JPH0625659B2 - 姿勢センサ - Google Patents
姿勢センサInfo
- Publication number
- JPH0625659B2 JPH0625659B2 JP63116975A JP11697588A JPH0625659B2 JP H0625659 B2 JPH0625659 B2 JP H0625659B2 JP 63116975 A JP63116975 A JP 63116975A JP 11697588 A JP11697588 A JP 11697588A JP H0625659 B2 JPH0625659 B2 JP H0625659B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light receiving
- light
- attitude
- receiving element
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） レーザビーム、イオンビーム等の高エネルギビームを用
い、材料の切断、溶接等の加工作業を行うには、第８図
に示すように、例えばレーザビームガン等の加工機ヘッ
ドの軸Ｚを被加工物表面Ｊに垂直に保つとともに、該加
工機ヘッドの先端と被加工物表面Ｊとの間隙ｄを一定に
保つことが必要である。本発明の姿勢センサは、該加工
機ヘッドに装備して加工機ヘッドの被加工物表面Ｊに対
する姿勢（傾斜および間隙）を自動検出し、正規の姿勢
に自動制御させるための制御情報を発生するものであ
る。
い、材料の切断、溶接等の加工作業を行うには、第８図
に示すように、例えばレーザビームガン等の加工機ヘッ
ドの軸Ｚを被加工物表面Ｊに垂直に保つとともに、該加
工機ヘッドの先端と被加工物表面Ｊとの間隙ｄを一定に
保つことが必要である。本発明の姿勢センサは、該加工
機ヘッドに装備して加工機ヘッドの被加工物表面Ｊに対
する姿勢（傾斜および間隙）を自動検出し、正規の姿勢
に自動制御させるための制御情報を発生するものであ
る。
（従来の技術） 代表的なレーザ加工機の加工機ヘッド（以下レーザガン
と呼ぶ）Ｇの姿勢検出に用いられている従来の技術を第
８図を用いて説明する。従来のレーザガンでは、レーザ
ガンＧの先端部に板状電極Ｃを装着し、板状電極Ｃと被
加工物表面Ｊとの間に静電容量を形成させ、板状電極Ｃ
と被加工物表面Ｊとの間の間隙ｄの変化による静電容量
の変化を、電圧または発振周波数等の電気的変化量とし
て検出する。この方法では、間隙ｄの平均値は求められ
るが、レーザガンＧの中心軸であるＺ軸と被加工物表面
Ｊとの傾きは不明である。
と呼ぶ）Ｇの姿勢検出に用いられている従来の技術を第
８図を用いて説明する。従来のレーザガンでは、レーザ
ガンＧの先端部に板状電極Ｃを装着し、板状電極Ｃと被
加工物表面Ｊとの間に静電容量を形成させ、板状電極Ｃ
と被加工物表面Ｊとの間の間隙ｄの変化による静電容量
の変化を、電圧または発振周波数等の電気的変化量とし
て検出する。この方法では、間隙ｄの平均値は求められ
るが、レーザガンＧの中心軸であるＺ軸と被加工物表面
Ｊとの傾きは不明である。
（発明が解決しようとしている問題点） 本発明が解決しようとする問題点は (1) レーザガンＧの姿勢を自動検出できる姿勢検出器を
実現すること。例えば、第８図において、レーザガンＧ
の中心軸Ｚを被加工物表面Ｊに対しどのような角度で取
付けるか（多くの場合垂直である）、ならびに間隙ｄが
加工上きわらてている規定値に適合しているかどうかを
検出することである。
実現すること。例えば、第８図において、レーザガンＧ
の中心軸Ｚを被加工物表面Ｊに対しどのような角度で取
付けるか（多くの場合垂直である）、ならびに間隙ｄが
加工上きわらてている規定値に適合しているかどうかを
検出することである。
(2) 上記姿勢検出器はレーザガンＧの総重量および外形
寸法をあまり増加することなく装備できること。
寸法をあまり増加することなく装備できること。
