられるN置換アクリルアミドとしては、ア
クリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N,N−ジ
メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、
N,N−ジエチルアクリルアミド、N−n−プロピルア
クリルアミド、N,N−ジ−n−プロピルアクリルアミ
ド、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジイソ
プロピルアクリルアミド、N−n−ブチルアクリルアミ
ド、N,N−ジ−n−ブチルアクリルアミド、N−イソ
ブチルアクリルアミド、N,N−ジイソブチルアクリル
アミド、N−sec−ブチルアクリルアミド、N,N−ジ
−sec−ブチルアクリルアミド、N−tert−ブチルアク
リルアミド、N,N−ジ−tert−ブチルアクリルアミド
等が挙げられる。
【0011】これらのN置換アクリルアミドのうち好ま
しくは、アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルア
ミド、N−イソプロピルアクリルアミドまたはN−tert
−ブチルアクリルアミドである。
しくは、アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルア
ミド、N−イソプロピルアクリルアミドまたはN−tert
−ブチルアクリルアミドである。
【0012】反応温度は30〜200℃、好ましくは1
00〜140℃である。30℃より低いと反応速度が遅
いため、目的とするN置換カルバモイルエチル(メタ)
アクリレートを収率良く製造することができない。ま
た、200℃を越えると原料の(メタ)アクリル酸やN
置換アミドおよび、生成物のN置換カルバモイルエチル
(メタ)アクリレートの重合や分解等の副反応が進行す
る。
00〜140℃である。30℃より低いと反応速度が遅
いため、目的とするN置換カルバモイルエチル(メタ)
アクリレートを収率良く製造することができない。ま
た、200℃を越えると原料の(メタ)アクリル酸やN
置換アミドおよび、生成物のN置換カルバモイルエチル
(メタ)アクリレートの重合や分解等の副反応が進行す
る。
【0013】また、(メタ)アクリル酸、N置換アクリ
ルアミド、目的物たるN置換カルバモイルエチル(メ
タ)アクリレートの重合ないしは共重合を防止するため
に、従来公知の重合禁止剤を反応系に添加して反応を行
ってもよい。用いられる重合禁止剤としては、ハイドロ
キノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、p−ベン
ゾキノン、メチルハイドロキノン、t−ブチルハイドロ
キノン、t−ブチルカテコール、フェノチアジン、N,
N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミン、
4,6−ジニトロ−o−クレゾール、N−ニトロソジフ
ェニルアミン、α−ナフトール、銅塩等が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。その使用量は仕
込み反応原料の全重量に対して0.005〜1%である
ことが好ましい。さらに、これらの重合禁止剤と酸素含
有ガスの吹き込みによる酸素の重合禁止効果を併用する
のも良い方法である。
ルアミド、目的物たるN置換カルバモイルエチル(メ
タ)アクリレートの重合ないしは共重合を防止するため
に、従来公知の重合禁止剤を反応系に添加して反応を行
ってもよい。用いられる重合禁止剤としては、ハイドロ
キノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、p−ベン
ゾキノン、メチルハイドロキノン、t−ブチルハイドロ
キノン、t−ブチルカテコール、フェノチアジン、N,
N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミン、
4,6−ジニトロ−o−クレゾール、N−ニトロソジフ
ェニルアミン、α−ナフトール、銅塩等が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。その使用量は仕
込み反応原料の全重量に対して0.005〜1%である
ことが好ましい。さらに、これらの重合禁止剤と酸素含
有ガスの吹き込みによる酸素の重合禁止効果を併用する
のも良い方法である。
【0014】反応圧力は特に制限は無いが、通常は常圧
下で行うことが好ましい。反応時間は反応温度によって
多少異なるが、一般には1〜48時間であることが好ま
しい。
下で行うことが好ましい。反応時間は反応温度によって
多少異なるが、一般には1〜48時間であることが好ま
しい。
【0015】本発明の反応において溶剤を使用すること
もできる。使用し得る溶媒として、水の他に、アルコー
ル、ケトン、エステル、炭化水素、ニトリル、アミド等
の有機溶媒があり、これらを二種以上混合して用いるこ
ともできる。
もできる。使用し得る溶媒として、水の他に、アルコー
ル、ケトン、エステル、炭化水素、ニトリル、アミド等
の有機溶媒があり、これらを二種以上混合して用いるこ
ともできる。
【0016】生成したN置換カルバモイルエチル(メ
タ)アクリレートは、反応混合物から一般的な抽出、蒸
留操作を行うことにより、分離、精製を行なうことがで
