JPH062708B2 - 2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類の製造法 - Google Patents

2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類の製造法

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JPH062708B2
JPH062708B2 JP60130846A JP13084685A JPH062708B2 JP H062708 B2 JPH062708 B2 JP H062708B2 JP 60130846 A JP60130846 A JP 60130846A JP 13084685 A JP13084685 A JP 13084685A JP H062708 B2 JPH062708 B2 JP H062708B2
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペン
テノン類の新規な製造法に関する。
更に詳しくは、本発明はプロスタグランジン等のシクロ
ペンタン骨格を有する化合物の合成中間体として有用
な、2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノ
ン類の新規な製造法に関する。
4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類は、プロスタ
グランジン類の合成中間体として有用な化合物であり、
本発明の塩素原子を有する2−クロロ−4−ヒドロキシ
−2−シクロペンテノン類は、新規なプロスタグランジ
ン類の合成中間体として有用である。
<従来技術とその問題点> 従来、ハロゲン原子を有する2−シクロペンテノン骨格
を有する化合物の製造法としては米国特許第3,755,426
号明細書において、下記スキーム 〔式中、Xはハロゲン原子を表わす。〕 で示される経路により、あるいは本発明者らが別途出願
(特開昭60-13755、特開昭59-169200)している、下記
スキーム 〔式中、Xはハロゲン原子を、Rはアルキル類を表わ
す。〕 で示される経路により、2−シクロペンテノン骨格ある
いは2、3−エポキシシクロペンタノン骨格を有する化
合物からの2−ハロ−2−シクロペンテノン骨格を有す
る化合物の製造法が知られている。
この他にも、2−ハロ−2−シクロペンテノン類の製造
法としては例えば、2−シクロペンテノンにヨウ素アジ
ドを反応せしめる方法、α−クロル−α−セレニルケト
ン類より得る方法等〔ケー・ミツハシ(k.Mitsuhashi)
ら、ケミカル・アンド・フアーマシューテイカル・プレ
テイン(Chem.Pharm.Bul1.)、13、951(1965);ジー
・エル・ダン(9.L.Dunn)ら、テトラヘドロン・レター
ズ(Tetrahedron Lett.),3737(1966);ジェー・エ
ム・マツキントシュ(J.M.Mcintosh),カナデイアン・
ジヤーナル・オブ・ケミストリー(Can.J.Chem.),49,
3045(1971);デイー・ジエー・ブツクリー(D.J.Buck
ley)ら、ジヤーナル・オブ・ケミカル・ソサイエテイ
ー・ケミカル・コミユニケーシヨン(J.Chem.Soc.Chem
m.Commun.),506(1980)等〕が知られている。
しかしながら、これらの2−ハロ−2−シクロペンテノ
ン類の製造法中には、いずれも、4位に水酸基あるいは
保護された水酸基を有する4−ヒドロキシシクロペンテ
ノン類の製法に関する記述はない。
かかる4位に水酸基あるいは保護された水酸基を有する
2−シクロペンテノン、すなわち2−ハロ−4−ヒドロ
キシ−2−シクロペンテノン類は、例えば本発明者らが
別途出願(特願昭59-244587)した製造法により下記ス
キーム 〔式中、Xはハロゲン原子を表わし、RおよびR′は水
素原子または保護された水酸基の保護基を表わす。〕 で示される経路で2、3−エポキシ−4−ヒドロキシシ
クロペンタノン類より製造できる。しかしながらこの製
造法では2−ハロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテ
ノン類と供に5−ハロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペ
ンテノン類が生成し、これらの分離が難しいという欠点
があつた。
他方、従来、オレフイン化合物から誘導したエポキシ化
合物に金属塩化物を反応させることにより、クロロヒド
リン化合物を得る手法〔例えば、シヤープレス(Sharpl
ess)ら、ジヤーナル・オブ・オルガニツク・ケミスト
リー(J.Org.Chem.),50,192(1985)〕が知られてい
る。本発明者らは、かかるエポキシ化合物と金属塩化物
との反応を利用し、下記スキーム 〔式中、Rはアルキル基を表わす。〕 で示される経路により2、3−エポキシシクロペンタノ
ン類から、選択的に2−クロロ−3−ヒドロキシシクロ
ペンタノン類が得られ、2−クロロ−2−シクロペンテ
ノン類が製造できることを見出した(特開昭60−9226
2)。
<発明の目的> 本発明者らはかかる点に着目し、2−クロロ−4−ヒド
ロキシ−2−シクロペンテノン類の製造法を鋭意研究し
た結果、下記スキーム 〔式中、Rは保護された水酸基の保護基を表わす。〕 で示される経路により、4−ヒドロキシ−2−シクロペ
ンテノン類から、2、3−エポキシ−4−ヒドロキシシ
クロペンタノン類を得、これと金属塩化物を反応させた
ところ、4位の水酸基が保護された2−クロロ−3、4
−ジヒドロキシシクロペンタノンが得られ、さらに脱水
することにより、2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シ
クロペンテノン類が選択的に得られることを見出し、本
