JPH0625269A - ヘテロ環誘導体 - Google Patents

ヘテロ環誘導体

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JPH0625269A
JPH0625269A JP4049958A JP4995892A JPH0625269A JP H0625269 A JPH0625269 A JP H0625269A JP 4049958 A JP4049958 A JP 4049958A JP 4995892 A JP4995892 A JP 4995892A JP H0625269 A JPH0625269 A JP H0625269A
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JP
Japan
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formula
group
compound
hydroxyl protecting
protecting group
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Application number
JP4049958A
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English (en)
Inventor
Alcide Perboni
アルチデ、ペルボーニ
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GlaxoSmithKline SpA
Original Assignee
Glaxo SpA
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Publication date
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6558—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom containing at least two different or differently substituted hetero rings neither condensed among themselves nor condensed with a common carbocyclic ring or ring system
    • C07F9/65586—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom containing at least two different or differently substituted hetero rings neither condensed among themselves nor condensed with a common carbocyclic ring or ring system at least one of the hetero rings does not contain nitrogen as ring hetero atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
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  • General Health & Medical Sciences (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】抗菌活性化合物の製造中間体として有用なヘテ
ロ環化合物及びその製法を提供する。 【構成】次式の化合物及びその製造方法。 （式中Ｒ１はＨ又はヒドロキシル保護基を；Ｒ２はＨ又
はトリアルキルシリル基を；‐Ｘ‐Ｙ‐はエポキシド基