きる。また、重合体を得る場合には、上記の反応混合物
を、あるいは他のモノマー組成物を添加して重合させる
こともできる。
タ)アクリレートは、反応混合物から一般的な抽出、蒸
留操作を行うことにより、分離、精製を行なうことがで
きる。また、重合体を得る場合には、上記の反応混合物
を、あるいは他のモノマー組成物を添加して重合させる
こともできる。
【0017】
【発明の効果】本発明の方法により、本発明の方法を用
いれば、工業的に安価な(メタ)アクリル酸並びにN置
換アクリルアミドを原料に用いることと、副生物が生じ
ないことにより工業的に製造することが可能となる。
いれば、工業的に安価な(メタ)アクリル酸並びにN置
換アクリルアミドを原料に用いることと、副生物が生じ
ないことにより工業的に製造することが可能となる。
【0018】
【実施例】次に、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらの例によって限定されるものではない。
発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【0019】(実施例1)撹拌機、空気吹き込み管、還
流冷却管、温度計を備えた300mlの四つ口フラスコ
にアクリルアミド28g、メタクリル酸69gおよび重
合禁止剤としてフェノチアジン0.2gを仕込み、撹拌
下、空気を吹き込みながら、反応混合物の温度が130
℃で4時間反応せしめた。反応液をガスクロマトグラフ
法により定量した結果、2−カルバモイルエチルメタク
リレートが32g(収率51%、アクリルアミド基準)
得られた。
流冷却管、温度計を備えた300mlの四つ口フラスコ
にアクリルアミド28g、メタクリル酸69gおよび重
合禁止剤としてフェノチアジン0.2gを仕込み、撹拌
下、空気を吹き込みながら、反応混合物の温度が130
℃で4時間反応せしめた。反応液をガスクロマトグラフ
法により定量した結果、2−カルバモイルエチルメタク
リレートが32g(収率51%、アクリルアミド基準)
得られた。
【0020】尚、得られた反応液をカラムクロマトによ
り、分離精製した2−カルバモイルエチルメタクリレー
トの赤外線吸収スペクトルを図1に、プロトン核磁気共
鳴スペクトルを図2にそれぞれ示す。
り、分離精製した2−カルバモイルエチルメタクリレー
トの赤外線吸収スペクトルを図1に、プロトン核磁気共
鳴スペクトルを図2にそれぞれ示す。
【0021】(実施例2)メタクリル酸をアクリル酸5
8gに変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。そ
の結果、2−カルバモイルエチルアクリレートが27g
(収率47%、アクリルアミド基準)得られた。
8gに変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。そ
の結果、2−カルバモイルエチルアクリレートが27g
(収率47%、アクリルアミド基準)得られた。
【0022】(実施例3)アクリルアミドをN,N−ジ
メチルアクリルアミド40gに変えた以外は実施例1と
同様の操作を行った。その結果、2−(N,N−ジメチ
ルカルバモイル)エチルアクリレートが34g(収率4
6%、N,N−ジメチルアクリルアミド基準)得られ
た。
メチルアクリルアミド40gに変えた以外は実施例1と
同様の操作を行った。その結果、2−(N,N−ジメチ
ルカルバモイル)エチルアクリレートが34g(収率4
6%、N,N−ジメチルアクリルアミド基準)得られ
た。
【0023】尚、得られた反応液をカラムクロマトによ
り、分離精製した2−(N,N−ジメチルカルバモイ
ル)エチルメタクリレートの赤外線吸収スペクトルを図
3に示す。
り、分離精製した2−(N,N−ジメチルカルバモイ
ル)エチルメタクリレートの赤外線吸収スペクトルを図
3に示す。
【0024】(実施例4)アクリルアミドをN−イソプ
ロピルアクリルアミド45gに変えた以外は実施例1と
同様の操作を行った。その結果、2−(N−イソプロピ
ルカルバモイル)エチルアクリレートが40g(収率5
0%、N−イソプロピルアクリルアミド基準)得られ
た。
ロピルアクリルアミド45gに変えた以外は実施例1と
同様の操作を行った。その結果、2−(N−イソプロピ
ルカルバモイル)エチルアクリレートが40g(収率5
0%、N−イソプロピルアクリルアミド基準)得られ
た。
【図1】実施例1で得られた2−カルバモイルエチルメ
タクリレートの赤外線吸収スペクトルである。
タクリレートの赤外線吸収スペクトルである。
【図2】実施例1で得られた2−カルバモイルエチルメ
タクリレートのプロトン核磁気共鳴スペクトルである。
タクリレートのプロトン核磁気共鳴スペクトルである。
【図3】実施例3で得られた2−(N,N−ジメチルカ
ルバモイル)エチルメタクリレートの赤外線吸収スペク
トルである。
ルバモイル)エチルメタクリレートの赤外線吸収スペク
トルである。
Claims (1)
- 【請求項1】 (メタ)アクリル酸と一般式(1)の化
合物とを反応させることを特徴とする一般式(2)で示
されるN置換カルバモイルエチル(メタ)アクリレート
の製造方法。 【化1】 【化2】 (式中R1及びR2は水素原子または炭素数が1〜4のア
ルキル基を式中R3は水素原子またはメチル基を表わ
