JPH0626823B2 - 光ディスク製造装置 - Google Patents

光ディスク製造装置

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JPH0626823B2
JPH0626823B2 JP62259904A JP25990487A JPH0626823B2 JP H0626823 B2 JPH0626823 B2 JP H0626823B2 JP 62259904 A JP62259904 A JP 62259904A JP 25990487 A JP25990487 A JP 25990487A JP H0626823 B2 JPH0626823 B2 JP H0626823B2
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photopolymer
disc
stamper
disk
center boss
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柳太郎 林
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、紫外線等の放射線で硬化する液状の放射線硬
化樹脂(以下、フォトポリマと称する。)を用いて微小
凹凸を担持する転写層を有する光ディスクを製造する装
置に関する。
背景技術 従来から、透明な円板上に、情報信号としてピット列を
同心円状若しくは渦巻き状に形成した光ディスクや、あ
るいはディスク完成後、レーザスポットによって追記で
きるように渦巻き状案内溝を形成した光ディスクが知ら
れている。かかる光ディスクの表面にピット列、案内溝
等の微小凹凸を形成した光ディスクの製造方法として
は、例えば特開昭53−116105号公報,特開昭5
4−23501号公報,特開昭58−36417号公報
等に記載されたものがある。いずれの製造方法において
も、円板上にフォトポリマを担持させ、その上に所定微
小凹凸(パターン)を有するスタンパの転写領域を接触
させ、紫外線照射によってフォトポリマを硬化させて転
写層を円板上に形成させている。
しかしながら、いずれの方法においても、円板−スタン
パ間にフォトポリマを拡げる場合、フォトポリマ中に微
小気泡が混入するという欠点がある。一般に、光ディス
クの半径方向におけるピット列間隔は約1.6μmと小
さい。従って、転写工程におけるフォトポリマ中の気泡
の混入は、ピットあるいは案内溝を欠落させる有害なも
のである。
円板−スタンパ間のフォトポリマ中の気泡の混入を防ぐ
技術としては、本出願人による特開昭60−26104
7号公報に開示した光ディスク製造方法がある。この従
来の製造方法を第16図の光ディスクの製造方法の部分
概略断面図に基づいて説明する。
先ず、第16図(a)に示す如く、ベース2上の所定位
置に固定されたスタンパ1上にフォトポリマを供給す
る。その後、センターボス3の外周のフランジ部にPM
MAからなる透明円板4を載置する。
次に、センターボス3を下降させて円板4をスタンパ1
上のフォトポリマ5に接触させる。この状態ではフォト
ポリマ5中には気泡が存在している。
次に、第16図(b)に示す如く、スタンパ1及び円板
4の外周がフォトポリマ5を介して密着するように円板
4上の外周部を外周押さえ部材(リング)で固定する。
次に、第16図(c)に示す如く、センターボス3近傍
を加圧してセンターボスを上昇させ、円板4の内周部を
上方向に押圧する。ここで円板4は、外周部を外周リン
グ6により固定されているために、図示の如く傘状ある
いはコニーデ形状に変形する。このときベース2の中央
凹部上に円板4及びスタンパ1間に偏平円垂形状の閉空
間が形成される。そして、センターボス3の上昇と共に
フォトポリマ5は外周側へ広がって行く。この際、フォ
トポリマ5中の直径0.5mm以上の大きな気泡はフォ
トポリマの外への広がりによって消滅し、それ以下の直
径の気泡は環状になったフォトポリマ溜りの内周側に集
まる。
ここで、センターボス3、円板4及びスタンパ1間に形
成された閉空間は、センターボス近傍を加圧又は減圧さ
せる気体圧制御装置に連通されているので、該気体圧制
御装置によって密閉状態のベース2の中央凹部から僅か
に気体を送込み加圧するとフォトポリマ5の最内周を振
動させた形となり、フォトポリマ中の気泡は消滅する。
次に、第16図(d)に示す転写工程の如く、中央凹部
の密閉状態を保ちつつ加圧を止め、気体を引き、減圧し
てゆくと大気圧との差圧によりスタンパ1と円板4の間
にフォトポリマ5が外周部から内周側に向かって進んで
ゆく。そしてセンターボス3を下降させる。ここで外周
部から内周側に向かって順次進んでゆくフォトポリマ5
は、円板4とスタンパ1との間に介在し消費され転写領
域の最内周部に達しスタンパ1の最内周部に達する以前
に完全に消費されて無くなるか又はスタンパ1の最内外
周部に吐出する。
次に、第16図(e)に示す如く、更にセンターボス3
の下降を続け、円板4全面がスタンパ面と略同一平面に
なるまでセンターボス3の下降させ、所定位置で停止さ
せる。
次に、センターボス3の内周部下側近傍の閉空間の減圧
状態はそのままで外周押えリング6を外し、紫外線を照
射してフォトポリマ5を硬化させる。
フォトポリマ5の硬化後、センターボス3を上昇させて
