JPH0625420A - スルホン酸変性シリコーン - Google Patents
スルホン酸変性シリコーンInfo
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- JPH0625420A JPH0625420A JP4301530A JP30153092A JPH0625420A JP H0625420 A JPH0625420 A JP H0625420A JP 4301530 A JP4301530 A JP 4301530A JP 30153092 A JP30153092 A JP 30153092A JP H0625420 A JPH0625420 A JP H0625420A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 界面活性剤及び塗膜の改質剤等として有用な
新規なスルホン酸変性シリコーンを提供する。 【構成】 次式で示されるスルホン酸変性シリコーン
で、各Ｒ1 は独立に低級アルキル基又は非置換もしくは
置換フェニル基を示し、ｍ及びｎは整数であって、ｎ／
ｍは１〜１００であり、Ａは一価の金属、水素原子又は
−Ｈ・Ｘ1 （ここで、Ｘ1 はアンモニア又はアミンを示
す）を示し、Ｒはアリーレン基、直鎖又は分岐のアルキ
レン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基を示し、
該シリコーンはランダム共重合体でもブロック共重合体
でもよい。 【化１】
新規なスルホン酸変性シリコーンを提供する。 【構成】 次式で示されるスルホン酸変性シリコーン
で、各Ｒ1 は独立に低級アルキル基又は非置換もしくは
置換フェニル基を示し、ｍ及びｎは整数であって、ｎ／
ｍは１〜１００であり、Ａは一価の金属、水素原子又は
−Ｈ・Ｘ1 （ここで、Ｘ1 はアンモニア又はアミンを示
す）を示し、Ｒはアリーレン基、直鎖又は分岐のアルキ
レン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基を示し、
該シリコーンはランダム共重合体でもブロック共重合体
でもよい。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、界面活性剤及び塗膜の
改質剤等として有用なスルホン酸変性シリコーンに関す
る。
改質剤等として有用なスルホン酸変性シリコーンに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ジメチルシリコーンのいくつかのメチル
基をアミノアルキル基、エポキシ基、ポリエーテル基等
の親水性基で置き換えたシリコーンは、従来より界面活
性剤として用いられてきた。例えば、ポリエーテル変性
シリコーンはシリコーン界面活性剤として、有機系の界
面活性剤と比べてレベリング効果、柔軟効果、湿潤効
果、乳化効果、分散効果等に優れた特徴を持っているこ
とがよく知られている。
基をアミノアルキル基、エポキシ基、ポリエーテル基等
の親水性基で置き換えたシリコーンは、従来より界面活
性剤として用いられてきた。例えば、ポリエーテル変性
シリコーンはシリコーン界面活性剤として、有機系の界
面活性剤と比べてレベリング効果、柔軟効果、湿潤効
果、乳化効果、分散効果等に優れた特徴を持っているこ
とがよく知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、スルホン酸
変性シリコーンを提供することを目的とする。
変性シリコーンを提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、次式で
示されるスルホン酸変性シリコーンである
示されるスルホン酸変性シリコーンである
【０００５】
【化２】 （ここで、各Ｒ1 は独立に低級アルキル基又は非置換も
しくは置換フェニル基を示し、ｍ及びｎは整数であっ
て、ｎ／ｍは１〜１００であり、Ａは一価の金属、水素
原子又は−Ｈ・Ｘ1 （ここで、Ｘ1 はアンモニア又はア
ミンを示す）を示し、Ｒはアリーレン基、直鎖又は分岐
のアルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基
を示し、該シリコーンはランダム共重合体でもブロック
共重合体でもよい）。
しくは置換フェニル基を示し、ｍ及びｎは整数であっ
て、ｎ／ｍは１〜１００であり、Ａは一価の金属、水素
原子又は−Ｈ・Ｘ1 （ここで、Ｘ1 はアンモニア又はア
ミンを示す）を示し、Ｒはアリーレン基、直鎖又は分岐
のアルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基
を示し、該シリコーンはランダム共重合体でもブロック
共重合体でもよい）。
【０００６】ここで、低級アルキル基とは、好ましくは
メチル基、エチル基、プロピル基を示す。ｍ及びｎの値
は、それぞれｍ＝１０〜２００、ｎ＝５０〜２０００で
あり、好ましくはｍ＝３０〜１００、ｎ＝３００〜１０
００である。またｎ／ｍ＝１〜１００であり、好ましく
は５〜５０である。Ａで表される１価の金属としては、
好ましくはＬｉ、Ｎａ、Ｋが挙げられる。また、式−Ｈ
・Ｘ1 中のＸ1 がアミンである場合、これは、一般式Ｎ
Ｒ3 3 で示され、ここで、Ｒ3 は、それぞれ独立して、
水素原子、好ましくは１〜５個の炭素原子を有する直鎖
又は分岐のアルキル基、あるいは好ましくは１〜５個の
炭素原子を有し、好ましくは３個以下のヒドロキシル基
を有する直鎖又は分岐のヒドロキシアルキル基を示す。
該アミンとしては、例えばトリエタノールアミン、２‐
アミノ‐２‐メチル‐１‐プロパノール、２‐アミノ‐
２‐メチル‐１，３‐プロパンジオール、モノエタノー
ルアミン等が挙げられる。Ｒは、好ましくはフェニレン
基、炭素数１〜４の低級アルキル基で置換されたフェニ
レン基、炭素数１〜５のアルキレン基及び
メチル基、エチル基、プロピル基を示す。ｍ及びｎの値
は、それぞれｍ＝１０〜２００、ｎ＝５０〜２０００で
あり、好ましくはｍ＝３０〜１００、ｎ＝３００〜１０
００である。またｎ／ｍ＝１〜１００であり、好ましく
は５〜５０である。Ａで表される１価の金属としては、
好ましくはＬｉ、Ｎａ、Ｋが挙げられる。また、式−Ｈ
・Ｘ1 中のＸ1 がアミンである場合、これは、一般式Ｎ
Ｒ3 3 で示され、ここで、Ｒ3 は、それぞれ独立して、
水素原子、好ましくは１〜５個の炭素原子を有する直鎖
又は分岐のアルキル基、あるいは好ましくは１〜５個の
炭素原子を有し、好ましくは３個以下のヒドロキシル基
を有する直鎖又は分岐のヒドロキシアルキル基を示す。
該アミンとしては、例えばトリエタノールアミン、２‐
アミノ‐２‐メチル‐１‐プロパノール、２‐アミノ‐
２‐メチル‐１，３‐プロパンジオール、モノエタノー
ルアミン等が挙げられる。Ｒは、好ましくはフェニレン
基、炭素数１〜４の低級アルキル基で置換されたフェニ
レン基、炭素数１〜５のアルキレン基及び
【０００７】
【化３】 である。また、該スルホン酸変性シリコーンはブロック
共重合体でもランダム共重合体でもよく、その数平均分
子量（Ｍｎ）は好ましくは３万〜１０万、特に好ましく
は５万〜６万である。
共重合体でもランダム共重合体でもよく、その数平均分
子量（Ｍｎ）は好ましくは３万〜１０万、特に好ましく
は５万〜６万である。
【０００８】本発明のスルホン酸変性シリコーンは、側
鎖にスルホン化剤と反応しうる基を持つシリコーンを合
成し、続いて該シリコーンをスルホン化することにより
製造することができる。
鎖にスルホン化剤と反応しうる基を持つシリコーンを合
成し、続いて該シリコーンをスルホン化することにより
製造することができる。
【０００９】ここで、側鎖にスルホン化剤と反応しうる
基を持つシリコーンは、次式で示される。
基を持つシリコーンは、次式で示される。
【００１０】
【化４】 ここで、Ｒ、Ｒ1 、ｍ、ｎは上記と同じであり、Ｘはス
ルホン化剤と反応する基、例えばハロゲン原子、ビニル
基、又は芳香環に結合した水素原子等であり、また該シ
リコーンはブロック共重合体でもランダム共重合体でも
よい。
ルホン化剤と反応する基、例えばハロゲン原子、ビニル
基、又は芳香環に結合した水素原子等であり、また該シ
