JPH06260412A - シャワー型枚葉式現像装置 - Google Patents
シャワー型枚葉式現像装置Info
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- JPH06260412A JPH06260412A JP5043732A JP4373293A JPH06260412A JP H06260412 A JPH06260412 A JP H06260412A JP 5043732 A JP5043732 A JP 5043732A JP 4373293 A JP4373293 A JP 4373293A JP H06260412 A JPH06260412 A JP H06260412A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】現像液の乾燥むらを防止しながらもワークによ
る現像液の持ち出し量を極力少なくすることにより、コ
ストメリットを充分に引き出す。 【構成】現像処理室ａにワークｗを通し現像液シャワー
ノズル４から現像液を噴霧してワークｗを現像処理す
る。現像液は現像処理室ａから現像液タンク１に還流し
繰り返し使用する。現像処理室ａから搬出されたワーク
ｗはＮ2 ナイフ７で現像液の液切りが行われる。水洗室
ｃに至るまでのニュートラルｂにおいて液切りの瞬間か
ら高速搬送して現像ストップ水洗ノズル１７に１秒以内
に到達させ、現像ストップ水洗ノズル１７からの純水噴
射により液切り後の現像液の凹凸を平坦化するとともに
現像を強制的にストップさせる。
る現像液の持ち出し量を極力少なくすることにより、コ
ストメリットを充分に引き出す。 【構成】現像処理室ａにワークｗを通し現像液シャワー
ノズル４から現像液を噴霧してワークｗを現像処理す
る。現像液は現像処理室ａから現像液タンク１に還流し
繰り返し使用する。現像処理室ａから搬出されたワーク
ｗはＮ2 ナイフ７で現像液の液切りが行われる。水洗室
ｃに至るまでのニュートラルｂにおいて液切りの瞬間か
ら高速搬送して現像ストップ水洗ノズル１７に１秒以内
に到達させ、現像ストップ水洗ノズル１７からの純水噴
射により液切り後の現像液の凹凸を平坦化するとともに
現像を強制的にストップさせる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶パネルなどのワー
クに対して微細なパターニングを行うフォトリソグラフ
ィ工程において使用されるシャワー型枚葉式現像装置に
関する。
クに対して微細なパターニングを行うフォトリソグラフ
ィ工程において使用されるシャワー型枚葉式現像装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルの製造工程で使用される現像
装置としては、コストメリットのあるシャワー型枚葉式
現像装置が一般的である。それは、枚葉式であるため現
像前後の工程に対してインラインでつなぐことが容易で
あり、また、シャワー型によって現像液を繰り返し使用
するのでコスト的に有利となっている。
装置としては、コストメリットのあるシャワー型枚葉式
現像装置が一般的である。それは、枚葉式であるため現
像前後の工程に対してインラインでつなぐことが容易で
あり、また、シャワー型によって現像液を繰り返し使用
するのでコスト的に有利となっている。
【０００３】図３は従来のシャワー型枚葉式現像装置の
概略的構成を示す断面図である。図３において、ａは現
像処理室、ｂはニュートラル、ｃは水洗室、ｄは乾燥室
である。１は現像液タンク、２は現像液供給パイプ、３
はポンプ、４は現像処理室ａ内に複数個配列された現像
液シャワーノズル、５は現像液還流パイプ、６は搬送装
置、７は現像処理室ａの出口に配置されたＮ2 ナイフ、
８はニュートラルｂに設けられた搬送装置、９は洗浄液
供給パイプ、１０は水洗室ｃ内に複数個配列された洗浄
液シャワーノズル、１１は排水パイプ、１２は搬送装
置、１３，１４は乾燥室ｄ内に設けられたエアーナイ
フ、１５は水洗室ｃからの排水パイプ１１に合流する排
水パイプ、１６は搬送装置である。
概略的構成を示す断面図である。図３において、ａは現
像処理室、ｂはニュートラル、ｃは水洗室、ｄは乾燥室
である。１は現像液タンク、２は現像液供給パイプ、３
はポンプ、４は現像処理室ａ内に複数個配列された現像
液シャワーノズル、５は現像液還流パイプ、６は搬送装
置、７は現像処理室ａの出口に配置されたＮ2 ナイフ、
８はニュートラルｂに設けられた搬送装置、９は洗浄液
供給パイプ、１０は水洗室ｃ内に複数個配列された洗浄