発明に到達したものである。
しかして、本発明の目的はプロスタグランジン等のシク
ロペンタン骨格を有する化合物の合成中間体として有用
な2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン
類の製造法を提供することにある。
<発明の構成> 本発明は、下記一般式〔I〕 〔式中、R1は保護された水酸基の保護基を表わす〕 で表わされる2−クロロ−3、4−ジヒドロキシシクロ
ペンタノン類を脱水反応に付し、必要に応じて脱保護反
応あるいは保護基の変換反応に付すことを特徴とする、
下記式〔II〕 〔式中、R2は水素原子または保護された水酸基の保護
基を表わす。〕 で表わされる2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロ
ペンテノン類の製造法である。
上記式〔I〕で表わされる2−クロロ−3,4−ジヒド
ロキシクロペンタノン類は、例えば、下記式〔IV〕 (式中、R1は上記定義に同じ。) で表わされる4−ヒドロキシ−2−シクロペンタノン類
をエポキシ化反応に付して、下記式〔III〕 (式中、R1は上記定義に同じ。) で表わされる2,3−エポキシシクロペンタノン類を
得、次いで該2,3−エポキシシクロペンタノン類をク
ロロ化反応に付すことによって得ることができる。
上記式〔I〕〔III〕〔IV〕においてRは保護された水
酸基の保護基を表わす。かかる保護された水酸基の保護
基としてはC2〜C7アシル基、トリ(C1〜C7)炭化水
素−シリル基、水酸基の酸素原子と供にアセタール結合
を形成する基またハベンジル基等を挙げることができ
る。
2〜C7アシル基としては、例えば、アセチル、プロピ
オニル、n−ブチリル、イソブチリル、n−バレリル、
イソバレリル、カプロイル、エナントイル、ベンゾイル
等を挙げることができる。
トリ(C1〜C7)炭化水素シリル基としては、例えばト
リメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチ
ルシリル基の如きトリ(C1〜C4)アルキルシリル、t
−ブチルジフエニルシリル基の如きジフエニル(C1
4)アルキルシリル又はトリベンジルシリル基等を挙
げることができる。
水酸基の酸素原子と供にアセタール結合を形成する基と
しては、例えばメトキシメチル、1−エトキシエチル、
2−メトキシ−2−プロピル、2−エトキシ−2−プロ
ピル、(2−メトキシエトキシ)メチル、ベンジルオキ
シメチル、2−テトラヒドロピラニル、2−テトラヒド
ロフラニル又は6、6−ジメチル−3−オキソ−2−オキ
ソ−ビシクロ〔3、1、0〕ヘキサ−4−イル基を挙げるこ
とができる。
これらの保護基のうち好ましいのはトリ(C1〜C7)炭
化水素シリル基であり、中でも、トリエチルシリル、t
−ブチルジメチルシリル基が好ましく、特にt−ブチル
ジメチルシリル基が好ましい。
上記式〔II〕においてR2は水素原子または保護された
水酸基の保護基を表わす。R2が保護された水酸基の保
護基を表わすとき、その具体例としてはR1で挙げたも
のと同じものが挙げられる。
上記式〔IV〕で表わされる4−ヒドロキシ−2−シクロ
ペンテノン類のエポキシ化反応の試薬としては、t−ブ
チルヒドロペルオキシドの如きアルキルヒドロペルオキ
シド類または過酸化水素が用いられ、過酸化水素あるい
はt−ブチルヒドロペルオキシドが好ましい。エポキシ
化反応の試薬として過酸化水素を用いる場合、過酸化水
素は無水のものも使用し得るが、90〜5%過酸化水素
水が通常用いられる。過酸化水素の使用量は、上記式
〔IV〕で表わされる4−ヒドロキシ−2−シクロペンテ
ノンに対し1〜50当量、好ましくは3〜20当量が用
いられる。エポキシ化反応は塩基性化合物の存在下に行
なうのが好ましくかかる塩基性化合物としては、テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド・ベンジルトリメチル
アンモニウムヒドロキシド等の如き四級アンモニウムヒ
ドロキシド類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の如き水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム等の如き炭酸塩などが挙げられ、好ましくは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の如きアルカリ金属
水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の如きアル
カリ金属炭酸塩が用いられ、特に好ましくは水酸化ナト
リウムが用いられる。塩基性化合物の使用量は、上記式
〔IV〕で表わされる4−ヒドロキシ−2−シクロペンテ
ノンに対し、0.01〜0.5当量、好ましくは0.05〜0.2当量
が用いられる。反応溶媒としてはメタノール、エタノー
ル、t−ブチルアルコール等の如きアルコール類;アセ
トン、メチルエチルケトン等の如きケトン類;ジオキサ
ン、ジメトキシエタン等の如きエーテル類等の過酸化水
素に対し不活性で水と混和する溶媒が挙げられ、好まし
くはメタノール、エタノール、t−ブチルアルコール等
の如きアルコール類が用いられ、特に好ましくはメタノ
ール、エタノールが用いられる。エポキシ化反応の反応
温度は好ましくは−20〜50℃、特に好ましくは−5
〜30℃の範囲である。エポキシ化反応の反応時間は使用
する原料化合物、試薬、反応溶媒、反応温度によつて異
なるが、通常5分〜5時間の範囲で行なわれ、好ましく
は10分〜1時間の範囲である。エポキシ化反応の反応
終了後、上記式〔III〕で表わされる2、3−エポキシ
−4−ヒドロキシシクロペンタノン類は通常の手段、例
えば抽出、水洗、乾燥、濃縮、クロマトグラフイー等で
精製分取することができるが、該2、3−エポキシ−4
−ヒドロキシシクロペンタノン類を単離することなく、