スタンパ1から円板4を剥離させれば、スタンパ1の微
小凹凸を転写した硬化フォトポリマの転写層5を担持し
た円板4が得られる。
しかしながら、従来の製造装置において、第16図
(a)に示す如く、ベース2上の所定位置に固定された
スタンパ1上にフォトポリマを供給する場合、ベース2
が固定されフォトポリマ吐出装置が回転してフォトポリ
マを供給する装置が用いられていた。また各操作工程に
おいて人力で円板等の移動が行われていた。したがっ
て、スタンパに埃が付着したり、フォトポリマに気泡が
混入したりすることがあり、製造される光ディスクの歩
留りが低下するという欠点があった。
発明の概要 本発明は、前記のような従来の欠点を解消するためにな
されたものであり、粉塵等を発生させることが少なく、
さらに転写工程でフォトポリマに気泡混入が少なくかつ
小型化が容易な光ディスク製造装置を提供することを目
的とする。
本発明の光ディスク製造装置は、光学的パターンを担持
するスタンパと円板との間に液状の放射線硬化樹脂を充
填させ、放射線硬化樹脂を硬化させて光学的パターンに
対応する転写層を円板上に形成する光ディスク製造装置
であって、フレーム上を移動自在な支持部材と、スタン
パを担持する平坦部を有しその中央部に凹部を有して支
持部材に回転自在に支持されたターンテーブルと、凹部
内に配置されかつターンテーブルと同一回転軸の周りに
ターンテーブルと一体的に回転自在でかつ回転軸に沿っ
て移動自在に支持部材に支持されたセンターボスと、セ
ンターボス上に載置される円板の外周部を平坦部に押圧
する押圧手段と、凹部に連通して凹部内の気圧を調節す
る気体圧制御手段とからなることを特徴とする。
実施例 以下に、本発明の一実施例を添附図面に基づいて説明す
る。
第1図及び第2図は、かかる実施例の光ディスク製造装
置の概略を示す正面図及び平面図である。かかる光ディ
スク製造装置においては、略直方体の装置筐体10の上
部面に長手方向に伸長した矩形断面の案内溝11を設
け、案内溝11中の溝に沿って架設されたレール12上
にて水平(図中、左右方向)に移動自在な移動ベース1
3が設けられている。
第3図の部分切欠断面図に示す如く、移動ベース13の
直方体のベース筐体14中には、スタンパ15を担持す
る円形の水平平坦部16(スタンパベース)とその中央
に設けられた凹部17とを有する回転自在なターンテー
ブル19と、中央凹部17内に配置され水平平坦部16
に垂直に移動自在となるようにセンターボス支持体18
中にターンテーブルと一体的に回転自在に載置されるセ
ンターボス20とが設けられている。ターンテーブル1
9は、センターボス20の長手方向中央軸線の周りを回
転するようにベアリング21a及びギア22を介してモ
ータ23に接続されている。ターンテーブルには、水平
平坦部16をターンテーブル19に対して水平に微小移
動させるためにマイクロメータ付きの偏芯調節機構が設
けられている。よって、水平平坦部16は、ターンテー
ブル上において水平面のxy方向に調節自在である。セ
ンターボス20上部の頭部には、透明円板の中心孔の内
周部分に頭部が嵌合して円板が載置自在になるように周
囲にフランジ24が設けられ、さらに、エアーシリンダ
機構25により円板の中心孔の内周部を内部から開いて
固定するチャック26がフランジ24の上部に設けられ
ている。このチャックは作動時に固定すべき円板の中心
孔の内径と同一の外径を有する円筒となり、その円筒軸
線はセンターボス及び円板の芯合せに用いセンターボス
の中心軸線と一致している。
更に、センターボス20には、モータ27、カム28等
からなるセンターボス上昇機構が接続されている。該セ
ンターボス上昇機構は、センターボスのフランジ平面
(円板担持面)をスタンパ15の主面から形成すべき転
写層の厚さ分だけ高い平面に位置(最下部位置)させ、
さらに、それより高い任意の位置に円板が移動できるよ
うに構成されている。
第4図は、円板29及びスタンパ15間にフォトポリマ
30を介して円板29をフランジ24に載置してセンタ
ーボスを最下部位置においた場合の凹部17近傍の拡大
部分断面図である。センターボス支持体18の周囲にベ
アリング21aを設け、さらにエアーシリンダ25の周
囲にベアリング21bを設けてターンテーブル19及び
センターボス20が回転できるように構成されている。
凹部17の底部壁はセンターボス支持体18の上部面で
あり、そこには、凹部内の気圧を加圧又は減圧調整する
ために、気体圧制御装置に連通する気体通路31の開口
31aが設けられている。
更に、凹部17の底部には、スタンパ及び円板間から溢
れるフォトポリマを吸引する吸引ノズル32が設けられ
ている。かかる吸引ノズルは、第4図に示す如く、固定
されたスタンパ15の中心孔の内周部近傍すなわち、中
央凹部の内周縁部に向けて開口した吸引口32aを有す
る管部材32bと、該管部材を凹部の底部壁に固定する
台座32cとからなっている。また、吸引ノズル32
は、センターボス支持体18中の気体通路33を経て気
体圧制御装置に連通している。
かかる気体通路31及び33は気体圧制御装置に接続さ
れているが、気体圧制御のために気体通路31には、大
気に連通させるための開閉を行う電磁弁34が設けら
れ、さらに、吸引ノズル32による吸引時に凹部17内
の圧力と大気圧との気圧差が一定となるように気体リー