リコーンはブロック共重合体でもランダム共重合体でも
よい。
【００１１】側鎖にスルホン化剤と反応しうる基を持つ
シリコーンは、ｍ個のＳｉに結合した水素を持つシリコ
ーンと、スルホン化剤と反応しうる基及びビニル基を持
つ化合物（ヒドロシリル化剤）とを白金系触媒の存在下
に付加反応させるヒドロシリル化反応により製造する。
シリコーンは、ｍ個のＳｉに結合した水素を持つシリコ
ーンと、スルホン化剤と反応しうる基及びビニル基を持
つ化合物（ヒドロシリル化剤）とを白金系触媒の存在下
に付加反応させるヒドロシリル化反応により製造する。
【００１２】ヒドロシリル化反応の原料として使用する
上記Ｓｉに結合した水素を持つシリコーンは、次式で示
される。
上記Ｓｉに結合した水素を持つシリコーンは、次式で示
される。
【００１３】
【化５】 ここで、Ｒ1 、ｍ、ｎは上記と同じであり、また該シリ
コーンはブロック共重合体でもランダム共重合体でもよ
い。
コーンはブロック共重合体でもランダム共重合体でもよ
い。
【００１４】該Ｓｉに結合した水素を持つシリコーンは
公知の方法によって製造される。例えば該シリコーンと
してのポリメチルポリハイドロジェンポリシロキサン
は、オクタメチルシクロテトラシロキサンと１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン及びエン
ドキャップとしてヘキサメチルジシロキサンの平衡化反
応で製造される。好ましくは該平衡化反応は、窒素等の
不活性ガス雰囲気下で、ヘキサン等の炭化水素系溶媒の
存在下に、反応温度０〜１００℃、反応時間２４〜１０
０時間で終了する。また、原料として使用されるオクタ
メチルシクロテトラシロキサンと１，３，５，７−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン及びヘキサメチルジシ
ロキサンのモル比は、所望の目的物の分子量及びｎ／ｍ
比により適宜調節される。
公知の方法によって製造される。例えば該シリコーンと
してのポリメチルポリハイドロジェンポリシロキサン
は、オクタメチルシクロテトラシロキサンと１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン及びエン
ドキャップとしてヘキサメチルジシロキサンの平衡化反
応で製造される。好ましくは該平衡化反応は、窒素等の
不活性ガス雰囲気下で、ヘキサン等の炭化水素系溶媒の
存在下に、反応温度０〜１００℃、反応時間２４〜１０
０時間で終了する。また、原料として使用されるオクタ
メチルシクロテトラシロキサンと１，３，５，７−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン及びヘキサメチルジシ
ロキサンのモル比は、所望の目的物の分子量及びｎ／ｍ
比により適宜調節される。
【００１５】一方、スルホン化剤と反応しうる基及びビ
ニル基を持つヒドロシリル化剤は次の一般式で示され
ニル基を持つヒドロシリル化剤は次の一般式で示され
【００１６】
【化６】 （ここで、Ｒは上記と同じであり、Ｒ2 はアリール基、
アルカリール基又はアラルキル基である。）、例えば
アルカリール基又はアラルキル基である。）、例えば
【００１７】
【化７】 （ここで、ｐは、整数であり好ましくは１〜５であ
る。）等が挙げられる。該ヒドロシリル化剤の使用量
は、化学式（３）中のｍ個のＳｉに結合した水素に対し
当量比で１．０〜１．３が好ましい。
る。）等が挙げられる。該ヒドロシリル化剤の使用量
は、化学式（３）中のｍ個のＳｉに結合した水素に対し
当量比で１．０〜１．３が好ましい。
【００１８】また、白金系触媒としては、例えば塩化白
金酸のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液等が使用
され、その添加量はヒドロシリル化剤に対して１×１０
-4〜１×１０-5当量が好ましい。また、該ヒドロシリル
化反応に際しては、好ましくは、溶媒として例えばヘキ
サン、ベンゼン等の脂肪族炭化水素あるいは芳香族炭化
水素が使用される。該ヒドロシリル化反応の好ましい例