未精製の反応混合物をそのまま以下の反応に供すること
もできる。
4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類のエポキシ化
反応の試薬としてt−ブチルヒドロペルオキシドを用い
る場合、t−ブチルヒドロペルオキシドは無水のものも
使用し得るが、通常90%以下の溶液が用いられ、好ま
しくは50〜5%の溶液が用いられる。かかるt−ブチ
ルヒドロペルオキシドの溶液の溶媒としては、ジクロロ
メタン、クロロホルム、ジクロロエタン等の如きハロゲ
ン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン等の如き芳香族炭
化水素類が用いられる。t−ブチルヒドロペルオキシド
の使用量は上記式〔IV〕で表わされる4−ヒドロキシ−
2−シクロペンテノンに対し、1〜20当量、好ましく
は1〜5当量が用いられる。またエポキシ化反応は塩基
性化合物の存在下に行なうのが好ましく、かかる塩基性
化合物としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジル
トリメチルアンモニウムヒドロキシド等の如き四級アン
モニウムヒドロキシド類が用いられ、特に、ベンジルト
リメチルアンモニウムヒドロキシドが好ましく用いられ
る。塩基性化合物の使用量は、上記式〔IV〕で表わされ
る4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノンに対し、0.01
〜0.5当量、好ましくは0.05〜0.2当量が用いられる。反
応溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロエタン等の如きハロゲン化炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレン等の如き芳香族炭化水素
類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン等の如きエーテル類;ヘキサン、
シクロヘキサン、石油エーテル等の如き飽和炭化水素類
が用いられ、好ましくはジクロロメタン、クロロホル
ム、ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類が用いら
れ、特に好ましくはジクロロメタンが用いられる。エポ
キシ化反応の反応温度は好ましくは−20〜50℃、特
に好ましくは−5〜30℃の範囲である。エポキシ化反
応の反応時間は使用する原料化合物、試薬、反応溶媒、
反応温度によつて異なるが、通常5分〜5時間の範囲で
行なわれ、好ましくは10分〜1時間の範囲である。エ
ポキシ化反応の終了後、上記式〔III〕で表わされる
2、3−エポキシ−4−ヒドロキシシクロペンタノン類
は、通常の手段、例えば抽出、水洗、乾燥、濃縮、クロ
マトグラフイー等で精製分取することができるが、該
2、3−エポキシ−4−ヒドロキシシクロペンタノン類
を単離することなく、未精製の反応混合物をそのまま以
下の反応に供することもできる。
上記反応で得られる上記式〔III〕で表わされる2、3
−エポキシ−4−ヒドロキシシクロペンタノン類のクロ
ロ化反応の試薬として用いられる金属塩化物としては、
四塩化チタン、四塩化スズ、三塩化アルミニウム、三塩
化鉄、塩化亜鉛等が挙げられ、好ましくは四塩化チタ
ン、四塩化スズが挙げられ特に四塩化チタンが好まし
い。
クロロ化反応の試薬、金属塩化物の使用量は、金属塩化
物より生じる塩素イオンが、上記式〔III〕で表わされ
る2、3−エポキシ4−ヒドロキシシクロペンタノン類
に対し、1〜200当量、好ましくは2〜50当量とな
る量が用いられる。反応溶媒としては、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等
の如きハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン等の
如き芳香族炭化水素類;ヘキサン、シクロヘキサン等の
如き飽和炭化水素類、メタノール、エタノール等の如き
アルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン等の如きエーテル
類;アセトン、メチルエチルケトン等の如きケトン類;
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサ
メチルホスホリツクトリアミド等の如き非プロトン性極
性溶媒等が挙げられ、好ましくは、ジクロロメタン、ク
ロロホルム等の如きハロゲン化炭化水素類;ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン等の如きエーテル類が用い
られ、特に好ましくはジクロロメタン、ジエチルエーテ
ルが用いられる。
クロロ化反応温度は、好ましくは−100〜100℃、
特に好ましくは−80〜50℃の範囲である。
クロロ化反応の反応時間は使用する原料化合物、試薬、
反応溶媒、反応温度によつて異なるが、通常5分〜50
時間の範囲で行なわれ、好ましくは10分〜24時間の
範囲である。
ハロゲン化反応の反応終了後、上記式〔I〕で表わされ
る2−クロロ−3、4−ジヒドロキシシクロペンタノン
類は通常の手段、例えば抽出、水洗、乾燥、クロマトグ
ラフイー等で精製分取することもできるが、該2−クロ
ロ−3、4−ジヒドロキシシクロペンタノン類を単離す
ることなく反応混合物をそのまま以下の脱水反応に供す
ることもできる。
上記反応で得られた2−クロロ−3、4−ヒドロキシシ
クロペンタノン類の脱水反応に用いられる脱水反応の試
薬としては、例えばアルミナ、シリカゲル、ジシクロヘ
キシルカルボジイミドあるいは;塩基性化合物の存在下
に塩化ホスホリル、塩化チオニルのハロゲン化試薬;塩
基性化合物の存在下に有機スルホン酸ハロゲン化物、有
機スルホン酸無水物等の有機スルホン酸の反応性誘導体
