JPH0625407A - Ｃｏ、芳香族ジアミン及びジ（トリフルオロメタンスルホネート）からの芳香族ポリアミドの製造 - Google Patents
Ｃｏ、芳香族ジアミン及びジ（トリフルオロメタンスルホネート）からの芳香族ポリアミドの製造Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は芳香族ポリアミドの製造方法に関
し、芳香族ジアミンと芳香族二酸の縮合を利用せず、し
かも二酸クロライド及びジハロゲン化物を使用せずにポ
リアミドを製造する改良方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 本発明方法は、一酸化炭素及び反応体対： 【化１】 及びＨ2 Ｎ−Ａｒ2 −ＮＨ2 、前記式中、−Ａｒ1 −及
び−Ａｒ2 −は各々独立して環炭素及びヘテロ原子の総
数が６〜約３０個の芳香族成分及びヘテロ芳香族成分か
らなる群より選ばれる、を、溶剤及び触媒の存在下で反
応させることからなるポリアミドの製造方法であって、
前記触媒が白金、パラジウム及びニッケルからなる群よ
り選ばれる製造方法である。
し、芳香族ジアミンと芳香族二酸の縮合を利用せず、し
かも二酸クロライド及びジハロゲン化物を使用せずにポ
リアミドを製造する改良方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 本発明方法は、一酸化炭素及び反応体対： 【化１】 及びＨ2 Ｎ−Ａｒ2 −ＮＨ2 、前記式中、−Ａｒ1 −及
び−Ａｒ2 −は各々独立して環炭素及びヘテロ原子の総
数が６〜約３０個の芳香族成分及びヘテロ芳香族成分か
らなる群より選ばれる、を、溶剤及び触媒の存在下で反
応させることからなるポリアミドの製造方法であって、
前記触媒が白金、パラジウム及びニッケルからなる群よ
り選ばれる製造方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、芳香族ポリマーの製造
方法に関し、更に詳細には、芳香族第一アミン及び芳香
族トリフルオロメタンスルホネートのパラジウム触媒カ
ルボニル化及び縮合による芳香族ポリアミドの製造方法
に関する。
方法に関し、更に詳細には、芳香族第一アミン及び芳香
族トリフルオロメタンスルホネートのパラジウム触媒カ
ルボニル化及び縮合による芳香族ポリアミドの製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】特許公開公報第１２３８２３号、及びヨ
ネヤマ等のＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、第２１巻、
１９８８年、１９０８〜１９１１頁はＨｅｃｋのカルボ
ニル化反応を用いて、芳香族ジブロマイドとジアミンを
一酸化炭素及びパラジウム触媒の存在下で反応させるこ
とにより低分子量ポリアミドを製造することについて開
示している。ヨーロッパ出願第９１／１１６５５９．５
号（本願と同一人に譲渡）はＨｅｃｋのカルボニル化反
応を用いて、圧力下芳香族ジヨウ化物とジアミンを一酸
化炭素及びパラジウム触媒の存在下で反応させることに
より高分子量ポリアミドを製造することについて開示し
ている。Ｈｅｃｋのカルボニル化反応を用いてポリアミ
ドを製造すると、酸クロライドにより生じる問題は回避
されるが、適切に置換されたハロゲン化物及びカプリン
グ反応中に生成するハロゲン化物の除去又は再循環が必
要となる。したがって、芳香族ポリアミドの改良製造方
法を提供することは極めて望ましい。
ネヤマ等のＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、第２１巻、
１９８８年、１９０８〜１９１１頁はＨｅｃｋのカルボ
ニル化反応を用いて、芳香族ジブロマイドとジアミンを
一酸化炭素及びパラジウム触媒の存在下で反応させるこ
とにより低分子量ポリアミドを製造することについて開
示している。ヨーロッパ出願第９１／１１６５５９．５
号（本願と同一人に譲渡）はＨｅｃｋのカルボニル化反
応を用いて、圧力下芳香族ジヨウ化物とジアミンを一酸
化炭素及びパラジウム触媒の存在下で反応させることに
より高分子量ポリアミドを製造することについて開示し
ている。Ｈｅｃｋのカルボニル化反応を用いてポリアミ
ドを製造すると、酸クロライドにより生じる問題は回避
されるが、適切に置換されたハロゲン化物及びカプリン
グ反応中に生成するハロゲン化物の除去又は再循環が必
要となる。したがって、芳香族ポリアミドの改良製造方
法を提供することは極めて望ましい。
【０００３】アリール及びビニルトリフルオロメタンス
ルホネートからのアミド生成はＯｒｔａｒ等のＴｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、第２６巻、１９８５
年、１１０９〜１１１２頁及びＯｒｔａｒ等のＴｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、第２７巻、１９８６
年、３９３１〜３９３４頁に報告されている。
ルホネートからのアミド生成はＯｒｔａｒ等のＴｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、第２６巻、１９８５
年、１１０９〜１１１２頁及びＯｒｔａｒ等のＴｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、第２７巻、１９８６
年、３９３１〜３９３４頁に報告されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】芳香族ポリアミドは、
通常、双極性中性溶剤中でアリール二酸クロライドと芳
香族ジアミンを縮合させることにより製造する。この方
法では、高分子量ポリマーを達成するのに低温を必要と
し、各種の芳香族二酸クロライドを使用できず、しかも
二酸クロライドが加水分解を受けて不安定であるという
欠点がある。
通常、双極性中性溶剤中でアリール二酸クロライドと芳
香族ジアミンを縮合させることにより製造する。この方
法では、高分子量ポリマーを達成するのに低温を必要と
し、各種の芳香族二酸クロライドを使用できず、しかも
二酸クロライドが加水分解を受けて不安定であるという
欠点がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】芳香族ポリアミド類の改
良製造方法を提供することが本発明の目的である。本発
明のより広い態様において、一酸化炭素並びに反応体
対：
良製造方法を提供することが本発明の目的である。本発
明のより広い態様において、一酸化炭素並びに反応体
対：
【化２】 及びＨ2 Ｎ−Ａｒ2 −ＮＨ2 前記式中、−Ａｒ1 −及び−Ａｒ2 −は各々独立して環
炭素及びヘテロ原子の総数が６〜約３０個の芳香族成分
及びヘテロ芳香族成分からなる群より選ばれる、を、溶
剤及び触媒の存在下で反応させることからなるポリアミ
ドの製造方法を提供する。前記触媒は白金化合物、パラ
ジウム化合物及びニッケル化合物からなる群より選ばれ
る金属化合物である。
炭素及びヘテロ原子の総数が６〜約３０個の芳香族成分
及びヘテロ芳香族成分からなる群より選ばれる、を、溶
剤及び触媒の存在下で反応させることからなるポリアミ
ドの製造方法を提供する。前記触媒は白金化合物、パラ
ジウム化合物及びニッケル化合物からなる群より選ばれ
る金属化合物である。
【０００６】
【実施態様】アラミドとしても知られている芳香族ポリ
アミド類は、複合材料及びラミネート状で繊維及びエン
ジニアリングプラスチックとして、及びフィルムとして
極めて広範囲に用いられる。
アミド類は、複合材料及びラミネート状で繊維及びエン
ジニアリングプラスチックとして、及びフィルムとして
極めて広範囲に用いられる。
【０００７】本発明方法では、一般式：
【化３】 を有する反応体（本明細書では“トリフルオロメタンス
ルホネート反応体”と称す）、及び一般式：Ｈ2 Ｎ−Ａ
ｒ2 −ＮＨ2 を有する反応体（本明細書では“芳香族ア
ミノ反応体”と称す）の金属介在カルボニル化及びカプ
リングにより芳香族ポリアミドを製造する。本発明方法
ではＡＡモノマーをＢＢモノマーと反応させてＡＡＢＢ
ＡＡＢＢポリマーを製造する。
ルホネート反応体”と称す）、及び一般式：Ｈ2 Ｎ−Ａ
ｒ2 −ＮＨ2 を有する反応体（本明細書では“芳香族ア
ミノ反応体”と称す）の金属介在カルボニル化及びカプ
リングにより芳香族ポリアミドを製造する。本発明方法
ではＡＡモノマーをＢＢモノマーと反応させてＡＡＢＢ
ＡＡＢＢポリマーを製造する。
【０００８】前記式では、Ａｒ1 及びＡｒ2 は各々独立
して選ばれた１〜５個の５員環又は６員環を有する芳香
族成分又はヘテロ芳香族成分である。これらの環は単独
であるか又は結合もしくは縮合している。反応体のトリ
フルオロメタンスルホネート基及びアミノ基はＡｒ1 成
分又はＡｒ2 成分の置換基であり、これらはさらに置換
基を有することもある。Ａｒ1 及びＡｒ2 のこれらトリ
フルオロメタンスルホネート基及びアミノ基は成分中の
同一もしくは異なる芳香族環に結合していてもよく、各
々他の環置換基に対して非オルトである。更なる置換基
は非反応性であり、例えば、重合反応の立体障害又は電
子不活性化等の悪影響を及ぼさないものである。Ａｒ1
及びＡｒ2 は、分枝を導入する置換基、例えば、追加の
トリフルオロメタンスルホネート基又は追加のアミノ基
を担持することができるが、しかしながら、分枝はポリ
マーの流動性及び物性に影響を与えることがある。反応
体上のアミノ基及びトリフルオロメタンスルホネート基
の総数は２個であることが望ましい。
して選ばれた１〜５個の５員環又は６員環を有する芳香
族成分又はヘテロ芳香族成分である。これらの環は単独
であるか又は結合もしくは縮合している。反応体のトリ
フルオロメタンスルホネート基及びアミノ基はＡｒ1 成
分又はＡｒ2 成分の置換基であり、これらはさらに置換
基を有することもある。Ａｒ1 及びＡｒ2 のこれらトリ
フルオロメタンスルホネート基及びアミノ基は成分中の
同一もしくは異なる芳香族環に結合していてもよく、各
々他の環置換基に対して非オルトである。更なる置換基
は非反応性であり、例えば、重合反応の立体障害又は電
子不活性化等の悪影響を及ぼさないものである。Ａｒ1
及びＡｒ2 は、分枝を導入する置換基、例えば、追加の
トリフルオロメタンスルホネート基又は追加のアミノ基
を担持することができるが、しかしながら、分枝はポリ
マーの流動性及び物性に影響を与えることがある。反応
体上のアミノ基及びトリフルオロメタンスルホネート基
の総数は２個であることが望ましい。
【０００９】結合されている環は直接結合されているこ
ともあり、又はアリーレン、ヘテロアリーレン，縮合ア
リーレン、炭素原子数１〜１０個のアルキルもしくはハ
ロアルキル基、−Ｏ−，−Ｓ−、
ともあり、又はアリーレン、ヘテロアリーレン，縮合ア
リーレン、炭素原子数１〜１０個のアルキルもしくはハ
ロアルキル基、−Ｏ−，−Ｓ−、
【００１０】
【化４】
【００１１】からなる群より選ばれる結合基により結合
されていることもある。各Ｔ1 は独立してアルキル、ア
リール及びヘテロアリールからなる群より選ばれ；ｄは
１〜１２の整数であり；ｊは０ないし３００の整数であ
る。適切なＡｒ1 及びＡｒ2 基としてはフェニル、ナフ
チル、アントラシル、フェナントリル、ビフェニル、フ
