JPH06273599A - 放射光露光装置 - Google Patents
放射光露光装置Info
- Publication number
- JPH06273599A JPH06273599A JP5087829A JP8782993A JPH06273599A JP H06273599 A JPH06273599 A JP H06273599A JP 5087829 A JP5087829 A JP 5087829A JP 8782993 A JP8782993 A JP 8782993A JP H06273599 A JPH06273599 A JP H06273599A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- radiation light
- toroidal mirror
- intensity
- synchrotron radiation
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 claims abstract description 24
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 強度ムラ補正に伴う強度損失を最小限にとど
めることができる放射光露光装置を提供せんとするもの
である。 【構成】 垂直方向の開口幅が水平方向に亘って変化し
ており、その中心部を中心にその両側に向かうほど開口
幅が次第に大きくなるスリット１が、放射光の光源２と
その光路上に設けられた走査型トロイダルミラー３との
間に設けられている。
めることができる放射光露光装置を提供せんとするもの
である。 【構成】 垂直方向の開口幅が水平方向に亘って変化し
ており、その中心部を中心にその両側に向かうほど開口
幅が次第に大きくなるスリット１が、放射光の光源２と
その光路上に設けられた走査型トロイダルミラー３との
間に設けられている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、シンクロトロン放射
光を走査して大きな露光面積を得ている放射光露光装置
に関し、特に露光面積内での露光強度不均一性を補償し
ながらその強度損失を最小限に抑えるものである。
光を走査して大きな露光面積を得ている放射光露光装置
に関し、特に露光面積内での露光強度不均一性を補償し
ながらその強度損失を最小限に抑えるものである。
【０００２】
【従来の技術】リソグラフィ等、その応用分野が数多く
あるシンクロトロン放射光は、光源から一方向（通常水
平方向）に発散する軟Ｘ線等を含む光であるため、図７
に示すように、トロイダルミラー１０を用いてこれを該
発散方向に集光し、その強度を高めると共に、発散に直
交する方向に平面ミラー１１を揺動することでその照射
領域を拡大する工夫がなされている。
あるシンクロトロン放射光は、光源から一方向（通常水
平方向）に発散する軟Ｘ線等を含む光であるため、図７
に示すように、トロイダルミラー１０を用いてこれを該
発散方向に集光し、その強度を高めると共に、発散に直
交する方向に平面ミラー１１を揺動することでその照射
領域を拡大する工夫がなされている。
【０００３】通常トロイダルミラーを用いてシンクロト
ロン放射光を集光すると、強度を大きくすることができ
るようになる反面、その一方で強度ムラが増大すること
になる。通常はこのような集光に伴う強度ムラを低減す
るため、図７に示すように、２枚のトロイダルミラー１
０ａ、１０ｂと１枚の揺動用平面ミラー１１を用いてい
る。
ロン放射光を集光すると、強度を大きくすることができ
るようになる反面、その一方で強度ムラが増大すること
になる。通常はこのような集光に伴う強度ムラを低減す
るため、図７に示すように、２枚のトロイダルミラー１
０ａ、１０ｂと１枚の揺動用平面ミラー１１を用いてい
る。
【０００４】このような放射光の強度ムラを低減する他
の方法としては、図８に示すように、露光装置１３から
出たシンクロトロン放射光を、更に特定の膜厚分布（強
度ムラ補正のできる膜厚分布）を有する強度補正フィル
タ１４に通して試料１２へ照射する方法もある。
の方法としては、図８に示すように、露光装置１３から
出たシンクロトロン放射光を、更に特定の膜厚分布（強
度ムラ補正のできる膜厚分布）を有する強度補正フィル
タ１４に通して試料１２へ照射する方法もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前者の構成で
はミラー１０、１１の放射光反射率が最大でも７０％で
あるため、集光によって強度を高めている反面、多数の
ミラーを用いることによって反射時の強度損失は５０％
以上となる。
はミラー１０、１１の放射光反射率が最大でも７０％で
あるため、集光によって強度を高めている反面、多数の
ミラーを用いることによって反射時の強度損失は５０％
以上となる。
【０００６】他方後者の構成では、強度補正フィルタ１
４の基板材料を薄くすることには限界があり、放射光透
過率を１００％近くに設定することは不可能なため、こ
の部分での強度損失はやはり５０％以上となる。
４の基板材料を薄くすることには限界があり、放射光透
過率を１００％近くに設定することは不可能なため、こ
の部分での強度損失はやはり５０％以上となる。
【０００７】本発明は従来技術の以上のような問題に鑑
み創案されたもので、強度ムラ補正に伴う強度損失を最
小限にとどめることができる放射光露光装置を提供せん
とするものである。
み創案されたもので、強度ムラ補正に伴う強度損失を最
小限にとどめることができる放射光露光装置を提供せん
とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そのため本発明は、シン