が用いられ、好ましくは、アルミナ、シリカゲル、ジシ
クロヘキシカルボジイミド、塩基性化合物の存在下に有
機スルホン酸の反応性誘導体が用いられる。
脱水反応の試薬としてアルミナを用いる場合、酸性アル
ミナ、中性アルミナ、塩基性アルミナのいずれを用いて
も良い。アルミナの使用量は用いるアルミナの脱水能力
によつて異なるが、上記式〔I〕で表わされる2−クロ
ロ−3、4−ジヒドロキシシクロペンタノン類の重量に
対し、0.5〜50倍、好ましくは2〜20倍の範囲で用
いられる。反応溶媒を用いなくても脱水反応は進行する
が、通常、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン等の如きハロゲンァ炭化水素類;ヘ
キサン、シクロヘキサン、石油エーテル等の如き飽和炭
化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の如き芳香
族炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン等の如きエーテル類
が用いられ、好ましくはジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン等の如きハロゲン化炭
化水素類が用いられ、特に好ましくはジクロロメタンが
用いられる。脱水反応の反応温度は、好ましくは−20
℃〜100℃、特に好ましくは0℃〜50℃の範囲で行
なわれる。脱水反応の反応時間は使用する原料化合物、
試薬、反応溶媒、反応温度によつて異なるが、通常10
分〜50時間の範囲で行なわれ、好ましくは30分〜2
0時間の範囲である。上記したアルミナによる脱水反応
は、アルミナをカラムに充填し、上記した反応溶媒と同
様の溶媒を展開の溶液として、通常のカラムクロマトグ
ラフイーに付すことによつて、実施することもできる。
脱水反応の反応終了後、上記式〔II〕で表わされる2−
クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類は通
常の手段、例えば過し、残渣を抽出した後、クロマト
グラフイーあるいは蒸留、再結晶等で精製分取すること
もできるが、必要に応じて水酸基の保護基の脱保護反
応、あるいは水酸基の保護基の変換反応を行なつても良
い。かかる水酸基の保護基の脱保護反応は公知の方法を
採用することができる。すなわち、保護基がアセチル
基、プロピオニル基等のアシル基の場合には例えばブタ
肝臓エステラーゼ等の加水分解酵素を用いて加水分解せ
しめることにより容易に脱保護できる。保護基がトリメ
チルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等のトリ炭
化水素シリル基の場合には、例えばテトラブチルアンモ
ニウムフルオリド、フツ化セシウム、フツ化カリウム、
フツ化水素等フツ化物イオン存在下に、あるいは酢酸、
塩酸等の酸性条件下で加水分解せしめることにより脱保
護できる。保護基が2−テトラヒドロピラニル基、2−
テトラヒドロフラニル基、1−エトキシエチル基等の水
酸基の酸素原子と供にアセタール結合を形成している基
の場合には酢酸、塩酸等の酸性条件下で加水分解せしめ
ることにより脱保護できる。保護基がベンジル基の場合
には、それ自体公知の還元反応によつて脱保護できる。
水酸基の保護基の変換反応は、上記の水酸基の保護基の
脱保護反応によつて得られる2−クロロ−4−ヒドロキ
シ−2−シクロペンテノンの水酸基の保護化反応を行な
つても良いし、水酸基の保護基で保護された2−クロロ
−4−ヒドロキシ−−シクロペンテノンの保護基を2−
クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノンを経由
することなく、直接に異なる保護基に変換しても良い。
かかる水酸基の保護化反応には公知の方法を採用するこ
とができる。すなわち、保護基がアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基等のアシル基の場合には、例えば
酸ハロゲン化物もしくは酸無水物とピリジンとを反応せ
しめることにより容易に保護基を導入することができ
る。保護基がトリメチルシリル基、t−ブチルジメチル
シリル基等のトリ炭化水素シリル基の場合には、例えば
トリ炭化水素シリルハロゲン化物をトリエチルアミンお
よびジメチルアミノビリジンの存在下で反応せしめるこ
とによつて保護基を導入することができる。保護基が2
−テトラヒドロピラニル基、2−テトラヒドロフラニル
基、1−エトキシエチル基等の場合は対応するビニルエ
ーテル化合物であるジヒドロピラン、ジヒドロフラン、
エチルビニルエーテルを、例えばパラトルエンスルホン
酸などの酸性触媒存在下に接触せしめることにより保護
基を導入することができる。水酸基の保護基で保護され
た2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン
の保護基を2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペ
ンテノンを経由することなく直接に異なる保護基に変換
する方法としては、例えばシリル基をアセチル基へ変換
する方法の場合には三塩化鉄、塩化スズ等のルイス酸存
在下無水酢酸と反応せしめることにより変換できる。
2−クロロ−3、4−ジヒドロキシシクロペンタノン類
の脱水反応の試薬としてシリカゲルを用いる場合、シリ
カゲルの使用量は、用いるシリカゲルの脱水能力によつ
て異なるが、上記式〔I〕で表わされる2−クロロ−
3、4−ジヒドロキシシクロペンタノン類の重量に対
し、1〜100倍、好ましくは5〜50倍の範囲で用い
られる。反応溶媒は用いなくても脱水反応は進行する
が、通常、ベンゼン、トルエン、キシレン等の如き芳香
族炭化水素類;ヘキサンシクロヘキサン、石油エーテル