（Ａ）又はアルケン基（Ｂ）を： ；Ｒ３は（ハロゲン置換）Ｃ1-6 アルキル基又は（置
換）フェニル基を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は抗菌活性を有する化合物の製造に
有用な新規ヘテロ環化合物及びそれらの製造方法に関す
る。
【０００２】このため本発明は下記一般式(I) の化合
物：
【０００３】
【化６】
【０００４】〔上記式中Ｒ１は水素原子又はヒドロキシ
ル保護基を表す；Ｒ２は水素原子又はトリアルキルシリ
ル基を表す；‐Ｘ‐Ｙ‐はエポキシド基（Ａ）又はアル
ケン基（Ｂ）を表す：
【０００５】
【化７】
【０００６】上記においてＲ３は場合によりハロゲンで
置換されていてもよいＣ1-6 アルキル基又は場合により
置換されていてもよいフェニル基を表す〕を提供する。
【０００７】適切なヒドロキシル保護基Ｒ１としては緩
衝条件下又は非水性条件下で加水分解により除去されう
る基がある。
【０００８】基ＯＲ１が保護ヒドロキシル基である場
合、これはエーテル又はアシルオキシ基であることが都
合よい。特に適切なエーテルの例としては、Ｒ１がトリ
アルキルシリルのようなヒドロカルビルシリル基、例え
ばトリメチルシリル又は更に詳しくはｔ‐ブチルジメチ
ルシリルのようなトリ（Ｃ1-6 アルキル）シリルがあ
る。基ＯＲ１がアシルオキシ基を表す場合に、適切な基
Ｒ１の例としてはアルカノイル、例えばアセチル又はピ
バロイル；アルケノイル、例えばアリルカルボニル；ア
ロイル、例えばｐ‐ニトロベンゾイル；アルコキシカル
ボニル、例えばｔ‐ブトキシカルボニル；ハロアルコキ
シカルボニル、例えば２，２，２‐トリクロロエトキシ
カルボニル又は１，１，１‐トリクロロ‐２‐メチル‐
２‐プロポキシカルボニル；アラルキルオキシカルボニ
ル、例えばベンジルオキシカルボニル又はｐ‐ニトロベ
ンジルオキシカルボニル；アルケニルオキシカルボニ
ル、例えばアリルオキシカルボニルがある。
【０００９】Ｒ２がトリアルキルシリル基を表す場合、
これはトリメチルシリル又はｔ‐ブチルジメチルシリル
のようなトリ（Ｃ1-6 ）アルキルシリル基であることが
好ましい。
【００１０】Ｒ３がＣ1-6 アルキルを表す場合、適切な
基の例としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル及びペンチルがある。
【００１１】Ｒ３がハロゲンで置換されたＣ1-6 アルキ
ル基を表す場合、ハロゲンはフッ素、塩素又は臭素であ
る。適切なハロアルキル基の例としてはトリクロロエチ
ルのようなモノ、ジ及びトリクロロアルキルがある。
【００１２】Ｒ３が場合により置換されていてもよいフ
ェニル基を表す場合、これは例えばＣ1-3 アルキル（例
えばメチル）、ハロゲン（例えば塩素）又はアルコキシ
（例えばメトキシ）から選択される１以上の基で場合に
より置換されたフェニル基である。例えばＲ３はフェニ
ル、クロロフェニル又は３，５‐ジメチルフェニルであ
る。
【００１３】好ましくはＲ３はメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、２，２，２‐ト
リクロロエチル、フェニル、２‐クロロフェニル又は
３，５‐ジメチルフェニルから選択される基である。２
つの基Ｒ３は同一でも又は異なっていてもよい。
【００１４】式Ｉにおいて、くさび形結合▲は結合が紙
面上であることを示す。破線結合‖‖は結合が紙面下で
あることを示す。
【００１５】式(I) で規定された固定立体化学配置に加
えてその分子は少なくとも更にもう１つの不斉中心を有
し、Ｘ‐Ｙがエポキシド基（Ａ）である場合には更に２
つの不斉中心も存在する。これら追加の不斉中心から生
じるすべての立体異性体はその混合物も含めて式(I) の
化合物の範囲内に属する。式(I) の具体的な立体異性体
は下記式(Ia)〜(If)で表される。
【００１６】
【化８】
【００１７】式(I) の化合物の好ましい群は式(Ia)及び
(Ic)で表されるような特定の異性体である。