ェニルエーテル、ジフェニルスルホン、ジフェニルケト
ン、ジフェニルサルファイド、ピリジン及びキノリンが
挙げられる。
されていることもある。各Ｔ1 は独立してアルキル、ア
リール及びヘテロアリールからなる群より選ばれ；ｄは
１〜１２の整数であり；ｊは０ないし３００の整数であ
る。適切なＡｒ1 及びＡｒ2 基としてはフェニル、ナフ
チル、アントラシル、フェナントリル、ビフェニル、フ
ェニルエーテル、ジフェニルスルホン、ジフェニルケト
ン、ジフェニルサルファイド、ピリジン及びキノリンが
挙げられる。
【００１２】本発明方法に適切な具体的な芳香族トリフ
ルオロメタンスルホネート反応体の例としてはフェニル
−１，３，５−トリス（トリフルオロメタンスルホネー
ト）；ナフチル−２，４，７−トリス（トリフルオロメ
タンスルホネート）；ビフェニル−３，３′，５−トリ
ス（トリフルオロメタンスルホネート）；３，３′，５
−トリス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニ
ルエーテル；２，４，４′−トリス（トリフルオロメタ
ンスルホネート）ジフェニルエーテル；３，３′，５−
トリス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニル
スルホンが挙げられる。しかしながら、さらに望ましい
ものは、ビス（トリフルオロメタンスルホネート、例え
ば２，２−ビス（４−トリフルオロメタンサルファネー
トフェニル）プロパン；４，４′−ビス（トリフルオロ
メタンサルファネート）ビフェニル；フェニル−１，３
−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）；フェニル
−１，４−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）；
４，４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）ジ
フェニルスルホン；４，４′−ビス（トリフルオロメタ
ンスルホネート）ジフェニルエーテル；３，４′−ビス
−（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニルエー
テル；４，４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネー
ト）ベンゾフェノン；５−トリフルオロメタンスルホネ
ート−３−（４−トリフルオロメタンスルホネートフェ
ニル）−１，１，３−トリメチルインダン；及び２，２
−ビス（４−トリフルオロメタン−スルホネートフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンである。
ルオロメタンスルホネート反応体の例としてはフェニル
−１，３，５−トリス（トリフルオロメタンスルホネー
ト）；ナフチル−２，４，７−トリス（トリフルオロメ
タンスルホネート）；ビフェニル−３，３′，５−トリ
ス（トリフルオロメタンスルホネート）；３，３′，５
−トリス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニ
ルエーテル；２，４，４′−トリス（トリフルオロメタ
ンスルホネート）ジフェニルエーテル；３，３′，５−
トリス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニル
スルホンが挙げられる。しかしながら、さらに望ましい
ものは、ビス（トリフルオロメタンスルホネート、例え
ば２，２−ビス（４−トリフルオロメタンサルファネー
トフェニル）プロパン；４，４′−ビス（トリフルオロ
メタンサルファネート）ビフェニル；フェニル−１，３
−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）；フェニル
−１，４−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）；
４，４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）ジ
フェニルスルホン；４，４′−ビス（トリフルオロメタ
ンスルホネート）ジフェニルエーテル；３，４′−ビス
−（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニルエー
テル；４，４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネー
ト）ベンゾフェノン；５−トリフルオロメタンスルホネ
ート−３−（４−トリフルオロメタンスルホネートフェ
ニル）−１，１，３−トリメチルインダン；及び２，２
−ビス（４−トリフルオロメタン−スルホネートフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンである。
【００１３】本発明方法に適する芳香族アミン反応体の
例としては、１，４−ジアミノベンゼン；１，３−ジア
ミノベンゼン；４，４′−ジアミノベンゾフェノン；
４，４′−ジアミノジフェニルメタン；２，２−ビス
（４−アミノフェニル）プロパン；９，９−ビス（４−
アミノフェニル）フルオレン；４，４′−ジアミノジフ
ェニルエーテル；１，４−〔２−（４−アミノフェニ
ル）−２−プロピル〕ベンゼン；５−アミノ−３−（４
−アミノフェニル）−１，１，３−トリメチルインダ
ン；２，２′−ビス（トリフルオロメチル）−４，４′
−ジアミノビフェニル；３，４′−ジアミノジフェニル
エーテル；４，４′−ビス（４−アミノフェノキシ）ビ
フェニル；２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキ
シ）フェニル〕プロパン；１，４−ビス（４−アミノフ
ェノキシ）ベンゼン；３，３′−ジアミノジフェニルス
ルホン；４，４′−ジアミノジフェニルスルホン；２，
２′−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕
スルホン；３，５−ジアミノ−ｔ−ブチルベンゼン；
２，２−ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニ
ル〕スルホン；構造式：
例としては、１，４−ジアミノベンゼン；１，３−ジア
ミノベンゼン；４，４′−ジアミノベンゾフェノン；
４，４′−ジアミノジフェニルメタン；２，２−ビス
（４−アミノフェニル）プロパン；９，９−ビス（４−
アミノフェニル）フルオレン；４，４′−ジアミノジフ
ェニルエーテル；１，４−〔２−（４−アミノフェニ
ル）−２−プロピル〕ベンゼン；５−アミノ−３−（４
−アミノフェニル）−１，１，３−トリメチルインダ
ン；２，２′−ビス（トリフルオロメチル）−４，４′
−ジアミノビフェニル；３，４′−ジアミノジフェニル
エーテル；４，４′−ビス（４−アミノフェノキシ）ビ
フェニル；２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキ
シ）フェニル〕プロパン；１，４−ビス（４−アミノフ
ェノキシ）ベンゼン；３，３′−ジアミノジフェニルス
ルホン；４，４′−ジアミノジフェニルスルホン；２，
２′−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕
スルホン；３，５−ジアミノ−ｔ−ブチルベンゼン；
２，２−ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニ
ル〕スルホン；構造式：
【００１４】
【化５】 （式中、ｚは１〜５０の整数である）を有するα，ω−
３−アミノプロピル末端ポリジメチルシロキサンオリゴ
マー、及び構造式Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）y −ＮＨ2 （式
中、ｙは１〜１０である）を有するα，ωジアミノアル
カンが挙げられる。
３−アミノプロピル末端ポリジメチルシロキサンオリゴ
マー、及び構造式Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）y −ＮＨ2 （式
中、ｙは１〜１０である）を有するα，ωジアミノアル
カンが挙げられる。
【００１５】本明細書においては、反応体は個々の化合
物として検討しているが、本方法は反応体として個々の
化合物を用いる反応に限定されず、反応体として化合物
の混合物を用いる反応もまた含んでいる。本発明方法で
は、特定の芳香族トリフルオロメタンスルホネート反応
体もしくは芳香族トリフルオロメタンスルホネート反応
体を組合せたもの、又は特定の芳香族アミンもしくは芳
香族アミンを組合せたものにも限定されないが、しかし
ながら、用いる反応条件下で選ばれた反応体が反応して
芳香族ポリアミドを生成することが必要である。反応体
は用いる反応条件下で十分に安定であり、そして反応体
は許容しがたい量の望ましくない副反応をおこしにく
く、許容しがたい量の副生成物の生成を阻止することが
望ましい。反応体は、立体障害により又は触媒活性低下
により反応を不当に遅延させる基を含まないことも望ま
しい。
物として検討しているが、本方法は反応体として個々の
化合物を用いる反応に限定されず、反応体として化合物
の混合物を用いる反応もまた含んでいる。本発明方法で
は、特定の芳香族トリフルオロメタンスルホネート反応
体もしくは芳香族トリフルオロメタンスルホネート反応
体を組合せたもの、又は特定の芳香族アミンもしくは芳
香族アミンを組合せたものにも限定されないが、しかし
ながら、用いる反応条件下で選ばれた反応体が反応して
芳香族ポリアミドを生成することが必要である。反応体
は用いる反応条件下で十分に安定であり、そして反応体
は許容しがたい量の望ましくない副反応をおこしにく
く、許容しがたい量の副生成物の生成を阻止することが
望ましい。反応体は、立体障害により又は触媒活性低下
により反応を不当に遅延させる基を含まないことも望ま
しい。
【００１６】反応体を一酸化炭素と接触させる。反応ゾ
ーンに過剰の一酸化炭素を添加するのがよい。過剰の一
酸化炭素を測定する必要はなく；単に望ましい反応圧力
まで一酸化炭素で容器に圧力を加えればよい。一酸化炭
素は大気圧でもしくは大気圧より下の圧力で、又は大気
圧より高い圧力であってよい。
ーンに過剰の一酸化炭素を添加するのがよい。過剰の一
酸化炭素を測定する必要はなく；単に望ましい反応圧力
まで一酸化炭素で容器に圧力を加えればよい。一酸化炭
素は大気圧でもしくは大気圧より下の圧力で、又は大気
圧より高い圧力であってよい。
【００１７】本発明の開示実施態様では、反応工程は有
機溶剤の存在下で行われ、この溶剤は反応体を幾分溶解
して液状反応媒体を与えて反応体と触媒の接触を容易に
する。溶剤は反応に対して“不活性”であり、すなわ
ち、溶剤は望ましくない方法で反応に関与しないことが
望ましい。本発明は特定の溶剤又は溶剤系に限られず、
広範の各種有機化合物を用いることができる。本発明の
特別の実施態様では、例示溶剤としては炭化水素溶剤、
例えば、トルエン、エーテル溶剤、例えば、テトラヒド
ロフラン、ジグリム（２−メトキシエチルエーテル）、
及びグリム（１，２−ジメトキシエタン）である。本発
明の別の実施態様において、好ましい溶剤は双極性及び
中性（ａｐｒｏｔｉｃ）であり、すなわち、溶剤は容易