等の如き飽和炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン等の如きハロゲン化炭
化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン等の如きエーテル類;酢酸
エチル、酢酸ブチル等の如きエステル類が用いられ、好
ましくは、ベンゼン、トルエン、キシレン等の如き芳香
族炭化水素類が用いられる。脱水反応の反応温度は、好
ましくは0℃〜200℃、特に好ましくは30℃〜15
0℃の範囲で行なわれる。脱水反応の反応時間は使用す
る原料化合物、反応溶媒、反応温度によつて異なるが通
常、30分〜100時間の範囲で行なわれ、好ましくは
1時間〜50時間の範囲である。上記したシリカゲルに
よる脱水反応は、シリカゲルをカラムに充填し、上記し
た反応溶媒と同様の溶媒を展開溶媒として、通常のカラ
ムクロマトグフイーに付すことによつて、実施すること
もできる。脱水反応の終了後、上記式〔II〕で表わされ
る2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン
類は通常の手段、例えば過し、残渣を抽出した後、ク
ロマトグラフイーあるいは蒸留、再結晶等で精製分取す
ることもできるが、必要に応じて水酸基の保護基の脱保
護反応、あるいは水酸基の保護基の変換反応を、前記の
方法と同様にして行なつても良い。2−クロロ−3、4
−ジヒドロキシシクロペンタノン類の脱水反応の試薬と
して、ジシクロヘキシルカルボジイミドを用いる場合、
ジシクロヘキシルカルボジイミドと共に塩化第二銅ある
いは塩基性化合物を用いるのが好ましく、特に塩化第二
銅が好ましく用いられる。ジシクロヘキシルカルボジイ
ミドと共に用いる塩基性化合物としては、アミン類が好
ましく、かかるアミン類としては、ピリジン、4−ジメ
チルアミノピリジン、4−ピロリジノピリジン、トリエ
チルアミン、イソプロピルジメチルアミン、ジイソプロ
ピルシクロヘキシルアミン、キヌクリジン、トリエチレ
ンジアミン等が挙げられる。脱水反応の試薬としてジシ
クロヘキシルカルボジイミドと塩化第二銅を用いる場
合、2−クロロ−3、4−ジヒドロキシシクロペンタノ
ン類1モルに対し、ジシクロヘキシルカルボジイミドは
1〜50モル、好ましくは1〜10モルの範囲で用い、
塩化第二銅は0.1〜10モル、好ましくは0.5〜5モル範
囲で用いられる。
反応溶媒は、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;
エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ベンゼ
ン、トルエン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等
の炭化水素類が用いられ、好ましくはジクロロメタン、
ジクロロエタン、エーテルが用いられる。
脱水反応の温度は0℃〜150℃の範囲で行なわれ、好
ましくは15℃〜100℃の範囲である。脱水反応の反
応時間は使用する原料化合物、試薬、反応溶媒、反応温
度によつて異なるが、通常1時間〜100時間の範囲で
行なわれ、好ましくは2〜24時間の範囲である。脱水
反応の反応終了後、上記式〔II〕で表わされる2−クロ
ロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類は通常の
手段、例えば、抽出、乾燥、濃縮、クロマトグラフイー
あるいは蒸留等により精製分取することができる。かく
して得られた2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロ
ペンテノン類は、その水酸基の保護基の脱保護反応ある
いは、水酸基の保護基の変換反応を、前記の方法と同様
にして行なつても良い。
脱水反応の試薬として塩基性化合物および有機スルホン
酸の反応性誘導対を用いる場合、ここで用いられる塩基
性化合物としては、アミン類が好ましく、かかるアミン
類としては、例えば、ピリジン、4−ジメチルアミノピ
リジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルシクロヘキ
シルアミン、イソプロピルジメチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミンなどが挙げられ、なかでも特にピリジ
ン、4−ジメチルアミノピリジンが好ましい。有機スル
ホン酸の反応性誘導体としては、例えびメタンスルホニ
ルクロラド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、
p−トルエンスルホニルクロリドなどの有機スルホン酸
ハロゲン化物;メタンスルホン酸無水物、トリフルオロ
メタンスルホン酸無水物などの有機スルホン酸無水物な
どが挙げられ、好ましくはメタンスルホニルクロリドp
−トルエンスルホニルクロリドが用いられる。用いられ
る有機スルホン酸の反応性誘導体は2−クロロ−3、4
−ジヒドロキシシクロペンタノン類1モルに対し、0.5
〜10倍モル、好ましくは1〜3倍モルの範囲で用いら
れ、また塩基性化合物は1〜20倍モル、好ましくは2
〜6倍モルの範囲で用いられる。この時使用する溶媒と
しては塩基性化合物自身を用いても良いが、例えばジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水尾類;エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類;ベンゼン、トルエン等の如き芳香族炭化水素類;
ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の如き炭化水素
類が用いられ、好ましくはジクロロメタンが用いられ
る。溶媒の使用量は反応をすみやかに進行させるのに十
分な量があれば良く、通常は原料化合物に対し、1〜10
00倍容量、好ましくは5〜100倍容量が用いられる。
