JPH0626177B2 - 露光装置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置 - Google Patents
露光装置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置Info
- Publication number
- JPH0626177B2 JPH0626177B2 JP63287308A JP28730888A JPH0626177B2 JP H0626177 B2 JPH0626177 B2 JP H0626177B2 JP 63287308 A JP63287308 A JP 63287308A JP 28730888 A JP28730888 A JP 28730888A JP H0626177 B2 JPH0626177 B2 JP H0626177B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- cooling
- temperature
- baking frame
- cold air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は焼枠のマスクを冷却することによって、原稿
画像であるマスクフィルムの温度上昇を抑止する露光装
置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置に関する
ものである。
画像であるマスクフィルムの温度上昇を抑止する露光装
置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置に関する
ものである。
近年、ＩＣ等の集積度が高くなりそのピン数が増大し、
またピン間隔の狭い表面実装型が多用されるなどプリン
ト配線板の実装密度や配線密度が高くなり、さらにはス
ルーホール穿設作業においても多層化が進むなど、高密
度で高精度な微細化した配線パターンが要求されるよう
になってきた。
またピン間隔の狭い表面実装型が多用されるなどプリン
ト配線板の実装密度や配線密度が高くなり、さらにはス
ルーホール穿設作業においても多層化が進むなど、高密
度で高精度な微細化した配線パターンが要求されるよう
になってきた。
従来の露光装置においては、光源から照射される紫外線
等の熱線によって、マスク内側面に吸着したマスクフィ
ルムが伸縮する結果、これによって焼付けられる被露光
物に寸法誤差が生じたり、また被露光物の表面に塗布さ
れる乳剤等が膨潤して被露光物も熱変形するなど、所望
する適正な配線パターンが得られなくなるのを回避する
ために、マスクに冷風を吹き付ける冷却装置が採用され
ている。
等の熱線によって、マスク内側面に吸着したマスクフィ
ルムが伸縮する結果、これによって焼付けられる被露光
物に寸法誤差が生じたり、また被露光物の表面に塗布さ
れる乳剤等が膨潤して被露光物も熱変形するなど、所望
する適正な配線パターンが得られなくなるのを回避する
ために、マスクに冷風を吹き付ける冷却装置が採用され
ている。
上記冷却装置は、例えば露光室に隣接する背面側に冷却
機等を備えた冷却室を設け、冷却機側から得られる冷媒
を送気するファンを備えた送風口を露光室に臨ませてあ
る。この送風口は、露光室に移送される焼枠のマスクに
向けて近接位置させてある。なお、焼枠の両面から平行
光を照射する、いわゆる両面露光装置の場合には、例え
ば焼枠の上下両面に対して送風口をそれぞれ配置してあ
る。
機等を備えた冷却室を設け、冷却機側から得られる冷媒
を送気するファンを備えた送風口を露光室に臨ませてあ
る。この送風口は、露光室に移送される焼枠のマスクに
向けて近接位置させてある。なお、焼枠の両面から平行
光を照射する、いわゆる両面露光装置の場合には、例え
ば焼枠の上下両面に対して送風口をそれぞれ配置してあ
る。
しかしながら、上記冷却装置は送風口が一側のマスクに
対して唯一で、しかもその送風方向が固定的であるた
め、平行光が照射されるマスクの有効照射範囲に対して
均一に冷却されず、マスクに冷却ムラが生じる問題点が
あった。
対して唯一で、しかもその送風方向が固定的であるた
め、平行光が照射されるマスクの有効照射範囲に対して