液シャワーノズル、１１は排水パイプ、１２は搬送装
置、１３，１４は乾燥室ｄ内に設けられたエアーナイ
フ、１５は水洗室ｃからの排水パイプ１１に合流する排
水パイプ、１６は搬送装置である。
【０００４】ポンプ３を駆動することによって現像液タ
ンク１から現像液供給パイプ２を介して現像液シャワー
ノズル４に現像液をポンプアップし、搬送装置６上のワ
ーク（基板）ｗに対して現像液シャワーノズル４より現
像液を噴霧供給する。現像液が供給されたワークｗは、
現像処理が行われながら、搬送装置６によって現像処理
室ａの出口より搬出される。現像処理室ａの出口の近傍
に配置されているＮ2ナイフ７によってワークｗ上の現
像液を液切りし、現像処理室ａからの現像液の持ち出し
量を制限する。シャワーノズル４から噴霧されたがワー
クｗに乗らなかった現像液やワークｗ上から滴下した現
像液およびＮ2 ナイフ７によって液切りされた現像液は
現像処理室ａの底部に至り、現像液還流パイプ５を介し
て現像液タンク１に戻り、繰り返し使用される。これが
コストメリットの一助となっている。
ンク１から現像液供給パイプ２を介して現像液シャワー
ノズル４に現像液をポンプアップし、搬送装置６上のワ
ーク（基板）ｗに対して現像液シャワーノズル４より現
像液を噴霧供給する。現像液が供給されたワークｗは、
現像処理が行われながら、搬送装置６によって現像処理
室ａの出口より搬出される。現像処理室ａの出口の近傍
に配置されているＮ2ナイフ７によってワークｗ上の現
像液を液切りし、現像処理室ａからの現像液の持ち出し
量を制限する。シャワーノズル４から噴霧されたがワー
クｗに乗らなかった現像液やワークｗ上から滴下した現
像液およびＮ2 ナイフ７によって液切りされた現像液は
現像処理室ａの底部に至り、現像液還流パイプ５を介し
て現像液タンク１に戻り、繰り返し使用される。これが
コストメリットの一助となっている。
【０００５】Ｎ2 ナイフ７により液切りされたワークｗ
はニュートラルｂにおいて搬送装置８により水洗室ｃに
向けて搬送される間に、その上の現像液が乾燥する。ワ
ークｗは搬送装置８から搬送装置１２に受け継がれて水
洗室ｃ内に入る。洗浄液供給パイプ９から洗浄液として
純水が供給され、水洗室ｃ内において洗浄液シャワーノ
ズル１０からワークｗに向けて噴射され、ワークｗ上の
不要成分・汚れ成分を洗浄除去する。洗浄後の液は排水
パイプ１１を介して排水される。ワークｗは、さらに搬
送装置１２から搬送装置１６へと受け渡され乾燥室ｄに
至り、エアーナイフ１３，１４によってワークｗ上の洗
浄液が吹き飛ばされ乾燥される。吹き飛ばされた洗浄液
は排水パイプ１５を介して排水される。乾燥されたワー
クｗは図示しないベーク炉へと搬送される。
はニュートラルｂにおいて搬送装置８により水洗室ｃに
向けて搬送される間に、その上の現像液が乾燥する。ワ
ークｗは搬送装置８から搬送装置１２に受け継がれて水
洗室ｃ内に入る。洗浄液供給パイプ９から洗浄液として
純水が供給され、水洗室ｃ内において洗浄液シャワーノ
ズル１０からワークｗに向けて噴射され、ワークｗ上の
不要成分・汚れ成分を洗浄除去する。洗浄後の液は排水
パイプ１１を介して排水される。ワークｗは、さらに搬
送装置１２から搬送装置１６へと受け渡され乾燥室ｄに
至り、エアーナイフ１３，１４によってワークｗ上の洗
浄液が吹き飛ばされ乾燥される。吹き飛ばされた洗浄液
は排水パイプ１５を介して排水される。乾燥されたワー
クｗは図示しないベーク炉へと搬送される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】現像処理室ａからワー
クｗに乗って室外へ出ようとする現像液の持ち出し量の
制限を行うためのＮ2 ナイフ７の条件は、その設定が非
常にむずかしい。Ｎ2 ナイフ７の噴射圧力が例えば０．
１〜０．１５ｋｇ／ｍ2 程度に高いと（Ｎ2 流量が大き
いと）、ワークｗ上の現像液が不均一に乾燥し、乾燥む
らが生じるため、製品歩留まりが悪いものとなる。この
乾燥むらは、次工程の水洗によっても除去することがで
きない。
クｗに乗って室外へ出ようとする現像液の持ち出し量の
制限を行うためのＮ2 ナイフ７の条件は、その設定が非
常にむずかしい。Ｎ2 ナイフ７の噴射圧力が例えば０．
１〜０．１５ｋｇ／ｍ2 程度に高いと（Ｎ2 流量が大き
いと）、ワークｗ上の現像液が不均一に乾燥し、乾燥む
らが生じるため、製品歩留まりが悪いものとなる。この
乾燥むらは、次工程の水洗によっても除去することがで
きない。
【０００７】そこで、従来例においては通常、Ｎ2 ナイ
フ７の噴射圧力（Ｎ2 流量）を例えば０．０２〜０．０