ク量を設定するリーク弁35が設けられている。また、
気体通路31には初期接触時及び円板剥離時に加圧気体
を凹部17内へ供給する加圧ポンプ36とそれを開閉す
る電磁弁37が設けられている。さらに気体通路31に
は、押圧消泡時に凹部17内を減圧する減圧ポンプ38
とそれを開閉する電磁弁39とバッファタンク40とが
設けられている。
かかるバッファタンク40は、減圧ポンプ38による減
圧時に急激に凹部内を減圧させず徐々に減圧させるため
に、所定容量の空間を有している。電磁弁39及び減圧
ポンプを作動させた場合に、先ず、タンク40内が減圧
され続いて凹部17内が減圧される。
かかる凹部17内の緩やかな減圧を達成するためには、
バッファタンク40の代りに、第4図の破線にて示す配
管系として気体通路31に並列に例えば6個の電磁弁3
9aないし39fを設けて減圧ポンプ38に連通させる
ことができる。かかる電磁弁39aないし39fの群に
おける弁を1個づつ順に開放することにより、徐々に凹
部17内を減圧させることもできる。
さらに気体通路33には、電磁弁41を介してフォトポ
リマを吸引する吸引ポンプ42が設けられている。かか
る電磁弁34、37、39(39aないし39f)及び
41とポンプ36、38及び42とは気体圧制御装置を
なしており、制御装置200によってそれぞれ制御され
ている。
また、凹部17上の水平平坦部16の中心孔の内周部に
は金属リング50が嵌入されている。金属リング50は
押え環状部材51上にOリング52を介してネジ53に
よって固定されている。金属リング50の外径は、スタ
ンパの中心孔内径より嵌合可能程度の大きさとしている
ので、スタンパ内周のバラツキを吸収できる。この金属
リング50の挿着は凹部上方から装入してネジ53で金
属リング上端面とスタンパ面が面一となるように調整さ
れる。また、金属リングを離脱するときは、押えネジ5
4を外して下方から金属リング50を外す。
押圧消泡工程中や放射線照射後の剥離中などにおけるフ
ォトポリマを介した円板29とスタンパ15との密着状
態から円板及びスタンパが離される場合、スタンパ中心
孔の内周部分に過度の応力がかかり当該部分を疲労させ
ることになるけれども、かかる金属リング50の挿着に
よって、スタンパ内周部分の疲労を防止できる。金属リ
ング50が当該応力を受けてスタンパ内周部分には下方
の応力しか及ばないためにスタンパ15の寿命を延すこ
とができる。
第4図に示す如く、吸引ノズル32は、センターボスを
中心に半径方向に向かうように1個しか設けていない
が、同様に複数個を設けても良い。吸引ノズルを複数化
することにより、溢れるフォトポリマ30を素早く吸引
することができる。
第3図に示す如く、ベース筐体14の外部底部壁には、
筐体10の案内溝11に沿って架設された一対のレール
12に係合する受け部55が設けられている。また、ベ
ース筐体14の内部底部壁には、ターンテーブル19の
周囲とベース筐体14との間隙からの下方気体流をベー
ス筐体14から装置筐体10へと通過させるように電動
ファン56及び複数の貫通孔57が設けられている。同
様に、第5図に示す如く装置筐体10の案内溝11の底
部壁にも下方気体流ための複数の貫通孔57が設けられ
ている。これらの構成により装置の各筐体10、14が
負圧室となり下方気体流が生じるので、各筐体内部のギ
ア等の駆動部材から発生する埃をターンテーブル上に舞
い上らせることが無くなり、転写工程における埃の存在
を少なくできる。なお、装置筐体10には、外部へ気体
を排出する排気口58を設け、下方気体流を発生させる
電動ファン56を装置筐体14に設けることもできる。
筐体の各壁部の複数の貫通孔57を設けるためには、金
網、パンチメタル板を用いることもできる。
また、移動ベース13は、例えばレール12をウォーム
とし受け部55をラックとして、筐体10内に設けられ
たモータ59によってウォームを回転させて案内溝11
中にて水平に移動可能となっている。
更に、筐体10は第2図に示すごとく、初期設定、第
1、第2及び第3ステーション(O、I、II及びIII)
に区分されており、移動ベース13が案内溝11中をレ
ール12上にて移動して各ステーションに停止して所定
工程における操作を受けるようになっている。先ず、筐
体10の案内溝11の一方の端部における初期設定ステ
ーションOにおいては、ディスプレー100及び顕微鏡
101からなる偏芯調節監視装置が、案内溝11の端部
に沿って筐体10上に設けられている。移動ベース13
を顕微鏡101の下に停止させて筐体10側の偏芯調節
監視装置及び移動ベース13側のマイクロメータ付きの
偏芯調節機構によって、スタンパの環状転写領域とター
ンテーブル及びセンターボスとを芯合わせして、環状転
写領域がセンターボスの中心軸周りに同心円的に回転す
るように調整できる。
また、筐体10の案内溝11の他方の端部における第1
ステーションIにおいては、第5図に示す如く、フォト
ポリマ吐出機構110と、初期接触機構120と、余剰
フォトポリマ吸引機構130とが案内溝11の端部を囲
むように三方に配置されている。
フォトポリマ吐出機構110は、第6図に示すごとく、
筐体に固定された回転軸回転機構111に枢支されター
ンテーブル平面に平行に揺動自在のアーム112を備
え、アームの自由端部には、フォトポリマを適下する吐
