JPH10128256A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
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- 238000005406 washing Methods 0.000 title abstract description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 80
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 70
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 6
- 238000000861 blow drying Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 210000001015 abdomen Anatomy 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000746 Structural steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 235000000396 iron Nutrition 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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Abstract
を短くすることを達成し、しかも、コストが安く済み、
被洗浄物にダメージを与える懸念がない超音波洗浄装置
を提供すること。 【解決手段】 下側貯留槽3の上に上側貯留槽5を設
け、該上側貯留槽内に負圧を与えて洗浄用流体1を吸い
上げた状態とし、以て、被洗浄物40を振動子6、8間
に搬入するに要する傾斜部分4a、4bの長さを短く
し、上記の効果を得ている。
Description
てシリコンウェーハ等の洗浄に供されて好適な超音波洗
浄装置に関する。
図5及び図6に夫々示すものが知られている。これらの
装置は、例えば特公平4−176379号公報において
基本的構成が開示されている。
101を貯留する貯留槽102と、該貯留槽102内に
上下に対向して配置された一対の振動子104と、被洗
浄物105を保持して該洗浄用流体101に浸漬せしめ
るべく搬送するコンベア107とを備えている。該コン
ベア107は、被洗浄物105を貯留槽102の一方の
縁部近傍から搬入し該振動子104間を経て他方の縁部
近傍を通じて搬出する。各振動子104からは超音波振
動が発せられ、被洗浄物105はこれら振動子104の
間を通過する際にこの超音波の作用によって洗浄され
る。
腹部に入口孔112a及び出口孔112bが形成されて
洗浄用流体111を貯留する貯留槽112を有してい
る。この入口孔112a及び出口孔112bを通じて該
貯留槽112内を通過するコンベア114が設けられて
おり、貯留槽112に対する被洗浄物116の搬入、搬
出が該コンベア114により行われる。
り搬送される被洗浄物116の上下に位置するように一
対の振動子118が設けられている。
けられている。この受畜槽120は、貯留槽112の入
口孔112a及び出口孔112bから流出した洗浄用流
体111を受けて溜めるものである。該受畜槽120の
底部にパイプ121が接続されており、該パイプ121
の他端は貯留槽112の上方に位置している。該パイプ
121にはポンプ122が設けられている。
がコンベア114によって貯留槽112内に搬入されて
洗浄用流体111に浸漬され、振動子118より発せら
れる超音波振動の作用によって洗浄される。そして、洗
浄を終えた被洗浄物116は搬出される。
は上記入口孔112a及び出口孔112bから多量に流
出するから、これを受畜槽120で受けてポンプ122
により再び貯留槽112に戻すことが行われる。
装置は、各々下記の問題を擁している。
て、下側の振動子104のみではコンベア107が邪魔
になって超音波振動の効果が減殺されてしまうことか
ら、被洗浄物105の上下に振動子104が配されてい
る。このため、上側の振動子104の更に下を被洗浄物
105を通過させるために、洗浄用流体101のある程
度の深さまで被洗浄物105を没せしめる必要がある。
そこで、図示のように、コンベア107の搬入部及10
7aび搬出部107bに傾斜を持たせているが、被洗浄
物105の転倒等による破損を考慮してこの傾斜の角度
は緩やかにせざるを得ず、必然的に貯留槽102が長く
なり、装置全体が大型になってしまう。
はこの問題を解決すべく開発されたものである。この装
置では、貯留槽112の腹部に形成した入口孔112
a、出口孔112bを通じて被洗浄物116を水平に搬
送するので、貯留槽112の長さは短くて済む。
口孔112bから流出し続ける洗浄用流体を再び貯留槽
112に戻して補う、すなわち循環をなすための手段
(受畜槽120、ポンプ122等)を設けること自体も
さりながら、多い循環量に対処するためにポンプ122
として能力の大きなものを要し、又、循環用のパイプ1
21も太くしなければならないなど、装置の小型化は未
だ充分に達成されず、コストの増大も招来している。