５ｋｇ／ｍ2 程度とかなり低めに設定してある。そうす
ると、ワークｗ上での現像液に凹凸が生じにくく乾燥む
らの発生が抑制される。しかしながら、ワークｗによる
現像液の持ち出し量が増大することになり、現像液の繰
り返し使用というコストメリットがなくなってしまう。
また、現像液タンク１を交換する回数も増え、作業効率
の面でも好ましくない。
フ７の噴射圧力（Ｎ2 流量）を例えば０．０２〜０．０
５ｋｇ／ｍ2 程度とかなり低めに設定してある。そうす
ると、ワークｗ上での現像液に凹凸が生じにくく乾燥む
らの発生が抑制される。しかしながら、ワークｗによる
現像液の持ち出し量が増大することになり、現像液の繰
り返し使用というコストメリットがなくなってしまう。
また、現像液タンク１を交換する回数も増え、作業効率
の面でも好ましくない。
【０００８】例えば、ワークｗのサイズを３００ｍｍ×
４００ｍｍとすると、従来例では、Ｎ2 ナイフ７の噴射
圧力が０．０２〜０．０５ｋｇ／ｍ2 程度と低いため
に、ワークｗによる現像液の持ち出し量が１５０〜３０
０ｍｌにもなっていた。１枚当たりのワークｗによる持
ち出し量が１５０〜３００ｍｌもあると、現像液タンク
１内の現像液が減少する速度も速くなり、新液に交換す
る頻度も高くならざるを得ない。例えば１２０リットル
の現像液タンクの場合、ポンプ３の保護のために６０リ
ットルほどの残留が最低限必要となり、残りの使用可能
量は６０リットルとなる。すると、１つの現像液タンク
１で現像処理できるワークｗの枚数は、６０×１０００
÷３００から６０×１０００÷１５０で、２００〜４０
０枚となる。これではシャワー型枚葉式現像装置のコス
トメリットが充分に活かされているとはいいがたい。コ
ストメリットを充分に発揮させるには、６０リットルの
現像液でせめて１０００枚以上は処理したいところであ
る。
４００ｍｍとすると、従来例では、Ｎ2 ナイフ７の噴射
圧力が０．０２〜０．０５ｋｇ／ｍ2 程度と低いため
に、ワークｗによる現像液の持ち出し量が１５０〜３０
０ｍｌにもなっていた。１枚当たりのワークｗによる持
ち出し量が１５０〜３００ｍｌもあると、現像液タンク
１内の現像液が減少する速度も速くなり、新液に交換す
る頻度も高くならざるを得ない。例えば１２０リットル
の現像液タンクの場合、ポンプ３の保護のために６０リ
ットルほどの残留が最低限必要となり、残りの使用可能
量は６０リットルとなる。すると、１つの現像液タンク
１で現像処理できるワークｗの枚数は、６０×１０００
÷３００から６０×１０００÷１５０で、２００〜４０
０枚となる。これではシャワー型枚葉式現像装置のコス
トメリットが充分に活かされているとはいいがたい。コ
ストメリットを充分に発揮させるには、６０リットルの
現像液でせめて１０００枚以上は処理したいところであ
る。
【０００９】本発明は、このような事情に鑑みて創案さ
れたものであって、現像液の乾燥むらを防止しながらも
ワークによる現像液の持ち出し量を極力少なくすること
により、コストメリットを充分に引き出すことができる
ようにすることを目的とする。
れたものであって、現像液の乾燥むらを防止しながらも
ワークによる現像液の持ち出し量を極力少なくすること
により、コストメリットを充分に引き出すことができる
ようにすることを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係るシャワー型
枚葉式現像装置は、ワークに対して現像液を噴霧する現
像液シャワーノズルを設けた現像処理室と、この現像処
理室の出口近傍でワーク上の現像液の液切りを行うガス
流ナイフと、液切り乾燥後のワークに対して洗浄液を噴
射する洗浄液シャワーノズルを設けた水洗室と、前記現
像処理室と前記水洗室との間に形成され前記ガス流ナイ
フを配置しているニュートラルとを備えたシャワー型枚
葉式現像装置において、前記ニュートラルの部分に前記
液切り直後のワークに対して純水噴射により現像強制停
止を行う現像ストップ水洗ノズルを配置してあることを
特徴とするものである。
枚葉式現像装置は、ワークに対して現像液を噴霧する現
像液シャワーノズルを設けた現像処理室と、この現像処
理室の出口近傍でワーク上の現像液の液切りを行うガス
流ナイフと、液切り乾燥後のワークに対して洗浄液を噴
射する洗浄液シャワーノズルを設けた水洗室と、前記現
像処理室と前記水洗室との間に形成され前記ガス流ナイ
フを配置しているニュートラルとを備えたシャワー型枚
葉式現像装置において、前記ニュートラルの部分に前記
液切り直後のワークに対して純水噴射により現像強制停
止を行う現像ストップ水洗ノズルを配置してあることを
