JPH06258068A - 原子間力顕微鏡 - Google Patents
原子間力顕微鏡Info
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- JPH06258068A JPH06258068A JP4415493A JP4415493A JPH06258068A JP H06258068 A JPH06258068 A JP H06258068A JP 4415493 A JP4415493 A JP 4415493A JP 4415493 A JP4415493 A JP 4415493A JP H06258068 A JPH06258068 A JP H06258068A
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- light beam
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光検出器に入射する光ビームのスポット形状
が変化しても、それに影響されることなく精度よく安定
してカンチレバーの曲がり角を検出することを可能とす
る。 【構成】 2分割光検出器7は、光検出器移動機構6に
より検出面7aに平行に移動可能に支持される。カンチ
レバー2がたわんでいないときには、カンチレバー2で
反射した光ビーム20は2分割光検出器7の分割線7b
上に入射される。位置制御回路10は、試料1表面の凹
凸によりカンチレバー2がたわんだときに、2分割光検
出器7の分割線7b上に光ビーム20が入射されるよう
に2分割光検出器7の位置を制御し、このときにミラー
移動機構6に加えられた制御信号を利用してカンチレバ
ー2のたわみ角を求める。
が変化しても、それに影響されることなく精度よく安定
してカンチレバーの曲がり角を検出することを可能とす
る。 【構成】 2分割光検出器7は、光検出器移動機構6に
より検出面7aに平行に移動可能に支持される。カンチ
レバー2がたわんでいないときには、カンチレバー2で
反射した光ビーム20は2分割光検出器7の分割線7b
上に入射される。位置制御回路10は、試料1表面の凹
凸によりカンチレバー2がたわんだときに、2分割光検
出器7の分割線7b上に光ビーム20が入射されるよう
に2分割光検出器7の位置を制御し、このときにミラー
移動機構6に加えられた制御信号を利用してカンチレバ
ー2のたわみ角を求める。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、試料表面を高分解能で
観察できる原子間力顕微鏡に関する。
観察できる原子間力顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】近年において、試料表面の原子構造を直
接観察できる走査型トンネル顕微鏡(以下、「STM」
という)が開発され(G.Binnigら、Physical Review Le
tters誌、第49巻57頁(1982年)参照)、単結晶、非結
晶を問わず実空間像を著しく高い分解能(ナノメートル
以下の分解能)で観察できるようになった。STMは、
金属の探針と導電性物質との間に電圧を印加して両者を
1nm程度の距離まで近付けると、両者間にトンネル電
流が流れることを利用している。この電流は両者の距離
変化に非常に敏感で指数関数的に変化するので、トンネ
ル電流を一定に保つように探針を試料の表面上で走査さ
せると、実空間の表面構造を原子オーダーの分解能で観
察することができる。
接観察できる走査型トンネル顕微鏡(以下、「STM」
という)が開発され(G.Binnigら、Physical Review Le
tters誌、第49巻57頁(1982年)参照)、単結晶、非結
晶を問わず実空間像を著しく高い分解能(ナノメートル
以下の分解能)で観察できるようになった。STMは、
金属の探針と導電性物質との間に電圧を印加して両者を
1nm程度の距離まで近付けると、両者間にトンネル電
流が流れることを利用している。この電流は両者の距離
変化に非常に敏感で指数関数的に変化するので、トンネ
ル電流を一定に保つように探針を試料の表面上で走査さ
せると、実空間の表面構造を原子オーダーの分解能で観
察することができる。
【0003】しかし、STMによる観察は試料が導電性
のものに限られ、絶縁性の試料を観察することは困難で
ある。そこで、二つの物質間に働く力を検出して、試料
表面を観察する原子間力顕微鏡(以下、「AFM」とい
う)が開発された(G.Binnigら、Physical Review Lett
ers 誌、第56巻 930頁(1986年)参照)。AFMは、先
端径の小さな探針が一体的に設けられたカンチレバー
と、この探針を試料に近付けた際に探針と試料表面との
間に発生する原子間力によってもたらされるカンチレバ
ーのたわみを測定する手段とを有する。この探針は、カ
ンチレバーの自由端にカンチレバーとは別体で設けても
よいし、カンチレバー自体の自由端を探針として利用し
てもよい。
のものに限られ、絶縁性の試料を観察することは困難で
ある。そこで、二つの物質間に働く力を検出して、試料
表面を観察する原子間力顕微鏡(以下、「AFM」とい
う)が開発された(G.Binnigら、Physical Review Lett
ers 誌、第56巻 930頁(1986年)参照)。AFMは、先
端径の小さな探針が一体的に設けられたカンチレバー
と、この探針を試料に近付けた際に探針と試料表面との
間に発生する原子間力によってもたらされるカンチレバ
ーのたわみを測定する手段とを有する。この探針は、カ
ンチレバーの自由端にカンチレバーとは別体で設けても
よいし、カンチレバー自体の自由端を探針として利用し
てもよい。
【0004】一般に物質表面間には、比較的遠距離にお
いては分散力による微弱な引力が働き、近距離では斥力
が働く。カンチレバーのたわみ量はその力に比例するの
で、カンチレバーのたわみ量を測定することによって、
探針先端とこれに数nm以内に近接する試料表面との間