に分離しがたい水素を有する高極性分子を有する。双極
性中性溶剤の例示としては、ジメチルホルムアミド；ジ
メチルアセトアミド；ジメチルスルホキシド；１，３−
ジメチル−２−イミダゾリジノン；ヘキサメチルホスホ
ロアミド；Ｎ−メチルピロリジノン；Ｎ−シクロヘキシ
ルピロリジノン及びジメチルイミダゾリジノンが挙げら
れる。
機溶剤の存在下で行われ、この溶剤は反応体を幾分溶解
して液状反応媒体を与えて反応体と触媒の接触を容易に
する。溶剤は反応に対して“不活性”であり、すなわ
ち、溶剤は望ましくない方法で反応に関与しないことが
望ましい。本発明は特定の溶剤又は溶剤系に限られず、
広範の各種有機化合物を用いることができる。本発明の
特別の実施態様では、例示溶剤としては炭化水素溶剤、
例えば、トルエン、エーテル溶剤、例えば、テトラヒド
ロフラン、ジグリム（２−メトキシエチルエーテル）、
及びグリム（１，２−ジメトキシエタン）である。本発
明の別の実施態様において、好ましい溶剤は双極性及び
中性（ａｐｒｏｔｉｃ）であり、すなわち、溶剤は容易
に分離しがたい水素を有する高極性分子を有する。双極
性中性溶剤の例示としては、ジメチルホルムアミド；ジ
メチルアセトアミド；ジメチルスルホキシド；１，３−
ジメチル−２−イミダゾリジノン；ヘキサメチルホスホ
ロアミド；Ｎ−メチルピロリジノン；Ｎ−シクロヘキシ
ルピロリジノン及びジメチルイミダゾリジノンが挙げら
れる。
【００１８】溶剤の存在量は反応に対して限定的ではな
いが、しかしながら反応を容易に行わせるのに十分な溶
剤を用いるのが望ましい。特定ポリマーは各種溶剤にお
いて最適濃度があるであろう。溶剤の使用量には理論的
上限はないが、しかしながら、実際には、反応容器のサ
イズ、反応媒体から生成物の分離の容易さ、価格及び他
の要素により定める。溶剤の使用量は、芳香族トリフル
オロメタンスルホネート反応体の使用容量に基づいて
０．１〜１０００重量部の範囲内であるのが通常望まし
い。反応媒体を、例えば、攪拌により攪拌してガス状一
酸化炭素の混合を容易にするのも通常望ましい。
いが、しかしながら反応を容易に行わせるのに十分な溶
剤を用いるのが望ましい。特定ポリマーは各種溶剤にお
いて最適濃度があるであろう。溶剤の使用量には理論的
上限はないが、しかしながら、実際には、反応容器のサ
イズ、反応媒体から生成物の分離の容易さ、価格及び他
の要素により定める。溶剤の使用量は、芳香族トリフル
オロメタンスルホネート反応体の使用容量に基づいて
０．１〜１０００重量部の範囲内であるのが通常望まし
い。反応媒体を、例えば、攪拌により攪拌してガス状一
酸化炭素の混合を容易にするのも通常望ましい。
【００１９】本発明方法は、触媒の存在下で行われる。
触媒は遷移金属触媒であり、白金、ニッケル、又はパラ
ジウムがゼロ価もしくは２価の状態で存在する。パラジ
ウムが好ましい。これらの触媒は、イオン結合もしくは
共有結合により１個又はそれ以上の遷移金属原子を結合
している１個又はそれ以上のリガンドを有する。代表的
パラジウム触媒としては単純なパラジウム塩、例えば：
ＰｄＸ2 （ここでＸはＣｌ，Ｂｒ又はＩである）及び表
Ａに列挙する他のパラジウム触媒が挙げられる。
触媒は遷移金属触媒であり、白金、ニッケル、又はパラ
ジウムがゼロ価もしくは２価の状態で存在する。パラジ
ウムが好ましい。これらの触媒は、イオン結合もしくは
共有結合により１個又はそれ以上の遷移金属原子を結合
している１個又はそれ以上のリガンドを有する。代表的
パラジウム触媒としては単純なパラジウム塩、例えば：
ＰｄＸ2 （ここでＸはＣｌ，Ｂｒ又はＩである）及び表
Ａに列挙する他のパラジウム触媒が挙げられる。
【００２０】
【表１】
【００２１】触媒量の触媒が用いられる。“触媒量”と
は、望ましい程度まで反応を触媒する触媒の量を意味す
る。一般に、触媒量は、芳香族トリフルオロメタンスル
ホネートの量に基づいて少なくとも０．０１モル％であ
る。触媒量には真の上限又は下限はないが、価格及び生
成物及び未反応反応体からの触媒分離の容易さのような
二次的観点により定められる。好ましい触媒量は芳香族
トリフルオロメタンスルホネート反応体１モリ当り０．
００５〜０．２０モルである。触媒を支持体に担持して
もしなくてもよい。
は、望ましい程度まで反応を触媒する触媒の量を意味す
る。一般に、触媒量は、芳香族トリフルオロメタンスル
ホネートの量に基づいて少なくとも０．０１モル％であ
る。触媒量には真の上限又は下限はないが、価格及び生
成物及び未反応反応体からの触媒分離の容易さのような
二次的観点により定められる。好ましい触媒量は芳香族
トリフルオロメタンスルホネート反応体１モリ当り０．
００５〜０．２０モルである。触媒を支持体に担持して
もしなくてもよい。
【００２２】反応は活性リガンド、例えば、ホスフィン
リガンド又はアルシンリガンドの存在下でおこる。かか
るリガンドは、触媒反応速度を高めるために、触媒と共
に用いることができ、例えば、ビス（トリフェニルホス
フィン）パラジウム（II）塩化物と共に用いるトリフェ
ニルホスフィンである。リガンドの使用量は望ましく
は、金属触媒１モル当り０．０１モルないし５．０モ
ル、さらに望ましくは金属触媒１モル当り２モルであ
る。活性リガンドが存在すると、触媒をさらに求核性と
することにより芳香族トリフルオロメタンスルホネート
反応体へのかかる触媒の酸化性付加スピードを上げると
信じられている。
リガンド又はアルシンリガンドの存在下でおこる。かか
るリガンドは、触媒反応速度を高めるために、触媒と共
に用いることができ、例えば、ビス（トリフェニルホス
フィン）パラジウム（II）塩化物と共に用いるトリフェ
ニルホスフィンである。リガンドの使用量は望ましく
は、金属触媒１モル当り０．０１モルないし５．０モ
ル、さらに望ましくは金属触媒１モル当り２モルであ
る。活性リガンドが存在すると、触媒をさらに求核性と
することにより芳香族トリフルオロメタンスルホネート
反応体へのかかる触媒の酸化性付加スピードを上げると
信じられている。
【００２３】本発明方法は、好ましくは副生成物である
トリフルオロメタンスルホン酸を、例えば、塩基の存在
下で反応を行うことにより中和することを含む。塩基は
第三アミン、例えば、トリブチルアミン、ピリジン、
１，８−ジアゾビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセ
ン（ＤＢＵ），１，５−ジアゾビシクロ〔４，３，０〕
ノン−５−エン（ＤＢＮ）であってよく、又は式： ＮＲ3 前記式中、各Ｒは独立して炭素原子数２〜６個の低級ア
ルキル基から選ばれる、を有してもよい。塩基は架橋化
ポリマー、例えば架橋化ポリ（ビニルピリジン）ビーズ
上に不動化してもよい。あるいは、塩基は反応体と反応
しない別のタイプの塩基性物質、例えば、金属炭酸塩、
例えば、Ｋ2 ＣＯ3 又は金属水酸化物、例えばＣａ（Ｏ
Ｈ）2 又は金属酢酸塩、例えば、酢酸ナトリウムであっ
てよい。一般に、生成した副生成物であるトリフルオロ
メタンスルホン酸と反応するのに少くとも十分な塩基を
用いる。望ましい場合には過剰を用いてもよい。反応
体、溶剤及び触媒の場合と同様に、当業者は塩基のこの
ままの構造に限定されるものではなく、先に挙げた化合
物例は単に本発明に用いることができる物質の具体的し
かも非限定的例にすぎないことを認めるであろう。当業
者は、同様の結果を達成するのに、本発明において他の
手段で置き換えることができることも認めるであろう。
トリフルオロメタンスルホン酸を、例えば、塩基の存在
下で反応を行うことにより中和することを含む。塩基は
第三アミン、例えば、トリブチルアミン、ピリジン、
１，８−ジアゾビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセ
ン（ＤＢＵ），１，５−ジアゾビシクロ〔４，３，０〕
ノン−５−エン（ＤＢＮ）であってよく、又は式： ＮＲ3 前記式中、各Ｒは独立して炭素原子数２〜６個の低級ア
ルキル基から選ばれる、を有してもよい。塩基は架橋化
ポリマー、例えば架橋化ポリ（ビニルピリジン）ビーズ
上に不動化してもよい。あるいは、塩基は反応体と反応
しない別のタイプの塩基性物質、例えば、金属炭酸塩、
例えば、Ｋ2 ＣＯ3 又は金属水酸化物、例えばＣａ（Ｏ
Ｈ）2 又は金属酢酸塩、例えば、酢酸ナトリウムであっ
てよい。一般に、生成した副生成物であるトリフルオロ
メタンスルホン酸と反応するのに少くとも十分な塩基を
用いる。望ましい場合には過剰を用いてもよい。反応
体、溶剤及び触媒の場合と同様に、当業者は塩基のこの
ままの構造に限定されるものではなく、先に挙げた化合
物例は単に本発明に用いることができる物質の具体的し
かも非限定的例にすぎないことを認めるであろう。当業
者は、同様の結果を達成するのに、本発明において他の
手段で置き換えることができることも認めるであろう。
【００２４】本発明方法は、室温、すなわち、２０℃か
ら２５０℃の範囲の温度で行うのが好ましい。望ましい
温度範囲は７０℃〜１５０℃である。当業者は、反応温
度が限定的でなく、望ましい場合にはこの範囲外の温度
を用いることができることを認めるであろう。一般に、
妥当な反応速度を与え、そして生成物又は反応体の分解
量が過度でないような反応温度が選ばれる。
ら２５０℃の範囲の温度で行うのが好ましい。望ましい
温度範囲は７０℃〜１５０℃である。当業者は、反応温
度が限定的でなく、望ましい場合にはこの範囲外の温度
を用いることができることを認めるであろう。一般に、
妥当な反応速度を与え、そして生成物又は反応体の分解
量が過度でないような反応温度が選ばれる。
【００２５】反応時間は、実際独立して変動しうるが、
しかし選択された他の反応パラメータ、例えば、反応体
の反応性、触媒の活性及び量、反応温度、圧力等に少な
くともある程度左右される。一般に反応時間は０．１〜
１００時間の範囲内である。
しかし選択された他の反応パラメータ、例えば、反応体
の反応性、触媒の活性及び量、反応温度、圧力等に少な
くともある程度左右される。一般に反応時間は０．１〜
１００時間の範囲内である。
【００２６】本発明方法により製造される芳香族ポリア
ミドは塩を反応混合物へ添加する必要はない。本発明方
法では塩を反応媒体に添加することができる。塩は、お
そらくポリマー鎖上の水素結合を開裂することにより、
あるポリマーに溶解性を付与するのかもしれない。プロ
セス効率の観点からポリアミドを溶液状に保持すること
が好ましい。適切な塩としてはリチウム塩、例えば、Ｌ
ｉＣｌ，ＬｉＢｒ及びＣａＣｌ2 が挙げられる。
ミドは塩を反応混合物へ添加する必要はない。本発明方
法では塩を反応媒体に添加することができる。塩は、お
そらくポリマー鎖上の水素結合を開裂することにより、
あるポリマーに溶解性を付与するのかもしれない。プロ
セス効率の観点からポリアミドを溶液状に保持すること
が好ましい。適切な塩としてはリチウム塩、例えば、Ｌ
ｉＣｌ，ＬｉＢｒ及びＣａＣｌ2 が挙げられる。
【００２７】本発明方法は特定の理論又は説明により限
定されないが、しかしながら、理論的説明をすることは
可能である。本発明方法は、以下の一連の反応メカニズ
ムシークエンスを包含し、ポリマー生成工程はさらに酸
化性付加工程、一酸化炭素取入れ工程及びカプリング工
程からなる。この反応シークエンスでは、パラジウム
（Ｏ）錯塩として、又はその後その場で還元されるパラ
ジウム（II）種として導入することができるパラジウム