特徴とするものである。
【００１１】なお、前記現像ストップ水洗ノズルによる
ワークへの純水噴射のタイミングは、ガス流ナイフによ
る液切りの瞬間から１秒以内が好ましく、そのようにな
るように、現像ストップ水洗ノズルの位置やワークの搬
送速度を設定するのがよい。
ワークへの純水噴射のタイミングは、ガス流ナイフによ
る液切りの瞬間から１秒以内が好ましく、そのようにな
るように、現像ストップ水洗ノズルの位置やワークの搬
送速度を設定するのがよい。
【００１２】
【作用】ガス流ナイフの噴射圧力が低いとワーク上の現
像液は平坦であるが持ち出し量が多くなる。ガス流ナイ
フの噴射圧力が高いとワークによる現像液の持ち出し量
は少なくなるがワーク上の現像液に凹凸ができて乾燥む
らが生じやすい。本発明で新たに設けた現像ストップ水
洗ノズルから、ガス流ナイフによる液切り後のワーク上
現像液に純水を噴射することにより、現像液の凹凸を平
坦化しつつ現像を強制的に停止させるのであるが、その
純水噴射のタイミングが遅いと凹凸が固まった状態で乾
燥してしまう。凹凸が固まらないうちに、すなわち、ガ
ス流ナイフによる現像液の液切り直後に純水噴射を行う
ので、凹凸が平坦化されるのである。言い換えると、ガ
ス流ナイフの噴射圧力を高くして現像液に凹凸が生じて
も速やかなる純水噴射により凹凸は解消される。そし
て、ガス流ナイフの噴射圧力を高くすることによりワー
クによる現像液の持ち出し量が少なくなるのである。
像液は平坦であるが持ち出し量が多くなる。ガス流ナイ
フの噴射圧力が高いとワークによる現像液の持ち出し量
は少なくなるがワーク上の現像液に凹凸ができて乾燥む
らが生じやすい。本発明で新たに設けた現像ストップ水
洗ノズルから、ガス流ナイフによる液切り後のワーク上
現像液に純水を噴射することにより、現像液の凹凸を平
坦化しつつ現像を強制的に停止させるのであるが、その
純水噴射のタイミングが遅いと凹凸が固まった状態で乾
燥してしまう。凹凸が固まらないうちに、すなわち、ガ
ス流ナイフによる現像液の液切り直後に純水噴射を行う
ので、凹凸が平坦化されるのである。言い換えると、ガ
ス流ナイフの噴射圧力を高くして現像液に凹凸が生じて
も速やかなる純水噴射により凹凸は解消される。そし
て、ガス流ナイフの噴射圧力を高くすることによりワー
クによる現像液の持ち出し量が少なくなるのである。
【００１３】
【実施例】以下、本発明に係るシャワー型枚葉式現像装
置の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
置の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１４】図１は実施例のシャワー型枚葉式現像装置
の概略的構成を示す垂直断面図である。現像処理室ａと
ニュートラルｂと水洗室ｃと乾燥室ｄとがこの順に配置
されている。現像処理室ａの下方に現像液タンク１が配
置され、現像液タンク１から延出された現像液供給パイ
プ２の途中にポンプ３が介在されている。現像液供給パ
イプ２は現像処理室ａ内に導かれ、現像処理室ａ内に配
置された複数個の現像液シャワーノズル４に連通接続さ
れている。現像処理室ａの底部と現像液タンク１とが現
像液還流パイプ５で接続されている。現像液シャワーノ
ズル４の下方において現像処理室ａ内に搬送装置６が設
けられている。各シャワーノズル４は搬送方向に対して
直角な水平姿勢に配列され、その長手方向に多数の噴射
孔（図示せず）が形成されている。
の概略的構成を示す垂直断面図である。現像処理室ａと
ニュートラルｂと水洗室ｃと乾燥室ｄとがこの順に配置
されている。現像処理室ａの下方に現像液タンク１が配
置され、現像液タンク１から延出された現像液供給パイ
プ２の途中にポンプ３が介在されている。現像液供給パ
イプ２は現像処理室ａ内に導かれ、現像処理室ａ内に配
置された複数個の現像液シャワーノズル４に連通接続さ
れている。現像処理室ａの底部と現像液タンク１とが現
像液還流パイプ５で接続されている。現像液シャワーノ
ズル４の下方において現像処理室ａ内に搬送装置６が設
けられている。各シャワーノズル４は搬送方向に対して
直角な水平姿勢に配列され、その長手方向に多数の噴射
孔（図示せず）が形成されている。
【００１５】ニュートラルｂにおいて現像処理室ａの出
口の近傍にＮ2 ナイフ７が配置されている。現像処理室
ａの出口から水洗室ｃの入口までワークｗを搬送するた
めの搬送装置８がニュートラルｂに設けられている。
口の近傍にＮ2 ナイフ７が配置されている。現像処理室
ａの出口から水洗室ｃの入口までワークｗを搬送するた