（問題を解決するための手段および実施例） 本発明の姿勢センサを装備したレーザガンＧの実施例を
第１図に示す。本姿勢センサはレーザガンＧの中心Ｚの
まわりに複数個の測定ユニットＭ1，Ｍ2，‥‥，Ｍｎが
配置されている。ｎは通常３〜４で充分である。
第１図に示す。本姿勢センサはレーザガンＧの中心Ｚの
まわりに複数個の測定ユニットＭ1，Ｍ2，‥‥，Ｍｎが
配置されている。ｎは通常３〜４で充分である。
第１図に示すように、レーザガンＧの筐体を上下に分割
してＢ1，Ｂ2とし、その間に環状の受光レンズＬＲを設
ける。受光レンズＬＲの光軸はＺ軸と一致させてある。
光源は筐体Ｂ１外周に母線に沿って設けられた光ファイ
バコードＩｊにより導かれ、ファイバ端から出る光を微
小集光レンズＬｆにより細い平行ビームに集光する。こ
のように集光された光ビームは、第２図に示すようにＺ
軸に対し９０゜−αの角度方向から被加工物表面Ｊ上に
入射し、輝点ａｉを生ぜしめる。受光系はａｉからの乱
反射光をとらえる。受光レンズＬＲで集光された光は筐
体Ｂ１内に設けた受光素子Ｓｉ上に入射し、光信号から
電気信号に変換され、電気的出力を得る。受光素子Ｓｉ
は、レーザガンＧと被加工物表面Ｊとの距離が規定値に
なっているときの輝度ａioの像Ｂioを含む結像面Ｓまた
はＳ′上に配置される。像Ｂｉとレンズ中心面との距離
ｂｉはレンズの結像式 で求められる。Ｓ′は第２図に示すように、ｌaiに対
し、常に上記公式が満足される結像面である。受光レン
ズＬＲと輝点ａｉとの距離ｌaiが規定値からずれると、
ａｉの位置が変わりａｉからの反射光が受光素子Ｓｉへ
入射する位置が変化する。このａｉ点の位置の変化は、
通常の加工機ヘッドでは入射角αが７０゜〜８５゜であ
り、ｌaiの変化量もたかだか数mmであるので、１mm程度
に過ぎない。
してＢ1，Ｂ2とし、その間に環状の受光レンズＬＲを設
ける。受光レンズＬＲの光軸はＺ軸と一致させてある。
光源は筐体Ｂ１外周に母線に沿って設けられた光ファイ
バコードＩｊにより導かれ、ファイバ端から出る光を微
小集光レンズＬｆにより細い平行ビームに集光する。こ
のように集光された光ビームは、第２図に示すようにＺ
軸に対し９０゜−αの角度方向から被加工物表面Ｊ上に
入射し、輝点ａｉを生ぜしめる。受光系はａｉからの乱
反射光をとらえる。受光レンズＬＲで集光された光は筐
体Ｂ１内に設けた受光素子Ｓｉ上に入射し、光信号から
電気信号に変換され、電気的出力を得る。受光素子Ｓｉ
は、レーザガンＧと被加工物表面Ｊとの距離が規定値に
なっているときの輝度ａioの像Ｂioを含む結像面Ｓまた
はＳ′上に配置される。像Ｂｉとレンズ中心面との距離
ｂｉはレンズの結像式 で求められる。Ｓ′は第２図に示すように、ｌaiに対
し、常に上記公式が満足される結像面である。受光レン
ズＬＲと輝点ａｉとの距離ｌaiが規定値からずれると、
ａｉの位置が変わりａｉからの反射光が受光素子Ｓｉへ
入射する位置が変化する。このａｉ点の位置の変化は、
通常の加工機ヘッドでは入射角αが７０゜〜８５゜であ
り、ｌaiの変化量もたかだか数mmであるので、１mm程度
に過ぎない。
受光レンズＬRは測定ユニットＭｉ(i=1,2,・・)に共用さ
れており、構造の単純化、価格の低下に役立っている。
れており、構造の単純化、価格の低下に役立っている。
受光素子Ｓｉは直線状の細長い形をなし、光が入射する
と電気出力を生じ、その出力から光の入射位置を知るこ
とができるような素子である。例えば、市販されている
ＰＳＤ（ホトセンシングデバイス）、シリコンホトダイ
オードアレー等あるいは複数条の光ファイバーの一端を
直線上に密に並べて配置して受光部とし、受光した信号
光を光ファイバで中継してレーザガンの外部へ導入し、
他端に受光用ホトダイオード列を設けたものを用いても
よい。
と電気出力を生じ、その出力から光の入射位置を知るこ
とができるような素子である。例えば、市販されている
ＰＳＤ（ホトセンシングデバイス）、シリコンホトダイ
オードアレー等あるいは複数条の光ファイバーの一端を