クロトロン放射光の光路上にトロイダルミラーが設けら
れ、該トロイダルミラーが揺動されることによりシンク
ロトロン放射光が試料上で走査される放射光露光装置に
おいて、その走査に直交する方向の中央部を中心にそこ
から両側に向けて次第にその開口幅を大きくするスリッ
トを、シンクロトロン放射光光源とトロイダルミラーと
の間に設け、シンクロトロン放射光の走査方向の幅を該
スリットで制限することを基本的特徴としている。
クロトロン放射光の光路上にトロイダルミラーが設けら
れ、該トロイダルミラーが揺動されることによりシンク
ロトロン放射光が試料上で走査される放射光露光装置に
おいて、その走査に直交する方向の中央部を中心にそこ
から両側に向けて次第にその開口幅を大きくするスリッ
トを、シンクロトロン放射光光源とトロイダルミラーと
の間に設け、シンクロトロン放射光の走査方向の幅を該
スリットで制限することを基本的特徴としている。
【０００９】
【作用】以上のような開口形状を有するスリットを設け
たことで、そこを通過した放射光がその強度を高める一
のトロイダルミラーにより集光された状態では、既に強
度ムラが補正されているため、別のトロイダルミラー等
を通さなくても済むことになり、その分放射光の強度損
失が少なくなる。この時スリットの開口幅を適当に選ぶ
ことによって、更に強度損失を最小限とすることができ
る。
たことで、そこを通過した放射光がその強度を高める一
のトロイダルミラーにより集光された状態では、既に強
度ムラが補正されているため、別のトロイダルミラー等
を通さなくても済むことになり、その分放射光の強度損
失が少なくなる。この時スリットの開口幅を適当に選ぶ
ことによって、更に強度損失を最小限とすることができ
る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例につき詳述す
る。図１及び図２は本発明の一実施例構成を示してお
り、その内図１は全体構成の概略を、また図２はその構
成に用いられたスリット１の同じく概略構成を示す図面
である。
る。図１及び図２は本発明の一実施例構成を示してお
り、その内図１は全体構成の概略を、また図２はその構
成に用いられたスリット１の同じく概略構成を示す図面
である。
【００１１】図１に示すように、シンクロトロン放射光
を放射する光源２と該放射光の光路上に設けられた走査
型のトロイダルミラー３との間に、上記スリット１が設
けられている。
を放射する光源２と該放射光の光路上に設けられた走査
型のトロイダルミラー３との間に、上記スリット１が設
けられている。
【００１２】このスリット１の形状は、図２に示される
ように、垂直方向（トロイダルミラー３の放射光走査方
向）の開口幅が水平方向（放射光の発散方向であって前
記走査方向に直交する方向）に亘って変化しており、そ
の中心部を中心にその両側に向かうほど開口幅が次第に
大きくなっており、末広がり状に開口している。
ように、垂直方向（トロイダルミラー３の放射光走査方
向）の開口幅が水平方向（放射光の発散方向であって前
記走査方向に直交する方向）に亘って変化しており、そ
の中心部を中心にその両側に向かうほど開口幅が次第に
大きくなっており、末広がり状に開口している。
【００１３】本実施例ではこのスリット１を通過したシ
ンクロトロン放射光をトロイダルミラー３に入射させ、
該トロイダルミラー３を揺動させることによって、シン
クロトロン放射光が試料１２上を走査される。この際放
射光はトロイダルミラー３により集光され、その強度が
増大することになる。
ンクロトロン放射光をトロイダルミラー３に入射させ、
該トロイダルミラー３を揺動させることによって、シン
クロトロン放射光が試料１２上を走査される。この際放
射光はトロイダルミラー３により集光され、その強度が
増大することになる。
【００１４】本実施例の構成を用いて本発明者等は、次
のような実験を行った。まずトロイダルミラー３に入射
する前のシンクロトロン放射光の垂直方向強度分布を測
定したところ、図３に示されるようなガウス分布が得ら
れた。そして図１に示されるような装置の配置構成にお
いて、図４に示されるような一定開口幅のスリット１ａ
を用いたところ、図３のＢ−Ｂ′間のガウス分布の放射
光を走査して得られる試料１２面上での水平方向の露光
強度分布は、図５に示されるように中央部で高く、両端
部で低くなっていた。これはトロイダルミラー３により
放射光が集光されると同時に、そのビーム形状が歪めら
れるからである。
のような実験を行った。まずトロイダルミラー３に入射
する前のシンクロトロン放射光の垂直方向強度分布を測
定したところ、図３に示されるようなガウス分布が得ら
れた。そして図１に示されるような装置の配置構成にお
いて、図４に示されるような一定開口幅のスリット１ａ
を用いたところ、図３のＢ−Ｂ′間のガウス分布の放射
光を走査して得られる試料１２面上での水平方向の露光
強度分布は、図５に示されるように中央部で高く、両端
部で低くなっていた。これはトロイダルミラー３により
放射光が集光されると同時に、そのビーム形状が歪めら
れるからである。
【００１５】一方図２に示す形状の本実施例スリット１
に交換し、中央部で図３のＡ−Ａ′間の放射光を、また
両端部で同図Ｂ−Ｂ′間の放射光を用いて、これらの放
射光を走査して得られる試料１２面上の水平方向の露光
強度分布は、図６に示されるように平坦な分布となる
（前図の分布を補正した状態となっている）。この時両
端部の開口幅は図５と等しいため、該両端部における放
射光強度は両者とも等しいことになり、従って強度損失
は最小限となる。
に交換し、中央部で図３のＡ−Ａ′間の放射光を、また
両端部で同図Ｂ−Ｂ′間の放射光を用いて、これらの放
射光を走査して得られる試料１２面上の水平方向の露光