に働く微弱で局所的な力を検出することが可能となる。
さらに探針と試料とを面方向に相対的に二次元走査せせ
ることで、試料表面の二次元情報が得られる。
いては分散力による微弱な引力が働き、近距離では斥力
が働く。カンチレバーのたわみ量はその力に比例するの
で、カンチレバーのたわみ量を測定することによって、
探針先端とこれに数nm以内に近接する試料表面との間
に働く微弱で局所的な力を検出することが可能となる。
さらに探針と試料とを面方向に相対的に二次元走査せせ
ることで、試料表面の二次元情報が得られる。
【0005】また、カンチレバーのたわみを一定にする
ようにフィードバックをかけながら走査することによ
り、試料表面の微小な凹凸形状を観察できる。カンチレ
バーのたわみを検出する方法としては、STM技術を応
用する方法、試料とカンチレバーとの間の静電容量を検
出する方法、光の干渉を用いる方法、カンチレバーに光
を入射し、その反射角の変化からカンチレバーのたわみ
を検出する方法(光てこ方式)等が挙げられる。その中
でも、操作性や検出感度等の観点から光てこ方式による
方法が一般的である。
ようにフィードバックをかけながら走査することによ
り、試料表面の微小な凹凸形状を観察できる。カンチレ
バーのたわみを検出する方法としては、STM技術を応
用する方法、試料とカンチレバーとの間の静電容量を検
出する方法、光の干渉を用いる方法、カンチレバーに光
を入射し、その反射角の変化からカンチレバーのたわみ
を検出する方法(光てこ方式)等が挙げられる。その中
でも、操作性や検出感度等の観点から光てこ方式による
方法が一般的である。
【0006】AMFによる分解能は試料面内方向で1n
m以下であるので、例えば、試料表面に10nm程度の
間隔で微細な凹凸を形成し、それをAMFを用いて読み
出すことによって、1012ビット/cm2 に近い超高密
度のメモリを作成することも可能である。
m以下であるので、例えば、試料表面に10nm程度の
間隔で微細な凹凸を形成し、それをAMFを用いて読み
出すことによって、1012ビット/cm2 に近い超高密
度のメモリを作成することも可能である。
【0007】以下に、従来の光てこ方式のAFMについ
て説明する。
て説明する。
【0008】図3は、従来の光てこ方式のAFMのカン
チレバー近傍の概略斜視図である。図3に示すように、
支持体となる基板101にはカンチレバー102が突設
されており、このカンチレバー102の自由端に先端が
尖鋭な探針103が設けられている。探針103を原子
間力が発生する程度まで試料130の表面に近付けた状
態で、探針103と試料130とを相対的に二次元走査
させれば、カンチレバーは試料130の表面の凹凸13
0aに沿ってたわむ。
チレバー近傍の概略斜視図である。図3に示すように、
支持体となる基板101にはカンチレバー102が突設
されており、このカンチレバー102の自由端に先端が
尖鋭な探針103が設けられている。探針103を原子
間力が発生する程度まで試料130の表面に近付けた状
態で、探針103と試料130とを相対的に二次元走査
させれば、カンチレバーは試料130の表面の凹凸13
0aに沿ってたわむ。
【0009】一方、カンチレバー102には光源(不図
示)から光ビーム120が投射され、投射された光ビー
ム120はカンチレバー102で反射して光検出器10
7に入射する構成となっている。ここで、カンチレバー
102の固定端から探針103までの長さをA、試料1
30の表面の凹凸130aの高さをhとすると、カンチ
レバー102がたわんだときのカンチレバー102のた
わみ角Δθは光ビーム120の反射角の変化に等しく、 Δθ=2h/A (1) で与えられる。また、カンチレバー102の光ビーム1
20の反射面から光検出器107までの距離をDとする
と、光ビーム120の反射角の変化に伴って、光検出器
107に入射する光ビーム120の位置dは、 d=DΔθ=2Dh/A (2) だけずれる。このずれ量は、光検出器107として例え
ば、2分割光検出器を用いて検出することができる。以
下に、ずれ量からカンチレバー102のたわみ角を求め
る原理について図4および図5を参照して説明する。
示)から光ビーム120が投射され、投射された光ビー
ム120はカンチレバー102で反射して光検出器10
7に入射する構成となっている。ここで、カンチレバー
102の固定端から探針103までの長さをA、試料1
30の表面の凹凸130aの高さをhとすると、カンチ
レバー102がたわんだときのカンチレバー102のた
わみ角Δθは光ビーム120の反射角の変化に等しく、 Δθ=2h/A (1) で与えられる。また、カンチレバー102の光ビーム1
20の反射面から光検出器107までの距離をDとする
と、光ビーム120の反射角の変化に伴って、光検出器
107に入射する光ビーム120の位置dは、 d=DΔθ=2Dh/A (2) だけずれる。このずれ量は、光検出器107として例え
ば、2分割光検出器を用いて検出することができる。以
下に、ずれ量からカンチレバー102のたわみ角を求め
る原理について図4および図5を参照して説明する。
【0010】図4に示すように、2分割光検出器107
は、カンチレバー102がたわんでいない状態ではカン
チレバー102で反射した光ビーム120は2分割光検
出器107の検出面107aの分割線107b上の点B
に入射するように配置されているとすると、カンチレバ
ー102で反射した光ビーム120は図5の(b)に示
すようにスポット120’となって検出面107aに入
射される。このとき、スポット120’の、分割線10
7bを境界として分けられる2つのスポット面積SA 、
SB は互いに等しい。また、図4においてカンチレバー
102が図示上方にたわんだときには光ビーム120は
検出面107aの点Aに入射し、そのときの検出面10
7a上での光ビーム120のスポット120’の位置は
図5の(a)に示すように図示左方にずれる。逆に、図
4においてカンチレバー102が図示下方にたわんだと
きには光ビーム120は検出面107aの点Cに入射