【００１８】式(I) の好ましい化合物は、Ｒ１がヒドロ
キシル保護基、更に具体的にはトリメチルシリル又はｔ
‐ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシリル基
を表す化合物である。
【００１９】式(I) の化合物の他の好ましい群は、Ｒ２
が水素原子又はトリ（Ｃ1-4 ）アルキル基、特にｔ‐ブ
チルジメチルシリル又はトリメチルシリル基を表す化合
物である。
【００２０】式(I) の化合物の他の好ましい群は、Ｒ３
がＣ1-4 アルキル基、最も好ましくは双方のＲ３基が同
一、例えばエチルである化合物である。
【００２１】式(I) の化合物の特に好ましい群は、Ｒ１
がトリメチルシリル又はｔ‐ブチルジメチルシリルのよ
うなトリ（Ｃ1-4 ）アルキルシリル基を表す；Ｒ２が水
素、ｔ‐ブチルジメチルシリル又はトリメチルシリルを
表す；及びＲ３がエチルのようなＣ1-4 アルキルを表す
式(Ia)及び(Ic)の立体異性体である。更に詳しくは式(I
c)の化合物に関して、特に好ましい化合物はＲ２が水素
原子を表す化合物である。
【００２２】Ｒ１がヒドロキシル保護基を表しかつＸ‐
Ｙがエポキシド基（Ａ）を表す式(I) の化合物は、Ｘ‐
Ｙがアルケン基Ｂを表す式(I) の対応化合物のエポキシ
化により製造される。
【００２３】エポキシ化はＸ‐Ｙが基Ｂである式(I) の
化合物を過酸で処理することにより行うことが都合よ
い。適切な過酸としては過安息香酸及びｍ‐クロロ過安
息香酸のような場合により置換されていてもよい過安息
香酸、過酢酸及びトリフルオロ過酢酸のような過アルカ
ン酸がある。反応はハロ炭化水素、例えばジクロロメタ
ンのような溶媒中で好都合には範囲−３０〜＋３０℃内
の温度で行われる。
【００２４】式(Ic)及び(Ie)で表されるようなエポキシ
ドの製造の場合、反応はＲ２が水素を表す式(Ia)又は(I
b)の対応アルケンを用いて行われることが好ましい。式
(Id)及び(If)で表されるようなエポキシドの製造の場
合、エポキシ化はＲ２がトリアルキルシリルである式(I
a)又は(Ib)のシクロアルケンを用いて行われることが好
ましい。
【００２５】Ｒ１がヒドロキシル保護基でかつＸが基Ｂ
を表す式(I) の化合物は、Ｒ４がＣ1-6 アルキル基であ
るケトン(II)：
【００２６】
【化９】
【００２７】をビス（トリメチルシリルアミド）カリウ
ム又はリチウムのような強塩基で処理し、しかる後こう
して形成されたエノレートイオンをクロロホスフェート
(III）と反応させてから所望であればＮ‐トリアルキル
シリル保護基を加水分解することにより製造される。
【００２８】Ｒ２が水素原子を表す式(I) の化合物は、
Ｒ２がトリアルキルシリル基である式(I) の化合物から
かかる基の除去のため慣用的操作を用いて加水分解によ
り製造される。このため例えばＲ２がｔ‐ブチルジメチ
ルシリルである化合物はメタノール中フッ化カリウムと
の反応で加水分解される。
【００２９】Ｒ１が水素原子を表す式(I) の化合物は、
Ｒ１がヒドロキシル保護基を表す化合物からかかる基の
除去のため慣用的操作の使用により製造される。
【００３０】Ｒ１がアルケニル部分を有するものを含め
たヒドロキシル保護基を表す式(I）の化合物は、Ｒ１が
水素原子を表す式(I) の化合物からかかる保護ヒドロキ
シル官能基を製造するための慣用的操作を用いて製造さ
れる。
【００３１】前記式(I) 及び(II)において不斉炭素原子
が存在しかつ具体的配置が示されていない場合、その式
はすべての可能な配置を含む。
【００３２】他の立体異性体を本質的に含まない式(I
a)、(Ib)、(Ic)、(Id)、(Ie)及び(If)で規定されるよう
な式(I) の化合物の具体的な立体異性体は、式(II)の適
切な立体異性体及び必要な置換基Ｒ２から出発して前記
の一般的プロセスを用いることにより製造される。
【００３３】式(I) の化合物は有用な抗菌活性を有する
化合物の製造のために有用な中間体である。このため式