（Ｏ）触媒はトリフルオロメタンスルホネート化合物に
酸化性付加を行って、アリールパラジウム（II）トリフ
ルオロメタンスルホネート中間体を生成する。パラジウ
ム上のリガンドはＣＯ、ホスフィン又はアミンであって
よい。パラジウム触媒はトリフルオロメタンスルホネー
ト化合物と比較して少量存在するので、ビス（アリール
パラジウム（II）トリフルオロメタンスルホネート）中
間体が大量に生成されることはないが、しかし、酸化性
付加反応は、反応中のある時点では、トリフルオロメタ
ンスルホネート反応体化合物の両方のトリフルオロメタ
ンスルホネート基でおこる。次にＣＯの取り入れによ
り、アシルパラジウム（II）トリフルオロメタンスルホ
ネート錯体が生じる。この求電子性アシルパラジウム錯
体は次にカプリング反応で芳香族アミノ化合物により攻
撃される。遊離したトリフルオロメタンスルホン酸は添
加された塩基（ＤＢＵ）により中和され、パラジウム
（Ｏ）触媒が再生する。このメカニズムシークエンスを
４，４′−イソプロピリデン−ジフェノールジ（トリフ
ルオロメタンスルホネート）及び４，４′−ジアミノジ
フェニルエーテルの反応について以下に示す。
定されないが、しかしながら、理論的説明をすることは
可能である。本発明方法は、以下の一連の反応メカニズ
ムシークエンスを包含し、ポリマー生成工程はさらに酸
化性付加工程、一酸化炭素取入れ工程及びカプリング工
程からなる。この反応シークエンスでは、パラジウム
（Ｏ）錯塩として、又はその後その場で還元されるパラ
ジウム（II）種として導入することができるパラジウム
（Ｏ）触媒はトリフルオロメタンスルホネート化合物に
酸化性付加を行って、アリールパラジウム（II）トリフ
ルオロメタンスルホネート中間体を生成する。パラジウ
ム上のリガンドはＣＯ、ホスフィン又はアミンであって
よい。パラジウム触媒はトリフルオロメタンスルホネー
ト化合物と比較して少量存在するので、ビス（アリール
パラジウム（II）トリフルオロメタンスルホネート）中
間体が大量に生成されることはないが、しかし、酸化性
付加反応は、反応中のある時点では、トリフルオロメタ
ンスルホネート反応体化合物の両方のトリフルオロメタ
ンスルホネート基でおこる。次にＣＯの取り入れによ
り、アシルパラジウム（II）トリフルオロメタンスルホ
ネート錯体が生じる。この求電子性アシルパラジウム錯
体は次にカプリング反応で芳香族アミノ化合物により攻
撃される。遊離したトリフルオロメタンスルホン酸は添
加された塩基（ＤＢＵ）により中和され、パラジウム
（Ｏ）触媒が再生する。このメカニズムシークエンスを
４，４′−イソプロピリデン−ジフェノールジ（トリフ
ルオロメタンスルホネート）及び４，４′−ジアミノジ
フェニルエーテルの反応について以下に示す。
【００２８】
【化６】
【００２９】本発明のさらなる理解のために以下の例を
示す。
示す。
【００３０】例１ 反応は、攪拌棒、ガス取り入れ口及び還流コンデンサー
を備えた乾燥３ツ口丸底フラスコ中で行った。この容器
に、芳香族アミン反応体、芳香族トリフルオロメタンス
ルホネート反応体、触媒、リガンド及び溶剤を投入し
た。本剤に関連する具体的化合物及び更なる情報は表Ｂ
に示す。反応混合物を脱気し、１気圧の一酸化炭素下に
おき、次いで１１５℃まで加熱した。１分間攪拌後、塩
基を添加した。反応を表Ｂに示した反応時間進行させ
た。次に反応混合物を中位フリット焼結ガラスロートを
用いてろ過し、ろ液をメタノール中で沈澱させ、メタノ
ールで洗浄し次いで真空乾燥して固相ポリマーを単離し
た。ポリマーの固有粘度は、２５℃でポリマーの０．２
５重量／重量％溶液を、Ｓｃｈｏｔｔ Ｇｅｒａｔｅ５
２６−１０粘度計を用いて分析することにより測定し
た。赤外線スペクトルを、ＫＢｒペレットとしてＮｉｃ
ｏｌｅｔ ５ＺＤＸ分光光度計を用いて記録した。ジメ
チルホルムアミド中のポリ（メチルメタクリレート）標
準に対して検量した、１０6 ，１０5 ，１０4 ，１０3
オングストロームのμ−ｓｔｙｒａｇｅｌカラムを用い
るＷａｔｅｒｓ ＨＰＬＣからサイズ排除クロマトグラ
フィデータを得て重量平均及び数平均分子量（本明細で
はそれぞれＭｗ及びＭｎと称する）測定を行った。
を備えた乾燥３ツ口丸底フラスコ中で行った。この容器
に、芳香族アミン反応体、芳香族トリフルオロメタンス
ルホネート反応体、触媒、リガンド及び溶剤を投入し
た。本剤に関連する具体的化合物及び更なる情報は表Ｂ
に示す。反応混合物を脱気し、１気圧の一酸化炭素下に
おき、次いで１１５℃まで加熱した。１分間攪拌後、塩
基を添加した。反応を表Ｂに示した反応時間進行させ
た。次に反応混合物を中位フリット焼結ガラスロートを
用いてろ過し、ろ液をメタノール中で沈澱させ、メタノ
ールで洗浄し次いで真空乾燥して固相ポリマーを単離し
た。ポリマーの固有粘度は、２５℃でポリマーの０．２
５重量／重量％溶液を、Ｓｃｈｏｔｔ Ｇｅｒａｔｅ５
２６−１０粘度計を用いて分析することにより測定し
た。赤外線スペクトルを、ＫＢｒペレットとしてＮｉｃ
ｏｌｅｔ ５ＺＤＸ分光光度計を用いて記録した。ジメ
チルホルムアミド中のポリ（メチルメタクリレート）標
準に対して検量した、１０6 ，１０5 ，１０4 ，１０3
オングストロームのμ−ｓｔｙｒａｇｅｌカラムを用い
るＷａｔｅｒｓ ＨＰＬＣからサイズ排除クロマトグラ
フィデータを得て重量平均及び数平均分子量（本明細で
はそれぞれＭｗ及びＭｎと称する）測定を行った。
【００３１】例２ 表Ｂに示したように反応体を変え、ポリマーを反応混合
物に沈澱させ次いでろ過分離し、続けてメタノールで十
分に洗浄しそして真空乾燥した以外は、例１と同一操作
を行い、結果を示した。
物に沈澱させ次いでろ過分離し、続けてメタノールで十
分に洗浄しそして真空乾燥した以外は、例１と同一操作
を行い、結果を示した。
【００３２】例３ 表Ｂに示したように反応体を変え、ろ液を水中に沈澱さ
せ次いで水洗し、真空乾燥し、Ｎ，Ｎ1 −ジメチルアセ
トアミドに再溶解させ、次いで水に再沈澱し真空乾燥し
た他は例２と同一操作を行い、結果を示した。
せ次いで水洗し、真空乾燥し、Ｎ，Ｎ1 −ジメチルアセ
トアミドに再溶解させ、次いで水に再沈澱し真空乾燥し
た他は例２と同一操作を行い、結果を示した。
【００３３】例４ テフロン被覆攪拌棒、圧力ゲージ、圧力開放バルブ、ガ
ス取入れ口及び脱気及び試料抜取り用ストレートボール
バルブを備えたＦｉｓｃｈｅｒ−Ｐｏｒｔｅｒボトルに
表Ｂに列挙した芳香族トリフルオロメタンスルホネート
反応体、芳香族ジアミン反応体、触媒、リガンド及び溶
剤を投入した。反応混合物を脱気し次いで一酸化炭素１
kg／cm2 下においた。１分間１１５℃で攪拌後、１，８
−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデク−７−エン
（１．０８mL，７．２mmol）を添加し、次いで反応容器
を一酸化炭素で７．７kg／cm2 まで加圧した。反応を６
時間続け、その後、極めて微細な沈澱物をろ過収集し、
メタノール洗浄し、次に真空乾燥（１１５℃，０．１ト
ール）して、ポリマー１．１６ｇ（収率９５％）を得
た。このポリマーを例１に記載した操作により分析して
表Ｂに示したデータを得た。結果を表Ｂに示す。
ス取入れ口及び脱気及び試料抜取り用ストレートボール
バルブを備えたＦｉｓｃｈｅｒ−Ｐｏｒｔｅｒボトルに
表Ｂに列挙した芳香族トリフルオロメタンスルホネート
反応体、芳香族ジアミン反応体、触媒、リガンド及び溶
剤を投入した。反応混合物を脱気し次いで一酸化炭素１
kg／cm2 下においた。１分間１１５℃で攪拌後、１，８
−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデク−７−エン
（１．０８mL，７．２mmol）を添加し、次いで反応容器
を一酸化炭素で７．７kg／cm2 まで加圧した。反応を６
時間続け、その後、極めて微細な沈澱物をろ過収集し、
メタノール洗浄し、次に真空乾燥（１１５℃，０．１ト
ール）して、ポリマー１．１６ｇ（収率９５％）を得
た。このポリマーを例１に記載した操作により分析して
表Ｂに示したデータを得た。結果を表Ｂに示す。
【００３４】例５ 表Ｂに示したように反応体を変え；生成ポリマーをジメ
チルアセトアミドに再溶解し、ろ過し、濃縮し、メタノ
ール中に再沈澱させ次いで真空乾燥してポリマー１．３
９７ｇ（収率１０４％）を得；ポリマーの固有粘度は、
乾燥後例１に記載した操作により測定した以外は例４と
同様の操作を行い、結果を示した。
チルアセトアミドに再溶解し、ろ過し、濃縮し、メタノ
ール中に再沈澱させ次いで真空乾燥してポリマー１．３
９７ｇ（収率１０４％）を得；ポリマーの固有粘度は、
乾燥後例１に記載した操作により測定した以外は例４と
同様の操作を行い、結果を示した。
【００３５】例６ 表Ｂに示したように反応体を変え；反応を２２時間続
け、その後沈澱をろ過収集し、水で沈澱させ、水洗し、
水−メタノールの２：１容量／容量混合物で洗浄し、次
に真空乾燥（６０℃；０．１トール）してポリマー２．
１７ｇ（収率９８％）を得た以外は例４と同様の操作を
行い、結果を示した。
け、その後沈澱をろ過収集し、水で沈澱させ、水洗し、
水−メタノールの２：１容量／容量混合物で洗浄し、次
に真空乾燥（６０℃；０．１トール）してポリマー２．
１７ｇ（収率９８％）を得た以外は例４と同様の操作を
行い、結果を示した。
【００３６】例７ 表Ｂに示したように反応体を変え、反応を２３時間続
け、その後沈澱物をろ過収集し、メタノールで沈澱さ
せ、メタノールで洗浄し、次に８０〜９０℃で真空乾燥
した以外は例４と同様の操作を行い、結果を示した。
け、その後沈澱物をろ過収集し、メタノールで沈澱さ
せ、メタノールで洗浄し、次に８０〜９０℃で真空乾燥
した以外は例４と同様の操作を行い、結果を示した。
【００３７】例８ 表Ｂに示したように反応体を変えた以外は、例７と同様
の操作を行い、結果を示した。
の操作を行い、結果を示した。
【００３８】例９ 表Ｂに示したように反応体を変えた以外は、例７と同様
の操作を行い、結果を示した。
の操作を行い、結果を示した。
【００３９】
【表２】
【００４０】
【表３】
【００４１】
【表４】
【００４２】
【表５】
【００４３】
【表６】
【００４４】
【表７】
【００４５】表Ｃは、各例の反応体の構造式及び本発明
方法により製造されかつ表Ｂに示したデータによりサポ
ートされるポリマーの反復単位構造式を示す。
方法により製造されかつ表Ｂに示したデータによりサポ
ートされるポリマーの反復単位構造式を示す。
【００４６】
【表８】
【００４７】
【表９】
【００４８】
【表１０】
【００４９】以下に、本発明の実施態様を特許請求の範
囲の形で述べる。 １．一酸化炭素、並びに反応体対：
囲の形で述べる。 １．一酸化炭素、並びに反応体対：
【化７】 及びＨ2 Ｎ−Ａｒ2 −ＮＨ2 前記式中、−Ａｒ1 −及び−Ａｒ2 は、環炭素及びヘテ
ロ原子の総数が６〜３０個の芳香族成分及びヘテロ芳香
族成分からなる群より選ばれる、を、溶剤及び触媒の存
在下で反応させることからなるポリアミドの製造方法で
あって、前記触媒が白金化合物、パラジウム化合物及び
ニッケル化合物からなる群より選ばれるものである製造
方法。
ロ原子の総数が６〜３０個の芳香族成分及びヘテロ芳香
族成分からなる群より選ばれる、を、溶剤及び触媒の存
在下で反応させることからなるポリアミドの製造方法で