直線上に密に並べて配置して受光部とし、受光した信号
光を光ファイバで中継してレーザガンの外部へ導入し、
他端に受光用ホトダイオード列を設けたものを用いても
よい。
次に１つの測定ユニットＭｉにつき光学的測定原理を第
２図〜第４図を用いて説明する。
２図〜第４図を用いて説明する。
第１図の構造では、下の筐体Ｂ２は輝点ａｉの乱反射光
が受光レンズＬＲの反対側の部分に入射するのを遮り、
また、受光素子Ｓｉとして一次元ＰＳＤのような細い線
状のものを用いるので、測定ユニットＭｉにおける輝点
ａｉからの乱反射光が受光素子Ｓｉに入射する様子は、
近似的には、受光素子Ｓｉと受光レンズＬＲの光軸Ｚを
含む面内の現象として取扱ってもよい。さらに、受光素
子Ｓｉの取付け方向は、測定すべき物体に面して取付け
られればよいが、精度を上げるには、第２図に示したよ
うに、Ｚ軸に対する入射角が 90゜−α度のとき、 ｔａｎβ＝Ｍ・ｔａｎα ただし、Ｍはレンズの倍率（Ｍ＝ｆ／（ｌao-f））を満
足するよう受光素子ＳｉをＺ軸に対し 90゜−βを傾けて組み込む。
が受光レンズＬＲの反対側の部分に入射するのを遮り、
また、受光素子Ｓｉとして一次元ＰＳＤのような細い線
状のものを用いるので、測定ユニットＭｉにおける輝点
ａｉからの乱反射光が受光素子Ｓｉに入射する様子は、
近似的には、受光素子Ｓｉと受光レンズＬＲの光軸Ｚを
含む面内の現象として取扱ってもよい。さらに、受光素
子Ｓｉの取付け方向は、測定すべき物体に面して取付け
られればよいが、精度を上げるには、第２図に示したよ
うに、Ｚ軸に対する入射角が 90゜−α度のとき、 ｔａｎβ＝Ｍ・ｔａｎα ただし、Ｍはレンズの倍率（Ｍ＝ｆ／（ｌao-f））を満
足するよう受光素子ＳｉをＺ軸に対し 90゜−βを傾けて組み込む。
環状受光レンズＬＲの内縁の半径をｒｉ，外縁の半径を
ｒ２，Ｚ軸と輝点ａｉとの距離をｒＬ，受光レンズＬＲ
の中心面と輝点ａｉとの距離をｌaiとすると、ｒＬ，ｌ
aiの変化にともなう受光素子Ｓｉ上の輝点反射光の変化
の様子は次のようである。
ｒ２，Ｚ軸と輝点ａｉとの距離をｒＬ，受光レンズＬＲ
の中心面と輝点ａｉとの距離をｌaiとすると、ｒＬ，ｌ
aiの変化にともなう受光素子Ｓｉ上の輝点反射光の変化
の様子は次のようである。
第３図および第４図において、ａioは受光レンズＬＲか
らの規定位置にある輝点、ａi1は規定位置より遠方にあ
る輝点、ａi2は規定位置よりも近くにある輝点を示し、
それらの像をＢi0，Ｂi1，Ｂi2 で示す。ｌaij （ｊ＝
0,1,2）はそれぞれ受光レンズＬＲの中心面と輝点ａij
（ｊ＝0,1,2）との距離である。
らの規定位置にある輝点、ａi1は規定位置より遠方にあ
る輝点、ａi2は規定位置よりも近くにある輝点を示し、
それらの像をＢi0，Ｂi1，Ｂi2 で示す。ｌaij （ｊ＝
0,1,2）はそれぞれ受光レンズＬＲの中心面と輝点ａij
（ｊ＝0,1,2）との距離である。
ｒＬは加工点近傍にあることが望ましいが、ここでは実
用範囲と考えられるｒ１＜ｒＬ＜ｒ２において、センサ
から物体までの距離が変化したときの結像点の動きを説
明する。
用範囲と考えられるｒ１＜ｒＬ＜ｒ２において、センサ
から物体までの距離が変化したときの結像点の動きを説
明する。
第３図はｒ１＜ｒＬ＜ｒ２の場合である。基準のワーク
面Ａ上の輝点ａioは像面Ｓ上のＢioに結像している。ワ
ーク面がＡからＡ′の位置に遠のくと、第３図(a)に示
すように輝点はａi1に移り、受光した像はＢi1に結像す
るから、Ｓ上では多少ボケて広がりをもつ像Ｂ′i1が形
成される。この場合、像位置はＢi0からＢ′i1にＳ面上
で右へ移動する。Ｓ面は受光素子列が並んだものと考え
てよいから受光した素子位置を、その出力信号（Ｂ′i1
の平均値）から知れば、ワーク面までの距離の変化量が
求まる。次に、ワーク面がＡからＡ″の位置へ近づいた
場合、第３図(b)に示すように、結像位置はＳ面上を左
へ動き、その移動量が距離変化量と対応する。
面Ａ上の輝点ａioは像面Ｓ上のＢioに結像している。ワ