供給されることから、洗浄中の被洗浄物116がこの圧
力によって転倒してしまう恐れがある。
れたものであって、その目的とするところは、装置の小
型化、特に被洗浄物搬送方向の寸法を短くすることを達
成し、しかも、コストが安く済み、被洗浄物にダメージ
を与える懸念がない超音波洗浄装置を提供することであ
る。
る超音波洗浄装置を提供する。
に、本発明に係る超音波洗浄装置は、下側貯留槽と、開
口部を下向きにして該下側貯留槽の上方に配置された上
側貯留槽と、前記下側貯留槽及び上側貯留槽の内部に各
々配置された振動子と、該上側貯留槽内に負圧を発生さ
せる負圧発生手段と、前記下側貯留槽の一方の縁部近傍
から被洗浄物を搬入し前記振動子間を経て他方の縁部近
傍を通じて搬出する搬送手段とを備え、前記負圧を生ぜ
しめることによって前記下側貯留槽及び上側貯留槽にお
ける洗浄用流体の貯留状態が維持されるようになされて
いる。
は、更に種々の効果を得るために下記の各構成が採用さ
れている。
発生に応じて前記下側貯留槽及び上側貯留槽に対して洗
浄用流体を供給する流体供給手段を有する。
供給手段は、洗浄作業中も洗浄用流体を所定量ずつ連続
的に供給すると共に、前記下側貯留層から溢れた洗浄用
流体を回収する。
供給手段は洗浄用流体を清浄化する清浄手段を有する。
記負圧発生手段がエジェクタ(ejector)を有し
ている。
を参照しつつ説明する。
ての超音波洗浄装置を示す。
えば純水からなる洗浄用流体1を貯留すべく開口部を上
向きにして設けられた下側貯留槽3と、該下側貯留槽3
よりも小径に形成されて開口部を下向きにして該下側貯
留槽3の上方に配置された上側貯留槽5とを有してい
る。これら下側貯留槽3及び上側貯留槽5の内部には、
振動子6及び8が各々配置されている。そして、該下側
貯留槽3の長手方向に沿って駆動する搬送手段としての
コンベア4が設けられている。以下、まず下側貯留槽3
及び上側貯留槽5、並びにこれに関連する構成から詳述
する。
の架台としてのフレーム7に脚部材8を介して取り付け
られている。そして、上側処理槽5は該下側処理槽3に
固定されている。詳しくは、図2に示すように、下側処
理槽3の開口部内側と上側処理槽5の開口部外側に、例
えば山形鋼からなる結合部材11及び12が夫々設けら
れ、該結合部材同士をボルト等にて締結することがなさ
れている。
ぜしめられることにより下側貯留槽3側の洗浄用流体1
を吸い上げるようにして貯留する。この吸上げをなすた
めには、該負圧を発生させるときに下側貯留槽3内に洗
浄用流体1を予め満たしておき、この洗浄用流体1内に
上側貯留槽5の開口縁部が没している必要がある。よっ
て、上側貯留槽5の開口縁部が下側貯留槽3の開口縁部
に挿通する状態となされている。
生手段は次のように構成されている。
1を受畜する受畜槽15と、該受畜槽15の底部に一端
が接続されて他端が上方から該受畜槽15の内部に向か
うように指向せしめられたパイプ17と、該パイプ17
に設けられて受畜槽15内の洗浄用流体1を吐出させる
ポンプ19と、該パイプ17に該ポンプ19よりも下流
側に設けられたエジェクタ(ejector)21と、
該エジェクタ21の吸引部21aに一端が接続されて他
端が前記上側貯留槽5の頂部に接続されたパイプ23と
からなる。
構造の簡単なポンプの一種で、圧力を加えられた流体を
受入部21bから受け入れて噴射ノズル21cから噴射
することで負圧を生じ、吸引部21aから流体を吸引す
るものである。本実施例の場合、該吸引部21aから吸
引されるのは、上側貯留槽5内の空気である。
及び上側貯留槽5に対して洗浄用流体を供給する流体供
給手段が設けられており、下記のように構成されてい
る。
と上側貯留槽5の上端近傍とを連通するパイプ30が設
けられている。このパイプ30に、流体を送給するポン
プ32が設けられている。
作業として下側貯留槽3及び受畜槽15に洗浄用流体1
を予め満たしておき、その状態でポンプ19及びポンプ
32を作動させる。ポンプ19が作動するとエジェクタ
21の作用によって上側貯留槽5内が減圧され、大気圧
により下側貯留槽3内の洗浄用流体1が押し上げられ
る。同時に、ポンプ32の作動によって、受畜槽15内
に溜められている洗浄用流体1が上側貯留槽5及び下側
貯留槽3上側貯留槽5内に供給される。かくして、上側
貯留槽5にも必要量の洗浄用流体が貯留され、下側貯留
槽3内と共に貯留状態を維持される。
流体1の貯留量、すなわち該洗浄用流体の表面の位置
は、ポンプ19の吐出圧力及び流量を制御することで調
整可能である。その他、該上側貯留槽5内の洗浄用流体
の表面の位置をセンサ(図示せず)により検知すること
とし、その検知信号に基づいてポンプ19の作動を制御
し、以てパイプ23内の負圧力を調節することでも調整
することができる。
中も洗浄用流体を連続的に供給すると共に、この供給に
よって下側貯留槽3から溢れた洗浄用流体を回収するこ
とを行う。そのための構成として、図1に示すように、
下側貯留槽3の縁部外側に該下側貯留槽から溢れた洗浄
用流体を受ける受け部3aが形成されており、この受け
部3aと前記受畜槽15とを連通するパイプ34が設け
られている。
プ32を作動させて受畜槽15内の洗浄用流体を供給し
続ければ、下側貯留槽3及び上側貯留槽5内で増えた分
が下側貯留槽3の縁から溢れ、この溢れた洗浄用流体が