(I) の化合物は欧州特許出願第４１６９５３Ａ号明細書
で記載された抗菌化合物を製造するために用いてもよ
い。例えば化合物(I) は下記式(IV)の化合物：
【００３４】
【化１０】
【００３５】（上記式中Ｒはアミノ基、例えばメチルア
ミノである）又はその塩を製造するために用いられる。
これらの化合物は広範囲の病原微生物に対して広いスペ
クトルの抗菌活性を示し、すべてのβ‐ラクタマーゼに
対して非常に高い耐性を有する。
【００３６】欧州特許出願第４１６９５３Ａ号明細書は
式(IV)の化合物が下記化合物(V) から容易に製造される
ことを示している：
【００３７】
【化１１】
【００３８】上記式中Ｒ１はヒドロキシル保護基であ
る；Ｒはアリルオキシカルボニル保護アミノ基のような
保護アミノである。
【００３９】式(V) の化合物は、‐Ｘ‐Ｙ‐がエポキシ
ド基Ａである式(I) の化合物から適切なアミン、例えば
メチルアミンとの反応、しかる後トリエチルアミンのよ
うな三級塩基の存在下でクロロギ酸アリルとの反応によ
り有利に製造される。
【００４０】上記反応において出発物質としての式(I)
の特定立体異性体の使用は式(V) の化合物の特定異性体
を生じ、しかる後これは式(IV)の化合物の特定異性体に
変換してもよい。このため式(Ic)のエポキシドは下記式
(IVa) の化合物を生じる：
【００４１】
【化１２】
【００４２】式(VIa) の化合物は特に有用な抗菌剤であ
り、このため式(Ic)の化合物は本発明の特に好ましい特
徴を表す。
【００４３】本発明が更に充分に理解されるように、下
記例が説明のみのために示されている。製造及び例にお
いて、他に指摘のないかぎり：融点(m.p.)はガレンカン
プ(Gallenkamp)m.p.装置で測定され、補正されない。す
べての温度は℃である。赤外線スペクトルはＦＴ‐ＩＲ
装置においてクロロホルム-d1 溶液中で測定された。プ
ロトン磁気共鳴（１Ｈ‐ＮＭＲ）スペクトルはクロロホ
ルム-d1 中の溶液として３００MHz で記録された。化学
シフトは内部標準として用いられたMe4 Siから低磁場側
のppm で報告され、シングレット(s) 、ダブレット(d)
、ダブレットのダブレット(dd)又はマルチプレット(m)
として表示される。カラムクロマトグラフィーはシリ
カゲル〔メルクＡＧ(Merck AG)、ダルムシュタット、ド
イツ〕で行われた。溶液は無水硫酸ナトリウムで乾燥さ
れた。“ペトロール”とはb.p.４０‐６０℃の石油エー
テルである。ＴＬＣはシリカプレート上の薄層クロマト
グラフィーである。ＨＰＬＣは高性能液体クロマトグラ
フである。
【００４４】中間体１ （３Ｓ，４Ｒ）‐１‐（ｔ‐ブチルジメチルシリル）‐
４‐アセトキシ‐３‐〔（Ｒ）‐（ｔ‐ブチルジメチル
シリルオキシ）エチル〕アゼチジン‐２‐オン ジクロロメタン（８００ml）中（３Ｓ，４Ｒ）‐４‐ア
セトキシ‐３‐〔（Ｒ）‐１‐（ｔ‐ブチルジメチルシ
リルオキシ）エチル〕‐２‐アゼチジノン（１１２ｇ）
の攪拌氷冷溶液に、ｔ‐ブチルジメチルクロロシラン
（７３ｇ）及びトリエチルアミン（８０ml）を加えた。
混合液を室温で２０時間攪拌し、しかる後水（１Ｌ）及
び塩水（３００ml）で洗浄した。有機層を乾燥蒸発させ
て油状物（１６０ｇ）を得、これをシクロヘキサン／酢
酸エチル（９５／５）の混合液（１６００ml）に溶解
し、シリカゲル（４８０ｇ）で処理した。懸濁液を１５
分間攪拌し、しかる後濾過した。固体物をシクロヘキサ
ン／酢酸エチル（９５／５：４．８ｌ）で洗浄し、溶媒
を蒸発させ、淡黄色油状物として標題化合物（１１０
ｇ）を得た（Ｒｆ＝０．８５ペトロール／ジエチルエー
テル＝２／１）。
【００４５】ＩＲ (CDCl3 ) νmax(cm-1):1747(C=O) １ Ｈ ＮＭＲ (CDCl3 ):6.14(d),4.15(m),3.07(dd),2.0
3(s),1.2(d),0.9(s),0.84(s),0.22(s),0.055(s),0.35
(s) 及び0.005(s)ppm.