出ノズル113を有しており、スタンパの主面にフォト
ポリマを供給する。
初期接触機構120は、第7図(a)に示すごとく、筐
体に固定された回転軸回転機構121に枢支されターン
テーブル平面に平行に揺動自在のアーム122を備え、
アームの自由端部には押圧体123を有している。アー
ムを円板上に揺動させて押圧体123を下降させること
により押圧体で円板を傾動させフォトポリマへ強制的に
接触させる。初期接触機構120は、押圧すべき円板の
種類、例えばポリカーボネート、エポキシ、PMMAに
対応して最適な押圧力を付与するために、押圧体123
の下降速度を制御したり、異なる材質、形状及び重さの
押圧体に交換することができる。また、第7図(b)に
示すごとく、押圧体123に代えて楔傾動体123aを
アーム自由端部に設けて下降する円板の下方から支える
ようにして円板を傾動させフォトポリマへ円板を強制的
に接触させることもできる。
余剰フォトポリマ吸引機構130は、第8図に示すごと
く、装置筐体10に固定された回転軸回転機構131に
枢支されターンテーブル平面に平行に揺動自在のアーム
132を備え、アームの自由端部には吸引ノズル133
を有しており、スタンパ及び円板間から溢れる余剰フォ
トポリマを吸引する。吸引ノズル133は矢印Aに示す
方向にバネ等により付勢されているので、吸引ノズルの
長手方向に伸縮自在となっている。この構成により、円
板の周縁部にバリ、歪み等が生じていたとしても、円板
回転時に吸引ノズルが円板周囲を適正に追従し、フォト
ポリマの吸引むらを防止することができる。
第5図に示す如く、吸引ノズル133を有する余剰フォ
トポリマ吸引機構130は、案内溝11に向かうように
1個しか設けていないが、同様に複数個を筐体10上に
設けても良い。吸引ノズルを複数化することにより、溢
れるフォトポリマを素早く吸引することができる。
なお、各機構110、120及び130のアーム部は非
作動時には筐体10上に位置し、作動時にはターンテー
ブル上まで揺動し、吐出ノズル113、押圧体123
(楔傾動体123a)及び吸引ノズル133が所定処理
を円板に行う。
また、各機構110、120及び130においては、そ
の各アーム部をターンテーブル平面に略垂直に平行移動
させるエアーシリンダ機構が各回転軸回転機構111、
121及び131に備えられている。更に、各機構11
0、120及び130における各エアーシリンダ機構に
よる昇降、各回転軸回転機構による回転、吐出ノズル1
13からのフォトポリマの吐出、及び吸引ノズル133
による吸引については各々独立した装置、例えばモー
タ、電磁弁等によって行われ第1図に示す制御装置20
0によって制御されている。
隣の第2ステーションIIにおいては、円板及び硬化した
フォトポリマをスタンパから剥離する際に円板にイオン
化された気体を吹付ける剥離除電器140が、案内溝1
1に渡って該案内溝を横切るように架設されている。剥
離除電器140は、第9図に示すごとく、案内溝11を
挟んだ筐体10上に渡され固定された管141に移動ベ
ース13上のターンテーブル平面に向けて複数の気体噴
出開口142を設けて、管の側部から気体をガスフィル
タ143を介して気体通路144から導入し、該管に電
線145により電圧を印加して、イオン化気体を移動ベ
ースの軌道上に噴出させるものである。
続いて、第2図に示す如く第3ステーションIIIにおい
ては、フォトポリマを挟持するスタンパ及び円板の外周
部を密着させつつ固定する外周リング150を有する押
圧消泡機構151が筐体の案内溝11に沿って筐体10
上に設けられている。押圧消泡機構は、第10図に示す
ごとく、外周リング150と、外周リング150を支え
る一対のアーム152と、外周リング150及びアーム
152を上下動させるシャフト153および昇降機構1
54とからなり、外周リング150をターンテーブル平
面に対して平行に上下動させる。この押圧消泡機構は外
周リングの内周部分に内周リング155を有し、内周リ
ング155は同心円状に遊嵌され外周リングから釣支さ
れるように複数のボルト156によって取付けられてい
る。外周リング150は、台座157に取付けられかつ
シリコンスポンジリング158を挟持するアクリルリン
グ159からなる三層構造の環状体であるので、円板に
対して押圧力を均等にかけ、更に円板との接触時の衝撃
を和らげる。
また、内周リング155は第11図(a)に示す如く、
円板29を押圧する以前は、外周リング150の円板へ
の押圧面より内周リング155の押圧面が下方に突出す
る金属又はプラスチックの環状体である。外周リングの
押圧面は、内周リングのそれより面積が大である。よっ
て、第11図(a)及び(b)に示す如く、外周リング
150が下降する場合、内周リング155が先に円板2
9に当接し、続いて外周リング150が当接する。この
ようにして外周リング及び内周リングは、円板上の全外
周部を固定する。
第2図に示す如く、第3ステーションIII及び初期設定
ステーションOの間においては、紫外線ランプを有する
輻射線照射器160が案内溝11を横切るように筐体1
0上に架設されている。円板が移動ベース13と共に輻
射線照射器160の下を移動しつつ紫外線を受けるよう
に、紫外線ランプは移動ベース13の軌道上に向けられ
ている。
また、移動ベース及び各ステーションにおける各機構を