し、そのときの検出面107a上での光ビーム120の
スポット120’の位置は図5の(c)に示すように図
示右方にずれる。すなわち、カンチレバー102のたわ
みに応じて、2つのスポット面積SA 、SB の比率が変
化する。検出面107aでの、分割線107bを境界と
して分けられる2つの領域でそれぞれ検出される光強度
の比は上述したスポット面積比に比例するので、2つの
領域の光強度を測定、比較することによって、カンチレ
バー102のたわみ角が求められる。カンチレバー10
2のたわみ角は、カンチレバー102のたわみ量すなわ
ち試料130の表面の凹凸130aの高さに比例するの
で、探針103試料130との面方向への相対的な二次
元走査を行ないながらカンチレバー102のたわみ角を
求めることにより、試料130の表面状態を測定するこ
とができる。
は、カンチレバー102がたわんでいない状態ではカン
チレバー102で反射した光ビーム120は2分割光検
出器107の検出面107aの分割線107b上の点B
に入射するように配置されているとすると、カンチレバ
ー102で反射した光ビーム120は図5の(b)に示
すようにスポット120’となって検出面107aに入
射される。このとき、スポット120’の、分割線10
7bを境界として分けられる2つのスポット面積SA 、
SB は互いに等しい。また、図4においてカンチレバー
102が図示上方にたわんだときには光ビーム120は
検出面107aの点Aに入射し、そのときの検出面10
7a上での光ビーム120のスポット120’の位置は
図5の(a)に示すように図示左方にずれる。逆に、図
4においてカンチレバー102が図示下方にたわんだと
きには光ビーム120は検出面107aの点Cに入射
し、そのときの検出面107a上での光ビーム120の
スポット120’の位置は図5の(c)に示すように図
示右方にずれる。すなわち、カンチレバー102のたわ
みに応じて、2つのスポット面積SA 、SB の比率が変
化する。検出面107aでの、分割線107bを境界と
して分けられる2つの領域でそれぞれ検出される光強度
の比は上述したスポット面積比に比例するので、2つの
領域の光強度を測定、比較することによって、カンチレ
バー102のたわみ角が求められる。カンチレバー10
2のたわみ角は、カンチレバー102のたわみ量すなわ
ち試料130の表面の凹凸130aの高さに比例するの
で、探針103試料130との面方向への相対的な二次
元走査を行ないながらカンチレバー102のたわみ角を
求めることにより、試料130の表面状態を測定するこ
とができる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の光てこ
方式のAFMでは、2分割光検出器に入射する光ビーム
のスポット形状が常に一定であれば、分割線で分割され
る2つのスポット面積の比較によって一義的にカンチレ
バーのたわみ角が求められる。しかしながら、探針の走
査中に何等かの理由により光ビームの断面形状が変化す
ると、上記スポット形状も変化し、スポット面積の比較
だけではカンチレバーのたわみ角を一義的に決定できな
くなってしまう。以下に、この理由について図6を参照
して説明する。
方式のAFMでは、2分割光検出器に入射する光ビーム
のスポット形状が常に一定であれば、分割線で分割され
る2つのスポット面積の比較によって一義的にカンチレ
バーのたわみ角が求められる。しかしながら、探針の走
査中に何等かの理由により光ビームの断面形状が変化す
ると、上記スポット形状も変化し、スポット面積の比較
だけではカンチレバーのたわみ角を一義的に決定できな
くなってしまう。以下に、この理由について図6を参照
して説明する。
【0012】図6の(a)において、光ビーム120は
2分割光検出器の検出面107aに対して略垂直に入射
するものとし、検出面107a上の光ビームのスポット
120’は、カンチレバーのたわみに伴ってx軸上に沿
って移動するものとする。また、検出面107aの分割
線107bをy軸とする。さらに、説明を簡単にするた
めに、スポット120’の形状は、主軸がそれぞれx軸
およびy軸に平行で、その長さが各々aおよびbである
楕円を考える。
2分割光検出器の検出面107aに対して略垂直に入射
するものとし、検出面107a上の光ビームのスポット
120’は、カンチレバーのたわみに伴ってx軸上に沿
って移動するものとする。また、検出面107aの分割
線107bをy軸とする。さらに、説明を簡単にするた
めに、スポット120’の形状は、主軸がそれぞれx軸
およびy軸に平行で、その長さが各々aおよびbである
楕円を考える。
【0013】いま、スポット120’の中心が、y軸か
ら距離d(−a≦d≦a)だけ離れた点にあるとする。
このとき、スポット120’の面積比は次の(3)式で
表わすことができる。
ら距離d(−a≦d≦a)だけ離れた点にあるとする。
このとき、スポット120’の面積比は次の(3)式で
表わすことができる。
【0014】
【数1】 (3)式より、y軸に平行な主軸の長さbの変動は、ス
ポット120’の位置によらず上記面積比に無関係であ
ることがわかる。すなわち、測定中にbの長さが変動し
ても、求められるカンチレバーのたわみ角への影響はな
い。
ポット120’の位置によらず上記面積比に無関係であ
ることがわかる。すなわち、測定中にbの長さが変動し
ても、求められるカンチレバーのたわみ角への影響はな
い。
【0015】次に、d=0のとき、すなわちスポット1
20’の中心が分割線107b上にある場合には、
(3)式は
20’の中心が分割線107b上にある場合には、
(3)式は
【0016】
【数2】 となり、この場合も楕円の形状に左右されることなくカ
ンチレバーのたわみ角を決定できる。
ンチレバーのたわみ角を決定できる。
【0017】しかしd≠0のときには、上記面積比はa
とdの両方に依存するので、ある面積比に対してaとd
を独立に求めることは不可能である。逆にいうと、図6
の(b)からわかるとおり、楕円の中心位置が同一でも
aの長さが変動すると、SAとSB との比率は様々な値