【００４６】中間体２ （３Ｓ，４Ｒ）‐１‐（ｔ‐ブチルジメチルシリル）‐
３‐〔（Ｒ）‐１‐（ｔ‐ブチルジメチルシリルオキ
シ）エチル〕‐４‐〔２´‐（１´‐オキシシクロヘキ
シル）〕アゼチジン‐２‐オン 塩化第二スズ（３５．４ml）を窒素雰囲気下−４０℃で
攪拌アセトニトリル（４００ml）に滴下したところ、白
色固体物が白色煙霧と共に生成したが、その煙霧を窒素
フラッシングで除去した。得られた懸濁液を−１０℃に
上昇させ、しかる後アセトニトリル（３００ml）中１‐
トリメチルシリルオキシシクロヘキセン（６０．６ml）
及び中間体（１）の化合物（１１０ｇ）の溶液を１０分
間で加えた。黄色溶液を０℃で１０分間攪拌し、しかる
後水酸化ナトリウムの１０％水溶液（１Ｌ）、ジエチル
エーテル（１Ｌ）及び氷（５００ｇ）の攪拌氷冷混合液
に注いだ。有機層を分離し、水酸化ナトリウム（５００
ml）しかる後塩化アンモニウムの飽和溶液で再度洗浄
し、乾燥蒸発させて黄色固体物（１１７．７ｇ）を得
た。固体物を室温に冷却されたイソプロパノール（３０
０ml）に４０℃で溶解させ、水（３００ml）を攪拌下で
ゆっくりと加えて固体物を得、これを０℃で３０分間攪
拌した。固体物を濾過し、イソプロパノール／水の１：
１混合液（１００ml）で洗浄し、真空下４０℃で１５時
間乾燥させ、７０％：３０％の比率で２´Ｒ及び２´Ｓ
異性体の混合物として標題化合物（７６ｇ）を得た（２
異性体間の比率は溶出液としてヘキサン／エタノール
（９９／１）を用いてＨＰＬＣにより調べた）。
【００４７】例１ （３Ｓ，４Ｒ，６´Ｒ）‐１‐ｔ‐ブチルジメチルシリ
ル‐３‐〔（Ｒ）‐１‐（ｔ‐ブチルジメチルシリルオ
キシ）エチル〕‐４‐〔６´‐（１´‐ジエトキシホス
フィニルオキシ）シクロヘキス‐１´‐エン〕アゼチジ
ン‐２‐オン ヘキサン（９ml）中ビス（トリメチルシリル）アミドリ
チウムの１Ｍ溶液をテトラヒドロフラン（１５ml）に加
え、混合液を窒素下で−７０℃に冷却し、しかる後テト
ラヒドロフラン（１０ml）に溶解された中間体２（１．
９ｇ）を１０分間かけて加えた。得られた溶液を４５分
間攪拌し、しかる後クロロホスホン酸ジエチル（１．４
ml）を２分間かけて加えた。反応混合液を３０分間攪拌
して−２０℃まで加温し、しかる後飽和塩化アンモニウ
ム溶液に注ぎ、得られた混合液をジエチルエーテルで抽
出した。有機層を酢酸の５％氷冷溶液、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液及び塩水で洗浄し、乾燥蒸発させて黄色油状
物を得、これをシリカゲルで精製し（Ｒｆ＝０．６５ジ
エチルエーテル）、無色油状物として標題化合物（１．
８ｇ）を得た。
【００４８】ＩＲ 1732(C=O),1670(C=C). ＮＭＲ：5.73(m),4.2-4(m),3.83(m),3.02(dd),2.68(m),
2.09(m),1.79-1.45(m),1.34(t),1.25(d),0.96(s),0.88
(s),0.30(s),0.20(s),0.087(s) 及び0.066(s).
【００４９】例２ （３Ｓ，４Ｒ，６´Ｒ）‐３‐〔（Ｒ）‐１‐（ｔ‐ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル〕‐４‐〔６´‐
（１´‐ジエトキシホスフィニルオキシ）シクロヘキス
‐１´‐エン〕アゼチジン‐２‐オン 例１の化合物（１ｇ）を室温でメタノール（２５ml）に
溶解し、フッ化カリウム（５００mg）で処理した。反応
混合液を３０分間攪拌した。次いで溶媒を減圧下で一部
蒸発させた。得られた濃厚懸濁液を飽和塩化アンモニウ
ム溶液に注ぎ、得られた混合液をジエチルエーテルで抽
出した。有機層を塩水で洗浄し、乾燥蒸発させ、淡黄色
油状物として標題化合物（７５０mg）を得た（Ｒｆ＝
０．６酢酸エチル）。
【００５０】ＩＲ 1755(C=O),1676(C=C). ＮＭＲ：5.99(m),5.69(m),4.25-4.10(m),4.06(dd),3.04
(dd),2.57(m),1.9-1.5(m),1.33(t),1.21(d),0.87(s) 及
び0.076(s).