上記受け部3aに流れ込み、受畜槽15に回収される。
この循環によって、下側貯留槽3における洗浄用流体1
の表面に浮遊したパーティクル(particle)が
一緒に流れ落ち、除去される。
浄化する浄化手段を有している。
6からなる。該フィルター36は受畜槽15から上側貯
留槽5に洗浄用流体を供給するためのパイプ30に設け
られている。このフィルター36を設けたことで、上述
のように循環する洗浄用流体が常に浄化し続けられ、常
に清浄に保たれる。
上側貯留槽5にそれぞれ満たされた洗浄用流体1に没す
る。これら振動子は所定距離を隔てて互いに対向せしめ
られている。該振動子6、8はPZT(piezoel
ectric:圧電)素子等からなり、PZT素子の場
合、図示しない発振器によって所定周波数の電圧を印加
され、この周波数の超音波振動を発する。該発振器と振
動子6、8とを、超音波励振手段と総称する。
し、前記下側貯留槽3及び上側貯留槽5の内部に貯留さ
れた洗浄用流体1に浸漬せしめ且つ前記振動子6、8間
を通過すべく搬送する。詳しくは、該コンベア4は、被
洗浄物40を下側貯留槽3の長手方向一方の縁部近傍か
ら搬入し、上記振動子6、8間を経て他方の縁部近傍を
通じて搬出する。該被洗浄物40は、洗浄用流体1自体
と、振動子6、8から発せられる超音波振動との相乗効
果によって洗浄される。
装置においては、開口部を下向きとする上側貯留槽5を
下側貯留槽3の上方に設け、該両槽内に振動子6、8を
配置し、上側貯留槽5の内部に負圧を生ぜしめて洗浄用
流体を吸い上げることで両槽内における洗浄用流体の貯
留状態を維持するようにしている。
体1内の両振動子6、8に対応する位置まで没せしめる
ために上記コンベア4の搬入部及び搬出部として設けら
れる傾斜部分4a、4bの長さは極く短くて済み、よっ
て、貯留槽の小型化、従って装置全体としての小型化、
特に被洗浄物搬送方向の寸法を短くすることが可能とな
っている。
コンベアからなり、上記傾斜部分4a及び4bは複数の
ローラ38で該コンベア4の搬送経路を曲げることで形
成される。
型にして高価なポンプ(122)は必要とせず、大流量
の循環は行わないから、コストが安く抑えられると共
に、被洗浄物40がダメージを受ける恐れがない。
る負圧発生手段による負圧発生に応じて下側貯留槽3及
び上側貯留槽5に対して洗浄用流体を供給する流体供給
手段が設けられているが、この流体供給を例えば作業者
自身が行うようにするなどすれば、該流体供給手段は設
けずともよい。但し、該流体供給手段を設けることで、
作業者が煩わしい作業から開放されるので、有用であ
る。
記負圧発生手段として、エジェクタ21を含むものを使
用しているが、この他、真空ポンプや排風機等を用いて
負圧を発生させてもよい。但し、簡便なエジェクタ21
を採用したことによって、構成が簡素化され、コストが
安く抑えられ、又、故障の発生も少なくなっている。
奏し得る第2実施例としての超音波洗浄装置を、図3及
び図4に基づいて説明する。この第2実施例の装置は以
下に説明する部分以外は上記第1実施例と同様に構成さ
れているので、装置全体としての構成及び動作の説明は
重複する故に省略し、要部のみの説明に止める。
て、上記第1実施例と同一又は対応する構成部分につい
ては同じ参照符号を付して示している。
貯留槽3、上側貯留槽5、振動子6及び8を含む超音波
洗浄部に続いて、液切りブロー部51と熱風ブロー乾燥
部52とが一列に連なって設けられている。コンベア4
は、該超音波洗浄部を経た被洗浄物40をこれら液切り
ブロー部51及び熱風ブロー部52に順次搬入する。
送路の上下に配置された複数のノズル51aを備え、高
圧の圧搾空気をこれらノズル51aから噴射することで
被洗浄物40に付着している洗浄用流体を吹き飛ばして
除去する。
送路の上下に複数のノズル52aを備え、各ノズル52
aから被洗浄物40に向けて熱風を吹き付け、乾燥させ
ることを行う。
段に液切りや乾燥をなす機能部分をラインとして付加し
た構成では、下側貯留槽3の長さを短くした本発明は、
ライン全体としての長さの短縮化にとって特に有効であ
る。
畜槽15が下側貯留槽3の下方に配置されており、前述
した第1実施例に比して装置の長さが更に短くなってい
る。
対して脚部材54を介して固定されている。そして、下
側貯留槽3は、該受畜槽15の内側に架設された山形鋼
等からなる梁55上に固定されている。
のはローラであり、エンドレスネットコンベア4を案内
すると共に、上記各機能部分を巡るべく屈曲せしめるた
めのものである。
の床などに固定するための脚部材を示す。
波洗浄装置においては、開口部を下向きとする上側貯留
槽を下側貯留槽の上方に設け、該両槽内に振動子を配置
し、該上側貯留槽の内部に負圧を生ぜしめて洗浄用流体
を吸い上げることで両槽内における洗浄用流体の貯留状
態を維持するようにしている。
の両振動子間に対応する位置まで没せしめるために搬送
手段の搬入部及び搬出部として設けられる傾斜部分の長
さは極く短くて済み、よって貯留槽の小型化、従って装
置の小型化、特に被洗浄物搬送方向の寸法を短くするこ
とが可能となっている。
型にして高価なポンプ等は必要とせず、大流量の循環は
行わないから、コストが安く抑えられると共に、被洗浄
物がダメージを受ける恐れがない。
じて下側貯留槽及び上側貯留槽に対して洗浄用流体を供