ーク面がＡからＡ′の位置に遠のくと、第３図(a)に示
すように輝点はａi1に移り、受光した像はＢi1に結像す
るから、Ｓ上では多少ボケて広がりをもつ像Ｂ′i1が形
成される。この場合、像位置はＢi0からＢ′i1にＳ面上
で右へ移動する。Ｓ面は受光素子列が並んだものと考え
てよいから受光した素子位置を、その出力信号（Ｂ′i1
の平均値）から知れば、ワーク面までの距離の変化量が
求まる。次に、ワーク面がＡからＡ″の位置へ近づいた
場合、第３図(b)に示すように、結像位置はＳ面上を左
へ動き、その移動量が距離変化量と対応する。
第４図はａi0がｒＬ＝ｒ１に生ずる場合の例である。ワ
ーク面が基準面ＡからＡ′へ遠のいたとき（第４図
(a)）、像Ｂi0はＳ面上を右へ動いてＢ′i1へ移り、反
対にＡからＡ″へ近づいたとき（第４図(b)）、像Ｂi0
はＳ面上を左へ動いてＢ′i2となり、それぞれがワーク
面との距離の変化を表すことは第３図と同じである。
ーク面が基準面ＡからＡ′へ遠のいたとき（第４図
(a)）、像Ｂi0はＳ面上を右へ動いてＢ′i1へ移り、反
対にＡからＡ″へ近づいたとき（第４図(b)）、像Ｂi0
はＳ面上を左へ動いてＢ′i2となり、それぞれがワーク
面との距離の変化を表すことは第３図と同じである。
第３図、第４図において、結像面ＳをＳ′のように、第
２図で説明したａi0，ａi1，およびａi2の結像点Ｂi0，
Ｂi1，Ｂi2を結ぶ線上に、受光素子Ｓｉを設けるとすれ
ば、Ｂi1，Ｂi2はレンズ寸法ｒ１およびｒ２の影響を受
けないから、Ｓ面上で見る場合の像のボケがなく、距離
の検出精度を著しく向上させることができる。
２図で説明したａi0，ａi1，およびａi2の結像点Ｂi0，
Ｂi1，Ｂi2を結ぶ線上に、受光素子Ｓｉを設けるとすれ
ば、Ｂi1，Ｂi2はレンズ寸法ｒ１およびｒ２の影響を受
けないから、Ｓ面上で見る場合の像のボケがなく、距離
の検出精度を著しく向上させることができる。
測定ユニットの受光特性例として、光源に光出力１mw程
度のレーザを使用し、光ビームを斜めに物体に入射した
場合の実験結果を示す。α＝80゜，ｌa0＝８０mm、レン
ズ倍率Ｍ＝1/6で、受光素子にＰＳＤを用い、金属面を
測定した。受光特性は第６図に示すように、ワーク面ま
での距離の変化量Ｚに対し、直線性の良い出力電圧がえ
られた。
度のレーザを使用し、光ビームを斜めに物体に入射した
場合の実験結果を示す。α＝80゜，ｌa0＝８０mm、レン
ズ倍率Ｍ＝1/6で、受光素子にＰＳＤを用い、金属面を
測定した。受光特性は第６図に示すように、ワーク面ま
での距離の変化量Ｚに対し、直線性の良い出力電圧がえ
られた。
上記測定ユニットＭｉをレーザガンＧの中心軸Ｚのまわ
りに一定角づつずらして、例えば９０゜づつずらして４
個（Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）配置すれば、４個の輝点
ａｉ（ｉ＝１〜４）と受光レンズＬＲとの距離が、測定
値ｌa0からどのようにずれているかを知ることができる
ので、レーザガンＧの姿勢を矯正できる。この場合、レ
ーザガンＧの姿勢は、４個のユニットの距離データを一
致させるよう姿勢制御を行えば、レーザガンＧのＺ軸が
被加工物表面Ｊに垂直を保ち、また、４個のユニットの
距離ｌaiの基準値を適宜設定し、測定値との演算によ
り、レーザガンＧのＺ軸を被加工物表面Ｊに対して一定
の傾斜を保たせることができる。
りに一定角づつずらして、例えば９０゜づつずらして４
個（Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）配置すれば、４個の輝点
ａｉ（ｉ＝１〜４）と受光レンズＬＲとの距離が、測定
値ｌa0からどのようにずれているかを知ることができる
ので、レーザガンＧの姿勢を矯正できる。この場合、レ
ーザガンＧの姿勢は、４個のユニットの距離データを一
致させるよう姿勢制御を行えば、レーザガンＧのＺ軸が
被加工物表面Ｊに垂直を保ち、また、４個のユニットの
距離ｌaiの基準値を適宜設定し、測定値との演算によ