【００５１】例３ （３Ｓ，４Ｒ，６´Ｒ，２´Ｒ，１´Ｓ）‐３‐
〔（Ｒ）‐１‐（ｔ‐ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル〕‐４‐〔６´‐（１´‐ジエトキシホスフィニル
オキシ）シクロヘキス‐２´‐エンオキシド〕アゼチジ
ン‐２‐オン 例２の化合物（７００mg）を０℃でジクロロメタン（２
５ml）に溶解した。炭酸水素ナトリウム（２５０mg）及
びｍ‐クロロ過安息香酸（７００mg）を加えた。得られ
た懸濁液を０℃で１時間、室温で１時間攪拌し、しかる
後氷冷３％亜硫酸ナトリウム水溶液に注いだ。有機層を
分離し、２０℃で蒸発させて油状物を得、これを酢酸エ
チルに溶解し、水酸化ナトリウムの氷冷希溶液、水及び
塩水で洗浄し、乾燥蒸発させて黄色油状物を得た。粗製
化合物をシロカゲルで精製し（Ｒｆ＝０．５酢酸エチ
ル）、純粋な標題化合物（４００mg）を得た。
【００５２】ＩＲ 3416(NH),1757(C=O). ＮＭＲ：5.91(m),4.25(m),4.21(dd),4.12(m),3.79(d),
3.08(t),2.49(m),2.0-1.9(m),1.8-1.7(m),1.65-1.45
(m),1.45-1.3(m),1.34(m),1.24(d),0.88(s),0.087(s)及
び0.081(s).
【００５３】例４ （３Ｓ，４Ｒ）‐３‐〔（Ｒ）‐１‐（ｔ‐ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル〕‐４‐〔（１´Ｓ，２´
Ｓ，６´Ｒ）‐２´‐（Ｎ‐アリルオキシカルボニル‐
Ｎ‐メチルアミノ）‐１´‐オキソシクロヘキス‐６´
‐イル〕アゼチジン‐２‐オン 窒素下０℃で炭酸カリウム（２１３ｇ）と共に酢酸エチ
ル（５００ml）の例３の化合物（４９ｇ）の溶液にメチ
ルアミン（１６ｇ、４０％水）を加えた。反応混合液を
０℃で１時間攪拌し、しかる後酢酸エチルをデカント
し、残留固体物を酢酸エチル（１００ml）で洗浄した。
有機溶液を水（３×６００ml）及び塩水（１×５００m
l）で洗浄し、乾燥し、真空下で５００mlまで濃縮し、
０℃に冷却した。その溶液にクロロギ酸アリル（１７m
l）及びトリエチルアミン（２２ml）を加えた。反応混
合液を０℃で３０分間攪拌し、しかる後塩化アンモニウ
ムの飽和水溶液（３００ml）、水（２×５００ml）、塩
水（３００ml）で洗浄し、乾燥し、真空下で蒸発させ
た。残渣を石油エーテル（２５０ml）中還流下の摩砕で
精製し、白色粉末として標題化合物を得た（２４．９
ｇ；m.p.１５９‐１６１℃；ＴＬＣジエチルエーテル／
酢酸エチル３／２、Ｒｆ＝０．６８）。
【００５４】ＩＲmax(CDCl3 ) 3414,1753,1688cm-1. １ Ｈ ＮＭＲ(300MHz,CDCl3 ):6.2(bs),5.9(m),5.2(m),
4.6(m),4.2(m),4.04(m),3.87(dd),3.8(m),3.17(dd),2.8
6(s),2.26(m),1.8-1.2(m),1.30(d),0.89(s),0.10(s) 及
び0.09(s).