めの搬送装置８がニュートラルｂに設けられている。
【００１６】水洗室ｃの内部に向けて純水を供給する洗
浄液供給パイプ９が延出され、水洗室ｃ内の上下にそれ
ぞれ複数個配置された洗浄液シャワーノズル１０に洗浄
液供給パイプ９が連通接続されている。水洗室ｃの底部
からは排水パイプ１１が延出されている。水洗室ｃの内
部の上下中間位置に搬送装置１２が設けられている。
浄液供給パイプ９が延出され、水洗室ｃ内の上下にそれ
ぞれ複数個配置された洗浄液シャワーノズル１０に洗浄
液供給パイプ９が連通接続されている。水洗室ｃの底部
からは排水パイプ１１が延出されている。水洗室ｃの内
部の上下中間位置に搬送装置１２が設けられている。
【００１７】乾燥室ｄの内部にエアーナイフ１３，１４
が設けられ、乾燥室ｄの底部から延出された排水パイプ
１５が水洗室ｃからの排水パイプ１１に合流接続されて
いる。
が設けられ、乾燥室ｄの底部から延出された排水パイプ
１５が水洗室ｃからの排水パイプ１１に合流接続されて
いる。
【００１８】乾燥室ｄの内部に搬送装置１６が設けられ
ている。
ている。
【００１９】以上の構成は従来例と同様であるが、さら
に加えて、ニュートラルｂの部分において、Ｎ2 ナイフ
７による現像液の液切り直後のワークｗに対して純水を
噴射して現像強制停止を行う現像ストップ水洗ノズル１
７が配置されている。この現像ストップ水洗ノズル１７
は、図２に示すように、パイプ状のノズル本体１７ａの
底面部においてその長手方向に一定のピッチで多数の噴
射孔１７ｂを形成したものであり、ノズル本体１７ａの
一端から純水供給パイプ１８が延出されている。この純
水供給パイプ１８と洗浄液供給パイプ９とは同じ供給源
に接続されている。ノズル本体１７ａは搬送装置８に対
して直角な姿勢で配設されている。
に加えて、ニュートラルｂの部分において、Ｎ2 ナイフ
７による現像液の液切り直後のワークｗに対して純水を
噴射して現像強制停止を行う現像ストップ水洗ノズル１
７が配置されている。この現像ストップ水洗ノズル１７
は、図２に示すように、パイプ状のノズル本体１７ａの
底面部においてその長手方向に一定のピッチで多数の噴
射孔１７ｂを形成したものであり、ノズル本体１７ａの
一端から純水供給パイプ１８が延出されている。この純
水供給パイプ１８と洗浄液供給パイプ９とは同じ供給源
に接続されている。ノズル本体１７ａは搬送装置８に対
して直角な姿勢で配設されている。
【００２０】なお、現像ストップ水洗ノズル１７のサイ
ズについて一例を挙げると、噴射孔１７ｂの直径は１ｍ
ｍ程度、ピッチは５ｍｍ程度であり全体にわたって均等
である。噴射圧力については６ｋｇ／ｍ2 程度が好まし
い。
ズについて一例を挙げると、噴射孔１７ｂの直径は１ｍ
ｍ程度、ピッチは５ｍｍ程度であり全体にわたって均等
である。噴射圧力については６ｋｇ／ｍ2 程度が好まし
い。
【００２１】現像ストップ水洗ノズル１７の配設位置
は、それから噴射される純水が現像処理室ａ内に流れ込
まないように、Ｎ2 ナイフ７からある程度離しておくこ
とが必要である。その距離としては１００ｍｍ程度であ
る。そして、Ｎ2 ナイフ７によりワークｗ上の現像液が
液切りされてから１秒以内にワークｗ上の現像液に対し
て現像ストップ水洗ノズル１７から純水を噴射すること
が望ましく、そのためには、搬送装置８によるワークｗ
の搬送速度を、通常の６００ｍｍ／ｍｉｎの１０倍の６
０００ｍｍ／ｍｉｎ程度に設定しておくのがよい。
は、それから噴射される純水が現像処理室ａ内に流れ込
まないように、Ｎ2 ナイフ７からある程度離しておくこ
とが必要である。その距離としては１００ｍｍ程度であ
る。そして、Ｎ2 ナイフ７によりワークｗ上の現像液が
液切りされてから１秒以内にワークｗ上の現像液に対し
て現像ストップ水洗ノズル１７から純水を噴射すること
が望ましく、そのためには、搬送装置８によるワークｗ
の搬送速度を、通常の６００ｍｍ／ｍｉｎの１０倍の６
０００ｍｍ／ｍｉｎ程度に設定しておくのがよい。
【００２２】次に、以上のように構成されたシャワー型
枚葉式現像装置の動作を説明する。
枚葉式現像装置の動作を説明する。
【００２３】ポンプ３を駆動すると現像液タンク１の現
像液が現像液供給パイプ２を介して現像液シャワーノズ
ル４にポンプアップされ、搬送装置６上のワーク（液晶
パネルの基板）ｗに対してシャワーノズル４より現像液
が噴霧される。現像液の供給によって現像処理が行われ
るワークｗは、搬送装置６によって現像処理室ａの出口
より搬出され、Ｎ2 ナイフ７によってワーク上の現像液
の液切りが行われる。
像液が現像液供給パイプ２を介して現像液シャワーノズ