り、レーザガンＧのＺ軸を被加工物表面Ｊに対して一定
の傾斜を保たせることができる。
次に雑音の検出について説明する。レーザ加工機では、
ＣＯ２等加工レーザビームの加工点における反射、散
乱、工場内の各種光源等の雑音光による測定妨害、超音
波加工機や洗浄機などからの誘導、輻射等の妨害が無数
に存在する。しかし、これらの周波数域はたかだか10〜
30 KHzであるので、測定に使用する信号光ビームを30 K
Hz以上の高周波で変調しておけば、受光素子の電気出力
側で帯域フィルタまたは高域フィルタを用いて、雑音成
分を除去し、その測定妨害を除くことができる。
ＣＯ２等加工レーザビームの加工点における反射、散
乱、工場内の各種光源等の雑音光による測定妨害、超音
波加工機や洗浄機などからの誘導、輻射等の妨害が無数
に存在する。しかし、これらの周波数域はたかだか10〜
30 KHzであるので、測定に使用する信号光ビームを30 K
Hz以上の高周波で変調しておけば、受光素子の電気出力
側で帯域フィルタまたは高域フィルタを用いて、雑音成
分を除去し、その測定妨害を除くことができる。
本発明による姿勢検出システムを第７図により説明す
る。
る。
ＯＰＳは高周波変調された信号光発生器で、光ファイバ
Ｉｉ（i＝1,2,・・）を導路としてレーザガンＧへ送る。
レーザガンＧのセンサ組込みは前に説明した通りである
が、光ビームの発光端部は中心から径の半径方向に余弦
的な屈折率分布をもつ円筒レンズ等を使用すれば、光フ
ァィバコード径と合わせて１〜２mmの径で構成できるか
ら、レーザガンＧ外周上母線方向に溝を堀り、ファイバ
とも一体に埋込むことができる。その構造は第８図に示
した通りである。
Ｉｉ（i＝1,2,・・）を導路としてレーザガンＧへ送る。
レーザガンＧのセンサ組込みは前に説明した通りである
が、光ビームの発光端部は中心から径の半径方向に余弦
的な屈折率分布をもつ円筒レンズ等を使用すれば、光フ
ァィバコード径と合わせて１〜２mmの径で構成できるか
ら、レーザガンＧ外周上母線方向に溝を堀り、ファイバ
とも一体に埋込むことができる。その構造は第８図に示
した通りである。
ＤＥＴｉ（i＝1,2,・・）は受光系の信号検出回路であ
る。
る。
受光素子Ｓｉで光から電気出力Ｖｉに変換された信号は
増幅後、フィルタで雑音成分を徐去し、デジタル信号と
して出力される。出力データ、すなわち輝点ａｉが受光
素子Ｓｉ上で正規の位置に対して遠近何れの側にあるか
を示す符号と距離の変化量等の情報は、RS-232C 等のイ
ンタフェースを介して、センサ・コンピュータSPC へ送
られる。センサ・コンピュータSPC では、４つの測定デ
ータの計算処理をリアルタイムで行い、姿勢制御データ
を加工機のコントローラＭＣＰへ渡す。この情報によ
り、加工機のコントローラＭＣＰは前記姿勢制御のため
の駆動動力を発生し、レーザガンＧの姿勢を正しく矯正
する。
増幅後、フィルタで雑音成分を徐去し、デジタル信号と
して出力される。出力データ、すなわち輝点ａｉが受光
素子Ｓｉ上で正規の位置に対して遠近何れの側にあるか
を示す符号と距離の変化量等の情報は、RS-232C 等のイ
ンタフェースを介して、センサ・コンピュータSPC へ送
られる。センサ・コンピュータSPC では、４つの測定デ
ータの計算処理をリアルタイムで行い、姿勢制御データ
を加工機のコントローラＭＣＰへ渡す。この情報によ
り、加工機のコントローラＭＣＰは前記姿勢制御のため
の駆動動力を発生し、レーザガンＧの姿勢を正しく矯正
する。
（発明の効果） 以上説明したように本発明の姿勢センサを内蔵した加工
機ヘッドは小形・軽量・低価格であり、加工機ヘッドの
従来の作業空間を変更することなく、複雑に入りこんだ
凹所等の各種作業にも適用できる。また、本姿勢センサ
を使用することによって作業中の姿勢自動制御が可能に
なったことは、今後自動ならい等作業の自動化の推進に
大きく貢献する。特に、レーザ加工機におけるガンの姿
勢制御に有効である。