を挙げれば、該反応は、反応系を窒素等の不活性ガス雰
囲気下に置き、反応温度を０〜１００℃として、反応時
間が１時間〜２４時間程度で終了する。
金酸のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液等が使用
され、その添加量はヒドロシリル化剤に対して１×１０
-4〜１×１０-5当量が好ましい。また、該ヒドロシリル
化反応に際しては、好ましくは、溶媒として例えばヘキ
サン、ベンゼン等の脂肪族炭化水素あるいは芳香族炭化
水素が使用される。該ヒドロシリル化反応の好ましい例
を挙げれば、該反応は、反応系を窒素等の不活性ガス雰
囲気下に置き、反応温度を０〜１００℃として、反応時
間が１時間〜２４時間程度で終了する。
【００１９】次に、上記ヒドロシリル化反応によって製
造された側鎖にスルホン化剤と反応しうる基を持つシリ
コーンをスルホン化してスルホン酸変性シリコーンを製
造する。
造された側鎖にスルホン化剤と反応しうる基を持つシリ
コーンをスルホン化してスルホン酸変性シリコーンを製
造する。
【００２０】ここで使用するスルホン化剤は、ヒドロシ
リル化反応で使用したヒドロシリル化剤の種類によって
異なり、スルホン化剤と反応する基としてハロゲン原子
を有するヒドロシリル化剤、例えば、化学式（４）又は
化学式（５）の化合物を使用した場合には、例えばＮａ
2 ＳＯ3 、ＮａＨＳＯ3 等が好ましい。スルホン化剤と
反応する基としてビニル基を有するヒドロシリル化剤、
例えば、化学式（６）又は化学式（７）の化合物を使用
した場合には、例えばＮａＨＳＯ3 等が好ましい。スル
ホン化剤と反応する基としてフェニル基を有するヒドロ
シリル化剤、例えば、化学式（８）又は化学式（９）の
化合物を使用した場合には、例えばＨ2ＳＯ4 、ＨＳＯ
3 Ｃｌ等が好ましい。該スルホン化剤の使用量は、化学
式（２）中のスルホン化剤と反応する基Ｘに対して当量
比で１〜５が好ましい。
リル化反応で使用したヒドロシリル化剤の種類によって
異なり、スルホン化剤と反応する基としてハロゲン原子
を有するヒドロシリル化剤、例えば、化学式（４）又は
化学式（５）の化合物を使用した場合には、例えばＮａ
2 ＳＯ3 、ＮａＨＳＯ3 等が好ましい。スルホン化剤と
反応する基としてビニル基を有するヒドロシリル化剤、
例えば、化学式（６）又は化学式（７）の化合物を使用
した場合には、例えばＮａＨＳＯ3 等が好ましい。スル
ホン化剤と反応する基としてフェニル基を有するヒドロ
シリル化剤、例えば、化学式（８）又は化学式（９）の
化合物を使用した場合には、例えばＨ2ＳＯ4 、ＨＳＯ
3 Ｃｌ等が好ましい。該スルホン化剤の使用量は、化学
式（２）中のスルホン化剤と反応する基Ｘに対して当量
比で１〜５が好ましい。
【００２１】スルホン化反応に際しては、溶媒として例
えば１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン又は炭素数５〜８の炭化
水素系溶媒（例えばヘキサン等）等、又はこれらの二種
類以上を混合して使用してもよい。好ましい反応条件を
例示すると、反応系を窒素等の不活性ガス雰囲気下に置
き、スルホン化剤と反応する基としてハロゲン原子を有
するヒドロシリル化剤を使用した場合は反応温度は５０
〜３００℃、反応時間は５〜３０時間程度である。ビニ
ル基を有するヒドロシリル化剤あるいはフェニル基を有
するヒドロシリル化剤を使用した場合は共に反応温度は
０〜１００℃、反応時間は５〜３０時間程度である。
えば１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン又は炭素数５〜８の炭化
水素系溶媒（例えばヘキサン等）等、又はこれらの二種
類以上を混合して使用してもよい。好ましい反応条件を
例示すると、反応系を窒素等の不活性ガス雰囲気下に置
き、スルホン化剤と反応する基としてハロゲン原子を有
するヒドロシリル化剤を使用した場合は反応温度は５０
〜３００℃、反応時間は５〜３０時間程度である。ビニ
ル基を有するヒドロシリル化剤あるいはフェニル基を有
するヒドロシリル化剤を使用した場合は共に反応温度は