に変化してしまう。すなわち、(2)式によりカンチレ
バーのたわみ角を一義的に求めることは不可能になる。
とdの両方に依存するので、ある面積比に対してaとd
を独立に求めることは不可能である。逆にいうと、図6
の(b)からわかるとおり、楕円の中心位置が同一でも
aの長さが変動すると、SAとSB との比率は様々な値
に変化してしまう。すなわち、(2)式によりカンチレ
バーのたわみ角を一義的に求めることは不可能になる。
【0018】上述した問題点を引き起こす、探針の走査
中における光ビームの断面形状の変化は、様々な要因に
よって発生する。この例をいくつか挙げると、(1)カ
ンチレバーの光ビーム反射面の不均一性、(2)光ビー
ムのビーム径内でのカンチレバーの微小な曲がりや反り
がある場合に、カンチレバー上で反射された光ビームが
発散から集光まで様々な形態を撮り得ること、(3)探
針を往復走査させるときには、往路と復路とでカンチレ
バーの曲がり方や反りが異なってしまうこと、(4)走
査速度の変動、等がある。しかし、これらの要因を全て
排除することは、非常に高度な加工精度や超精密制御が
必要となり、現状では難しい。
中における光ビームの断面形状の変化は、様々な要因に
よって発生する。この例をいくつか挙げると、(1)カ
ンチレバーの光ビーム反射面の不均一性、(2)光ビー
ムのビーム径内でのカンチレバーの微小な曲がりや反り
がある場合に、カンチレバー上で反射された光ビームが
発散から集光まで様々な形態を撮り得ること、(3)探
針を往復走査させるときには、往路と復路とでカンチレ
バーの曲がり方や反りが異なってしまうこと、(4)走
査速度の変動、等がある。しかし、これらの要因を全て
排除することは、非常に高度な加工精度や超精密制御が
必要となり、現状では難しい。
【0019】そこで本発明は、光検出器に入射する光ビ
ームのスポット形状が変化しても、それに影響されるこ
となく精度よく安定してカンチレバーの曲がり角を検出
することができる原子間力顕微鏡を提供することを目的
とする。
ームのスポット形状が変化しても、それに影響されるこ
となく精度よく安定してカンチレバーの曲がり角を検出
することができる原子間力顕微鏡を提供することを目的
とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の原子間力顕微鏡は、先端が尖鋭な探針が試料に
対向して一体的に設けられたカンチレバーと、前記探針
と前記試料とを面方向に相対的に二次元走査させる走査
手段と、前記探針と前記試料表面との間に発生する原子
間力により生じる前記探針の上下動に伴う前記カンチレ
バーのたわみ角を検出するための光学系とを有する、光
てこ方式の原子間力顕微鏡において、前記光学系は、前
記カンチレバーに向けて光ビームを発する光源と、前記
カンチレバーで反射された光ビームの光量および位置を
検出する光検出器とを備え、前記光検出器を移動させる
光検出器移動機構と、前記光検出器駆動機構を駆動させ
て前記光検出器の位置を制御し、前記カンチレバーで反
射された光ビームが前記光検出器の所定の位置に入射し
たときに、前記カンチレバーのたわみ角を検出する制御
手段とを有することを特徴とする。
本発明の原子間力顕微鏡は、先端が尖鋭な探針が試料に
対向して一体的に設けられたカンチレバーと、前記探針
と前記試料とを面方向に相対的に二次元走査させる走査
手段と、前記探針と前記試料表面との間に発生する原子
間力により生じる前記探針の上下動に伴う前記カンチレ
バーのたわみ角を検出するための光学系とを有する、光
てこ方式の原子間力顕微鏡において、前記光学系は、前
記カンチレバーに向けて光ビームを発する光源と、前記
カンチレバーで反射された光ビームの光量および位置を
検出する光検出器とを備え、前記光検出器を移動させる
光検出器移動機構と、前記光検出器駆動機構を駆動させ
て前記光検出器の位置を制御し、前記カンチレバーで反
射された光ビームが前記光検出器の所定の位置に入射し
たときに、前記カンチレバーのたわみ角を検出する制御
手段とを有することを特徴とする。
【0021】また、前記制御手段は、前記探針と前記試
料との二次元走査中に、前記カンチレバーで反射された
光ビームの前記光検出器への入射位置が変動した際に、
前記入射位置の変動を打ち消す方向に前記光検出器を移
動させるように前記光検出器移動機構を制御し、前記カ
ンチレバーで反射された光ビームが前記光検出器の所定
の位置に入射したときの前記光検出器移動機構への制御
信号に基づいて前記カンチレバーのたわみ角を検出する
ものであってもよい。
料との二次元走査中に、前記カンチレバーで反射された
光ビームの前記光検出器への入射位置が変動した際に、
前記入射位置の変動を打ち消す方向に前記光検出器を移
動させるように前記光検出器移動機構を制御し、前記カ
ンチレバーで反射された光ビームが前記光検出器の所定
の位置に入射したときの前記光検出器移動機構への制御
信号に基づいて前記カンチレバーのたわみ角を検出する
ものであってもよい。
【0022】さらに、前記光検出器移動機構は、前記光
検出器を連続周期的に変位可能なウォブリング機能を有
する機構であってもよく、この場合には、前記制御手段
は、前記探針と前記試料との二次元走査中に前記光検出
器移動機構により前記光検出器をウォブリングさせなが
ら、前記カンチレバーで反射された光ビームが前記光検
出器の所定の位置に入射したときの前記光検出器移動機
構への制御信号に基づいて前記カンチレバーのたわみ角
を検出するものであってもよい。
検出器を連続周期的に変位可能なウォブリング機能を有
する機構であってもよく、この場合には、前記制御手段
は、前記探針と前記試料との二次元走査中に前記光検出
器移動機構により前記光検出器をウォブリングさせなが
ら、前記カンチレバーで反射された光ビームが前記光検
出器の所定の位置に入射したときの前記光検出器移動機
構への制御信号に基づいて前記カンチレバーのたわみ角
を検出するものであってもよい。
【0023】そして、前記光検出器を分割光検出器と
し、前記分割光検出器の所定の位置が、前記分割光検出