機ヘッドは小形・軽量・低価格であり、加工機ヘッドの
従来の作業空間を変更することなく、複雑に入りこんだ
凹所等の各種作業にも適用できる。また、本姿勢センサ
を使用することによって作業中の姿勢自動制御が可能に
なったことは、今後自動ならい等作業の自動化の推進に
大きく貢献する。特に、レーザ加工機におけるガンの姿
勢制御に有効である。
第１図は本発明の姿勢センサを装備したレーザ加工機ヘ
ッドを示す図。 第２図〜第４図は本発明の姿勢センサの光学系を示す
図。 第５図は本発明の検出特定を測定する測定回路。 第６図は本発明の受光系の検出特性を示す図。 第７図は本発明の姿勢検出システムを示す図。 第８図は本発明のレーザ加工機ヘッドの構造を示す図。
ッドを示す図。 第２図〜第４図は本発明の姿勢センサの光学系を示す
図。 第５図は本発明の検出特定を測定する測定回路。 第６図は本発明の受光系の検出特性を示す図。 第７図は本発明の姿勢検出システムを示す図。 第８図は本発明のレーザ加工機ヘッドの構造を示す図。
Claims (1)
- 【請求項１】１個の環状受光レンズと、該受光レンズの
光軸のまわりに配置され、かつ、該光軸に収束する方向
に放射される細い複数條の信号光ビームを発生する手段
を有し、該信号光ビームが被加工物表面につくるスポッ
トと受光レンズとが所定の距離になった時、該受光レン
ズにより結ばれるスポットの像の結像点に、受光位置を
検知する手段をもった細長い線状受光素子列をそなえ、
姿勢検出の場合、受光素子に入射するスポットからの反
射光の入射区間が、前記の所定距離の場合のスポット結
像点の何れの側にあるかを判別する電気回路をそなえ、
該電気回路の複数個の出力から被加工物表面に対する加
工機ヘッドの姿勢を検出することを特徴とする姿勢セン
サ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63116975A JPH0625659B2 (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | 姿勢センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63116975A JPH0625659B2 (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | 姿勢センサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01287408A JPH01287408A (ja) | 1989-11-20 |
| JPH0625659B2 true JPH0625659B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=14700391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63116975A Expired - Lifetime JPH0625659B2 (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | 姿勢センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0625659B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5330114B2 (ja) * | 2008-06-13 | 2013-10-30 | 株式会社カツラ・オプト・システムズ | 変位チルトセンサ |
-
1988
- 1988-05-16 JP JP63116975A patent/JPH0625659B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01287408A (ja) | 1989-11-20 |
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