制御する制御装置200は、第12図に示す如く、少な
くとも移動ベース移動用モータ59、ターンテーブル回
転用モータ23、センターボス上下移動用モータ27、
センターボスの頭部に設けられたチャックを駆動させる
エアーシリンダ25、フォトポリマ吐出機構110、初
期接触機構120、余剰フォトポリマ吸引機構130、
剥離除電器140、押圧消泡機構151、輻射線照射器
160、ターンテーブル中央凹部内の大気に連通させる
ための開閉を行う大気連通用電磁弁34、初期接触時及
び円板剥離時に加圧気体を凹部内へ供給する加圧ポンプ
36、加圧ポンプ連通用電磁弁37、押圧消泡時に凹部
内を減圧する減圧ポンプ38、減圧ポンプ連通用電磁弁
39又は電磁弁39aないし39f、吸引ノズルに連通
されかつフォトポリマを吸引する吸引ポンプ42、並び
に吸引ポンプ連通用電磁弁41を操作部180からの指
令に基づいてそれらの駆動を制御するコントローラ18
1を有している。制御装置200は、気体圧制御装置の
制御をも兼ねている。
(実施例の動作) 第13図(a)ないし(n)は、本実施例の光ディスク
製造装置の転写工程における部分概略断面図である。か
かる転写工程を順に説明する。
(1)芯合わせ工程 先ず、装置の初期設定ステーションOへ移動ベースを移
動させそこで停止させる。第1図(b)に示す如く、水
平平坦部にスタンパ15を装着したターンテーブルを回
転させる。顕微鏡101によってスタンパの環状転写領
域周縁を拡大してディスプレー100に映す。偏芯によ
る環状転写領域周縁の揺れがなくなるように偏芯調節機
構によって水平平坦部16を微少移動させる。このよう
にして、スタンパの環状転写領域とセンターボスとを芯
合わせし、環状転写領域がセンターボスの中心軸周りに
同心円的に回転するように調整を行う。
(2)フォトポリマ吐出工程 次に、初期設定ステーション0から第1ステーションI
へ移動ベースを移動させそこで停止させる。第13図
(a)に示す如く、スタンパを装着したターンテーブル
19を回転させる。フォトポリマ吐出機構のアーム部を
スタンパ上へ枢動させ、その自由端部の吐出ノズル11
3から所定量のフォトポリマ30を回転するスタンパの
環状転写領域上に滴下させる。フォトポリマは環状転写
領域上にて環状の堤の如く供給される。(第13図
(a))。環状の堤のフォトポリマの位置は、後の押圧
消泡工程における外周リング150に設けられた内周リ
ング155の環状押圧面に対応する位置の近傍である。
その後、アーム部を筐体上の元の位置へ枢動させる。フ
ォトポリマの環状堤形状を崩さないようにターンテーブ
ルの回転を停止させる。
その後、センターボス20を最上部位置に上昇させPM
MAからなる平坦な透明円板29をその内周がセンター
ボス頭部に嵌合するようにフランジの水平担持面に載置
する。
(3)初期接触工程 次に、第13図(c)に示す如く、移動ベースを第1ス
テーションIに維持させながら、センターボス20を最
下部位置まで下降させて(下方矢印)円板29をスタン
パ上の環状堤形状に盛上がったフォトポリマ30に接触
させる。
この下降途中においては、円板とフォトポリマとを急激
に接触させるとフォトポリマ中に気泡を発生させるの
で、第4図に示す如く、下降の途中からターンテーブル
の中央凹部17の気体通路31を介して電磁弁37のみ
を開放して加圧ポンプ36により加圧気体をセンターボ
ス近傍へ供給して、弱い上昇気体流(上方矢印)を発生
させる。この気体流によって円板の下降速度を低下させ
環状堤形状のフォトポリマと円板との急激な接触を回避
させる。この円板29とフォトポリマ30との接触は、
第14図(a)、(b)及び(c)の順に示す如く、フ
ォトポリマの環状堤上の峰の或一点からその峰に沿って
接触面310が徐々に広がるように行われる。このと
き、中央凹部17から気体が未接触の環状堤の峠部32
0に向け流れる(横方矢印)。この初期接触(第14図
(a))が行われた時点で、加圧気体のセンターボス近
傍への供給を停止する。
よって、フォトポリマの環状堤の峠部320が気体の抜
け口となる。通常、円板とフォトポリマとは、フォトポ
リマの表面張力の作用により急速に引寄せられポリマ中
に気泡を巻込むけれども、このように、かかる抜け口3
20からの気体流出により微小角度で徐々に接触が行な
われるので、フォトポリマ内への気泡の巻込みを極めて
減少させることができる。
この初期接触工程では、第13図(d)および(e)に
示す如く、センターボス20の下降途中におけるセンタ
ーボス近傍への加圧流体の供給と同時に、初期接触機構
120を駆動させる。初期接触機構のアーム部を下降途
中の円板29上へ枢動させ、その自由端部の押圧体12
3を下降させて円板を押圧する。または、楔傾動体12
3aを有する初期接触機構の場合(破線)は、そのアー
ム部を下降途中の円板29下へ枢動させ、楔傾動体12
3aを停止させるかまたは低速度下降させて円板を下方
から押圧する。
このようにして円板29が傾き、その一部がフォトポリ
マの環状堤の峰と接触する。この円板及びフォトポリマ
の初期接触点から環状堤の峰にそって徐々に接触面が広
がる。初期接触点(第14図(a))を形成してから、
加圧気体のセンターボス近傍への供給が停止させると共
に、アーム部を筐体上の元の位置へ枢動させて初期接触
機構の駆動を停止させる。