あって、前記触媒が白金化合物、パラジウム化合物及び
ニッケル化合物からなる群より選ばれるものである製造
方法。
【００５０】２．前記のトリフルオロメタンスルホネー
ト基の各々が非オルトである請求項１記載の方法。
ト基の各々が非オルトである請求項１記載の方法。
【００５１】３．トリフルオロメタンスルホン酸を中和
することを更に含んでなる請求項１記載の方法。
することを更に含んでなる請求項１記載の方法。
【００５２】４．前記触媒がパラジウム化合物である請
求項１記載の方法。
求項１記載の方法。
【００５３】５．−Ａｒ1 −及び−Ａｒ2 −が、各々独
立してアリーレン及びヘテロアリーレンからなる群より
選ばれ、これらの基は５員環もしくは６員環、前記環の
縮合系、前記環の直接結合系、又はアリーレン、ヘテロ
アリーレン、縮合アリーレン、炭素原子数１〜１０個の
アルキルもしくはハロアルキル基、−Ｏ−，−Ｓ−、
立してアリーレン及びヘテロアリーレンからなる群より
選ばれ、これらの基は５員環もしくは６員環、前記環の
縮合系、前記環の直接結合系、又はアリーレン、ヘテロ
アリーレン、縮合アリーレン、炭素原子数１〜１０個の
アルキルもしくはハロアルキル基、−Ｏ−，−Ｓ−、
【化８】 前記式中、各Ｔ1 は独立してアルキル、及びアリール及
びヘテロアリールからなる群より選ばれ、ｄは１〜約１
２の整数であり；ｊは０ないし３００の整数である、か
らなる群より選ばれる架橋部材を有する前記環の結合系
を有するものである請求項１記載の方法。
びヘテロアリールからなる群より選ばれ、ｄは１〜約１
２の整数であり；ｊは０ないし３００の整数である、か
らなる群より選ばれる架橋部材を有する前記環の結合系
を有するものである請求項１記載の方法。
【００５４】６．−Ａｒ1 −及び−Ａｒ2 −が、各々フ
ェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル、ビ
フェニル、フェニルエーテル、ジフェニルスルホン、ジ
フェニルケトン、ジフェニルスルフィド、ピリジン、キ
ノリンからなる群より選ばれる請求項１記載の方法。
ェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル、ビ
フェニル、フェニルエーテル、ジフェニルスルホン、ジ
フェニルケトン、ジフェニルスルフィド、ピリジン、キ
ノリンからなる群より選ばれる請求項１記載の方法。
【００５５】７．前記反応を、１平方センチメートル当
り１kgより大きい一酸化炭素圧力で行う請求項１記載の
方法。
り１kgより大きい一酸化炭素圧力で行う請求項１記載の
方法。
【００５６】８．前記芳香族トリフルオロメタンスルホ
ネート反応体が、フェニル−１，３，５−トリス（トリ
フルオロメタンスルホネート）；ナフチル−２，４，７
−トリス（トリフルオロメタンスルホネート）；ビフェ
ニル−３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンスル
ホネート）；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタ
ンスルホネート）ジフェニルエーテル；２，４，４′−
トリス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニル
エーテル；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタン
スルホネート）ジフェニルスルホン、２，２−ビス（４
−トリフルオロメタンサルファネートフェニル）プロパ
ン；４，４′−ビス（トリフルオロメタンサルファネー
ト）ビフェニル；フェニル−１，３−ビス（トリフルオ
ロメタンスルホネート）；フェニル−１，４−ビス（ト
リフルオロメタンスルホネート）；４，４′−ビス（ト
リフルオロメタンスルホネート）ジフェニルスルホン；
４，４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）ジ
フェニルエーテル；３，４′−ビス−（トリフルオロメ
タンスルホネート）ジフェニルエーテル；４，４′−ビ
ス（トリフルオロメタンスルホネート）ベンゾフェノ
ン；５−トリフルオロメタンスルホネート−３−（４−
トリフルオロメタンスルホネートフェニル）−１，１，
３−トリメチルインダン；及び２，２−ビス（４−トリ
フルオロメタン−スルホネートフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンからなる群より選ばれる請求項１の方法。
ネート反応体が、フェニル−１，３，５−トリス（トリ
フルオロメタンスルホネート）；ナフチル−２，４，７
−トリス（トリフルオロメタンスルホネート）；ビフェ
ニル−３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンスル
ホネート）；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタ
ンスルホネート）ジフェニルエーテル；２，４，４′−
トリス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニル
エーテル；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタン
スルホネート）ジフェニルスルホン、２，２−ビス（４
−トリフルオロメタンサルファネートフェニル）プロパ
ン；４，４′−ビス（トリフルオロメタンサルファネー
ト）ビフェニル；フェニル−１，３−ビス（トリフルオ
ロメタンスルホネート）；フェニル−１，４−ビス（ト
リフルオロメタンスルホネート）；４，４′−ビス（ト
リフルオロメタンスルホネート）ジフェニルスルホン；
４，４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）ジ
フェニルエーテル；３，４′−ビス−（トリフルオロメ
タンスルホネート）ジフェニルエーテル；４，４′−ビ
ス（トリフルオロメタンスルホネート）ベンゾフェノ
ン；５−トリフルオロメタンスルホネート−３−（４−
トリフルオロメタンスルホネートフェニル）−１，１，
３−トリメチルインダン；及び２，２−ビス（４−トリ
フルオロメタン−スルホネートフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンからなる群より選ばれる請求項１の方法。
【００５７】９．前記芳香族アミン反応体が、１，４−
ジアミノベンゼン；１，３−ジアミノベンゼン；４，
４′−ジアミノベンゾフェノン；４，４′−ジアミノジ
フェニルメタン；２，２−ビス（４−アミノフェニル）
プロパン；９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオ
レン；４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；１，４
−〔２−（４−アミノフェニル）−２−プロピル〕ベン
ゼン；５−アミノ−３−（４−アミノフェニル）−１，
１，３−トリメチルインダン；２，２′−ビス（トリフ
ルオロメチル）−４，４′−ジアミノビフェニル；３，
４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス
（４−アミノフェノキシ）ビフェニル；２，２−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン；
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン；３，
３′−ジアミノジフェニルスルホン；４，４′−ジアミ
ノジフェニルスルホン；２，２′−ビス〔４−（４−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；３，５−ジアミ
ノ−ｔ−ブチルベンゼン；２，２−ビス〔４−（３−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；
ジアミノベンゼン；１，３−ジアミノベンゼン；４，
４′−ジアミノベンゾフェノン；４，４′−ジアミノジ
フェニルメタン；２，２−ビス（４−アミノフェニル）
プロパン；９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオ
レン；４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；１，４
−〔２−（４−アミノフェニル）−２−プロピル〕ベン
ゼン；５−アミノ−３−（４−アミノフェニル）−１，
１，３−トリメチルインダン；２，２′−ビス（トリフ
ルオロメチル）−４，４′−ジアミノビフェニル；３，
４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス
（４−アミノフェノキシ）ビフェニル；２，２−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン；
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン；３，
３′−ジアミノジフェニルスルホン；４，４′−ジアミ
ノジフェニルスルホン；２，２′−ビス〔４−（４−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；３，５−ジアミ
ノ−ｔ−ブチルベンゼン；２，２−ビス〔４−（３−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；
【化９】 （式中、ｚは１〜５０の整数である）；及びＨ2 Ｎ−
（ＣＨ2 ）y −ＮＨ2 （式中、ｙは１〜１０である）か
らなる群より選ばれる請求項１記載の方法。
（ＣＨ2 ）y −ＮＨ2 （式中、ｙは１〜１０である）か
らなる群より選ばれる請求項１記載の方法。
【００５８】１０．前記芳香族トリフルオロメタンスル
ホン反応体がフェニル−１，３，５−トリス（トリフル
オロメタンスルホネート）；ナフチル−２，４，７−ト
リス（トリフルオロメタンスルホネート）：ビフェニル
−３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンスルホネ
ート）；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンス
ルホネート）ジフェニルエーテル；２，４，４′−トリ
ス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニルエー
テル；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンスル
ホネート）ジフェニルスルホン、２，２−ビス（４−ト
リフルオロメタンサルファネートフェニル）プロパン；
４，４′−ビス（トリフルオロメタンサルファネート）
ビフェニル；フェニル−１，３−ビス（トリフルオロメ
タンスルホネート）；フェニル−１，４−ビス（トリフ
ルオロメタンスルホネート）；４，４′−ビス（トリフ
ルオロメタンスルホネート）ジフェニルスルホン；４，
４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェ
ニルエーテル；３，４′−ビス−（トリフルオロメタン