器の分割線上にあってもよい。
し、前記分割光検出器の所定の位置が、前記分割光検出
器の分割線上にあってもよい。
【0024】また、前記分割光検出器を2分割光検出器
としたり、4分割光検出器とすることもできる。
としたり、4分割光検出器とすることもできる。
【0025】
【作用】上記のとおり構成された本発明の原子間力顕微
鏡では、光源から発せられた光ビームは、カンチレバー
で反射されて光検出器に入射する。ここで、カンチレバ
ーが試料表面の凹凸によりたわむと、カンチレバーで反
射した光ビームの到達点がずれる。カンチレバーのたわ
み角と光ビームのずれ量との間には比例関係が成立する
ので、光検出器移動機構により光検出器を移動させ、光
ビームが光検出器の所定の位置に入射したときの光検出
器の位置からカンチレバーのたわみ角を求めることによ
り、光ビームの断面形状の変化によらずにカンチレバー
のたわみ角が一義的に求められる。
鏡では、光源から発せられた光ビームは、カンチレバー
で反射されて光検出器に入射する。ここで、カンチレバ
ーが試料表面の凹凸によりたわむと、カンチレバーで反
射した光ビームの到達点がずれる。カンチレバーのたわ
み角と光ビームのずれ量との間には比例関係が成立する
ので、光検出器移動機構により光検出器を移動させ、光
ビームが光検出器の所定の位置に入射したときの光検出
器の位置からカンチレバーのたわみ角を求めることによ
り、光ビームの断面形状の変化によらずにカンチレバー
のたわみ角が一義的に求められる。
【0026】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【0027】図1は、本発明の原子間力顕微鏡の一実施
例の概略構成図である。図1に示すように本原子間力顕
微鏡は、光源4から発せられる光ビーム20をカンチレ
バー2に反射させ、その反射角の変化からカンチレバー
2のたわみ角を求める光てこ方式の原子間力顕微鏡であ
り、カンチレバー2の自由端には、先端が尖鋭な探針3
が一体的に設けられている。カンチレバー2の支持構造
については図3に示した従来の原子間力顕微鏡と同様で
あり、探針3と試料30との距離を変位させたり探針2
と試料3とを相対的に二次元走査させる手段についても
従来公知の手段と同様のものでよいので、図1において
は省略している。
例の概略構成図である。図1に示すように本原子間力顕
微鏡は、光源4から発せられる光ビーム20をカンチレ
バー2に反射させ、その反射角の変化からカンチレバー
2のたわみ角を求める光てこ方式の原子間力顕微鏡であ
り、カンチレバー2の自由端には、先端が尖鋭な探針3
が一体的に設けられている。カンチレバー2の支持構造
については図3に示した従来の原子間力顕微鏡と同様で
あり、探針3と試料30との距離を変位させたり探針2
と試料3とを相対的に二次元走査させる手段についても
従来公知の手段と同様のものでよいので、図1において
は省略している。
【0028】本原子間力顕微鏡においては、光検出器で
ある2分割光検出器7が、光検出器移動機構6により検
出面7aに平行に移動可能に支持されている。2分割光
検出器7は、その検出面7aが分割線7bによって2つ
の領域に分割されており、2分割光検出器7にはそれぞ
れの領域に入射された光ビーム20の強度に応じて発生
する光電流I1 、I2 を、各々電流/電圧変換するプリ
アンプ8、および各プリアンプ8から出力される電圧V
1 、V2 を比較する差動アンプ9を順次介して位置制御
回路10に接続されている。制御手段としての位置制御
回路10は、光検出器移動機構6に制御信号を出力する
ことで光検出器移動機構6を駆動させて2分割光検出器
7の位置を制御するためのものであり、差動アンプ9か
らの差動出力(V1 −V2 )がゼロとなるように光検出
器移動機構6を駆動させる。そして、このときの電圧が
画像処理回路11に出力され、試料30の表面の形状変
化として取り出される。
ある2分割光検出器7が、光検出器移動機構6により検
出面7aに平行に移動可能に支持されている。2分割光
検出器7は、その検出面7aが分割線7bによって2つ
の領域に分割されており、2分割光検出器7にはそれぞ
れの領域に入射された光ビーム20の強度に応じて発生
する光電流I1 、I2 を、各々電流/電圧変換するプリ
アンプ8、および各プリアンプ8から出力される電圧V
1 、V2 を比較する差動アンプ9を順次介して位置制御
回路10に接続されている。制御手段としての位置制御
回路10は、光検出器移動機構6に制御信号を出力する
ことで光検出器移動機構6を駆動させて2分割光検出器
7の位置を制御するためのものであり、差動アンプ9か
らの差動出力(V1 −V2 )がゼロとなるように光検出
器移動機構6を駆動させる。そして、このときの電圧が
画像処理回路11に出力され、試料30の表面の形状変
化として取り出される。
【0029】ここで、本原子間力顕微鏡によりカンチレ
バー2のたわみ角を求める原理について図2を参照して
説明する。
バー2のたわみ角を求める原理について図2を参照して
説明する。
【0030】図2において、カンチレバー2がたわんで
いない状態での、光源4と2分割光検出器7とで構成さ
れる光学系は、カンチレバー2で反射された光ビーム2
0のスポットの中心が2分割光検出器7の検出面7aの
分割線7b上に入射される、すなわち検出面7aの2つ
の領域で測定された光強度が各々等しくなるように配置
されているものとする。また、このときの光ビーム20
の、カンチレバー2から2分割光検出器7までの光路長
をLとする。
いない状態での、光源4と2分割光検出器7とで構成さ
れる光学系は、カンチレバー2で反射された光ビーム2
0のスポットの中心が2分割光検出器7の検出面7aの
分割線7b上に入射される、すなわち検出面7aの2つ
の領域で測定された光強度が各々等しくなるように配置
されているものとする。また、このときの光ビーム20
の、カンチレバー2から2分割光検出器7までの光路長
をLとする。
【0031】この状態から、試料30の表面の凹凸によ