脱水反応の反応温度は使用する原料、試薬によつて異な
るが0℃から50℃の範囲で、好ましくは10℃から3
0℃の範囲で行なわれる。脱水反応の反応時間は、使用
する原料化合物、試薬、反応溶媒、反応温度によつて異
なるが、通常20分〜24時間の範囲で行なわれ、好ま
しくは1時間〜10時間の範囲である。脱水反応の終了
後、上記式〔II〕で表わされる2−クロロ−4−ヒドロ
キシ−2−シクロペンテノン類は通常の手段、例えば抽
出、乾燥、濃縮、クロマトグラフイーあるいは蒸留、再
結晶等で精製分取することもできるが、必要に応じて水
酸基の保護基の脱保護反応あるいは水酸基の変換反応
を、前記の方法と同様にして行なつても良い。
<発明の効果> かくして、本発明によれば、式〔II〕の2−クロロ−4
−ヒドロキシ−2−シクペンテノン類が高収率で得ら
れ、得られた式〔II〕で表わされる2−クロロ−4−ヒ
ドロキシ−2−シクロペンテノン類は、医薬品として有
用なプロスタグランジン類化合物を始めとするシクロペ
ンタン骨格を有する化合物の合成中間体として極めて有
用であり、本発明の工業的な意義は測り知れない。
<実施例> 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
参考例1 4−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2、3−エポキ
シシクロペンタノンの製造 4−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2−シクロペン
テノン10gを50mlのメタノールに溶かし、30%過
酸化水素水10mlを加えた。氷冷攪拌しながら1N水酸化
ナトリウム水溶液0.5mlを加え、室温で1.5時間攪拌し
た。飽和塩化アンモニウム水を加え、濃縮後、水および
ヘキサンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、過濃縮後シリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーに供し4−t−ブチルジメチルシ
リルオキシ−2、3−エポキシシクロペンタノンの低極
性異性体8.22g(収率76%)および高極性異性体0.98
g(収率9%)を得た。
スペクトルデータ 低極性異性体 NMR:δCDCl3 0.12(S,6H)、0.88(4,9H)、 0.93(d,1H,J=18.0Hz)、 2.53(dd,1H,J=18.0,6,0 Hz)、3.36(d,1H,J=2.4Hz)、 3.75(d1H,J=2.4Hz)、 4.57(d,1H,J=6.0Hz) NMR:δCDCl3 0.13(S,3H)、0.16(S,3H)、 0.90(S,9H)、2.30(d,2H, J=8.0Hz)、3.36(d,1H、 J=3.0Hz)、3.83(dd,1H, J=3.0,1.5Hz)、 4.37(td,1H,J=8.0,1.5Hz) 参考例2 クロロ化反応試薬として四塩化チタンを用いた、4−t
−ブチルジメチルシリルオキシ−2−クロロ−3−ヒド
ロキシシクロペンタノンの製造 参考例1に従つて得られた4−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−2、3−エポキシシクロペンタノン970mg
(4.25mmol)をジクロロメタン25mlに溶かし、−78
℃に冷却攪拌しながら、0.53M四塩化チタン−ジクロロ
メタン溶液10mlを加え、−78℃→−40℃で4時間
攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液上へ
あけ、5分間攪拌した。セライト過後、ジクロロメタ
ンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、過濃縮後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフイーに供し、4−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−2−クロロ−3−ヒドロキシシクロペンタノ
ン508mg(収率45%)を得た。
スペクトルデータ NMR:δCDCl3 0〜0.3(m6H)、0.89(S, 9H)、1.8〜3.3(m,3H) 3.9〜4.8(m,3H) 参考例3 クロロ化反応試薬として四塩化スズを用いた、4−t−
ブチルジメチルシリルオキシ−2−クロロ−3−ヒドロ
キシシクロペンタノンの製造 参考例1に従つて得られた4−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−2、3−エポキシシクロペンタノン91mg
(0.4mmol)を5mlのジエチルエーテルに溶かし、四塩
化スズ521mg(2mmol)を加え5時間還流した。飽和
食塩水を加え酢酸エチル抽出し、有機層を食塩水で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し過濃縮後シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに供し、4−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−2−クロロ−3−ヒドロキシシ
クロペンタノン40mg(収率38%)を得た。
実施例1 脱水反応試薬としてアルミナを用いた、4−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−2−クロロ−2−シクロペンテ
ノンの製造 参考例2または3に従つて得られた、4−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−3−ヒドキシ−2−クロロシクロ
ペンタノン8gをジクロロメタン50mlに溶かし、中性