ル４にポンプアップされ、搬送装置６上のワーク（液晶
パネルの基板）ｗに対してシャワーノズル４より現像液
が噴霧される。現像液の供給によって現像処理が行われ
るワークｗは、搬送装置６によって現像処理室ａの出口
より搬出され、Ｎ2 ナイフ７によってワーク上の現像液
の液切りが行われる。
【００２４】Ｎ2 ナイフ７の噴射圧力は０．１〜０．１
５ｋｇ／ｍ2 程度と従来例に比べてかなり高めに設定さ
れている。したがって、ワークｗによる現像処理室ａか
らの現像液の持ち出し量は少なくなる。具体的には、１
枚当たりの持ち出し量が従来例の場合に１５０〜３００
ｍｌであったのに対して、本発明実施例の場合には４０
〜５０ｍｌと大幅に減少し、シャワー型枚葉式現像装置
の本来の利点であるコストメリットを充分に引き出すこ
とができる。
５ｋｇ／ｍ2 程度と従来例に比べてかなり高めに設定さ
れている。したがって、ワークｗによる現像処理室ａか
らの現像液の持ち出し量は少なくなる。具体的には、１
枚当たりの持ち出し量が従来例の場合に１５０〜３００
ｍｌであったのに対して、本発明実施例の場合には４０
〜５０ｍｌと大幅に減少し、シャワー型枚葉式現像装置
の本来の利点であるコストメリットを充分に引き出すこ
とができる。
【００２５】そして、Ｎ2 ナイフ７によって現像液の液
切りが行われたワークｗは、搬送装置８によって６００
０ｍｍ／ｍｉｎ＝１００ｍｍ／ｓｅｃという高速でニュ
ートラルｂ中を水洗室ｃに向けて搬送される。その搬送
途中において、ワークｗは現像ストップ水洗ノズル１７
の純水噴射箇所に至る。Ｎ2 ナイフ７から現像ストップ
水洗ノズル１７までの距離を１００ｍｍ以内とすると、
ワークｗは液切り後１秒以内で純水噴射を受けることに
なる。ワークｗ上の現像液は噴射された純水により平坦
化される。すなわち、Ｎ2 ナイフ７の噴射圧力が０．１
〜０．１５ｋｇ／ｍ2 程度と比較的高いのでワークｗ上
の現像液に凹凸ができやすいが、そのワークｗを１秒以
内という短時間のうちに純水に当てるため、凹凸を素早
く平坦化し、かつ、現像を強制的にストップさせること
ができ、平坦化した状態で現像液を固めてしまうので乾
燥むらをなくすことができるのである。
切りが行われたワークｗは、搬送装置８によって６００
０ｍｍ／ｍｉｎ＝１００ｍｍ／ｓｅｃという高速でニュ
ートラルｂ中を水洗室ｃに向けて搬送される。その搬送
途中において、ワークｗは現像ストップ水洗ノズル１７
の純水噴射箇所に至る。Ｎ2 ナイフ７から現像ストップ
水洗ノズル１７までの距離を１００ｍｍ以内とすると、
ワークｗは液切り後１秒以内で純水噴射を受けることに
なる。ワークｗ上の現像液は噴射された純水により平坦
化される。すなわち、Ｎ2 ナイフ７の噴射圧力が０．１
〜０．１５ｋｇ／ｍ2 程度と比較的高いのでワークｗ上
の現像液に凹凸ができやすいが、そのワークｗを１秒以
内という短時間のうちに純水に当てるため、凹凸を素早
く平坦化し、かつ、現像を強制的にストップさせること
ができ、平坦化した状態で現像液を固めてしまうので乾
燥むらをなくすことができるのである。
【００２６】現像液の固まったワークｗは搬送装置１２
に受け継がれて水洗室ｃ内に入り、洗浄液シャワーノズ
ル１０からの純水噴射によりワークｗ上の不要成分・汚
れ成分が除去洗浄される。そして、乾燥室ｄにおいてエ
アーナイフ１３，１４によって乾燥され、図示しないベ
ーク炉へ搬送される。
に受け継がれて水洗室ｃ内に入り、洗浄液シャワーノズ
ル１０からの純水噴射によりワークｗ上の不要成分・汚
れ成分が除去洗浄される。そして、乾燥室ｄにおいてエ
アーナイフ１３，１４によって乾燥され、図示しないベ
ーク炉へ搬送される。
【００２７】いま、現像液タンク１の容量が１２０リッ
トルであるとし、ポンプ３の保護のために６０リットル
は残留が必要であるとする。使用可能な現像液の量は６
０リットルとなるが、ワークｗの１枚当たりの現像液の
持ち出し量が４０〜５０ｍｌ程度と大幅に減少したの
で、６０リットルの現像液による処理枚数は１２００〜
１５００枚となり、持ち出し量が１５０〜３００ｍｌで
あり処理枚数が２００〜４００枚であった従来例に比べ
て、処理枚数が大幅に増大する。また、新液の交換の頻
度が著しく少なくなり、作業効率もアップする。
トルであるとし、ポンプ３の保護のために６０リットル
は残留が必要であるとする。使用可能な現像液の量は６
０リットルとなるが、ワークｗの１枚当たりの現像液の
持ち出し量が４０〜５０ｍｌ程度と大幅に減少したの
で、６０リットルの現像液による処理枚数は１２００〜
１５００枚となり、持ち出し量が１５０〜３００ｍｌで