このように、下降する円板に対して上昇させようとする
凹部からの加圧気体による抵抗があるにもかかわらず、
押圧体によって強制的に円板を傾かせることにより、下
降する円板が最初にフォトポリマへ接触するまでの時間
を短縮することができる。
気体圧制御装置による気体の供給を電磁弁37を閉塞し
て停止すると共に、気体通路31に連通する電磁弁34
を開放させてターンテーブルの中央凹部17と外部とを
連通させ次工程に備える。
(4)押圧消泡工程 次に、第1ステーションIから第3ステーションIIIへ
移動ベースを移動させそこで停止させる。センターボス
20の頭部のチャックを作動させ、円板を最下部位置に
固定する。このとき仮に円板29の芯合せが行われる。
次に、第13図(f)に示す如く、外周リング150を
下降させる。
この場合、外周リング150の内周部分には内周リング
155が突出して遊嵌されているので、第11図に示す
如く、先ず内周リングが先に円板に当接し、続いて外周
リングが当接する。外周リング及び内周リングはスタン
パ及び円板の外周がフォトポリマを介して密着するよう
に円板上の全外周部を固定する。そしてフォトポリマ3
0は、外周側に向いつつ円板29とスタンパ15との外
周部間に充填され、それらの最外周部から吐出する。こ
のとき、当接面積の小さい内周リング、当接面積の大き
い外周リングの順で円板下のフォトポリマを気泡ととも
に移動させるので、外周リング及び円板下のフォトポリ
マに気泡が含まれることは極めて少なくなる。
次に、センターボス20の頭部のチャックを緩めて、次
工程で円板の内周が傷付かないようにする。
次に、第13図(g)に示す如く、センターボス20を
上昇させる(上方矢印)。円板は、外周部を外周リング
により固定されているために、図示の如く傘状あるいは
コニーデ形状に変形する。このとき、凹部内空間に続く
円板及びスタンパ間に偏平円垂形状の閉空間が形成され
る。円板29及びスタンパ15間が剥がれる境界におい
て、フォトポリマ30は、環状のフォトポリマ溜りとな
り、センターボスの上昇と共に外周側へ広がって行く。
次に、第13図(h)に示す如く、センターボスを所定
上部位置に停止させる。ここで、第4図に示す中央凹部
17に連通する電磁弁34及び37を閉塞し外部及び加
圧ポンプ36と閉空間との連通を断ち、電磁弁39(又
は電磁弁群の一つ)を開放して減圧ポンプ38へ気体通
路31を繋ぎ、減圧を開始する(下方矢印)。すると負
圧気体がフォトポリマ溜りの内周部を振動させ、フォト
ポリマ中の気泡を減少させる。
かかる減圧操作をなす場合には、急激に減圧を行うとフ
ォトポリマ溜りが気泡を巻き込むので、緩い曲線を描く
ような減圧特性にて徐々に減圧する。
第4図に示す如く、凹部17に連通する気体通路31に
複数の例えば6個の電磁弁39aないし39fを並列に
設けてあるので、減圧開始から所定時間内に順に開弁す
ることによって所定の減圧曲線にて所定の真空度が達成
される。
この際、例えば8インチ円板の転写の場合、かかる電磁
弁群の開弁による減圧は第1表の如き条件によって行わ
れる。
この場合、第15図の如き勾配の減圧曲線となる。図示
するように、6個の黒点は順に開弁する電磁弁39aな
いし39fの開弁するタイミング及びその時点の真空度
を示している。
このように、8インチ円板の場合、22秒間をかけて1
00mmHgの真空度にすると気泡の巻込が殆どなくな
る。ゆっくりと減圧させることでフォトポリマ中への気
泡の巻込を防止できる。
この閉空間の減圧条件は、フォトポリマの粘度やその
量、円板の大きさ、すなわちコニーデ形状の閉空間の容
積等に影響される。例えば500cP以下の粘度のフォ
トポリマを用いて8インチ円板及び5インチ円板の場合
で行ってみると、次のような結果になった。減圧所定真
空度を100mmHgとして8インチ円板の場合、所定時
間が10秒以下では気泡の巻込が多くなる。また、5イ
ンチ円板の場合では、所定時間を数秒まで短縮しても気
泡の巻込を防止できた。所定時間を22秒以上としても
かまわないが装置の処理時間が長くなる。いずれの所定
時間でも30〜500mmHgの真空度の範囲が使用可能
である。30mmHg以下では小泡が消えないし、500
mmHg以上ではセンターボス最下部位置においてフォト
ポリマがスタンパ内周から多量に吐出してしまいフォト
ポリマの膜厚が確保できなくなる。
なお、かかる減圧曲線特性で減圧を行うために、第4図
の破線に示す凹部17に連通する気体通路31に6個の
電磁弁39aないし39fを並列に設け、それらを減圧
開始から22秒内に順に開弁することによって100mm
Hgの真空度が達成されているけれども、減圧時に22
秒内に100mmHgの真空度となるような略直線的な減
圧曲線を持たせるように、予め第4図の実線に示すバッ
ファタンク40の容量を圧力ゲージ等を用いて初期設定
しておくことにより、気体圧制御装置が簡略化される。
この場合、減圧ポンプ前に接続されるバッファタンクを
種々容積の異なるバッファタンクに交換すれば電磁弁3
9の開弁操作のみによって、所望の減圧特性を得ること
ができる。
次に、中央凹部17及び閉空間の減圧状態を保ちつつ、
センターボスを下降させる。スタンパと円板との間のフ
ォトポリマ溜りが外周部から内周側に向かって進んで、
フォトポリマ30は円板29とスタンパ15との間に均
一に充填される。