アルミナ20gを加え、50分間攪拌した。中性アルミ
ナ10gを加え、4時間攪拌し、さらに10gの中性ア
ルミナを追加した。2時間攪拌し、過し、残渣を50
0mlの酢酸エチルで洗浄した。溶出液を合わせ濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフイーに供し、4−t−
ブチルジメチルシリルオキシ−2−クロロ−2−シクロ
ペンテノン5.27g(収率71%)を得た。
スペクトルデータ NMR:δCDCl3 0.13(S,6H)、0.89(S,9H)、 2.40(dd,1H,J=18.6Hz,2.2Hz)、 2.81(dd,1H,J=18.6Hz,6.0Hz)、 4.95(dt,1H,J=6.0Hz,2.5Hz)、 7.31(d,1H,J=2.5Hz) 実施例2 脱水反応試薬としてシリカゲルを用いた、4−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−2−シクロペンテノンの製造 参考例2または3に従つて得られた4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−2−クロロ−3−ヒドロキシシクロ
ペンタノン110mgを15mlのベンゼンに溶かし、シリカ
ゲル1gを加え、60時間還流した。濃縮後シリカゲル
カラムクロマトグラフイーに供し、4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−2−クロロ−2−シクロペンテノン
54mg(収率52%)を得た。
実施例3 脱水反応試薬としてジシクロペキシルカルボジイミドを
用いた、4−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2−ク
ロロ−2−シクロペンテノンの製造 参考例2または3に従つて得られた4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−2−クロロ−3−ヒドロキシシクロ
ペンタノン500mgをジエチルエーテル10mlに溶か
し、ジシクロヘキシルカルボジイミド1.5gおよび塩化
銅(II)300mgを加え、15時間還流した。飽和食塩水
を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。過濃縮後
シリカゲルカラムクロマトグラフイーに供し、4−t−
ブチルジメチルシリルオキシ−2−クロロ−2−シクロ
ペンテノン261mg(収率56%)を得た。
実施例4 脱水反応試薬としてメタンスルホニルクロリドピリジン
を用いた、4−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2−
クロロ−2−シクロペンテノンの製造 参考例2または3に従つて得られた4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−2−クロロ−3−ヒドロキシシクロ
ペンタノン2.65g(10mmol)をジクロロメタン30mlに
溶かし、ピリジン2.4ml(30mmol)を加えた。氷冷攪
拌しながらメタンスルホニルクロリド1.01ml(13mmol)
を加え、室温で15時間攪拌した。飽和食塩水を加え、
酢酸エチルで抽出した。水層をさらに2度抽出し、有機
層を合わせ飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、過濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフ
イーに供し、4−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
−クロロ−2−シクロペンテノン2.12g(収率86%)
を得た。
実施例5 脱水反応試薬としてp−トルエンスルホニルクロリド−
ジメチルアミノピリゾンを用いた、4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−2−クロロ−2−シクロペンテノン
の製造 参考例2または3に従つて得られた4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−2−クロロ−3−ヒドロキシシクロ
ペンタノン1.32g(5mmol)をジクロロメタン15mlに溶
かし、ジメチルアミノピリジン1.83g(15mmol)を加え
た。氷冷攪拌しながらp−トルエンスルホニルクロリド
1.24g(6.5mmol)を加え、室温で20時間攪拌した。飽
和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出し、水層をさらに2
度抽出した。有機層を合わせ飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。過濃縮後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーに供し、4−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−2−クロロ−2−シクロペンテノン97
2mg(収率79%)を得た。
参考例4 4−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2、3−エポキ
シシクロペンタノンからの4−t−ブチルジメチシリル
オキシ−2−クロロ−2−シクロペンテノンの製造 参考例1に従つて得られた4−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−2、3−エポキシシクロペンタノン21.7g(9
5mmol)をジクロロメタン350mlに溶かし、−78℃
に冷却した、1M四塩化チタン−ジクロロメタン溶液1
40ml(140mmol)を加え、−78℃で5時間攪拌し
た。飽和食塩水上に反応液をあけ、酢酸エチルで抽出し