均一に冷却されず、マスクに冷却ムラが生じる問題点が
あった。
この発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、マス
クを均一に冷却し適温に調整維持することで、マスクフ
ィルムの温度上昇を抑止し、被露光物への熱影響を排除
して、被露光物に適正な配線パターンを焼付ける露光装
置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置を提供す
るものである。
クを均一に冷却し適温に調整維持することで、マスクフ
ィルムの温度上昇を抑止し、被露光物への熱影響を排除
して、被露光物に適正な配線パターンを焼付ける露光装
置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置を提供す
るものである。
この発明は上記課題を達成するために、光源装置からの
光を焼枠に照射して被露光物を焼付ける露光装置におい
て、上記焼枠の周囲複数個所からマスクに向けて交互に
冷風を送気し、マスク内側面のマスクフィルムの温度上
昇を抑止する露光装置における焼枠の冷却方法とした。
光を焼枠に照射して被露光物を焼付ける露光装置におい
て、上記焼枠の周囲複数個所からマスクに向けて交互に
冷風を送気し、マスク内側面のマスクフィルムの温度上
昇を抑止する露光装置における焼枠の冷却方法とした。
また、光源と反射鏡からなる光源装置からの光を焼枠に
照射して被露光物を焼付ける露光装置において、上記反
射鏡先端部の複数個所に設けられ切換手段を介して冷却
機に接続した上記焼枠のマスクに向けて冷風を吹き付け
る冷風吐出部と、上記マスクの温度を検出する温度検出
手段と、この温度検出手段によって設定温度検出信号を
発し上記冷却機を作動，停止しかつ上記冷却機からの冷
風を各吹き付け方向毎の冷風吐出部に切換える上記切換
手段を作動，停止する温度監視制御装置を備えた露光装
置における焼枠の冷却装置を構成したものである。
照射して被露光物を焼付ける露光装置において、上記反
射鏡先端部の複数個所に設けられ切換手段を介して冷却
機に接続した上記焼枠のマスクに向けて冷風を吹き付け
る冷風吐出部と、上記マスクの温度を検出する温度検出
手段と、この温度検出手段によって設定温度検出信号を
発し上記冷却機を作動，停止しかつ上記冷却機からの冷
風を各吹き付け方向毎の冷風吐出部に切換える上記切換
手段を作動，停止する温度監視制御装置を備えた露光装
置における焼枠の冷却装置を構成したものである。
この発明の冷却方法によれば、焼枠の周囲複数個所から
マスクに向けて、各吹き付け方向毎に交互に冷風を吹き
付けるので、マスクが均一に冷却され温度上昇を防止す
るとともに、冷却ムラが生じることなく、マスクフィル
ムに温度上昇による熱影響を与えることがなくなる。
マスクに向けて、各吹き付け方向毎に交互に冷風を吹き
付けるので、マスクが均一に冷却され温度上昇を防止す
るとともに、冷却ムラが生じることなく、マスクフィル
ムに温度上昇による熱影響を与えることがなくなる。
また、この発明の冷却装置によれば、マスクの温度は検
出手段によって得られ、設定温度に到達すれば、温度監
視制御装置からの信号によって冷却機が作動するととも
に冷風の切換手段が作動して、各部位の冷風吐出部から
吹き付け方向毎に交互に冷風をマスクに吹き付けるもの
である。さらに、マスクが冷却されて温度低下し、設定
温度に到達したのが温度検出手段によって得られると、
温度監視制御装置からの信号によって上記冷却機ならび
に切換手段を停止するものである。上記のことから、マ
スクは均一に冷却され冷却ムラが生じることなくしかも
適温に調整維持されるので、その内側面に位置するマス
クフィルムの温度上昇を抑止して熱影響を排除し、被露
光物に設計寸法どおりの高精度な配線パターンを焼付け
ることができる。
出手段によって得られ、設定温度に到達すれば、温度監
視制御装置からの信号によって冷却機が作動するととも
に冷風の切換手段が作動して、各部位の冷風吐出部から
吹き付け方向毎に交互に冷風をマスクに吹き付けるもの
である。さらに、マスクが冷却されて温度低下し、設定
温度に到達したのが温度検出手段によって得られると、
温度監視制御装置からの信号によって上記冷却機ならび