ってカンチレバー2がΔθの角度だけたわみ、カンチレ
バー2上での光ビーム20の反射角がΔθだけ変化する
と、前述した(2)式に従って、光ビーム20の位置も
d=LΔθだけずれ、光ビーム20は2分割光検出器7
の検出面7aの分割線7b上には入射されなくなる。そ
こで、光検出器移動機構6により2分割光検出器7を図
示矢印方向にdだけ移動させることによって、光ビーム
20を2分割光検出器7の検出面7aの分割線7b上に
入射させることができる。
ってカンチレバー2がΔθの角度だけたわみ、カンチレ
バー2上での光ビーム20の反射角がΔθだけ変化する
と、前述した(2)式に従って、光ビーム20の位置も
d=LΔθだけずれ、光ビーム20は2分割光検出器7
の検出面7aの分割線7b上には入射されなくなる。そ
こで、光検出器移動機構6により2分割光検出器7を図
示矢印方向にdだけ移動させることによって、光ビーム
20を2分割光検出器7の検出面7aの分割線7b上に
入射させることができる。
【0032】以上の操作によって2分割光検出器7の検
出面7aの分割線7bと光ビーム20のスポットの中心
位置とを一致させた時点で、光検出器移動機構6に加え
られた制御信号を利用して、カンチレバー2のたわみ角
を精度よく安定して求めることができる。この他、2分
割光検出器7を連続周期的に移動(ウォブリング)させ
ておき、光ビーム20のスポットの中心が分割線7b上
に来たときのタイミングから、カンチレバー2のたわみ
角を求めてもよい。
出面7aの分割線7bと光ビーム20のスポットの中心
位置とを一致させた時点で、光検出器移動機構6に加え
られた制御信号を利用して、カンチレバー2のたわみ角
を精度よく安定して求めることができる。この他、2分
割光検出器7を連続周期的に移動(ウォブリング)させ
ておき、光ビーム20のスポットの中心が分割線7b上
に来たときのタイミングから、カンチレバー2のたわみ
角を求めてもよい。
【0033】以上説明したように、光ビーム20の中心
が常に2分割光検出器7の検出面7aの分割線7b上に
入射する条件下でカンチレバー2のたわみ角を求めるこ
とにより、光ビーム20の断面形状や検出面7a上での
スポット形状の変動によらずにカンチレバー2のたわみ
角を正確に求めることができる。その結果、試料30の
表面を精度よく安定に測定することができる。
が常に2分割光検出器7の検出面7aの分割線7b上に
入射する条件下でカンチレバー2のたわみ角を求めるこ
とにより、光ビーム20の断面形状や検出面7a上での
スポット形状の変動によらずにカンチレバー2のたわみ
角を正確に求めることができる。その結果、試料30の
表面を精度よく安定に測定することができる。
【0034】さらには、原子間力顕微鏡の原理を応用し
た情報処理装置においても、上述した構成を適用するこ
とによって、情報の記録、再生の精度を向上させること
ができるようになる。
た情報処理装置においても、上述した構成を適用するこ
とによって、情報の記録、再生の精度を向上させること
ができるようになる。
【0035】本実施例では、光検出器として2分割光検
出器7を用いた例を示したが、それに限らず、4分割光
検出器等の他の分割光検出器を始め、入射光の強度およ
び検出面上での入射位置が検出可能なものであれば、ど
のようなものを用いてもかまわない。また、光検出器移
動機構6としては、精度よく繰り返し動作できるもので
あればどのようなものを用いてもかまわないが、例えば
試料30の表面の凹凸を0.1nmオーダーで測定する
場合、用いるカンチレバー2の長さや光ビーム20の光
路長にもよるが、2分割光検出器7の移動量はサブミク
ロン・オーダーの精度で精密に制御できなければならな
い。従って、光検出器移動機構6のアクチュエータとし
ては、減速ギヤを有するステッピングモータや圧電素子
等を利用することが望ましい。さらに制御手段は、光検
出器移動機構6に加える制御信号を利用してカンチレバ
ー2のたわみ角を求めるものに限らず、光検出器の位置
を検出するためのエンコーダあるいは位置センサを備え
たものとし、光検出器の位置をエンコーダあるいは位置
センサにより直接検出してその値からカンチレバー2の
たわみ角を求めてもよい。
出器7を用いた例を示したが、それに限らず、4分割光
検出器等の他の分割光検出器を始め、入射光の強度およ
び検出面上での入射位置が検出可能なものであれば、ど
のようなものを用いてもかまわない。また、光検出器移
動機構6としては、精度よく繰り返し動作できるもので
あればどのようなものを用いてもかまわないが、例えば
試料30の表面の凹凸を0.1nmオーダーで測定する
場合、用いるカンチレバー2の長さや光ビーム20の光
路長にもよるが、2分割光検出器7の移動量はサブミク
ロン・オーダーの精度で精密に制御できなければならな
い。従って、光検出器移動機構6のアクチュエータとし
ては、減速ギヤを有するステッピングモータや圧電素子
等を利用することが望ましい。さらに制御手段は、光検
出器移動機構6に加える制御信号を利用してカンチレバ
ー2のたわみ角を求めるものに限らず、光検出器の位置
を検出するためのエンコーダあるいは位置センサを備え
たものとし、光検出器の位置をエンコーダあるいは位置
センサにより直接検出してその値からカンチレバー2の
たわみ角を求めてもよい。
【0036】なお、光学系の配置も図1に示した配置に
限定されるものではなく、基本的な動作が同じであれ
ば、これ以外の幾何学的配置を選んでもよいことはいう
までもない。
限定されるものではなく、基本的な動作が同じであれ
ば、これ以外の幾何学的配置を選んでもよいことはいう
までもない。
【0037】次に、本発明の実験例について述べる。本
実験例では、図1に示したカンチレバー2として、長さ
が100μmのSi製のものを用い、光源4にはビーム
径が30μmのHe−Neレーザー光を発するものを用
いた。また、カンチレバー2から2分割光検出器7まで
の光路長を2cmとした。さらに、光検出器移動機構6
には、アクチュエータとして圧電素子を備えたものを用
い、位置制御回路10により差動アンプ9からの差動出