０〜１００℃、反応時間は５〜３０時間程度である。
【００２２】あるいは、本発明のスルホン酸変性シリコ
ーンは、化学式（３）のｍ個のＳｉに結合した水素を持
つシリコーンを一工程でヒドロシリル化することにより
製造することもできる。このためのヒドロシリル化剤は
次の一般式で示され
ーンは、化学式（３）のｍ個のＳｉに結合した水素を持
つシリコーンを一工程でヒドロシリル化することにより
製造することもできる。このためのヒドロシリル化剤は
次の一般式で示され
【００２３】
【化８】 （ここで、Ｒは上記と同じである。）、例えば
【００２４】
【化９】 等が挙げられる。また、該化合物の使用量は、化学式
（３）中のｍ個のＳｉに結合した水素に対し当量比で１
〜１．１が好ましい。白金系触媒としては、例えば塩化
白金酸のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液等が使
用され、その添加量は上記ヒドロシリル化剤に対して１
×１０-4〜１×１０-5当量が好ましい。該反応において
も、好ましくは、溶媒として例えば１，４−ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、炭素数５〜８の脂肪族炭化水素（例えばヘキ
サン等）又は芳香族炭化水素等が使用され、これら二種
類以上を混合して使用してもよい。また、好ましい反応
条件を例示すれば、反応系を窒素等の不活性ガス雰囲気
下に置き、反応温度を０〜１００℃とし、反応時間を１
〜１０時間程度とする。
（３）中のｍ個のＳｉに結合した水素に対し当量比で１
〜１．１が好ましい。白金系触媒としては、例えば塩化
白金酸のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液等が使
用され、その添加量は上記ヒドロシリル化剤に対して１
×１０-4〜１×１０-5当量が好ましい。該反応において
も、好ましくは、溶媒として例えば１，４−ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、炭素数５〜８の脂肪族炭化水素（例えばヘキ
サン等）又は芳香族炭化水素等が使用され、これら二種
類以上を混合して使用してもよい。また、好ましい反応
条件を例示すれば、反応系を窒素等の不活性ガス雰囲気
下に置き、反応温度を０〜１００℃とし、反応時間を１
〜１０時間程度とする。
【００２５】スルホン酸基をアンモニウム塩又はアミン
塩にする方法は公知である。例えば、上記のようにして
製造した化学式（１）のＡが一価の金属であるスルホン
酸変性シリコーンをヘキサン又はヘプタンに溶解し、こ
れに塩酸又は硫酸の水溶液を加えて、好ましくは反応温
度０〜５０℃、好ましくは反応時間５分〜１時間で酸性
加水分解した後、シリコーン相を取り出し、これに上記
のアミンを加えるとアミン塩の形のスルホン酸変性シリ
コーンが生成する。
塩にする方法は公知である。例えば、上記のようにして
製造した化学式（１）のＡが一価の金属であるスルホン
酸変性シリコーンをヘキサン又はヘプタンに溶解し、こ
れに塩酸又は硫酸の水溶液を加えて、好ましくは反応温
度０〜５０℃、好ましくは反応時間５分〜１時間で酸性
加水分解した後、シリコーン相を取り出し、これに上記
のアミンを加えるとアミン塩の形のスルホン酸変性シリ
コーンが生成する。
【００２６】本発明で製造されたスルホン酸変性シリコ
ーンは界面活性剤及び塗膜の改質剤等として有用であ
る。
ーンは界面活性剤及び塗膜の改質剤等として有用であ
る。
【００２７】以下、本発明を実施例により更に詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【００２８】
【００２９】
【実施例１】１リットルの丸底フラスコにオクタメチル
シクロテトラシロキサン５４４重量部、１，３，５，７
−テトラメチルシクロテトラシロキサン４４重量部、ヘ
キサメチルジシロキサン１重量部、濃硫酸１２重量部お
よびヘキサン５００重量部を収め、窒素雰囲気下、室温
で７０時間撹拌後、炭酸水素ナトリウムで中和し、低沸
点物を蒸留によって除き、ポリメチルポリハイドロジェ
ンポリシロキサン４９６ｇ（収率８４％）を得た。
シクロテトラシロキサン５４４重量部、１，３，５，７
−テトラメチルシクロテトラシロキサン４４重量部、ヘ
キサメチルジシロキサン１重量部、濃硫酸１２重量部お
よびヘキサン５００重量部を収め、窒素雰囲気下、室温
で７０時間撹拌後、炭酸水素ナトリウムで中和し、低沸
点物を蒸留によって除き、ポリメチルポリハイドロジェ
ンポリシロキサン４９６ｇ（収率８４％）を得た。
【００３０】次に、このポリメチルポリハイドロジェン
ポリシロキサン２００重量部をヘキサン２００重量部に
溶解し、ｐ−クロロメチルスチレン４９重量部（ポリメ
チルポリハイドロジェンポリシロキサン中のＳｉに結合
した水素に対して当量比は１．３である）と塩化白金酸
のＩＰＡ溶液（２×１０-4モル／ｃｃ）０．０２ｍｌ
（ｐ‐クロロメチルスチレンに対して当量比は１．３×
１０-5である）を収めた丸底フラスコに窒素雰囲気下、
７０℃で攪拌しながら滴下した。１０時間撹拌後、濾過
し、続いて低沸点物を蒸留によって除き、クロロメチル
フェネチル基を有するシリコーン１８７ｇ（収率７６
％）を得た。
ポリシロキサン２００重量部をヘキサン２００重量部に
溶解し、ｐ−クロロメチルスチレン４９重量部（ポリメ
チルポリハイドロジェンポリシロキサン中のＳｉに結合
した水素に対して当量比は１．３である）と塩化白金酸
のＩＰＡ溶液（２×１０-4モル／ｃｃ）０．０２ｍｌ
（ｐ‐クロロメチルスチレンに対して当量比は１．３×
１０-5である）を収めた丸底フラスコに窒素雰囲気下、
７０℃で攪拌しながら滴下した。１０時間撹拌後、濾過
し、続いて低沸点物を蒸留によって除き、クロロメチル
フェネチル基を有するシリコーン１８７ｇ（収率７６
％）を得た。
【００３１】更に、得られたクロロメチルフェネチル基
を有するシリコーン１００重量部をヘキサン２００重量
部に溶解し、亜硫酸ナトリウム・７水和物４３重量部
（クロロメチルフェネチル基に対して当量比は１．７で
ある）を窒素雰囲気下オートクレーブ中に仕込み、２０
０℃で２４時間攪拌しながら反応させた。冷却後、生成
した塩及び未反応の亜硫酸ナトリウムを濾別、溶媒を蒸
留して除き乳白色のオイル８５ｇを得た。このオイルは
ＩＲスペクトル（図１に示す）上の１１８０ｃｍ-1のス
ルホン酸基に帰属される吸収によりスルホン酸変性シリ
コーンであることが確認された（化学式（１）のＲが
を有するシリコーン１００重量部をヘキサン２００重量
部に溶解し、亜硫酸ナトリウム・７水和物４３重量部
（クロロメチルフェネチル基に対して当量比は１．７で
ある）を窒素雰囲気下オートクレーブ中に仕込み、２０
０℃で２４時間攪拌しながら反応させた。冷却後、生成
した塩及び未反応の亜硫酸ナトリウムを濾別、溶媒を蒸
留して除き乳白色のオイル８５ｇを得た。このオイルは
ＩＲスペクトル（図１に示す）上の１１８０ｃｍ-1のス
ルホン酸基に帰属される吸収によりスルホン酸変性シリ
コーンであることが確認された（化学式（１）のＲが
【００３２】
【化１０】 であり、ＡがＮａであり、Ｒ1 がメチル基であり、ｍ＝
９７、ｎ＝８１８であった）。
９７、ｎ＝８１８であった）。
【００３３】
【実施例２】オクタメチルシクロテトラシロキサン２０
０重量部、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン５．４重量部、ヘキサメチルジシロキサン
０．３３重量部、濃硫酸５重量部から、実施例１と同様
な操作でポリメチルポリハイドロジェンポリシロキサン
を得た。
０重量部、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン５．４重量部、ヘキサメチルジシロキサン
０．３３重量部、濃硫酸５重量部から、実施例１と同様
な操作でポリメチルポリハイドロジェンポリシロキサン
を得た。
【００３４】次に、トルエンとテトラヒドロフランの
１：１混合溶液１００重量部とｐ‐スチレンスルホン酸
ナトリウム１０重量部（ポリメチルポリハイドロジェン
ポリシロキサン中のＳｉに結合した水素に対して当量比
は１．１である）及び塩化白金酸のＩＰＡ溶液（２×１
０-4モル／ｃｃ）０．０２ｍｌ（ｐ‐スチレンスルホン
酸ナトリウムに対して当量比は８×１０-5である）を収
めた丸底フラスコに、上記得られたポリメチルポリハイ
ドロジェンポリシロキサン１００重量部とヘキサン１０
０重量部の混合物を窒素雰囲気下５０℃で攪拌しながら
滴下した。１０時間攪拌後、濾過し、続いて低沸点物を
蒸留によって除き乳白色のオイル９０ｇを得た。このオ
イルは実施例１と同様にしてスルホン酸変性シリコーン
であることが確認された（化学式（１）のＲがｐ‐フェ
ニレンであり、ＡがＮａであり、Ｒ1 がメチル基であ
り、ｍ＝４４、ｎ＝７９０であった）。
１：１混合溶液１００重量部とｐ‐スチレンスルホン酸
ナトリウム１０重量部（ポリメチルポリハイドロジェン
ポリシロキサン中のＳｉに結合した水素に対して当量比
は１．１である）及び塩化白金酸のＩＰＡ溶液（２×１
０-4モル／ｃｃ）０．０２ｍｌ（ｐ‐スチレンスルホン
酸ナトリウムに対して当量比は８×１０-5である）を収
めた丸底フラスコに、上記得られたポリメチルポリハイ
ドロジェンポリシロキサン１００重量部とヘキサン１０
０重量部の混合物を窒素雰囲気下５０℃で攪拌しながら
滴下した。１０時間攪拌後、濾過し、続いて低沸点物を
蒸留によって除き乳白色のオイル９０ｇを得た。このオ
イルは実施例１と同様にしてスルホン酸変性シリコーン
であることが確認された（化学式（１）のＲがｐ‐フェ
ニレンであり、ＡがＮａであり、Ｒ1 がメチル基であ
り、ｍ＝４４、ｎ＝７９０であった）。
【００３５】
【実施例３】実施例１で製造したスルホン酸変性シリコ
ーン５０ｇをヘキサン５０ｍｌに溶解し、１Ｎ ＨＣｌ
水溶液５０ｍｌと攪拌しながら室温で２０分間反応させ
た。反応後シリコーン相を取り出し、トリエタノールア
ミン５．０ｇを加えて攪拌しながら３０分間反応させた
後、未反応部分を留去して乳白色のオイル４６ｇを得
た。このオイルはＩＲスペクトル（図２に示す）上の３
３５０ｃｍ-1付近にヒドロキシエチル基に帰属される吸
収帯を示すので、生成物がスルホン酸トリエタノールア
ミンとの塩の形のスルホン酸変性シリコーンであること
が確認された。
ーン５０ｇをヘキサン５０ｍｌに溶解し、１Ｎ ＨＣｌ
水溶液５０ｍｌと攪拌しながら室温で２０分間反応させ
た。反応後シリコーン相を取り出し、トリエタノールア
ミン５．０ｇを加えて攪拌しながら３０分間反応させた
後、未反応部分を留去して乳白色のオイル４６ｇを得
た。このオイルはＩＲスペクトル（図２に示す）上の３
３５０ｃｍ-1付近にヒドロキシエチル基に帰属される吸
収帯を示すので、生成物がスルホン酸トリエタノールア
ミンとの塩の形のスルホン酸変性シリコーンであること
が確認された。
【００３６】
【発明の効果】以上のように本発明により、界面活性剤
及び塗膜の改質剤等として有用な新規なスルホン酸変性
シリコーンが提供される。
及び塗膜の改質剤等として有用な新規なスルホン酸変性
シリコーンが提供される。
【図１】実施例１で得られたスルホン酸変性シリコーン
の水洗後のＩＲスペクトルのチャート。
の水洗後のＩＲスペクトルのチャート。
【図２】実施例３で得られたスルホン酸変性シリコーン
の水洗後のＩＲスペクトルのチャート。
の水洗後のＩＲスペクトルのチャート。
Claims (1)
- 【請求項１】 次式で示されるスルホン酸変性シリコー
ン 【化１】 （ここで、各Ｒ1 は独立に低級アルキル基又は非置換も
しくは置換フェニル基を示し、ｍ及びｎは整数であっ
て、ｎ／ｍは１〜１００であり、Ａは一価の金属、水素
原子又は−Ｈ・Ｘ1 （ここで、Ｘ1 はアンモニア又はア
ミンを示す）を示し、Ｒはアリーレン基、直鎖又は分岐
のアルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基
を示し、該シリコーンはランダム共重合体でもブロック
共重合体でもよい）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4301530A JP2864196B2 (ja) | 1992-05-15 | 1992-10-15 | スルホン酸変性シリコーン |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-147927 | 1992-05-15 | ||
| JP14792792 | 1992-05-15 | ||
| JP4301530A JP2864196B2 (ja) | 1992-05-15 | 1992-10-15 | スルホン酸変性シリコーン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625420A true JPH0625420A (ja) | 1994-02-01 |
| JP2864196B2 JP2864196B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=26478318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4301530A Expired - Lifetime JP2864196B2 (ja) | 1992-05-15 | 1992-10-15 | スルホン酸変性シリコーン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2864196B2 (ja) |
Cited By (10)
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|---|---|---|---|---|
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| US5608123A (en) * | 1994-07-05 | 1997-03-04 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for catalytic hydration of olefins |
| JP2003331645A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-21 | Toyota Motor Corp | プロトン伝導材料 |
| JP2003335818A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-28 | Toyota Motor Corp | プロトン伝導材料 |
| JP2005190813A (ja) * | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Toyota Motor Corp | 燃料電池電極用電解質材 |
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| US20130172510A1 (en) * | 2012-01-04 | 2013-07-04 | Momentive Performance Materials Inc. | Process for the manufacture of silicone ionomer |
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-
1992
- 1992-10-15 JP JP4301530A patent/JP2864196B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| CN104136500A (zh) * | 2012-01-04 | 2014-11-05 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 有机硅离聚物的聚合物复合材料 |
| CN104136495A (zh) * | 2012-01-04 | 2014-11-05 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 制备有机硅离聚物的方法 |
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