次に、第13図(i)に示す如く、センターボス20の
円板を載置したフランジの担持面が最下部位置になるま
でセンターボスの下降させ、停止させる。そしてフォト
ポリマ溜りは、環状転写領域の最内周部に達し、残留す
る気泡とともに最内周部から凹部17へ吐出する。
このように円板外周を固定し、内周を昇降させてフォト
ポリマを移動させることにより、従来のスタンパの周方
向の不均一なフォトポリマの充填が回避され、均一に気
泡の巻込がなくフォトポリマを円板−スタンパ間に充填
できる。
次に、センターボス20の近傍の凹部閉空間の減圧状態
を維持し、外周リングを上昇させてる。
(5)余剰フォトポリマ吸引工程 次に、第13図(i)及び(j)に示す如く、ターンテ
ーブル19を回転させて同時に、ターンテーブル中央凹
部に固定された吸引ノズル32を有する内部余剰フォト
ポリマ吸引機構を作動させる。吸引ノズル32の吸入口
がスタンパの内周部全周に沿って吐出した余剰フォトポ
リマを吸引する。
このとき第4図に示す如く、吸引ポンプ42で吸引する
ために中央凹部17の閉空間の真空度が上昇してしまう
ので、それを防止するリーク用の電磁弁34のみを開放
して凹部と外部とを連通させる。吸引開始と同時に、リ
ーク弁35を介して外気を導入し、吸引ノズルの吸引量
を気体圧制御装置によって調整することにより100mm
Hgの真空度を維持する。また、リーク弁35において
は、このように真空度を吸引ノズル32の吸引によって
維持させるために圧力ゲージにより吸引時の真空度を測
定しながら予めリーク弁の気体リーク量を初期設定して
ある。
次に、第3ステーションIIIから第1ステーションIへ
移動ベースを移動させ、そこで停止させる。
このとき、第13図(j)に示す如く、円板の全面を覆
うように円形のカバーマスク169が円板29上に載置
される。そして、外部余剰フォトポリマ吸引機構130
を作動させる。アーム部が円板外周縁部上へ枢動し、そ
の自由端部の吸引ノズル133の吸入口が回転する円板
及びスタンパの外周部に沿って吐出している余剰のフォ
トポリマを吸引する。余剰フォトポリマの吸引後、カバ
ーマスク169を取外す。吸引ノズルによる余剰フォト
ポリマを吸引前のカバーマスク169の装着によって、
吸引時のフォトポリマの飛沫が円板表面に付着するのを
防止している。
次に、第13図(k)に示す如く、円板の外周縁部を覆
うように外周マスク170がターンテーブル上に載置さ
れる。外周マスク170は環状部材とそれを支える脚部
とからなり、脚部がターンテーブル周囲に位置するよう
に設けられ、環状部材が円板から離間している。また、
外周マスク170は、脚部を設けず直接円板に載置する
環状部材のみの外周マスクとしてもよい。外周マスク1
70によって円板の外周縁部への紫外線照射が遮られ、
後にその外周縁部のフォトポリマを硬化させるので、フ
ォトポリマの転写層の外周縁部のバリを発生させること
はない。また、外周マスク170によって紫外線の照射
をまぬがれる円板の外周縁部は、光ディスクを組立てる
際の外周スペーサの接着用糊しろとなる。
所定時間内に余剰のフォトポリマを円板の内外周から取
除き余剰フォトポリマ吸引機構の作動を停止する。
(6)放射線照射工程 円板29が外周マスク170で覆われ回転している状態
でセンターボス20の頭部のチャックを作動させ、円板
の芯合せを行う。
次に、第1ステーションIから第3ステーションIIIへ
移動ベースを移動させ、そこで停止させる。
センターボス頭部のチャックの作動を停止して円板29
がスタンパ上でフォトポリマ上に浮いている状態にす
る。かかる状態では、中央凹部が減圧されているために
円板のスタンパ15に対するずれが回避できる。
次に、第3及び初期設定ステーション0,III間に設け
られている紫外線照射ランプ160のシャッターを開け
る。紫外線照射ランプの下を円板29を回転させなが
ら、第13図(l)に示す如く、第3ステーションIII
から初期設定ステーション0へ、移動ベースを移動させ
る。次に、初期設定ステーション0から第2ステーショ
ンIIへ向けて円板を回転させながら移動ベースを移動さ
せる。このように、紫外線ランプの下を回転させつつ円
板を2回通過させ、紫外線を円板29に均一に照射して
フォトポリマを硬化させる。
この工程で、センターボス20の頭部のチャックを作動
させ円板の芯合せを行い固定して紫外線照射をせずに、
円板をフォトポリマ上に浮かせて紫外線照射を行う理由
は、フォトポリマの硬化中の転写すべきピットの形状を
維持するためである。センターボスのチャックを作動さ
せ円板を固定した場合、フォトポリマの硬化中にセンタ
ーボスの微小偏芯運動が起っているので、円板及びスタ
ンパ間にずれの応力が発生し正確なピットの形状を形成
できなくなるからである。
(7)円板剥離工程 次に、紫外線照射を行った後、初期設定ステーション0
から第2ステーションIIへ移動ベースを移動させ、円板
29の直径と剥離除電器のイオン化気体噴出開口の列と
が略一致する剥離除電器の下の位置で停止させる。ター
ンテーブルの回転を停止して第2ステーションIIの剥離
除電器を作動させてイオン化気体を噴出させつつ(下方
矢印)かつ凹部17から円板の下方から加圧気体を供給
させつつ(上方矢印)、剥離除電器の下において、セン
ターボス20を上昇させて(第13図(m))スタンパ
