JPH06264140A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
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- JPH06264140A JPH06264140A JP5064693A JP5064693A JPH06264140A JP H06264140 A JPH06264140 A JP H06264140A JP 5064693 A JP5064693 A JP 5064693A JP 5064693 A JP5064693 A JP 5064693A JP H06264140 A JPH06264140 A JP H06264140A
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Abstract
性の低下を招くことなしに、シャドウマスクのエッチン
グ性さらにはプレス成形性を向上させる。 【構成】 C:0.01%以下、Si:0.1 %以下、Mn:0.5
%以下、P:0.005 %以下、S:0.005 %以下、Ni:30
〜45%、Al:0.005 〜0.020 %、N:0.005 %以下およ
びO:60 ppm以下を含有し、残部実質的にFeの組成にな
る熱延鋼板に、圧下率:80%以上の1次冷延を施したの
ち、引き続く中間焼鈍工程において 900〜1100℃の温度
範囲で再結晶処理を施し、ついで圧下率:10〜70%の2
次冷延を施して最終製品板厚としたのち、エッチング処
理を施し、その後 700〜900 ℃の温度範囲で最終焼鈍を
施したのち、プレス処理を施す。
Description
造方法に関し、とくに該マスク製造時におけるエッチン
グ性およびプレス成形性の向上を図ったものである。
は、従来より、温度上昇に伴う熱膨張が問題になってい
る。すなわち、シャドウマスクにおいて、その開孔部を
通過する電子ビームは、蛍光面で発光するが、開口部を
通過しない電子ビームはシャドウマスクに照射される。
その結果、シャドウマスクは加熱されて熱膨張するた
め、電子ビームが決められた蛍光面に当たらなくなるい
わゆるドーミング現象が生じる。そこで、かかるドーミ
ング現象を防止すべく、シャドウマスクとしては熱膨張
の小さいアンバー合金が必要とされている。 Ni:30〜45wt%(以下単に%で示す)を含むFe−Ni系合
金は、室温から 300℃の温度域では熱膨張係数が著しく
小さいアンバー効果を示すことから、各種の電子管用材
料として利用されていて、最近では、特にシャドウマス
クやマスクフレーム、マスクホルダー等の機能材料とし
て用途を拡大しつつある。
来の軟鋼に比べると、0.2 %耐力が高く、またヤング率
も低いため、スプリングバックが大きいこともあってシ
ャドウマスクのような高精度の加工は極めて難しく、そ
の改良が望まれていた。
51号公報において、Crを添加することによって 0.2%耐
力を低下させ、もってプレス成形性を向上させたシャド
ウマスク用材料を提案した。上記の材料の開発により、
プレス成形性はかなり改善されたけれども、Cr添加によ
って熱膨張係数が増大したり、プレス成形後の黒化処理
工程での黒化性が劣化するなど、依然として解決すべき
種々の問題を残していた。
4351号公報に開示した、Cr添加によるプレス成形性の改
善技術の問題点としては、次の点が挙げられる。 (1) Cr添加に伴う熱膨張係数の増大:実用的な成形性の
改善のためには、少なくとも3%以上の添加が必要であ
るが、これに伴い室温〜100 ℃までの平均熱膨張係数
は、それまでの3倍以上となる。 (2) プレス成形後の黒化処理工程における黒化性への影
響:プレス成形後の黒化処理は、シャドウマスクに照射
された電子線による熱の発生を輻射によって抑制するた
めに行われるが、Crの含有により黒化性が阻害され、製
品としての品位が低下する。 (3) エッチング時において、Crの存在により腐食液に対
する耐食性が高まるため、エッチングスピードが減少
し、結果的にエッチング工程の負担が増大して生産性が
低下する。
もので、熱膨張係数の増大や黒化性の劣化および生産性
の低下を招くことなしに、エッチング性さらにはプレス
成形性を向上させ、高精度の加工を可能ならしめたシャ
ドウマスクの有利な製造方法を提案することを目的とす
る。
来のFe−Ni系シャドウマスク用材料の有する欠点あるい
は問題点を、新規な合金組成および製造工程の組み合わ
せにより、解決したものである。すなわちこの発明は、
C:0.01%以下、 Si:0.1 %以下、Mn:0.5 %
以下、 P:0.005 %以下、S:0.005 %以下、
Ni:30〜45%、Al:0.005 〜0.020 %、 N:0.