す)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3291593A JPH06247917A (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | N置換カルバモイルエチル(メタ)アクリレートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3291593A JPH06247917A (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | N置換カルバモイルエチル(メタ)アクリレートの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06247917A true JPH06247917A (ja) | 1994-09-06 |
Family
ID=12372199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3291593A Pending JPH06247917A (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | N置換カルバモイルエチル(メタ)アクリレートの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06247917A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0697400A3 (en) * | 1994-08-19 | 1996-06-19 | Nippon Paint Co Ltd | Amide monomer and its polymer |
| WO1998003471A1 (en) * | 1996-07-22 | 1998-01-29 | Ppg Industries, Inc. | Amide functional monomers and acrylic polymers with amide functionality |
| WO2000044800A1 (en) * | 1999-01-29 | 2000-08-03 | Amersham Pharmacia Biotech K.K. | Temperature-responsive polymer compound and process for producing the same |
| JP2008031112A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アルコキシ−n−イソプロピル−プロピオンアミド及びそれを用いた溶剤又は洗浄剤 |
| KR20130037821A (ko) * | 2011-10-07 | 2013-04-17 | 동우 화인켐 주식회사 | 신규의 (메트)아크릴레이트계 화합물 및 이를 함유하는 광학용 점착제 조성물 |
-
1993
- 1993-02-23 JP JP3291593A patent/JPH06247917A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0697400A3 (en) * | 1994-08-19 | 1996-06-19 | Nippon Paint Co Ltd | Amide monomer and its polymer |
| WO1998003471A1 (en) * | 1996-07-22 | 1998-01-29 | Ppg Industries, Inc. | Amide functional monomers and acrylic polymers with amide functionality |
| US5859174A (en) * | 1996-07-22 | 1999-01-12 | Ppg Industries, Inc. | Amide functional monomers and acrylic polymers with amide functionality |
| US6005065A (en) * | 1996-07-22 | 1999-12-21 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Amide functional monomers |
| WO2000044800A1 (en) * | 1999-01-29 | 2000-08-03 | Amersham Pharmacia Biotech K.K. | Temperature-responsive polymer compound and process for producing the same |
| JP2008031112A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アルコキシ−n−イソプロピル−プロピオンアミド及びそれを用いた溶剤又は洗浄剤 |
| KR20130037821A (ko) * | 2011-10-07 | 2013-04-17 | 동우 화인켐 주식회사 | 신규의 (메트)아크릴레이트계 화합물 및 이를 함유하는 광학용 점착제 조성물 |
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