あり処理枚数が２００〜４００枚であった従来例に比べ
て、処理枚数が大幅に増大する。また、新液の交換の頻
度が著しく少なくなり、作業効率もアップする。
【００２８】また、薄膜トランジスタ型液晶パネルでの
各種配設のパターニングにおいてワーク（半導体基板）
のサイズが大きくなると液切り後の現像液の凹凸も大き
くなるが、これに対しても本発明は充分に対処すること
ができ、乾燥むらのない均一な現像が可能となる。
各種配設のパターニングにおいてワーク（半導体基板）
のサイズが大きくなると液切り後の現像液の凹凸も大き
くなるが、これに対しても本発明は充分に対処すること
ができ、乾燥むらのない均一な現像が可能となる。
【００２９】尚、Ｎ2 ナイフ以外に必要に応じてＨ2 ナ
イフ、Ｏ2 ナイフ、Ａｒナイフその他の流体ガスを用い
ることもできる。
イフ、Ｏ2 ナイフ、Ａｒナイフその他の流体ガスを用い
ることもできる。
【００３０】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、ニュー
トラルに設けた現像ストップ水洗ノズルから液切り直後
のワーク上の現像液に対して純水噴射して現像を強制停
止させるように構成したので、ガス流ナイフの噴射圧力
を高くすることにより、現像液の乾燥むらを防止しつつ
ワークによる現像液の持ち出し量を極力少なくすること
ができ、コストメリットを充分に活かすことができる。
トラルに設けた現像ストップ水洗ノズルから液切り直後
のワーク上の現像液に対して純水噴射して現像を強制停
止させるように構成したので、ガス流ナイフの噴射圧力
を高くすることにより、現像液の乾燥むらを防止しつつ
ワークによる現像液の持ち出し量を極力少なくすること
ができ、コストメリットを充分に活かすことができる。
【図１】本発明の一実施例に係るシャワー型枚葉式現像
装置の概略的構成を示す垂直断面図である。
装置の概略的構成を示す垂直断面図である。
【図２】実施例における現像ストップ水洗ノズルを示す
斜視図である。
斜視図である。
【図３】従来例に係るシャワー型枚葉式現像装置の概略
的構成を示す垂直断面図である。
的構成を示す垂直断面図である。
ａ……現像処理室 ｂ……ニュートラル ｃ……水洗室 ｄ……乾燥室 ｗ……ワーク １……現像液タンク ２……現像液供給パイプ ３……ポンプ ４……現像液シャワーノズル ５……現像液還流パイプ ７……Ｎ2 ナイフ １０……洗浄液シャワーノズル １３……エアーナイフ １４……エアーナイフ １７……現像ストップ水洗ノズル １７ａ……ノズル本体 １７ｂ……噴射孔 １８……純水供給パイプ
Claims (3)
- 【請求項１】 ワークに対して現像液を噴霧する現像液
シャワーノズルを設けた現像処理室と、この現像処理室
の出口近傍でワーク上の現像液の液切りを行うガス流ナ
イフと、液切り乾燥後のワークに対して洗浄液を噴射す
る洗浄液シャワーノズルを設けた水洗室と、前記現像処
理室と前記水洗室との間に形成され前記ガス流ナイフを
配置しているニュートラルとを備えたシャワー型枚葉式
現像装置において、前記ニュートラルの部分に前記液切
り直後のワークに対して純水噴射により現像強制停止を
行う現像ストップ水洗ノズルを配置してあることを特徴
とするシャワー型枚葉式現像装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の現像装置において、現
像ストップ水洗ノズルの位置およびワークの搬送速度
を、前記現像ストップ水洗ノズルによるワークへの純水
噴射のタイミングがガス流ナイフによる液切りの瞬間か
ら１秒以内となるように設定してあることを特徴とする
シャワー型枚葉式現像装置。 - 【請求項３】 前記ガス流ナイフが、Ｎ2 ナイフである
請求項第１項または第２項に記載のシャワー型枚葉式現
像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5043732A JPH06260412A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | シャワー型枚葉式現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5043732A JPH06260412A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | シャワー型枚葉式現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06260412A true JPH06260412A (ja) | 1994-09-16 |