005 %以下、O:60 ppm以下を含有し、残部実質的にFe
の組成になる熱延鋼板に、圧下率:80%以上の1次冷延
を施したのち、引き続く中間焼鈍工程において 900〜11
00℃の温度範囲で再結晶処理を施し、ついで圧下率:10
〜70%の2次冷延を施して最終製品板厚としたのち、エ
ッチング処理を施し、その後 700〜900 ℃の温度範囲で
最終焼鈍を施したのち、プレス処理を施すことからなる
シャドウマスクの製造方法である。
に組み合わせることによって、エッチング時に圧延面に
各種結晶面のうちエッチング速度が最も早い結晶面であ
る (100)面が適度に集積するため、エッチング性が向上
すると共に、最終焼鈍後の圧延面に、ヤング率の向上に
最も寄与する (111)面の集積度が高くなることから、プ
レス後のスプリングバックが小さく、型への形状凍結性
が向上し、さらにはプレス成形後の防振性が高まり、薄
肉化にも有利に対応できるのである。すなわち、この発
明は、特開昭62−174351号公報に開示の技術のように、
Crの添加による 0.2%耐力の低下によってスプリングバ
ックを低減するのではなく、圧延板面の (111)面の集積
度を高め、ヤング率を増大させることによって、スプリ
ングバックを低減し、もって成形性を改善するものであ
り、従ってこの発明では、第3元素の添加によって招来
される熱膨張係数の増大やエッチング性および黒化性の
劣化等の弊害はない。
果について説明する。 C:0.005 %、Si:0.005 %、Mn:0.4 %、P:0.003
%、S:0.002 %、Ni:36%、Al:0.008 %、N:0.00
3 %およびO:25 ppmを含有し、残部実質的にFeの組成
になる合金(以下36Ni合金と称す) を、種々の圧下率で
1次冷延したのち、 900℃, 2min の中間焼鈍を施し、
ついで圧下率:50%で2次冷延して最終製品板厚とした
ときの、1次圧延率と2次圧延後の (100)集積度との関
係について調べた結果を、図1に示す。なお (100)集積
度は、(111), (100), (110) および(311) 面の積分強度
の合計に対する(100) 面の強度比率で示した。同図より
明らかなように、1次冷延における圧下率が80%以上の
範囲において(100) 集積度が増加し、その結果エッチン
グ性が改善されている。
したのち、 900℃, 2min の中間焼鈍を施し、ついで種
々の圧下率で2次冷延して終製品板厚としたのち、 950
℃,5min の最終焼鈍を施して得た鋼板の、2次圧延率
と最終焼鈍後の (111)集積度との関係について調べた結
果を、図2に示す。なお、 (111)集積度の定義は、上述
した (100)集積度の場合と同様である。同図より明らか
なように、2次冷延における圧下率が10〜70%の範囲に
おいて高い (111)集積度が得られ、その結果良好なプレ
ス成形性が得られている。
形性を改善するには、1次および2次冷延における圧下
率が重要で、それぞれ80%以上、10〜70%とすることが
肝要である。また、中間焼鈍および最終焼鈍における各
処理温度は、結晶粒の整粒化の観点から決定される。
よびスプリングバック量との関係を示すが、 (111)集積
度が高くなるに従って、ヤング率は大きくなり、一方ス
プリングバックは低減している。
前記の範囲に限定した理由について説明する。 C:0.01%以下 Cは、熱膨張係数を増加させるだけでなく、 0.2%耐力
を増加させる元素でもあるので、少ない方が望ましく、
従って0.01%以下に限定した。
0.2%耐力を増加させ、しかもSiの偏析はマスクのエッ
チングの際にエッチングムラなどを引き起こすことの
他、黒化も阻害するので、極力低減することが望まし
い。それ故、Si含有量は 0.1%以下に限定した。
%耐力を増加させる元素でもあり、しかもMnの偏析はSi
の場合と同様、マスクのエッチングの際エッチングムラ
などを起こすため、少ない方が望ましい。それ故、Mn含
有量は 0.5%以下に限定した。
させることが望ましいので 0.005%以下とした。これを
超えると (100)集合度が増加してもエッチング性は阻害
される。
%以下とした。
以下の低温側においてはNi36%付近で、またより高温側
においてはNi42%付近で最も小さい熱膨張係数を示す。
ここにNi量が、30%未満ではマルテンサイトが生成して
熱膨張係数の増大を招き、一方45%を超えても同様に熱
膨張係数が大きくなるので、Niは30〜45%の範囲に限定
した。
なってエッチング性を阻害するため、かかるおそれのな
い 0.005〜0.020 %の範囲で含有させるものとした。
性も劣化させるので、0.005 %以下に制限した。
り、この観点から、60ppm 以下に制限した。
の好適成分組成に調整された鋼片は、常法に従う熱間圧
延を経たのち、冷間圧延に供される。この冷延工程で
は、中間焼鈍を挟む2回の冷延を施すことが重要であ
る。まず、1次冷延については、その圧下率を80%以上
とする必要がある。というのは、1次冷延の圧下率が80
%に満たないと、前掲図1にも示したように、高い(10
0) 集積度ひいては良好なエッチング性が得られないか