に切換手段を停止するものである。上記のことから、マ
スクは均一に冷却され冷却ムラが生じることなくしかも
適温に調整維持されるので、その内側面に位置するマス
クフィルムの温度上昇を抑止して熱影響を排除し、被露
光物に設計寸法どおりの高精度な配線パターンを焼付け
ることができる。
この発明に係る一実施例を図面に基づいて説明する。図
面の第１図はこの発明の原理を示す説明図、第２図はヘ
ッダーを配置した露光装置の断面図、第３図は焼枠の要
部断面図である。
面の第１図はこの発明の原理を示す説明図、第２図はヘ
ッダーを配置した露光装置の断面図、第３図は焼枠の要
部断面図である。
この発明に係る両面露光装置を説明すると、この露光装
置Ａは焼枠Ｃを挟んで上下部にそれぞれ光源ランプ１と
略放物線形状の反射鏡２からなる光源装置Ｂを備えてお
り、光源装置Ｂからの平行光を焼枠Ｃ上下面のマスク３
に照射することで、それぞれの内側面に吸着した配線パ
ターンを表示した原稿画像、すなわちマスクフィルム４
に透過して、焼枠Ｃの中間部に位置させた被露光物５に
配線パターンを焼付けるものである。
置Ａは焼枠Ｃを挟んで上下部にそれぞれ光源ランプ１と
略放物線形状の反射鏡２からなる光源装置Ｂを備えてお
り、光源装置Ｂからの平行光を焼枠Ｃ上下面のマスク３
に照射することで、それぞれの内側面に吸着した配線パ
ターンを表示した原稿画像、すなわちマスクフィルム４
に透過して、焼枠Ｃの中間部に位置させた被露光物５に
配線パターンを焼付けるものである。
この実施例における冷却装置Ｄは、上記反射鏡２の先端
部近傍に取付けられ方向切換弁６を介して冷却機７から
供給される冷風を上記焼枠Ｃのマスク３に向けて吹き付
けるヘッダー８と、上記マスク３の温度を検出する温度
センサー９と、この温度センサー９によって設定温度検
出信号を発して上記冷却機７を作動，停止しかつ上記冷
却機７からの冷風を各部位毎のヘッダー８に切換える上
記方向切換弁６を作動，停止する温度監視制御装置１０
で構成されている。
部近傍に取付けられ方向切換弁６を介して冷却機７から
供給される冷風を上記焼枠Ｃのマスク３に向けて吹き付
けるヘッダー８と、上記マスク３の温度を検出する温度
センサー９と、この温度センサー９によって設定温度検
出信号を発して上記冷却機７を作動，停止しかつ上記冷
却機７からの冷風を各部位毎のヘッダー８に切換える上
記方向切換弁６を作動，停止する温度監視制御装置１０
で構成されている。
上記ヘッダー８は反射鏡２の開放端である先端周縁部
に、焼枠Ｃの外形を取り囲むように４個のヘッダー８
（８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ）を取付けてある。このヘッ
ダー８には、冷風を吹き付ける複数個のノズル８′，…
をそれぞれ長手方向にわたり設けてあり、１個のヘッダ
ー８からの冷風がマスク３の全域をカバーできるよう
に、ヘッダー８に所定の角度を付けて反射鏡２に取付け
てある。なお、上記ノズル８′，…に代えてスリット状
の吐出口としてもよい。
に、焼枠Ｃの外形を取り囲むように４個のヘッダー８
（８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ）を取付けてある。このヘッ
ダー８には、冷風を吹き付ける複数個のノズル８′，…
をそれぞれ長手方向にわたり設けてあり、１個のヘッダ
ー８からの冷風がマスク３の全域をカバーできるよう
に、ヘッダー８に所定の角度を付けて反射鏡２に取付け
てある。なお、上記ノズル８′，…に代えてスリット状
の吐出口としてもよい。
上記ヘッダー８にはそれぞれ専用配管８ａ′，８ｂ′，
８ｃ′，８ｄ′が接続され、各専用配管８ａ′，８ｂ′
…と冷却機７に連通するメイン配管１１との接続部に
は、冷却機７側から送気される冷風を各専用配管８
ａ′，８ｂ′…に選択的に分配するロータリーバルブな
どの方向切換弁６を設けてある。この方向切換弁６は上
記温度監視制御装置１０からの信号により、各ヘッダー
８毎に同時間，同量の冷風を送気するようにしてある。
８ｃ′，８ｄ′が接続され、各専用配管８ａ′，８ｂ′
…と冷却機７に連通するメイン配管１１との接続部に
は、冷却機７側から送気される冷風を各専用配管８
ａ′，８ｂ′…に選択的に分配するロータリーバルブな