スルホネート）ジフェニルエーテル；４，４′−ビス
（トリフルオロメタンスルホネート）ベンゾフェノン；
５−トリフルオロメタンスルホネート−３−（４−トリ
フルオロメタンスルホネートフェニル）−１，１，３−
トリメチルインダン；及び２，２−ビス（４−トリフル
オロメタン−スルホネートフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンからなる群より選ばれ；
ホン反応体がフェニル−１，３，５−トリス（トリフル
オロメタンスルホネート）；ナフチル−２，４，７−ト
リス（トリフルオロメタンスルホネート）：ビフェニル
−３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンスルホネ
ート）；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンス
ルホネート）ジフェニルエーテル；２，４，４′−トリ
ス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニルエー
テル；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンスル
ホネート）ジフェニルスルホン、２，２−ビス（４−ト
リフルオロメタンサルファネートフェニル）プロパン；
４，４′−ビス（トリフルオロメタンサルファネート）
ビフェニル；フェニル−１，３−ビス（トリフルオロメ
タンスルホネート）；フェニル−１，４−ビス（トリフ
ルオロメタンスルホネート）；４，４′−ビス（トリフ
ルオロメタンスルホネート）ジフェニルスルホン；４，
４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェ
ニルエーテル；３，４′−ビス−（トリフルオロメタン
スルホネート）ジフェニルエーテル；４，４′−ビス
（トリフルオロメタンスルホネート）ベンゾフェノン；
５−トリフルオロメタンスルホネート−３−（４−トリ
フルオロメタンスルホネートフェニル）−１，１，３−
トリメチルインダン；及び２，２−ビス（４−トリフル
オロメタン−スルホネートフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンからなる群より選ばれ；
【００５９】そして前記芳香族アミン反応体が１，４−
ジアミノベンゼン；１，３−ジアミノベンゼン；４，
４′−ジアミノベンゾフェノン；４，４′−ジアミノジ
フェニルメタン；２，２−ビス（４−アミノフェニル）
プロパン；９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオ
レン；４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；１，４
−〔２−（４−アミノフェニル）−２−プロピル〕ベン
ゼン；５−アミノ−３−（４−アミノフェニル）−１，
１，３−トリメチルインダン；２，２′−ビス（トリフ
ルオロメチル）−４，４′−ジアミノビフェニル；３，
４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス
（４−アミノフェノキシ）ビフェニル；２，２−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン；
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン；３，
３′−ジアミノジフェニルスルホン；４，４′−ジアミ
ノジフェニルスルホン；２，２′−ビス〔４−（４−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；３，５−ジアミ
ノ−ｔ−ブチルベンゼン；２，２−ビス〔４−（３−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；
ジアミノベンゼン；１，３−ジアミノベンゼン；４，
４′−ジアミノベンゾフェノン；４，４′−ジアミノジ
フェニルメタン；２，２−ビス（４−アミノフェニル）
プロパン；９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオ
レン；４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；１，４
−〔２−（４−アミノフェニル）−２−プロピル〕ベン
ゼン；５−アミノ−３−（４−アミノフェニル）−１，
１，３−トリメチルインダン；２，２′−ビス（トリフ
ルオロメチル）−４，４′−ジアミノビフェニル；３，
４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス
（４−アミノフェノキシ）ビフェニル；２，２−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン；
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン；３，
３′−ジアミノジフェニルスルホン；４，４′−ジアミ
ノジフェニルスルホン；２，２′−ビス〔４−（４−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；３，５−ジアミ
ノ−ｔ−ブチルベンゼン；２，２−ビス〔４−（３−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；
【化１０】 （式中、ｚは１〜５０の整数である）；及びＨ2 Ｎ−
（ＣＨ2 ）y −ＮＨ2 （式中、ｙは１〜１０である）か
らなる群より選ばれる請求項１記載の方法。
（ＣＨ2 ）y −ＮＨ2 （式中、ｙは１〜１０である）か
らなる群より選ばれる請求項１記載の方法。
【００６０】１１．前記触媒がゼロ価又は二価のパラジ
ウム原子を有するパラジウム化合物である請求項１記載
の方法。
ウム原子を有するパラジウム化合物である請求項１記載
の方法。
【００６１】１２．前記触媒が、ＰｄＣｌ2 ，ＰｄＢｒ
2 ，ＰｄＩ2 ，ＰｄＣｌ2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＢｒ2
（Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＩ2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，Ｐｄ
（Ｒ2 ）2 ，Ｐｄ（Ｒ2 ）2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＣｌ
2 （Ｒ3 ＣＮ）2 ，ＰｈＰｄＢｒ（Ｒ 1 3 Ｐ）2 ，Ｐｈ
ＰｄＩ（Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＣｌ2 （シス、シス−１，
５−シクロオクタジエン）2 ，Ｐｄ（２，４−ペンタン
ジオネート）2 ，ＰｄＣｌ2 （１，１1 −ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）フェロセン）、ＰｄＣｌ2 （１，２−
ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）、ＰｄＣｌ
2 （１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパ
ン）、ＰｄＣｌ2 （１，４−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）ブタン）、Ｐｄ（Ｒ1 3Ｐ）4 、
2 ，ＰｄＩ2 ，ＰｄＣｌ2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＢｒ2
（Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＩ2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，Ｐｄ
（Ｒ2 ）2 ，Ｐｄ（Ｒ2 ）2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＣｌ
2 （Ｒ3 ＣＮ）2 ，ＰｈＰｄＢｒ（Ｒ 1 3 Ｐ）2 ，Ｐｈ
ＰｄＩ（Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＣｌ2 （シス、シス−１，
５−シクロオクタジエン）2 ，Ｐｄ（２，４−ペンタン
ジオネート）2 ，ＰｄＣｌ2 （１，１1 −ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）フェロセン）、ＰｄＣｌ2 （１，２−
ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）、ＰｄＣｌ
2 （１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパ
ン）、ＰｄＣｌ2 （１，４−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）ブタン）、Ｐｄ（Ｒ1 3Ｐ）4 、
【化１１】 Ｐｄ（１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）
2 ，Ｐｄ（１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロ
パン）2 、及びＰｄ（１，４−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）ブタン）2 （ここで、Ｒ1 はアルキル又はアリー
ルであり、Ｒ2 はアセテートであり、Ｒ3 はＣＨ3 又は
フェニルである）からなる群より選ばれる請求項１記載
の方法。
2 ，Ｐｄ（１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロ
パン）2 、及びＰｄ（１，４−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）ブタン）2 （ここで、Ｒ1 はアルキル又はアリー
ルであり、Ｒ2 はアセテートであり、Ｒ3 はＣＨ3 又は
フェニルである）からなる群より選ばれる請求項１記載
の方法。
【００６２】１３．一酸化炭素、一般式：
【化１２】 を有する芳香族ジ（トリフルオロメタンスルホネート）
及び一般式： Ｈ2 Ｎ−Ａｒ2 −ＮＨ2 を有する芳香族ジアミン、（前記式中、−Ａｒ1 −及び
−Ａｒ2 −は、各々独立してアリーレン又はヘテロアリ
ーレンであり、各前記トリフルオロメタンスルホネート
基は非オルトである）、を、溶剤及びゼロ価又は二価状
態のパラジウムを有するパラジウム触媒の存在下で反応
させることからなるポリアミドの製造方法。
及び一般式： Ｈ2 Ｎ−Ａｒ2 −ＮＨ2 を有する芳香族ジアミン、（前記式中、−Ａｒ1 −及び
−Ａｒ2 −は、各々独立してアリーレン又はヘテロアリ
ーレンであり、各前記トリフルオロメタンスルホネート
基は非オルトである）、を、溶剤及びゼロ価又は二価状
態のパラジウムを有するパラジウム触媒の存在下で反応
させることからなるポリアミドの製造方法。
【００６３】１４．さらにトリフルオロメタンスルホン
酸を中和することを含んでなる請求項１３記載の方法。
酸を中和することを含んでなる請求項１３記載の方法。