らである。
囲で行う必要がある。というのは、中間焼鈍温度が 900
℃に満たないと再結晶が十分でなく、最終焼鈍材のエッ
チングが不均一となる。一方、1100℃を超えると、結晶
粒の粗大化により最終焼鈍時に不均一組織となり、エッ
チング性を悪化させるからである。
行う必要がある。というのは、圧下率が10%に満たない
と最終焼鈍時、不均一組織となりエッチングムラを生
じ、一方70%を超えると、前掲図2に示したように低い
(111) 集積度ひいては良好なプレス成形性が得られない
からである。
700〜900 ℃の温度範囲で行う必要がある。というの
は、最終焼鈍温度が 700℃に満たないと未再結晶組織の
残留によりエッチングムラを生じ、一方 900℃を超える
と結晶粒の粗大化を生じ、エッチング面が粗面となるか
らである。
金を、表2に示す条件で処理し、板厚:0.2 mmのシャド
ウマスクを製造した。製造工程中、2次冷延後の (100)
集積度及び最終焼鈍後の (111)集積度、ならびに製品の
0.2%耐力、熱膨張係数、ヤング率および成形性の指標
の一つであるスプリングバック量について調べた結果
を、表2に併記する。
る。0.2%耐力は、JIS 13B号試験片に加工後、 JISG4
303に準拠して測定した。熱膨張試験は、室温から 100
℃までの平均熱膨張係数で求めた。集積度は、Cuターゲ
ットを用い、40°〜120 °まで走査し、(111) 、(100)
、(110) および(311) 面の積分強度をそれぞれ測定
し、得られた強度の合計に対する (100)面および (111)
面の強度比率を求めた。エッチング性は、塩化第2鉄水
溶液 (比重1.55温度40℃) を用いてエッチングを行い、
その孔を SEMで観察し、その状態により判断した。スプ
リングバック量は、先端が2Rの90°の台に押し付け、
そのときの戻りの角度で評価した。
得られたシャドウマスクは、エッチング性、 0.2%耐
力、熱膨張係数、ヤング率およびスプリングバック量の
全てについて良好な結果が得られた。
の増大や黒化性の劣化および生産性の低下を招くことな
しに、エッチング性さらにはプレス成形性を向上させる
ことができ、その結果、加工精度を含め、必要特性の悉
くを満足するシャドウマスクを得ることができる。
エッチング性との関係を示したグラフである。
プレス成形性との関係を示したグラフである。
クとの関係を示したグラフである。
Claims (1)
- 【請求項1】C:0.01wt%以下、 Si:0.1 wt%以
下、 Mn:0.5 wt%以下、 P:0.005 wt%以下、 S:0.005 wt%以下、 Ni:30〜45wt%、 Al:0.005 〜0.020 wt%、N:0.005 wt%以下、 O:60 ppm以下 を含有し、残部実質的にFeの組成になる熱延鋼板に、圧
下率:80%以上の1次冷延を施したのち、引き続く中間
焼鈍工程において 900〜1100℃の温度範囲で再結晶処理
を施し、ついで圧下率:10〜70%の2次冷延を施して最
終製品板厚としたのち、エッチング処理を施し、その後
700〜900 ℃の温度範囲で最終焼鈍を施したのち、プレ
ス処理を施すことを特徴とするシャドウマスクの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5050646A JP2951808B2 (ja) | 1993-03-11 | 1993-03-11 | シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5050646A JP2951808B2 (ja) | 1993-03-11 | 1993-03-11 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06264140A true JPH06264140A (ja) | 1994-09-20 |
| JP2951808B2 JP2951808B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=12864715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5050646A Expired - Lifetime JP2951808B2 (ja) | 1993-03-11 | 1993-03-11 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2951808B2 (ja) |
Cited By (5)
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1993
- 1993-03-11 JP JP5050646A patent/JP2951808B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
| JP2951808B2 (ja) | 1999-09-20 |
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