強度分布は、図６に示されるように平坦な分布となる
（前図の分布を補正した状態となっている）。この時両
端部の開口幅は図５と等しいため、該両端部における放
射光強度は両者とも等しいことになり、従って強度損失
は最小限となる。
【００１６】
【発明の効果】以上詳述した本発明によれば、放射光を
その走査方向に制限するスリットを設け、その開口幅を
走査直交方向に亘り変化させることにより、これを通過
した放射光を走査して得られる露光強度分布を平坦化す
ることができるようになり、その後の集光による強度増
大に伴う強度ムラを、最小限の強度損失に抑えて補正す
ることが可能である。従って大強度且つ均一な露光を行
うことができるようになる。
その走査方向に制限するスリットを設け、その開口幅を
走査直交方向に亘り変化させることにより、これを通過
した放射光を走査して得られる露光強度分布を平坦化す
ることができるようになり、その後の集光による強度増
大に伴う強度ムラを、最小限の強度損失に抑えて補正す
ることが可能である。従って大強度且つ均一な露光を行
うことができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例構成を示す概略図である。
【図２】本実施例で用いられたスリット形状の概略を示
す説明図である。
す説明図である。
【図３】トロイダルミラーに入射する前のシンクロトロ
ン放射光の垂直方向強度分布を示すグラフである。
ン放射光の垂直方向強度分布を示すグラフである。
【図４】開口幅が一定の場合のスリット形状の概略を示
す説明図である。
す説明図である。
【図５】スリット開口幅が一定の場合の放射光強度分布
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図６】本実施例構成で使用したスリット形状を用いた
場合の放射光強度分布を示すグラフである。
場合の放射光強度分布を示すグラフである。
【図７】シンクロトロン放射光の露光装置の従来構成を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図８】強度補正フィルタを用いた従来の露光装置構成
を示す説明図である。
を示す説明図である。
１、１ａ スリット ２ 光源 ３、１０ａ、１０ｂ トロイダルミラー １１ 平面ミラー １２ 試料 １３ 露光装置
Claims (1)
- 【請求項１】 シンクロトロン放射光の光路上にトロイ
ダルミラーが設けられ、該トロイダルミラーが揺動され
ることによりシンクロトロン放射光が試料上で走査され
る放射光露光装置において、その走査に直交する方向の
中央部を中心にそこから両側に向けて次第にその開口幅
を大きくするスリットを、シンクロトロン放射光光源と
トロイダルミラーとの間に設け、シンクロトロン放射光
の走査方向の幅を該スリットで制限することを特徴とす
る放射光露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5087829A JPH06273599A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | 放射光露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5087829A JPH06273599A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | 放射光露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06273599A true JPH06273599A (ja) | 1994-09-30 |
Family
ID=13925841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5087829A Pending JPH06273599A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | 放射光露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06273599A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6188127A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | Ｘ線濃度補償装置 |
| JPS6441900A (en) * | 1987-08-07 | 1989-02-14 | Nec Corp | X-ray exposure system |
| JPH04344500A (ja) * | 1991-05-21 | 1992-12-01 | Soltec:Kk | 放射光取り出し装置 |
-
1993
- 1993-03-24 JP JP5087829A patent/JPH06273599A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6188127A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | Ｘ線濃度補償装置 |
| JPS6441900A (en) * | 1987-08-07 | 1989-02-14 | Nec Corp | X-ray exposure system |
| JPH04344500A (ja) * | 1991-05-21 | 1992-12-01 | Soltec:Kk | 放射光取り出し装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19960116 |