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】下記式(I) で表わされる化合物。 【化１】 〔上記式中Ｒ１は水素原子又はヒドロキシル保護基を表
    す；Ｒ２は水素原子又はトリアルキルシリル基を表す；
    ‐Ｘ‐Ｙ‐はエポキシド基（Ａ）又はアルケン基（Ｂ）
    を表す： 【化２】 上記においてＲ３は場合によりハロゲンで置換されてい
    てもよいＣ1-6 アルキル基又は場合により置換されてい
    てもよいフェニル基を表す〕
  2. 【請求項２】下記式(Ia)を有する、請求項１に記載の化
    合物。 【化３】 〔上記式中Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は請求項１の場合と同義
    である〕
  3. 【請求項３】下記式(Ic)を有する、請求項１に記載の化
    合物。 【化４】 〔上記式中Ｒ１及びＲ３は請求項１の場合と同義であ
    る；Ｒ２は水素である〕
  4. 【請求項４】Ｒ１がトリアルキルシリルである、請求項
    １〜３のいずれか一項に記載の化合物。
  5. 【請求項５】Ｒ１がｔ‐ブチルジメチルシリルである、
    請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物。
  6. 【請求項６】Ｒ２が水素、トリメチルシリル又はｔ‐ブ
    チルジメチルシリルである、請求項１〜５のいずれか一
    項に記載の化合物。
  7. 【請求項７】Ｒ３がメチル、エチル、プロピル、イソプ
    ロピル、ブチル、ペンチル、２，２，２‐トリクロロエ
    チル、フェニル、２‐クロロフェニル又は３，５‐ジメ
    チルフェニルであり、２つのＲ３基は同一でも又は異な
    っていてもよい、請求項１〜６のいずれか一項に記載の
    化合物。
  8. 【請求項８】Ｒ３がＣ1-4 アルキルである、請求項１〜
    ６のいずれか一項に記載の化合物。
  9. 【請求項９】Ｒ３がエチルである、請求項１〜８のいず
    れか一項に記載の化合物。
  10. 【請求項１０】請求項１に記載された式(I) の化合物の
    製造方法であって、 下記ステップ： (i) 式(I) の化合物（但し、Ｒ１はヒドロキシル保護
    基である；Ｒ２はトリアルキルシリルを表す；Ｘ‐Ｙは
    基Ｂを表す）を得るための、式(II)のケトン（Ｒ１はヒ
    ドロキシル保護基である；Ｒ２はトリアルキルシリルを
    表す）と式(III) の化合物（Ｒ３は請求項１の場合と同
    義である）： 【化５】 との反応； (ii) 対応化合物（Ｘ‐Ｙは基Ａを表す）を得るため
    の、式(I) の化合物（Ｒ１はヒドロキシル保護基であ
    る；Ｒ２は請求項１の場合と同義である；Ｘ‐Ｙは基Ｂ
    を表す）のエポキシ化； (iii) 対応化合物（Ｒ２は水素である）を得るため
    の、式(I) の化合物（Ｒ１はヒドロキシル保護基であ
    る；Ｒ２はトリアルキルシリル基である；Ｘ‐Ｙは請求
    項１の場合と同義である）の反応； (iv) 対応化合物（Ｒ１は水素である）を得るための、
    式(I) の化合物（Ｒ１はヒドロキシル保護基である；Ｒ
    ２及びＸ‐Ｙは請求項１の場合と同義である）の反応； (v) 対応化合物（Ｒ１はヒドロキシル保護基である）
    を得るための、式(I)の化合物（Ｒ１は水素である；Ｒ
    ２及びＸ‐Ｙは請求項１の場合と同義である）の反応；
    のいずれかからなる方法。
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