Family
ID=12671961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5043732A Pending JPH06260412A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | シャワー型枚葉式現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06260412A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08108131A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学反応装置とその運転方法 |
| KR20010035012A (ko) * | 2000-10-07 | 2001-05-07 | 김동관 | 에칭 후처리 시스템 및 그 장치 |
| JP2005251544A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Toray Ind Inc | パターンの形成方法、パターンの形成装置およびプラズマディスプレイ用部材の製造方法 |
| US7018481B2 (en) | 2002-01-28 | 2006-03-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate treating method, substrate-processing apparatus, developing method, method of manufacturing a semiconductor device, and method of cleaning a developing solution nozzle |
| JP2008219043A (ja) * | 2001-07-05 | 2008-09-18 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
-
1993
- 1993-03-04 JP JP5043732A patent/JPH06260412A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08108131A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学反応装置とその運転方法 |
| KR20010035012A (ko) * | 2000-10-07 | 2001-05-07 | 김동관 | 에칭 후처리 시스템 및 그 장치 |
| JP2008219043A (ja) * | 2001-07-05 | 2008-09-18 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
| US7018481B2 (en) | 2002-01-28 | 2006-03-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate treating method, substrate-processing apparatus, developing method, method of manufacturing a semiconductor device, and method of cleaning a developing solution nozzle |
| US7669608B2 (en) | 2002-01-28 | 2010-03-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate treating method, substrate-processing apparatus, developing method, method of manufacturing a semiconductor device, and method of cleaning a developing solution nozzle |
| JP2005251544A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Toray Ind Inc | パターンの形成方法、パターンの形成装置およびプラズマディスプレイ用部材の製造方法 |
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