力(V1 ーV2 )がゼロとなるように2分割光検出器7
の位置を制御し、このとき圧電素子に加えられた電圧
を、画像処理装置11を用いて試料30の表面の形状変
化として取り出すようにした。そして、試料30として
高配向グラファイトおよびマイカの表面を観察した結
果、ノイズの少ない良好な原子配列像を安定に得ること
ができた。
実験例では、図1に示したカンチレバー2として、長さ
が100μmのSi製のものを用い、光源4にはビーム
径が30μmのHe−Neレーザー光を発するものを用
いた。また、カンチレバー2から2分割光検出器7まで
の光路長を2cmとした。さらに、光検出器移動機構6
には、アクチュエータとして圧電素子を備えたものを用
い、位置制御回路10により差動アンプ9からの差動出
力(V1 ーV2 )がゼロとなるように2分割光検出器7
の位置を制御し、このとき圧電素子に加えられた電圧
を、画像処理装置11を用いて試料30の表面の形状変
化として取り出すようにした。そして、試料30として
高配向グラファイトおよびマイカの表面を観察した結
果、ノイズの少ない良好な原子配列像を安定に得ること
ができた。
【0038】また、上記実験例において、探針3の走査
中に、2分割光検出器7を周波数2kHz、振幅±2μ
mでウォブリングさせ、差動アンプ9からの差動出力
(V1−V2 )がゼロになったときのタイミングを、位
置制御回路10を介して取り出して、これを画像出力回
路11を用いて試料30の表面の形状変化に変換するよ
うにした。そして、試料30として高配向グラファイト
およびマイカの表面を観察した結果、上記実験例と同
様、ノイズの少ない良好な原子配列像を安定に得ること
ができた。
中に、2分割光検出器7を周波数2kHz、振幅±2μ
mでウォブリングさせ、差動アンプ9からの差動出力
(V1−V2 )がゼロになったときのタイミングを、位
置制御回路10を介して取り出して、これを画像出力回
路11を用いて試料30の表面の形状変化に変換するよ
うにした。そして、試料30として高配向グラファイト
およびマイカの表面を観察した結果、上記実験例と同
様、ノイズの少ない良好な原子配列像を安定に得ること
ができた。
【0039】一方、比較のために、2分割光検出器7の
位置を完全に固定したままで、差動アンプ9の出力を直
接、画像処理回路11を用いて試料30の表面の形状変
化として取り出すようにし、試料30として高配向グラ
ファイトおよびマイカの表面を観察した結果、上記各実
験例と比較して画像出力時にやや不安定性が見られ、繰
り返し走査時における出力像の再現性に若干の低下が認
められた。
位置を完全に固定したままで、差動アンプ9の出力を直
接、画像処理回路11を用いて試料30の表面の形状変
化として取り出すようにし、試料30として高配向グラ
ファイトおよびマイカの表面を観察した結果、上記各実
験例と比較して画像出力時にやや不安定性が見られ、繰
り返し走査時における出力像の再現性に若干の低下が認
められた。
【0040】
【発明の効果】本発明は以上説明したとおり構成されて
いるので、以下に記載する効果を奏する。
いるので、以下に記載する効果を奏する。
【0041】光ビームを発する光源と、カンチレバーで
反射された光ビームの光量および位置を検出する光検出
器とを備える光学系を有し、制御手段により光検出器を
移動させ、カンチレバーで反射された光ビームを光検出
器の所定の位置に入射させることで、光ビームの断面形
状等、光ビームに含まれる非本質的な変動成分に影響さ
れることなく、カンチレバーのたわみ角を光検出器の位
置から一義的に求めることができる。その結果、試料表
面状態の検出精度、および検出感度を向上させることが
できる。
反射された光ビームの光量および位置を検出する光検出
器とを備える光学系を有し、制御手段により光検出器を
移動させ、カンチレバーで反射された光ビームを光検出
器の所定の位置に入射させることで、光ビームの断面形
状等、光ビームに含まれる非本質的な変動成分に影響さ
れることなく、カンチレバーのたわみ角を光検出器の位
置から一義的に求めることができる。その結果、試料表
面状態の検出精度、および検出感度を向上させることが
できる。
【0042】カンチレバーのたわみ角は、カンチレバー
で反射された光ビームの光検出器への入射位置が変動し
た際に、入射位置の変動を打ち消す方向に光検出器を移
動させるように光検出器移動機構を制御し、カンチレバ
ーで反射された光ビームが光検出器の所定の位置に入射
したときの光検出器移動機構への制御信号に基づいて求
めたり、光検出器をウォブリングさせながら、カンチレ
バーで反射された光ビームが光検出器の所定の位置に入
射したときの光検出器移動機構への制御信号に基づいて
求めても、同様の効果が得られる。
で反射された光ビームの光検出器への入射位置が変動し
た際に、入射位置の変動を打ち消す方向に光検出器を移
動させるように光検出器移動機構を制御し、カンチレバ
ーで反射された光ビームが光検出器の所定の位置に入射
したときの光検出器移動機構への制御信号に基づいて求
めたり、光検出器をウォブリングさせながら、カンチレ
バーで反射された光ビームが光検出器の所定の位置に入
射したときの光検出器移動機構への制御信号に基づいて
求めても、同様の効果が得られる。
【図1】本発明の原子間力顕微鏡の一実施例の概略構成
図である。
図である。
【図2】図1に示した原子間力顕微鏡によりカンチレバ
ーの曲がり角を求める原理を説明するための図である。
ーの曲がり角を求める原理を説明するための図である。
【図3】従来の光てこ方式の原子間力顕微鏡のカンチレ
バー近傍の概略斜視図である。
バー近傍の概略斜視図である。
【図4】図3に示した原子間力顕微鏡において、カンチ
レバーのたわみ量を求める原理を説明するための図であ
る。
レバーのたわみ量を求める原理を説明するための図であ
る。
【図5】カンチレバーのたわみの変化に応じた、2分割
光検出器の検出面への光ビームの入射位置を示す図であ
る。
光検出器の検出面への光ビームの入射位置を示す図であ
る。