【００６４】１５．前記触媒が、ＰｄＣｌ2 ，ＰｄＢｒ
2 ，ＰｄＩ2 ，ＰｄＣｌ2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＢｒ2
（Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＩ2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，Ｐｄ
（Ｒ2 ）2 ，Ｐｄ（Ｒ2 ）2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＣｌ
2 （Ｒ3 ＣＮ）2 ，ＰｈＰｄＢｒ（Ｒ 1 3 Ｐ）2 ，Ｐｈ
ＰｄＩ（Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＣｌ2 （シス、シス−１，
５−シクロオクタジエン）2 ，Ｐｄ（２，４−ペンタン
ジオネート）2 ，ＰｄＣｌ2 （１，１1 −ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）フェロセン）、ＰｄＣｌ2 （１，２−
ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）、ＰｄＣｌ
2 （１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパ
ン）、ＰｄＣｌ2 （１，４−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）ブタン）、Ｐｄ（Ｒ1 3Ｐ）4 、
2 ，ＰｄＩ2 ，ＰｄＣｌ2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＢｒ2
（Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＩ2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，Ｐｄ
（Ｒ2 ）2 ，Ｐｄ（Ｒ2 ）2 （Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＣｌ
2 （Ｒ3 ＣＮ）2 ，ＰｈＰｄＢｒ（Ｒ 1 3 Ｐ）2 ，Ｐｈ
ＰｄＩ（Ｒ1 3 Ｐ）2 ，ＰｄＣｌ2 （シス、シス−１，
５−シクロオクタジエン）2 ，Ｐｄ（２，４−ペンタン
ジオネート）2 ，ＰｄＣｌ2 （１，１1 −ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）フェロセン）、ＰｄＣｌ2 （１，２−
ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）、ＰｄＣｌ
2 （１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパ
ン）、ＰｄＣｌ2 （１，４−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）ブタン）、Ｐｄ（Ｒ1 3Ｐ）4 、
【化１３】 Ｐｄ（１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）
2 ，Ｐｄ（１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロ
パン）2 、及びＰｄ（１，４−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）ブタン）2 （ここで、Ｒ1 はアルキル又はアリー
ルであり、Ｒ2 はアセテートであり、Ｒ3 はＣＨ3 又は
フェニルである）からなる群から選ばれる請求項１４記
載の方法。
2 ，Ｐｄ（１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロ
パン）2 、及びＰｄ（１，４−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）ブタン）2 （ここで、Ｒ1 はアルキル又はアリー
ルであり、Ｒ2 はアセテートであり、Ｒ3 はＣＨ3 又は
フェニルである）からなる群から選ばれる請求項１４記
載の方法。
【００６５】１６．−Ａｒ1 −及び−Ａｒ2 −が、各々
独立してアリーレン基及びヘテロアリーレン基からなる
群より選ばれ、前記基が５員環もしくは６員環、前記環
の縮合環、前記環の直接結合系、又は炭素原子数１〜１
０個のアルキル、炭素原子数１〜１０個のハロアルキ
ル、−Ｏ−，−Ｓ−、
独立してアリーレン基及びヘテロアリーレン基からなる
群より選ばれ、前記基が５員環もしくは６員環、前記環
の縮合環、前記環の直接結合系、又は炭素原子数１〜１
０個のアルキル、炭素原子数１〜１０個のハロアルキ
ル、−Ｏ−，−Ｓ−、
【化１４】 （ここで、各Ｔ1 は独立してアルキル、アリール及びヘ
テロアリールからなる群より選ばれ、ｄは１〜約１２の
整数であり；ｊは０ないし３００の整数である）からな
る群より選ばれる架橋部材を有する前記環の結合系を有
するものである請求項１５記載の方法。
テロアリールからなる群より選ばれ、ｄは１〜約１２の
整数であり；ｊは０ないし３００の整数である）からな
る群より選ばれる架橋部材を有する前記環の結合系を有
するものである請求項１５記載の方法。
【００６６】１７．前記反応を、１平方センチメートル
当り５kgより大きい一酸化炭素圧力下で行う請求項１６
記載の方法。
当り５kgより大きい一酸化炭素圧力下で行う請求項１６
記載の方法。
【００６７】１８．−Ａｒ1 −及び−Ａｒ2 −が各々、
フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナンスリル、
ビフェニル、フェニルエーテル、ジフェニルスルホン、
ジフェニルケトン、ジフェニルスルフィド、ピリジン及
びキノリンからなる群より選ばれる請求項１５記載の方
法。
フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナンスリル、
ビフェニル、フェニルエーテル、ジフェニルスルホン、
ジフェニルケトン、ジフェニルスルフィド、ピリジン及
びキノリンからなる群より選ばれる請求項１５記載の方
法。
【００６８】１９．前記芳香族トリフルオロメタンスル
ホネート反応体が、フェニル−１，３，５−トリス（ト
リフルオロメタンスルホネート）；ナフチル−２，４，
７−トリス（トリフルオロメタンスルホネート）；ビフ
ェニル−３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンス
ルホネート）；３，３′，５−トリス（トリフルオロメ
タンスルホネート）ジフェニルエーテル；２，４，４′
−トリス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニ
ルエーテル；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタ
ンスルホネート）ジフェニルスルホン、２，２−ビス
（４−トリフルオロメタンサルファネートフェニル）プ
ロパン；４，４′−ビス（トリフルオロメタンサルファ
ネート）ビフェニル；フェニル−１，３−ビス（トリフ
ルオロメタンスルホネート）；フェニル−１，４−ビス
（トリフルオロメタンスルホネート）；４，４′−ビス
（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニルスルホ
ン；４，４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネー
ト）ジフェニルエーテル；３，４′−ビス−（トリフル
オロメタンスルホネート）ジフェニルエーテル；４，
４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）ベンゾ
フェノン；５−トリフルオロメタンスルホネート−３−
（４−トリフルオロメタンスルホネートフェニル）−
１，１，３−トリメチルインダン；及び２，２−ビス
（４−トリフルオロメタン−スルホネートフェニル）ヘ
キサフルオロプロパンからなる群より選ばれる請求項１
５記載の方法。
ホネート反応体が、フェニル−１，３，５−トリス（ト
リフルオロメタンスルホネート）；ナフチル−２，４，
７−トリス（トリフルオロメタンスルホネート）；ビフ
ェニル−３，３′，５−トリス（トリフルオロメタンス
ルホネート）；３，３′，５−トリス（トリフルオロメ
タンスルホネート）ジフェニルエーテル；２，４，４′
−トリス（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニ
ルエーテル；３，３′，５−トリス（トリフルオロメタ
ンスルホネート）ジフェニルスルホン、２，２−ビス
（４−トリフルオロメタンサルファネートフェニル）プ
ロパン；４，４′−ビス（トリフルオロメタンサルファ
ネート）ビフェニル；フェニル−１，３−ビス（トリフ
ルオロメタンスルホネート）；フェニル−１，４−ビス
（トリフルオロメタンスルホネート）；４，４′−ビス
（トリフルオロメタンスルホネート）ジフェニルスルホ
ン；４，４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネー
ト）ジフェニルエーテル；３，４′−ビス−（トリフル
オロメタンスルホネート）ジフェニルエーテル；４，
４′−ビス（トリフルオロメタンスルホネート）ベンゾ
フェノン；５−トリフルオロメタンスルホネート−３−
（４−トリフルオロメタンスルホネートフェニル）−
１，１，３−トリメチルインダン；及び２，２−ビス
（４−トリフルオロメタン−スルホネートフェニル）ヘ
キサフルオロプロパンからなる群より選ばれる請求項１
５記載の方法。
【００６９】２０．前記芳香族アミン反応体が、１，４
−ジアミノベンゼン；１，３−ジアミノベンゼン；４，
４′−ジアミノベンゾフェノン；４，４′−ジアミノジ
フェニルメタン；２，２−ビス（４−アミノフェニル）
プロパン；９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオ
レン；４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；１，４
−〔２−（４−アミノフェニル）−２−プロピル〕ベン
ゼン；５−アミノ−３−（４−アミノフェニル）−１，
１，３−トリメチルインダン；２，２′−ビス（トリフ
ルオロメチル）−４，４′−ジアミノビフェニル；３，
４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス
（４−アミノフェノキシ）ビフェニル；２，２−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン；
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン；３，
３′−ジアミノジフェニルスルホン；４，４′−ジアミ
ノジフェニルスルホン；２，２′−ビス〔４−（４−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；３，５−ジアミ
ノ−ｔ−ブチルベンゼン；２，２−ビス〔４−（３−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；