た。水層をさらに2度酢酸エチルで抽出し、有機層を合
わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順
に洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、過濃縮後
アルミナカラムクロマトグラフイーに供し、4−t−ブ
チルジメチルシリルオキシ−2−クロロ−2−シクロペ
ンテノン15.5g(収率66%)を得た。
参考例5 4−t−ブチルジメチルシリル−2−シクロペンテノン
からの4−t−ブチルジメチルリルオキシ−2−クロロ
−2−シクロペンテノンの製造 4−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2−シクロペン
テノン425mg(2.mmol)を乾燥ジクロロメタンに溶か
し、t−ブチルヒドロペルオキシド2.27Mジクロロエタ
ン溶液1.06mlを加えた。ベンジルトリメチルアンモニウ
ムヒドロキシド40%メタノール溶液40mlを加え、3
0分間攪拌した。さらにベンジルトリメチルアンモニウ
ムヒドロキシド溶液40μを加え、40分間攪拌し
た。−78℃に冷却し、四塩化チタン1Mジクロロメタ
ン溶液を3ml加え、−78℃〜−40℃で1.5時間攪拌
した。さらに四塩化チタン溶液3mlを加え、−40℃〜
−30℃で3時間攪拌した。飽和食塩水上にあけ、酢酸
エチルで抽出し、水層をさらに2度抽出した。有機層を
合わせ飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、過濃縮後、得られた油状物をジク
ロロメタン5mlに溶かし、中性アルミナ6gを加え、3
時間攪拌した。過し、残 を酢酸エチルで洗浄し、溶
出液を合わせて濃縮した。これをシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーに供し、2−クロロ−4−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−2−シクロペンテノン205mg
(収率41%)を得た。
実施例6 4−アセトキシ−2−クロロ−2−シクロペンテノンの
製造 三塩化鉄・6水塩382mg(1.41mmol)を減圧下加熱乾
燥し、無水酢酸2mlを加え懸濁液とした。実施例4〜9
の方法に従つて得た4−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−2−クロロ−2−シクロペンテノン3g(12.2mmo
l)を無水酢酸4.65mlに溶かし氷冷攪拌しながら塩化鉄
溶液を加え、0℃で1時間攪拌した。反応液を飽和炭酸
水素ナトリウム水上で少しずつあけ、酢酸エチルを加え
て抽出した。過し、分離後、水層をさらに2度、酢酸
エチルで抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過濃縮後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフイーに供し、4−アセトキ
シ−2−クロロ−2−シクロペンテノン2.11g(収率9
9%)を得た。
スペクトルデータ NMR:δCDCl3 2.04(3H,S)、 2.43(1H,dd,J=18.6,2.0Hz)、 2.89(1H,dd,J=18.6,6.0Hz)、 5.66(1H,dt,J=6.0,2.5Hz)、 7.43(1H,d, J=2.5Hz)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 31/02 103 X 7821−4G C07B 61/00 300

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記式〔I〕 〔式中、R1は保護された水酸基の保護基を表わす。〕 で表わされる2−クロロ−3、4−ジヒドロキシシクロ
    ペンタノン類を脱水反応に付し、必要に応じて脱保護反
    応あるいは保護基の変換反応に付すことを特徴とする、
    下記式〔II〕 〔式中、R2は水素原子または保護された水酸基の保護
    基を表わす。〕 で表わされる2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロ
    ペンテノン類の製造法。
  2. 【請求項2】脱水反応試薬として、アルミナを用いる特
    許請求の範囲第1項記載の2−クロロ−4−ヒドロキシ
    −2−シクロペンテノン類の製造法。
  3. 【請求項3】脱水反応試薬としてシリカゲルを用いる特
    許請求の範囲第1項記載の2−クロロ−4−ヒドロキシ
    −2−シクロペンテノン類の製造法。
  4. 【請求項4】脱水反応試薬として、ジシクロヘキシルカ
    ルボジイミドを用いる特許請求の範囲第1項記載の2−
    クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類の製
    造法。
  5. 【請求項5】脱水反応試薬として塩基性化合物および有
    機スルホン酸の反応性誘導体を用いる特許請求の範囲第
    1項記載の2−クロロ−4−ヒドロキシ−2−シクロペ
    ンテノン類の製造法。
  6. 【請求項6】有機スルホン酸の反応性誘導体としてメタ
    ンスルホニルクロリドまたはp−トルエンスルホニルク
    ロリドを用いる特許請求の範囲第5項記載の2−クロロ
    −4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類の製造法。
  7. 【請求項7】塩基性化合物としてアミン類を用いる特許
    請求の範囲第5項または第6記載の2−クロロ−4−ヒ
    ドロキシ−2−シクロペンテノン類の製造法。
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