給する流体供給手段を設けることにより、例えば、作業
者自らが流体を供給するという煩わしい作業から開放さ
れるので、有用である。
浄装置の要部の縦断面図である。
浄装置の縦断面図である。
の縦断面図である。
の縦断面図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 下側貯留槽と、 開口部を下向きにして該下側貯留槽の上方に配置された
上側貯留槽と、 前記下側貯留槽及び上側貯留槽の内部に各々配置された
振動子と、 該上側貯留槽内に負圧を発生させる負圧発生手段と、 前記下側貯留槽の一方の縁部近傍から被洗浄物を搬入し
前期振動子間を経て他方の縁部近傍を通じて搬出する搬
送手段とを備え、 前記負圧を生ぜしめることによって前記下側貯留槽及び
上側貯留槽における洗浄用流体の貯留状態が維持される
ようになされていることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 【請求項2】 下側貯留槽と、 開口部を下向きにして該下側貯留槽の上方に配置された
上側貯留槽と、 前記下側貯留槽及び上側貯留槽の内部に各々配置された
振動子と、 該上側貯留槽内に負圧を発生させる負圧発生手段と、 前記下側貯留槽の一方の縁部近傍から被洗浄物を搬入し
前記振動子間を経て他方の縁部近傍を通じて搬出する搬
送手段と、 前記負圧の発生に応じて前記下側貯留槽及び上側貯留槽
に対して洗浄用流体を供給する流体供給手段とを備え、 前記負圧を生ぜしめることによって前記下側貯留槽及び
上側貯留槽における洗浄用流体の貯留状態が維持される
ようになされていることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 【請求項3】 前記流体供給手段は、洗浄作業中も洗浄
用流体を所定量ずつ連続的に供給すると共に、前記下側
貯留層から溢れた洗浄用流体を回収することを特徴とす
る請求項2記載の超音波洗浄装置。 - 【請求項4】 前記流体供給手段は洗浄用流体を清浄化
する清浄手段を有することを特徴とする請求項2又は請
求項3記載の超音波洗浄装置。 - 【請求項5】 前記負圧発生手段はエジェクタ(eje
ctor)を有することを特徴とする請求項1乃至請求
項4のうちいずれか1記載の超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8306992A JPH10128256A (ja) | 1996-11-01 | 1996-11-01 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8306992A JPH10128256A (ja) | 1996-11-01 | 1996-11-01 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10128256A true JPH10128256A (ja) | 1998-05-19 |
Family
ID=17963720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8306992A Pending JPH10128256A (ja) | 1996-11-01 | 1996-11-01 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10128256A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6866051B1 (en) * | 2002-09-26 | 2005-03-15 | Lam Research Corporation | Megasonic substrate processing module |
| JP2007125516A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Denso Corp | 超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置 |
| US8327861B2 (en) | 2006-12-19 | 2012-12-11 | Lam Research Corporation | Megasonic precision cleaning of semiconductor process equipment components and parts |
| JP2015013240A (ja) * | 2013-07-03 | 2015-01-22 | 株式会社北村製作所 | 超音波洗浄装置 |
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| CN107282517A (zh) * | 2017-08-17 | 2017-10-24 | 苏州元江工业清洗设备有限公司 | 喷淋式特高频超声波清洗装置 |
-
1996
- 1996-11-01 JP JP8306992A patent/JPH10128256A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081009 |
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