どの方向切換弁６を設けてある。この方向切換弁６は上
記温度監視制御装置１０からの信号により、各ヘッダー
８毎に同時間，同量の冷風を送気するようにしてある。
さらに、上記冷却機７は冷媒を得る冷凍機等を備えてお
り、ラジエターおよび冷風送気用の送風ファンは図示し
ないが、ヘッダー８を始めとする適宜の位置に設けてあ
る。この冷却機７は上記温度監視制御装置１０からの信
号により、作動，停止が制御されている。
り、ラジエターおよび冷風送気用の送風ファンは図示し
ないが、ヘッダー８を始めとする適宜の位置に設けてあ
る。この冷却機７は上記温度監視制御装置１０からの信
号により、作動，停止が制御されている。
一方、上記温度センサー９は、サーミスターや白金等適
宜の温度測定素子を、第３図に示すように焼枠Ｃの押さ
え枠１２の下方に位置するマスク３の周縁に設けてお
り、マスク３のその部位の温度を測定して、マスク３の
有効照射範囲内の温度を類推し、マスク３を所要温度
（一般に２２〜２４゜Ｃ程度）に保持するように設定温
度を定めてある。そして、マスク３の温度上昇で設定温
度に到達したとき、またマスク３の冷却で温度低下し設
定温度に到達したときには、適宜のマイコン処理で温度
監視制御装置１０が設定温度検出信号を発して、上記冷
却機７，方向切換弁６を作動あるいは停止するようにし
てある。
宜の温度測定素子を、第３図に示すように焼枠Ｃの押さ
え枠１２の下方に位置するマスク３の周縁に設けてお
り、マスク３のその部位の温度を測定して、マスク３の
有効照射範囲内の温度を類推し、マスク３を所要温度
（一般に２２〜２４゜Ｃ程度）に保持するように設定温
度を定めてある。そして、マスク３の温度上昇で設定温
度に到達したとき、またマスク３の冷却で温度低下し設
定温度に到達したときには、適宜のマイコン処理で温度
監視制御装置１０が設定温度検出信号を発して、上記冷
却機７，方向切換弁６を作動あるいは停止するようにし
てある。
以上のように構成した冷却装置Ｄの作動を冷却方法とと
もに説明する。まず、光源装置Ｂからの平行光を焼枠Ｃ
に照射している際に、温度センサー９の検出でマスク３
の温度が設定温度に到達したときには、温度監視制御装
置１０が信号を発して冷却機７および方向切換弁６をそ
れぞれを作動するので、冷風Ｅは冷却機７からメイン配
管１１，方向切換弁６を経て、この方向切換弁６が開通
状態の唯一の専用配管８ａ′に送気され、そのヘッダー
８ａのノズル８′…からマスク３に吹き付ける。所定時
間後には方向切換弁６が自動切換えを行い、直前の専用
配管８ａ′を閉塞して他の専用配管８ｂ′をメイン配管
１１と開通状態にするので、そのヘッダー８ｂのノズル
８′…から冷風が吹き付けられる。その後は、上記要領
で随時方向切換弁６が自動的に切換えられてヘッダー８
ｃ，８ｄへと、各ヘッダー８からの冷風の吹き付けが同
期することなく一定のローテイションで交互に行われ
る。上記ローテイションはヘッダー８ａ，８ｂ，８ｃ，
８ｄの順序であっもその逆の順序でもよく、また８ａ，
８ｃ，８ｂ，８ｄなど、適宜の態様が適用可能であり、
マスク３に対して時間的，場所的に変化させて冷風を吹
き付けるものである。さらには、第２図に示すように、
上下両側のヘッダー８は、焼枠Ｃを対称中心点として、
点対称位置の上側ヘッダー８ｄ，下側ヘッダー８ｂ同士
を同期して冷風Ｅが吹き付けるように制御すると、より
効率的な冷却を可能にするものである。
もに説明する。まず、光源装置Ｂからの平行光を焼枠Ｃ
に照射している際に、温度センサー９の検出でマスク３
の温度が設定温度に到達したときには、温度監視制御装
置１０が信号を発して冷却機７および方向切換弁６をそ
れぞれを作動するので、冷風Ｅは冷却機７からメイン配
管１１，方向切換弁６を経て、この方向切換弁６が開通
状態の唯一の専用配管８ａ′に送気され、そのヘッダー
８ａのノズル８′…からマスク３に吹き付ける。所定時
間後には方向切換弁６が自動切換えを行い、直前の専用
配管８ａ′を閉塞して他の専用配管８ｂ′をメイン配管
１１と開通状態にするので、そのヘッダー８ｂのノズル
８′…から冷風が吹き付けられる。その後は、上記要領
で随時方向切換弁６が自動的に切換えられてヘッダー８
ｃ，８ｄへと、各ヘッダー８からの冷風の吹き付けが同
