JPH06254342A - 乾式排ガス脱硫装置 - Google Patents

乾式排ガス脱硫装置

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JPH06254342A
JPH06254342A JP5043559A JP4355993A JPH06254342A JP H06254342 A JPH06254342 A JP H06254342A JP 5043559 A JP5043559 A JP 5043559A JP 4355993 A JP4355993 A JP 4355993A JP H06254342 A JPH06254342 A JP H06254342A
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JP
Japan
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exhaust gas
desulfurization
tower
swirl
dry
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JP5043559A
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English (en)
Inventor
Takayuki Ishida
孝行 石田
Yasuki Hashimoto
泰樹 橋本
Hiroshi Ishizaka
浩 石坂
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Mitsubishi Power Ltd
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Babcock Hitachi KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】排ガス中の硫黄酸化物を除去する乾式排ガス脱
硫塔へ導入する排ガスに適度の旋回上昇流を与え、脱硫
吸収剤を均等に分散させた状態で加湿水を噴霧して安定
して高い脱硫性能に維持できる排ガス導入機構を備えた
乾式排ガス脱硫装置を提供する。 【構成】脱硫塔の下部に、排ガスの旋回導入と塔内堆積
物の排出を行うために、底部に所定の大きさの開口部を
有する円錐胴を設け、円錐胴の下部に、排ガスを円錐胴
の底部開口部から脱硫塔内に旋回上昇流を与える旋回ベ
ーン室を内蔵した排ガス導入ダクトを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は燃焼排ガス中の硫黄酸化
物を除去する乾式排ガス脱硫装置に係り、特に脱硫塔内
へ導入する排ガスに旋回上昇流を与え脱硫吸収剤を均一
に分散させて安定した脱硫性能を維持するのに好適な排
ガス導入機構を備えた乾式排ガス脱硫装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の燃焼排ガス中の硫黄酸化物の除去
方法の1つとして、排ガスダクトに消石灰等の吸収剤を
散布ないしは噴霧化した後、その後流に設けられた脱硫
塔に加湿用の水噴霧を行い、排ガス中の硫黄酸化物を吸
収除去する乾式排煙脱硫装置の構成の一例を図5および
図6に示す。なお、図6は排ガスを導入する脱硫塔入口
部の構造を示すものである。ボイラ等の火炉での燃焼に
より発生した排ガス1は、排ガス入口ダクト4から脱硫
塔5に導かれる。一方、排ガス入口ダクト4で吸収剤2
が噴霧され、排ガス1中に吸収剤2が浮遊した状態で脱
硫塔5に導入される。脱硫塔5内には、加湿水3用のス
プレノズル7が設けられており、噴霧された微細液滴が
脱硫塔5出口に到達するまでに蒸発は完了するが、この
過程において排ガス中の硫黄酸化物が加湿水3の微細液
滴を介して吸収剤2に吸収される。従来の乾式排ガス脱
硫塔の排ガス導入部の構造は、例えば図6に示すごと