−ジアミノベンゼン；１，３−ジアミノベンゼン；４，
４′−ジアミノベンゾフェノン；４，４′−ジアミノジ
フェニルメタン；２，２−ビス（４−アミノフェニル）
プロパン；９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオ
レン；４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；１，４
−〔２−（４−アミノフェニル）−２−プロピル〕ベン
ゼン；５−アミノ−３−（４−アミノフェニル）−１，
１，３−トリメチルインダン；２，２′−ビス（トリフ
ルオロメチル）−４，４′−ジアミノビフェニル；３，
４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス
（４−アミノフェノキシ）ビフェニル；２，２−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン；
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン；３，
３′−ジアミノジフェニルスルホン；４，４′−ジアミ
ノジフェニルスルホン；２，２′−ビス〔４−（４−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；３，５−ジアミ
ノ−ｔ−ブチルベンゼン；２，２−ビス〔４−（３−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン；
【化１５】 （式中、ｚは１〜５０の整数である）；及びＨ2 Ｎ−
（ＣＨ2 ）y −ＮＨ2 （式中、ｙは１〜１０の整数であ
る）からなる群より選ばれる請求項１９記載の方法。
（ＣＨ2 ）y −ＮＨ2 （式中、ｙは１〜１０の整数であ
る）からなる群より選ばれる請求項１９記載の方法。
【００７０】
【発明の効果】芳香族ジアミン及び芳香族二酸の縮合を
用いることなく、そして二酸クロライド及びジハロゲン
化物を使用せずにポリアミドが製造されることが、本発
明の方法の少くとも一実施態様の利点である。
用いることなく、そして二酸クロライド及びジハロゲン
化物を使用せずにポリアミドが製造されることが、本発
明の方法の少くとも一実施態様の利点である。
Claims (1)
- 【請求項１】 一酸化炭素並びに反応体対： 【化１】 及びＨ2 Ｎ−Ａｒ2 −ＮＨ2 前記式中、−Ａｒ1 −及び−Ａｒ2 −は各々独立して環
炭素及びヘテロ原子の総数が６〜３０個の芳香族成分及
びヘテロ芳香族成分からなる群より選ばれる、を、溶剤
及び触媒の存在下で反応させることからなるポリアミド
の製造方法であって、前記触媒が白金化合物、パラジウ
ム化合物及びニッケル化合物からなる群より選ばれるも
のである製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/841,929 US5210175A (en) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | Preparation of aromatic polyamides from CO, aromatic, diamine and di(trifluoromethane sulfonate) |
| US841929 | 1992-02-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625407A true JPH0625407A (ja) | 1994-02-01 |
Family
ID=25286085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5036819A Pending JPH0625407A (ja) | 1992-02-25 | 1993-02-25 | Ｃｏ、芳香族ジアミン及びジ（トリフルオロメタンスルホネート）からの芳香族ポリアミドの製造 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5210175A (ja) |
| EP (1) | EP0557985A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0625407A (ja) |
| CA (1) | CA2087128A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007281284A (ja) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ｐｎ接合ダイオード及びｐｎ接合ダイオードの製造方法 |
| JP2008244359A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 電界効果トランジスタ |
| JP2009152474A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 化合物半導体発光素子およびそれを用いる照明装置ならびに化合物半導体発光素子の製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2847582B1 (fr) * | 2002-11-22 | 2004-12-24 | Rhodia Polyamide Intermediates | Procede de preparation de polyamide par carbonylation en presence d'un catalyseur |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4165332A (en) * | 1976-01-08 | 1979-08-21 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Preparation of aliphatic perchlorates and of trifluoromethane sulfonates |
| US4621149A (en) * | 1981-12-25 | 1986-11-04 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Production of urethane compounds |
| DE3431591A1 (de) * | 1984-08-28 | 1986-03-13 | Diamalt AG, 8000 München | Verfahren zur herstellung von aminoverbindungen aus hydroxylverbindungen |
| US4868271A (en) * | 1985-10-22 | 1989-09-19 | Raychem Corporation | Novel aromatic polymers |
| US4925916A (en) * | 1985-07-30 | 1990-05-15 | Amoco Corporation | Amide and/or imide containing polymers and monomers for the preparation thereof |
| JPH01123823A (ja) * | 1987-11-09 | 1989-05-16 | Tokyo Inst Of Technol | 芳香族ポリアミド樹脂の製造方法 |
| US4894431A (en) * | 1988-05-23 | 1990-01-16 | Ciba-Geigy Corporation | Accelerated curing systems for epoxy resins |
| JP2551975B2 (ja) * | 1988-05-25 | 1996-11-06 | 三共株式会社 | α−置換β−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法 |
| US4933467A (en) * | 1989-01-17 | 1990-06-12 | Eastman Kodak Company | Preparation of imides |
| US4933468A (en) * | 1989-01-17 | 1990-06-12 | Eastman Kodak Company | Preparation of amide-imides |
| US4933466A (en) * | 1989-01-17 | 1990-06-12 | Eastman Kodak Company | Preparation of imides |
| US4933419A (en) * | 1989-06-14 | 1990-06-12 | Eastman Kodak Company | Preparation of polyesters by a condensation reaction between aryl diodide and an alkyl or aryl diol |
| US5104971A (en) * | 1990-06-01 | 1992-04-14 | Eastman Kodak Company | Preparation of polyamides from carbon monoxide, diamine and diiodide |
-
1992
- 1992-02-25 US US07/841,929 patent/US5210175A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-01-12 CA CA002087128A patent/CA2087128A1/en not_active Abandoned
- 1993-02-25 JP JP5036819A patent/JPH0625407A/ja active Pending
- 1993-02-25 EP EP93102952A patent/EP0557985A1/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007281284A (ja) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ｐｎ接合ダイオード及びｐｎ接合ダイオードの製造方法 |
| JP2008244359A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 電界効果トランジスタ |
| JP2009152474A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 化合物半導体発光素子およびそれを用いる照明装置ならびに化合物半導体発光素子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5210175A (en) | 1993-05-11 |
| CA2087128A1 (en) | 1993-08-26 |
| EP0557985A1 (en) | 1993-09-01 |
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