期することなく一定のローテイションで交互に行われ
る。上記ローテイションはヘッダー８ａ，８ｂ，８ｃ，
８ｄの順序であっもその逆の順序でもよく、また８ａ，
８ｃ，８ｂ，８ｄなど、適宜の態様が適用可能であり、
マスク３に対して時間的，場所的に変化させて冷風を吹
き付けるものである。さらには、第２図に示すように、
上下両側のヘッダー８は、焼枠Ｃを対称中心点として、
点対称位置の上側ヘッダー８ｄ，下側ヘッダー８ｂ同士
を同期して冷風Ｅが吹き付けるように制御すると、より
効率的な冷却を可能にするものである。
以上の説明からも明らかなように、マスク３には複数個
所からの冷風Ｅが同期することなく交互に吹き付けられ
るので、マスク３が均一に冷却され冷却ムラがなくな
り、マスク３の内側面に吸着したマスクフィルム４は、
設定温度に到達したマスク３からの熱伝達を受けること
なく温度上昇を抑止される。したがって、伸縮など熱影
響を受けない適温のマスクフィルム４によって被露光物
５を焼付けるので、設計どおりの寸法精度で高密度なプ
リント配線板を得ることができる。
所からの冷風Ｅが同期することなく交互に吹き付けられ
るので、マスク３が均一に冷却され冷却ムラがなくな
り、マスク３の内側面に吸着したマスクフィルム４は、
設定温度に到達したマスク３からの熱伝達を受けること
なく温度上昇を抑止される。したがって、伸縮など熱影
響を受けない適温のマスクフィルム４によって被露光物
５を焼付けるので、設計どおりの寸法精度で高密度なプ
リント配線板を得ることができる。
なお、この実施例においてヘッダー８の配列は、上記実
施例に限ることなく、冷風の吹き付け方向が焼枠Ｃの対
角線方向と平行になるように配置してもよい。また、ヘ
ッダーの取付け個数は４個でなく、２個以上のものであ
ってもよく、いずれも上記実施冷同様の作用効果を得る
ことができる。
施例に限ることなく、冷風の吹き付け方向が焼枠Ｃの対
角線方向と平行になるように配置してもよい。また、ヘ
ッダーの取付け個数は４個でなく、２個以上のものであ
ってもよく、いずれも上記実施冷同様の作用効果を得る
ことができる。
この発明は以上のように構成したので、次のような効果
を奏する。
を奏する。
この発明の冷却方法によれば、焼枠の周囲複数個所から
マスクに向けて、各吹き付け方向毎に交互に冷風を吹き
付けるので、マスクが均一に冷却され温度上昇を防止す
るとともに、冷却ムラが生ずることなく、マスクフィル
ムに温度上昇による熱影響を与えることがなくなる。
マスクに向けて、各吹き付け方向毎に交互に冷風を吹き
付けるので、マスクが均一に冷却され温度上昇を防止す
るとともに、冷却ムラが生ずることなく、マスクフィル
ムに温度上昇による熱影響を与えることがなくなる。
また、この発明の冷却装置によれば、マスクの温度は検
出手段によって得られ、設定温度に到達すれば、温度監
視制御装置からの信号によって冷却機が作動するととも
に冷風の切換手段が作動して、各冷風吐出部から吹き付
け方向毎に交互に冷風をマスクに吹き付けるものであ
る。さらに、マスクが冷却され温度低下し設定温度に到
達したときには、温度監視制御装置からの信号によって
上記冷却機ならびに切換手段を停止するものである。上
記のことから、マスクは均一に冷却され冷却ムラが生じ
ることなくしかも適温に調整維持されるので、その内側
面に位置するマスクフィルムの温度上昇を抑止して熱影
響を排除し、被露光物に設計寸法どおりの高精度な配線
パターンを焼付けることができる。
出手段によって得られ、設定温度に到達すれば、温度監
視制御装置からの信号によって冷却機が作動するととも
に冷風の切換手段が作動して、各冷風吐出部から吹き付
け方向毎に交互に冷風をマスクに吹き付けるものであ
る。さらに、マスクが冷却され温度低下し設定温度に到
達したときには、温度監視制御装置からの信号によって
上記冷却機ならびに切換手段を停止するものである。上
記のことから、マスクは均一に冷却され冷却ムラが生じ
ることなくしかも適温に調整維持されるので、その内側
面に位置するマスクフィルムの温度上昇を抑止して熱影
響を排除し、被露光物に設計寸法どおりの高精度な配線
パターンを焼付けることができる。
図面はこの発明の一実施例に係り、第１図はこの発明の
原理を示す説明図、第２図はヘッダーを配置した露光装