【図6】2分割光検出器の検出面へ入射する光ビームの
スポット形状が変化したときの、スポット面積比への影
響を説明するための図である。
スポット形状が変化したときの、スポット面積比への影
響を説明するための図である。
2 カンチレバー 3 探針 4 光源 6 光検出器移動機構 7 2分割光検出器 7a 検出面 7b 分割線 8 プリアンプ 9 差動アンプ 10 位置制御回路 11 画像処理回路 20 光ビーム 30 試料
Claims (8)
- 【請求項1】 先端が尖鋭な探針が試料に対向して一体
的に設けられたカンチレバーと、前記探針と前記試料と
を面方向に相対的に二次元走査させる走査手段と、前記
探針と前記試料表面との間に発生する原子間力により生
じる前記探針の上下動に伴う前記カンチレバーのたわみ
角を検出するための光学系とを有する、光てこ方式の原
子間力顕微鏡において、 前記光学系は、前記カンチレバーに向けて光ビームを発
する光源と、前記カンチレバーで反射された光ビームの
光量および位置を検出する光検出器とを備え、 前記光検出器を移動させる光検出器移動機構と、 前記光検出器駆動機構を駆動させて前記光検出器の位置
を制御し、前記カンチレバーで反射された光ビームが前
記光検出器の所定の位置に入射したときに、前記カンチ
レバーのたわみ角を検出する制御手段とを有することを
特徴とする原子間力顕微鏡。 - 【請求項2】 前記制御手段は、前記探針と前記試料と
の二次元走査中に、前記カンチレバーで反射された光ビ
ームの前記光検出器への入射位置が変動した際に、前記
入射位置の変動を打ち消す方向に前記光検出器を移動さ
せるように前記光検出器移動機構を制御し、前記カンチ
レバーで反射された光ビームが前記光検出器の所定の位
置に入射したときの前記光検出器移動機構への制御信号
に基づいて前記カンチレバーのたわみ角を検出するもの
である請求項1に記載の原子間力顕微鏡。 - 【請求項3】 前記光検出器ー移動機構は、前記光検出
器ーを連続周期的に変位可能なウォブリング機能を有す
る機構である請求項1に記載の原子間力顕微鏡。 - 【請求項4】 前記制御手段は、前記探針と前記試料と
の二次元走査中に前記光検出器移動機構により前記光検
出器をウォブリングさせながら、前記カンチレバーで反
射された光ビームが前記光検出器の所定の位置に入射し
たときの前記光検出器移動機構への制御信号に基づいて
前記カンチレバーのたわみ角を検出するものである請求
項3に記載の原子間力顕微鏡。 - 【請求項5】 前記光検出器が分割光検出器である請求
項1、2、3または4に記載の原子間力顕微鏡。 - 【請求項6】 前記分割光検出器の所定の位置が、前記
分割光検出器の分割線上にある請求項5に記載の原子間
力顕微鏡。 - 【請求項7】 前記分割光検出器が2分割光検出器であ
る請求項5または6に記載の原子間力顕微鏡。 - 【請求項8】 前記分割光検出器が4分割光検出器であ
る請求項5または6に記載の原子間力顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4415493A JPH06258068A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 原子間力顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4415493A JPH06258068A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 原子間力顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06258068A true JPH06258068A (ja) | 1994-09-16 |
Family
ID=12683711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4415493A Pending JPH06258068A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 原子間力顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06258068A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1300564C (zh) * | 2004-12-28 | 2007-02-14 | 天津大学 | 基于角度测量的原子力显微镜测量方法 |
| CN1300565C (zh) * | 2004-12-28 | 2007-02-14 | 天津大学 | 基于角度测量的原子力显微镜测量装置 |
| US9118331B2 (en) | 2013-01-18 | 2015-08-25 | National University Corporation Shizuoka University | Contact state detection apparatus |
-
1993
- 1993-03-04 JP JP4415493A patent/JPH06258068A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1300564C (zh) * | 2004-12-28 | 2007-02-14 | 天津大学 | 基于角度测量的原子力显微镜测量方法 |
| CN1300565C (zh) * | 2004-12-28 | 2007-02-14 | 天津大学 | 基于角度测量的原子力显微镜测量装置 |
| US9118331B2 (en) | 2013-01-18 | 2015-08-25 | National University Corporation Shizuoka University | Contact state detection apparatus |
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