から円板を剥離させる(第13図(n))。このように
して、スタンパの微小凹凸を転写した硬化フォトポリマ
の転写層231を担持した円板29が得られる。
剥離除電器は案内溝に渡って架設され、移動ベース上の
円板の直径がイオン化気体の気体噴出孔列に一致するよ
うに停止されている。したがって気体噴出孔から噴出す
るイオン化気体は円板の主面に当る。イオン化気体は、
直接、転写層に当たらないが、スタンパから円板が剥さ
れるときに円板の表面に発生する静電気を打消して、静
電気による埃の付着を防止する。さらに、上から剥離除
電器のイオン化気体、下から中央凹部17の加圧気体を
それぞれ印加し、ターンテーブル外周部と筐体との間隙
から下方へ気体を吸引しているので、円板剥離中の硬化
フォトポリマの微小破片が、スタンパ15上に舞い降り
ることを防止できる。
次に、第2ステーションIIから第1ステーションIへ移
動ベースを移動させそこで停止させる。外周マスクを取
り外し、完成した転写層付円板を取外す。
このように第1ステーションIないし第3ステーション
IIIにおけるかかる一連の工程を繰り返し実行すること
により順次、転写層付円板が得られる。
従来装置によれば装置を休止する場合などにはスタンパ
上に保護フィルムを貼付してスタンパの保護を行ってい
たが、この場合、フィルムの糊が気泡を巻き込みフィル
ム及びスタンパ間に気泡を残すことになり、かかる気泡
がスタンパ上にしみを発生させることがあった。またさ
らに、フィルムでは薄いため十分な保護とはいえなかっ
た。しかし本発明装置では、放射線照射工程の後、製造
工程を終わりにすれば、円板が保護膜となってスタンパ
の保護が確実にできる。
発明の効果 上述のように本発明によれば、ターンテーブル、センタ
ーボス及び気体圧制御手段を有しかつ、外周リング及び
センターボスの協働でフォトポリマ中の気泡を除去する
押圧消泡手段を有する光ディスク製造装置において、タ
ーンテーブル、センターボス及び気体圧制御手段を一体
とした移動ベースとしそれを筐体上にて移動自在とする
ように構成している故に、粉塵等を発生させることが少
なく、さらに転写工程でフォトポリマに気泡混入が少な
くかつ小型化が容易な製造装置となる。従って、本発明
の装置により得られる光ディスクは、その信号転写層の
気泡による再生時のドロップアウトが少ないものとな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の製造装置の概略を示す正面図、第2図
は本発明の製造装置の概略を示す平面図、第3図は本発
明の製造装置の移動ベースの概略を示す部分切欠断面
図、第4図は本発明の製造装置の移動ベースのセンター
ボス近傍の概略を示す拡大断面図、第5図は本発明の製
造装置の筐体及び移動ベースを説明するための概略側面
図、第6図は本発明の製造装置のフォトポリマ吐出機構
を説明するための概略側面図、第7図(a)及び(b)
は本発明の製造装置の初期接触機構を説明するための概
略側面図、第8図は外部余剰フォトポリマ吸引機構を説
明するための概略側面図、第9図は第2図のB−B線に
沿った剥離除電器の概略部分断面図、第10図は本発明
の製造装置の押圧消泡機構を説明するための概略切欠側
面図、第11図(a)及び(b)は外周リングを説明す
るための概略断面図、第12図は制御装置の説明図、第
13図(a)ないし(n)は本発明の製造装置による製
造方法を説明するための概略断面図、第14図は初期接
触工程における円板の平面図、第15図はターンテーブ
ル中央凹部の減圧曲線を示すグラフ、及び第16図
(a)ないし(e)は従来の製造方法を説明するための
概略断面図である。 主要部分の符号の説明 10……筐体 13……移動ベース 15……スタンパ 20……センターボス 29……透明円板 30……フォトポリマ 32……吸引ノズル 110……フォトポリマ吐出機構 120……初期接触機構 130……余剰フォトポリマ吸引機構 140……剥離除電器 150……外周リング 155……内周リング
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29L 17:00 4F

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光学的パターンを担持するスタンパと円板
    との間に液状の放射線硬化樹脂を充填させ、前記放射線
    硬化樹脂を硬化させて前記光学的パターンに対応する転
    写層を前記円板上に形成する光ディスク製造装置であっ
    て、フレーム上を移動自在な支持部材と、前記スタンパ
    を担持する平坦部を有しその中央部に凹部を有して前記
    支持部材に回転自在に支持されたターンテーブルと、前
    記凹部内に配置されかつ前記ターンテーブルと同一回転
    軸の周りに前記ターンテーブルと一体的に回転自在でか
    つ前記回転軸に沿って移動自在に前記支持部材に支持さ
    れたセンターボスと、前記センターボス上に載置される
    円板の外周部を前記平坦部に押圧する押圧手段と、前記
    凹部に連通して前記凹部内の気圧を調節する気体圧制御
    手段とからなることを特徴とする光ディスク製造装置。
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