置の断面図、第３図は焼枠の要部断面図である。 Ａ……露光装置、Ｂ……光源装置 Ｃ……焼枠、Ｄ……冷却装置 Ｅ……冷風 １……光源ランプ、２……反射鏡 ３……マスク、４……マスクフィルム ５……被露光物 ６……方向切換弁（切換手段） ７……冷却機 ８（８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ）……ヘッダー（冷風吐出
部） ８ａ′，８ｂ′，８ｃ′，８ｄ′……専用配管 ９……温度センサー（温度検出手段） １０……温度監視制御装置 １１……メイン配管
原理を示す説明図、第２図はヘッダーを配置した露光装
置の断面図、第３図は焼枠の要部断面図である。 Ａ……露光装置、Ｂ……光源装置 Ｃ……焼枠、Ｄ……冷却装置 Ｅ……冷風 １……光源ランプ、２……反射鏡 ３……マスク、４……マスクフィルム ５……被露光物 ６……方向切換弁（切換手段） ７……冷却機 ８（８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ）……ヘッダー（冷風吐出
部） ８ａ′，８ｂ′，８ｃ′，８ｄ′……専用配管 ９……温度センサー（温度検出手段） １０……温度監視制御装置 １１……メイン配管
Claims (2)
- 【請求項１】光源装置からの光を焼枠に照射して被露光
物を焼付ける露光装置において、 上記焼枠の周囲複数個所からマスクに向けて交互に冷風
を送気し、マスク内側面のマスクフィルムの温度上昇を
抑止することを特徴とする露光装置における焼枠の冷却
方法。 - 【請求項２】光源と反射鏡からなる光源装置からの光を
焼枠に照射して被露光物を焼付ける露光装置において、 上記反射鏡先端部の複数個所に設けられ切換手段を介し
て冷却機に接続した上記焼枠のマスクに向けて冷風を吹
き付ける冷風吐出部と、上記マスクの温度を検出する温
度検出手段と、この温度検出手段によって設定温度検出
信号を発し上記冷却機を作動，停止しかつ上記冷却機か
らの冷風を各吹き付け方向毎の冷風吐出部に切換える上
記切換手段を作動，停止する温度監視制御装置を備えた
ことを特徴とする露光装置における焼枠の冷却装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63287308A JPH0626177B2 (ja) | 1988-11-14 | 1988-11-14 | 露光装置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63287308A JPH0626177B2 (ja) | 1988-11-14 | 1988-11-14 | 露光装置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02132445A JPH02132445A (ja) | 1990-05-21 |
| JPH0626177B2 true JPH0626177B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=17715690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63287308A Expired - Fee Related JPH0626177B2 (ja) | 1988-11-14 | 1988-11-14 | 露光装置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0626177B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4496870B2 (ja) * | 2003-07-18 | 2010-07-07 | パナソニック株式会社 | プラズマディスプレイパネルのエージング方法およびエージング装置 |
| JP4492237B2 (ja) * | 2004-07-26 | 2010-06-30 | パナソニック株式会社 | ガス放電パネルのエージング方法およびエージング装置 |