く、入口ダクト9より排ガス1を導入し、脱硫塔5内に
吸収剤2を分散させる整流部10および整流コーン部1
1が設けられていた。なお、従来技術として、例えば実
開平2−133414号公報が挙げられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、図5
および図6に示すごとく、排ガスを整流するための整流
部10、整流コーン部11を有するため、脱硫塔5の塔
高が必然的に高くなるという問題があった。また、整流
コーン部11での整流効果が少なく、脱硫塔5内のガス
流速が不均一となり、かつ吸収剤2の分布も偏りを生じ
るために、吸収剤2と加湿水3との均等な接触が難しく
なり、脱硫性能を高レベルに維持するためには、より多
量の吸収剤2を必要とし経済性が低下するなどの問題が
あった。この他にも、脱硫塔5の壁の一部に吸収剤2が
付着(以下スケーリングと呼ぶ)し、成長・剥離を生じ
固形物となって落下し、この固形物が、例えば整流コー
ン部11の傾斜面に堆積し脱硫運転の継続が不能になる
などの不具合があった。
【0004】本発明の目的は、上記従来技術における問
題点を解消し、燃焼排ガス中の硫黄酸化物を除去する乾
式排ガス脱硫塔へ導入する排ガスに適度の旋回上昇流を
与え、脱硫吸収剤を均等に分散させた状態で加湿水を噴
霧して安定して高い脱硫性能を維持することのできる排
ガス導入機構を備えた乾式排ガス脱硫装置を提供するこ
とにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記本発明の目的を達成
するために、本発明者らは流動解析シミュレーションを
行った結果、排ガスに適度の旋回上昇流を与えることが
有効であることを見い出した。この具体的手段として、
例えば集塵サイクロンのように排ガスダクトを脱硫塔の
中心に対して偏心させて接続する手法が考えられるが、
一般に採用されている塔高が30m以上にもなる脱硫塔
を、円筒自立型で構成する場合には構造的に無理が生
じ、相等に補強しないと排ガス導入部が座屈し破損しや
すくなるという問題は避けられない。このために、脱硫
塔の中心軸と排ガスを導入するダクトの中心線とを一致
させて排ガスを導入する手法に比べて、多量の構成部材
と加工工数を必要とし経済的ではない。そこで、脱硫塔
の中心線とダクトの中心線を一致させ、幅広ダクトによ
って脱硫塔の底部から排ガスを導入し適度の旋回力を与
えるために、複数の排ガス旋回ベーンを有する旋回ベー
ンチャンバを設け、かつ上記各旋回ベーンには、それぞ
れ等量の排ガスが導入されるように旋回ベーンを配設し
たチャンバの排ガス入口部から後流にかけて排ガスの導
入断面積が狭くなるように調整した傾斜屋根板を設ける
構成とした。また、脱硫塔内で付着堆積した固形物の落
下を妨げないように、落下通路には障害物などの出っ張
りのないスムースな内部形状とするものである。本発明
は、硫黄酸化物を含む燃焼排ガス中に粉末の脱硫剤を浮
遊させた状態で脱硫塔に導入し、脱硫塔入口部でノズル
を介して水を噴霧して微細な液滴が脱硫塔内で蒸発を完
了するまでの間に、排ガス中の硫黄酸化物を吸収除去す
る乾式排ガス脱硫装置において、上記脱硫塔の円筒胴の
下部に、底部に所定の大きさの開口部を有する円錐胴を
連接して設け、該円錐胴の下部に、円錐胴の底部開口部
から円錐胴の内面に沿って脱硫塔内に排ガスを旋回上昇
させる旋回ベーン室を内蔵した幅広の排ガス導入ダクト
を接続した乾式排ガス脱硫装置である。そして、本発明
の乾式排ガス脱硫装置において、排ガス導入ダクトとの
中心線と、脱硫塔の円筒部の中心軸とを一致させて配設
するのが構造上望ましく、また、排ガスに適切な旋回上
昇流を与え、脱硫剤を均一に分散させ高い脱硫効率を維
持するために、排ガスの旋回ベーンに対して、下記の
(数1)式で定義されるスワール数(SB)が0.35〜
0.65の範囲の旋回強さを与える旋回制御手段を有す
る乾式排ガス脱硫装置である。 SB=Gφ/GZ/R ………(数1) (式中、Gφ=回転モーメント、GZ=上向き軸方向運
動量、R=代表寸法を示す。) さらに、本発明は旋回ベーン室の下部に、旋回ベーン室
の内部ケーシングに接して円錐部を設け、脱硫塔内に付
着成長し剥離して落下する固形物の塔外への排出を容易
にする手段を設けることが好ましい。
【0006】
【作用】脱硫塔内で付着成長した固形物の落下を妨げな
いように、旋回ベーンの内側の先端が、旋回ベーンチャ
ンバの内部ケーシングの内側からはみ出さないように
し、かつ上記旋回ベーンは、入口排ガス量の変化に対応
して、常に最適の旋回力が与えられる構成の可変ベーン
とすることによって、脱硫塔内に吸収剤を均一に分散さ
せることが可能となる。
【0007】
【実施例】以下に本発明の実施例を挙げ、図面を用いて
さらに詳細に説明する。図1は、本発明の乾式排ガス脱
硫装置の脱硫塔の構成を示す模式図である。図におい
て、ボイラ火炉等より発生した排ガス1は、脱硫塔16
の中心軸と排ガス導入ダクトの中心線とを一致させて設
けた排ガス導入用幅広ダクト12から、旋回ベーン13
が設置された傾斜屋根板24を有する旋回ベーンチャン
バ部18に導入され、各旋回ベーン13間に等量の排ガ
スが供給され、排ガスに旋回上昇流を与える構造になっ
ている。一方、排ガス量はガス発生源の負荷によって変
化するので、負荷に対応して排ガスに適正な旋回力を与
えるために、図2に示すごとく、入口排ガス流量検知器
(排ガス流量計)19により入口排ガス量を検知し、演
算器20によって排ガスの旋回パラメータであるスワー
ル数を算出する。ここで、スワール数(SB)は、下記
の(数1)式によって定義される。 SB=Gφ/GZ/R ………(数1) Gφ=回転モーメント GZ=上向き軸方向運動量 R=代表寸法 このスワール数(SB)によって旋回ベーン13の角度
を調節し、排ガス発生源の負荷に応じて最適の旋回力を
与えることができる。
【0008】〈実験例〉旋回ベーン13の最適条件を把
握するために、図3に示す小型モデル装置によて実験を
行った。小型モデルと実機との関係は、下記の(数
2)、(数3)式に示すフルード数と慣性パラメータを
一致させることにより相関づけた。 フルード数(Fr)=U2/(g・De) ……(数
2) 慣性パラメータ(Φ)=(8・ρP・DP)/(6・CD・ρ・
De)……(数3) ここで、 U:ガス流速(m/s) g:重力加速度(m2/s) De:塔径(m) ρP:吸収剤見かけ密度 DP:吸収剤粒径 CD:吸収剤抵抗係数 ρ:ガス密度 小型モデルの塔内各位置での吸収剤濃度を測定し、それ
ぞれの旋回力、すなわちスワール数(SB)における吸
収剤濃度分布を変動係数を用いて整理した結果を図4に
示す。ただし、変動係数は次の(数4)式によって求め
た。 変動係数(%)=(標準偏差)/(平均値)×100
……(数4) 図4に示すごとく、スワールSB数が0.5において、吸
収剤濃度変動係数は15%程度になる。また、0.35
<SB<0.65の間では、ほとんど吸収剤濃度の変動は
みられなかったので、0.35<SB<0.65が適正領
域である。したがって、負荷に応じて旋回ベーンの角度
を調節し、スワールSB数が上記領域内に維持できるよ
うに旋回ベーンの角度制御を行えばよい。排ガスを脱硫
塔内に導入する際、ガス流速は通常15m/s程度であ
るが、脱硫塔の径とほぼ等しい幅広ダクト12を採用す
ることによって、排ガス導入ダクトの高さを低くするこ
とができる。この結果、排ガス導入部の必要高さを最小
限にして脱硫塔が高くなるのを抑制することができる。
また、旋回ベーン13を設置している旋回ベーンチャン
バ部18の天井に傾斜(傾斜屋根板24)をもたせること
によって、各旋回ベーン13への導入排ガス量の均一化
をはかり、排ガス流に安定した旋回力を与える構成にし
ている。また、負荷変化時においても排ガス流量計19
によって検知したガス流量を演算器20に取り込み、S
B数をもとに最適な旋回ベーンの角度を算出し、適切な
旋回力を与えることのできるように可変ベーンの角度を
調整制御することによって、脱硫塔内に吸収剤を均一に
分散させることができ、水噴霧域における水滴との良好
な接触を促進して、吸収剤の有効利用と脱硫性能の安定
維持をはかるようにしたものである。
【0009】
【発明の効果】本発明によれば、脱硫塔の中心と排ガス
導入ダクトの中心とを一致させた幅広ダクトの採用によ
る塔高の低減(例えば、10m径の脱硫塔では、高さ約
4m低減可能)、および排ガスに最適な旋回力を与える
ことにより吸収剤の均一分散が可能となり脱硫吸収剤の
利用率の向上がはかられる。また、排ガス発生源の負荷
変化に際しても可変ベーンを調整し制御することにより
脱硫塔内への吸収剤のほぼ均一な分散が可能となり、安
定して高脱硫性能を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例で例示した脱硫塔の排ガス導入
部の構造を示す模式図。
【図2】本発明の実施例で例示した排ガスに旋回流を与
える可変ベーンの制御系を示す模式図。
【図3】本発明の実施例で例示した旋回ベーンの最適条
件を決める小型モデル装置の構成を示す模式図。
【図4】本発明の実施例で例示した旋回ベーンのスワー
ル数と吸収剤濃度変動係数との関係を示すグラフ。
【図5】従来の脱硫塔の構造を示す模式図。
【図6】従来の脱硫塔の排ガス導入部の構造を示す模式
図。
【符号の説明】
1…排ガス 2…吸収剤 3…加湿水 4…排ガス入口ダクト 5…脱硫塔 6…出口ダクト 7…スプレノズル 8…ダスト排出管 9…入口ダクト 10…整流部 11…整流コーン部 12…排ガス導入用幅広ダクト 13…旋回ベーン 14…コーン部 15…加湿水スプレノズル 16…脱硫塔 17…ダスト排出コーン 18…旋回ベーンチャンバ部 19…排ガス流量計(入口排ガス流量検知器) 20…演算器 21…リンク機構 22…排ガス導入用幅広ダクト 23…旋回ベーン 24…傾斜屋根板 25…直胴部 26…内部ケーシング 27…外部ケーシング

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】硫黄酸化物を含む燃焼排ガス中に粉末の脱
    硫剤を浮遊させた状態で脱硫塔に導入し、脱硫塔入口部
    でノズルを介して水を噴霧して微細な液滴が脱硫塔内で
    蒸発を完了するまでの間に排ガス中の硫黄酸化物を吸収
    除去する乾式排ガス脱硫装置において、上記脱硫塔の円
    筒胴の下部に、底部に所定の大きさの開口部を有する円
    錐胴を連接して設け、該円錐胴の下部に、円錐胴の底部
    開口部から該円錐胴の内面に沿って脱硫塔内に排ガスを
    旋回上昇させる旋回ベーン室を内蔵した排ガス導入ダク
    トを接続してなることを特徴とする乾式排ガス脱硫装
    置。
  2. 【請求項2】請求項1において、排ガス導入ダクトとの
    中心線と、脱硫塔の円筒部の中心軸とを一致させて配設
    してなることを特徴とする乾式排ガス脱硫装置。
  3. 【請求項3】請求項1または請求項2において、旋回ベ
    ーンに対して、下記の(数1)式で定義されるスワール
    数(SB)が0.35〜0.65の範囲の旋回強さを与え
    る制御手段を備えたことを特徴とする乾式排ガス脱硫装
    置。 SB=Gφ/GZ/R ………(数1) (式中、Gφ=回転モーメント、GZ=上向き軸方向運
    動量、R=代表寸法を示す。)
  4. 【請求項4】請求項1ないし請求項3のいずれか1項に
    おいて、旋回ベーン室の下部に、旋回ベーン室の内部ケ
    ーシングに接して円錐部を設け、脱硫塔内で成長して剥
    離し落下する固形物の塔外への排出を容易にする手段を
    設けたことを特徴とする乾式排ガス脱硫装置。
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