| JP6328126B2 (ja) | 2012-10-31 | 2018-05-23 | エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． | パターニングデバイス支持体、リソグラフィ装置及びパターニングデバイスの温度制御方法 |
| NL2018470A (en) | 2016-04-04 | 2017-10-12 | Asml Netherlands Bv | Patterning device cooling apparatus |
-
1988
- 1988-11-14 JP JP63287308A patent/JPH0626177B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02132445A (ja) | 1990-05-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6342941B1 (en) | Exposure apparatus and method preheating a mask before exposing; a conveyance method preheating a mask before exposing; and a device manufacturing system and method manufacturing a device according to the exposure apparatus and method | |
| US5738165A (en) | Substrate holding apparatus | |
| JP3365571B2 (ja) | 光学式計測装置及び露光装置 | |
| ATE137169T1 (de) | Druckmaschinen-temperierungssystem | |
| JPS6024951A (ja) | 硬化装置 | |
| JPH1055945A (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JP4886580B2 (ja) | バーンイン試験装置 | |
| JPH0992613A (ja) | 温調装置及び走査型露光装置 | |
| JP2008242169A (ja) | 露光描画装置 | |
| JPH0369307B2 (ja) | ||
| JPH09270384A (ja) | 温度制御装置及び露光装置 | |
| JP2794587B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| CS206603B1 (en) | Device for heat influence compensation in the adjusting and illuminating apparatus | |
| JPH02132445A (ja) | 露光装置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置 | |
| US6613487B1 (en) | Pre-alignment system of exposure apparatus having wafer cooling means and exposure method using the same | |
| KR102757727B1 (ko) | 열판의 냉각 방법 및 가열 처리 장치 | |
| US20230094792A1 (en) | Lithographic systems and methods of operating the same | |
| TWI799387B (zh) | 微影裝置及微影方法 | |
| JPH10214782A (ja) | 露光装置 | |
| JPH09275070A (ja) | 露光装置 | |
| JPH05338120A (ja) | 印刷機のインキ壷の冷却／加熱装置 | |
| JPH08293449A (ja) | 露光装置 | |
| JPH04318851A (ja) | 基板露光装置 | |
| JPH10289874A5 (ja) | ||
| JP2005338603A (ja) | 露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |