JPH06273639A - 光チャンネル導波管において入／出力ノ−ドを製造する方法 - Google Patents

光チャンネル導波管において入／出力ノ−ドを製造する方法

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JPH06273639A
JPH06273639A JP5340935A JP34093593A JPH06273639A JP H06273639 A JPH06273639 A JP H06273639A JP 5340935 A JP5340935 A JP 5340935A JP 34093593 A JP34093593 A JP 34093593A JP H06273639 A JPH06273639 A JP H06273639A
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light
holographic
waveguide
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Davis H Hartman
デ−ビス・エイチ・ハ−トマン
Fred V Richard
フレッド・ブイ・リチャ−ド
Michael S Lebby
マイケル・エス・レビ−
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 臨界内部反射角度と露出面１７とを有する成
形された光チャンネル導波管１１を製造し、格子２０が
形成されたホログラフィック層１６を光導波管の露出面
に対して上になる関係で固定する方法を提供する。 【構成】 格子はホログラフィック層の表面とある角度
（ａ）を形成するように配置され、ホログラフィック層
の上面に入射しかつ実質的に垂直な光線が格子によって
光導波管内に屈折される。また、導波管内を進む光波は
ホログラフィック層を介して外に放散する。光発生素子
および光検出素子は光を供給し、ホログラフィック層か
ら光を受信するために装着される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光チャンネル導波管に
おける入／出力ノードに関し、さらに詳しくは、光チャ
ンネル導波管に対して光を入射し、かつ／または抽出す
る装置を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】電子
技術分野では、高集積チップなどを内蔵する回路基板で
相互接続を設けることは困難になりつつある。例えば、
コンピュータや他の高速装置では、相互接続のためにバ
ックプレーン(backplane) が多用され、すべての個別の
基板はバックプレーに装着される。この種の相互接続で
発生する問題は、帯域幅と速度が極めて制限されること
である。
【０００３】光チャンネル導波管(optical channel wav
eguide) は非常に多くの信号を伝搬することができ、極
めて広い帯域幅を有している。しかし、光チャンネル導
波管用の入／出力（Ｉ／Ｏ）コネクタを製造し、それと
共に光発生素子や光検出素子を組み立てることは極めて
困難かつ費用がかかる。また、光導波管の端部において
光線を入射するコネクタを除くすべてのコネクタについ
て、その接続は大きく非効率的である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、光導波
管に対して光波を入射し、かつ／または抽出する新規の
改善された装置およびこの装置を製造する方法を提供す
ることである。
【０００５】本発明の目的は、光導波管のＩ／Ｏノード
を利用する新規の改善された装置を提供することであ
る。
【０００６】本発明の別の目的は、製造し使用するのが
簡単かつ低コストな光導波管のＩ／Ｏノードを利用する
新規の改善された装置を提供することである。
【０００７】本発明の別の目的は、高速電子装置におけ
るバックプレーンや他のバスに特に適用可能な光導波管
のＩ／Ｏノードを利用する新規の改善された装置を提供
することである。
【０００８】上記の問題や上記の目的等は、光導波管の
入／出力ノードを内蔵する装置を製造する方法によって
実現され、この方法は、第１屈折率を有する第１クラッ
ド層を設ける段階と、前記第１クラッド層の表面にチャ
ンネルを設ける段階と、前記第１屈折率よりも少なくと
も０．０１大きい第２屈折率を有する光学的に透明なポ
リマーで前記チャンネルを封入する段階であって、この
チャンネルにおける光学的に透明なポリマーは臨界内部
反射角度(critical intenral reflection angle)を有す
る光導波管を形成する段階と、第２屈折率と実質的に同
様な屈折率を有する光学的に透明な材料から、第１およ
び第２の実質的に平行で離間された光入／出力面を有す
るホログラフィック層を形成する段階と、前記ホログラ
フィック層の第１光入／出力面と第２光入／出力面との
間に実質的に延在する複数の格子(grating) を前記ホロ
グラフィック層に形成する段階であって、前記複数の格
子はホログラフィック層の第１および第２光入／出力面
と所定の角度を形成するように配置され、ホログラフィ
ック層の第２光入／出力面に入射しかつ実質的に垂直な
光線が、ホログラフィック層の横軸(transverse axis)
との角度であって、光導波管の臨界角度よりも小さい角
度で前記複数の格子によって屈折される段階と、第１光
入／出力面が光学的に透明なポリマーの露出された面よ
りも上にして、ホログラフィック層を第１クラッド層の
表面に固定する段階とによって構成される。
【０００９】上記の問題や上記の目的等は、光導波管の
入／出力ノードを内蔵する装置においてさらに実現さ
れ、この装置は、臨界内部反射角と共に所定の屈折率を
を有し、露出された面を有する光導波管と、第１および
第２の実質的に平行で離間された光入／出力面を有する
ホログラフィック層であって、このホログラフィック層
の第１光入／出力面と第２光入／出力面との間に実質的
に延在するように形成された複数の格子を有し、前記第
１光入出面が前記光導波管の露出面に対して上になる関
係で固定されたホログラフィック層と、ホログラフィッ
ク層の第１および第２光入／出力面とある角度を形成す
るように配置された前記複数の格子であって、ホログラ
フィック層の第２光入／出力面に入射しかつ実質的に垂
直な光線が前記格子によって前記光導波管内に屈折され
る前記複数の格子とによって構成される。
【００１０】
【実施例】図１において、簡略入／出力（Ｉ／Ｏ）ノー
ド１０を説明のために示す。Ｉ／Ｏノード１０は、光チ
ャンネル導波管１１を有する。チャンネルと共に第１ク
ラッド層１２を成形し、次に光伝導コア(light conduct
ing core) を形成する光学的に透明な材料でチャンネル
を封入することによって、導波管１１は形成される。ク
ラッド層１２は、作りやすく、チャンネル（コア）の形
状および寸法をよく制御でき、かつ（以下で明らかにな
るように）Ｉ／Ｏノード１０の製造の以降の段階を簡単
にするために成形される。一般に、成形された第１クラ
ッド層１２およびこのクラッド層に固定される他の層
は、光学的に透明な材料１５によって接合され、この材
料１５は導波管１１のコアを形成し、かつ接着剤および
光学的に透明なポリマーとして機能する。一般に光学的
に透明な材料１５は、エポキシ，プラスチック，ポリイ
ミドなどの任意の材料でもよい。一般に、これらの光学
的に透明な材料の屈折率は１．５４から１．５８であ
る。光学チャンネル導波管を形成するため、光学的に透
明な材料１５の屈折率は、クラッド層１２の屈折率より
も少なくとも０．０１大きくなければならないことが理
解される。
【００１１】一般に光学的に透明な材料１５の上面は、
光学的に透明な材料１５などのある手段によって第１ク
ラッド層１２に固定された第２クラッド層（図示せず）
で被覆されるが、この表面の少なくとも一部は露出さ
れ、透過的ホログラフィック材料(transmissive hologr
aphic material) の層１６がその上に固定される。ホロ
グラフィック層１６は、第１および第２の実質的に平行
で離間された光入／出力面１７，１８を有し、第１光入
／出力面１７は光導波管１１の露出面に対して上になる
関係で固定されている。
【００１２】ホログラフィック層１６は、第１光入／出
力面１７と第２光入／出力面１８との間に実質的に延在
するように形成された複数の格子２０を有する。これら
複数の格子２０はホログラフィック層１６の第１および
第２光入／出力面１７，１８とある角度を形成するよう
に配置され、第２光入／出力面１８に入射しかつ実質的
に垂直な光線が格子２０によって光導波管１１内に屈折
されるようなっている。さらに、光導波管１１の臨界角
度よりも大きい、光導波管１１の横軸２２と形成される
角度「ａ」で、光線は導波管１１内に屈折される。図１
の例では、光線２１が光導波管１１内に図１の右方向に
入射または配向されるように、格子２０は一つの方向の
みに延在している。
【００１３】図２において、説明のために別の簡略Ｉ／
Ｏノード２５を示す。Ｉ／Ｏノード２５は、光導波管２
６を含む。 導波管２６は、チャンネルと共に第１クラ
ッド層２７を成形し、次にこのチャンネルを光学的に透
明な材料２８で封入して、コアを形成することによって
形成される。光導波管２６の上面の少なくとも一部は露
出され、透過ホログラフィック材料層２９がその上に固
定される。ホログラフィック層２９は第１および第２の
実質的に平行で離間された光入／出力面３０，３１を有
し、第１光入／出力面３０は光導波管２６の露出面に対
して上になる関係で固定されている。ホログラフィック
層２９は、第１光入／出力面３０と第２光入／出力面３
１との間に実質的に延在するように形成された第１群の
格子３５の第２群の格子３６とを有する。格子３５，３
６は、ホログラフィック層２９の第１および第２光入／
出力面３０，３１とある角度を形成するように配置さ
れ、第２光入／出力面３１に入射しかつ実質的に垂直な
光線３７は、光導波管２６の横軸３８と形成され角度で
あって、光導波管２６の臨界角度よりも大きい角度で光
導波管２６内に屈折される。図２の例では、光線３７が
両方の方向から光導波管に入射されるように格子３５，
３６は相対する方向に延在している。
【００１４】図３は、光チャンネル導波管におけるＩ／
Ｏノード４０を示し、これは本発明に基づいて構成され
たノード４０を利用する装置を含む。図４は、図３に示
すノード４０および装置の端面図である。ノード４０
は、成形された第１クラッド層４３を有する成形された
光チャンネル導波管４２を含み、この第１クラッド層４
３は光学的に透明な材料４４で封入され、コアを形成し
ている。透過的ホログラフィック材料層４５には、導波
管４２の上面に対して上になる関係で固定されている。
透過的ホログラフィック材料層４５は、例えば、DuPont
De Nemours, Inc. から購入できる商標名OmniDex, fil
m 600 またはfilm 610というフォトポリマー記録膜(pho
topolymer recording film)や、重クロム酸ゼラチン層
(dichromated gelatin) （一般にＤＣＧという）が含ま
れ、あるいは異なる実施例では、ブレーズド誘電格子(b
lazed dielectric grating) も利用できる。層４５は、
導波管４２の露出面の上に形成された２つの格子群を有
する第１領域４６を有する。領域４６における格子は、
図２のノード２５で説明したように、その上面に向けら
れた光線が導波管４２内に両方の方向から入射されるよ
うに形成されている。第２領域４７は、（光学的に透明
な材料４４内の）導波管４２で移動する一部の光線が導
波管４２から外に屈折できるように形成された格子を有
する。導波管４２外に屈折される光の量は、導波管４２
における全光の実質的にわずかなサンプルに過ぎない。
光学的に透明な材料層５０は、ホログラフィック層４５
に対して上になる関係で固定される。層５０は、電子素
子やそれに対する電気接続の基板として機能する。電子
素子をホログラフィック層４５に直接実装できる場合も
あるが、実装工程で発生する熱や他の応力がホログラフ
ィック層４５を破損して、動作効率を低減することがあ
る。
【００１５】この特定の実施例では、発生された光を層
５０に通過させて、実質的に垂直な方向で領域４６に対
して配向させるように、光発生素子５１が層５０の上面
に装着される。光発生素子５１によって発生される実質
的にすべての光は、導波管４２のコアに入射される。光
発生素子５１は、垂直孔表面発光レーザ(vertical cavi
ty surface emitting laser)，発光ダイオードなど任意
の既知の電子デバイスでもよい。光検出素子５２は、領
域４７から光を受信するように層５０の上面上に装着さ
れる。導波管４２のコアから発散する光が光検出素子５
２の光入力上に実質的に集光されるように、領域４７は
領域４６における種類の格子に重なったフレネル・レン
ズ(Fresnel lens)の形に一般に形成される。従って、光
発生素子５１によって発生される光は導波管４２に入射
され、その中で両方向に（あるいは、図１の実施例を用
いる場合、一方方向に）移動し、導波管４２のコア内を
移動する光のサンプルは、光検出素子５２上に集光され
る領域４７を介して外に放散する。従って、Ｉ／Ｏノー
ド４０は比較的効率的な光入力ノードであり、また小さ
な光サンプルが除去されるので、電子バスにおける光イ
ンピーダンス出力ノードと同様に動作する。
【００１６】特定の実施例では、光発生素子５１および
光検出素子５２は、バンプ半田方法や、導電エポキシや
他の便宜的な手段で層５０上に装着され、外部電気接続
が設けられる。次に層５０は、図１の光学的に透明な材
料１５と同様なポリマー接着材などの便宜的な手段によ
って層４５に固定される。層５０は、半導体業界で用い
られる周知の方法によって層４５上で適切に配向でき
る。領域４６に関する光発生素子５１と、領域４７に関
する光検出素子５２とは互いに隣接して図示されている
が、これらの電子素子および関連領域の一方または他方
のみを利用してもよく、これら電子素子および関連領域
のいずれかまたは両方の複数を利用してもよく、および
／または電子素子およびその関連領域は所定の間隔で分
離してもよいことが当業者に理解される。
【００１７】図５，図６において、本方法に基づいて形
成された複数のＩ／Ｏノードおよび関連装置を含む光バ
ス５５の実施例を上面図および側面図でそれぞれ示す。
バス５５は、成形された第１クラッド層５６上に形成さ
れ、光学的に透明な材料で封入されて複数の光チャンネ
ル導波管５７を形成する複数のチャンネルを含む。この
図では、簡略にするため５本の光チャンネル導波管５７
のみが用いられているが、８本（８ビット・デジタル信
号用）など任意の数も利用できることが理解される。ホ
ログラフィック材料層５８は、各導波管５７の上面にお
ける露出面に対して上になる関係で固定される。ホログ
ラフィック層５８は、各導波管５７に関連して、図３，
図４で説明したのと同様な格子を含む。
【００１８】光学的に透明な材料の第２の基板または層
５９は、その上面に形成された複数の光発生素子６１と
光検出素子６２の対またはそのアレイを有する。各光発
生素子６１および光検出素子６２に対する電気接続６３
は、金属被着方法，埋設フレキシブル・リードなどの便
宜的な手段によって光学的に透明な材料に形成される。
この特定の実施例では、接続６３は透明材料５９の端部
まで延在し、各対は外部接続パッド６４で終端してい
る。先に説明したように、すべての装着および電気接続
が完了した後、層５９は光発生素子６１および光検出素
子６２が適切な格子上に適切に配置されるように層５８
の上面に固定される。従って、光バス５５に伴うＩ／Ｏ
ノードは複数の導波管５７について光／電気端子および
電気／光端子を形成する。光は導波管５７において一方
の方向または両方向に入射したり、抽出することができ
るので、これらの端子は導波管５７のどこにでも配置す
ることができる。
【００１９】図７は、一つの種類の完成パッケージとし
ての、Ｉ／Ｏノードと関連する電子素子とを有するバス
５５を示す。この実施例では、素子を封止するために従
来のオーバモールディング方法が利用される。位置決め
ピンまたは嵌合位置決め開口部はパッケージの一端側に
形成され、導波管５７は嵌合構造で同様な導波管と光学
的に整合される。また、外部リード７１は、オーバモー
ルディングの前に、一方の端部で外部装着パッド６４に
取付けられ、完全なプラグイン・パッケージが提供され
る。
【００２０】図８は、図２および／または図３のＩ／Ｏ
ノードの製造で用いられる装置８０の光線図を示す。装
置８０は、ホログラフィック材料層８３上に直接配置さ
れた２つの相対する方向の５０／５０ビーム・スプリッ
タ８２を含み、このホログラフィック材料層８３におい
て格子を形成することが望ましい。好適な実施例では、
層８３は、例えばDuPont De Nemours, Inc. から購入で
きる商標名OmniDex, film 600 またはfilm 610という種
類の露出されていないフォトポリマー記録膜のホログラ
フィック層である。フォトポリマー記録膜の代わりに重
クロム酸ゼラチン層（一般にＤＣＧという）を利用して
もよいが、湿式処理が必要になる。
【００２１】レーザなどの光源からの平行光(collimate
d light)のビーム８５は、ビーム・スプリッタ８２の上
面に配向される。一般に、ビーム８５は、以下で説明す
るように、所望の干渉パターンを与えるためにアルゴン
・レーザなどの単周波数光源からのものである。ビーム
・スプリッタ８２は、ビーム８５のほぼ半分が一方の上
面８６に当たり、ビーム８５のもう半分が第２面８７に
当たるように配置された二等辺三角形からなる。ビーム
・スプリッタ８２の側面８６に当たるビーム８５の半分
は分けられ、一部はビーム・スプリッタ８２を直接通過
して層８３に達し、一方残りは第１ミラー８８に同時に
反射される。ミラー８８はビームを第２ミラー８９に反
射し、この第２ミラー８９はビームを層８３に反射し
て、ビーム・スプリッタ８２を直接通過するビームの部
分と、ミラー９３から反射されるビームの部分との干渉
パターンを形成する。この干渉パターンはさまざまな光
の強度に対して層８３を露出させ、層８３の屈折率はこ
の露出される光の強度に応じて変化する。従って、格子
はさまざまな屈折率によって形成される。直接ビームお
よび反射ビームが層８３の表面に当たる角度によって、
層８３に形成される格子の角度が決定される。
【００２２】ビーム・スプリッタ８２の側面８７に当た
るビーム８５の半分は分けられ、一部はビーム・スプリ
ッタ８２と、その底面に固定されたレンズ９０とを通過
して、層８３に達し、一方残りは第１ミラー９２に同時
に反射される。ミラー９２はビームを第２ミラー９３に
反射し、この第２ミラー９３はビームを層８３に反射し
て、ビーム・スプリッタ８２とレンズを直接通過するビ
ームの部分と、ミラー８９から反射されるビームの部分
との干渉パターンを形成する。レンズ９０を通過するビ
ームの部分は、レンズ９０と層８３との間の点９５にお
いて交差する。干渉パターンは層８３をさまざまな光の
強度に対して層８３を露出させ、層８３の屈折率はこの
露出される光の強度に応じて変化する。従って、第２群
の格子は異なる屈折率によって形成され、この第２群の
格子は一般にフレネル・レンズの形状である。層８３に
形成されるフレネル・レンズは、層８３を通過して底面
から上面に進む光を点９５で収束する。ただし、（光導
波管内で一方方向にのみ光を誘導する）単一格子は、ビ
ーム・スプリッタ８２の側面８７（または８６）を直接
通過するビームの部分のみとの干渉パターンを形成する
ように、ミラー９３からの光の程度を制限することによ
って形成されることに留意されたい。
【００２３】（コアおよびクラッドの屈折率条件を満た
すために）層８３内の格子が層８３に対する垂線と大き
な角度を形成しなければならない場合、ミラー８９から
層８３の表面に反射されるビームと、ミラー９３から層
８３の表面に反射されるビームとは、層８３内で干渉パ
ターンを形成せずに、光が表面から反射される角度であ
る。導波管においてコア／クラッドの屈折率の差が小さ
い場合、適切な屈折率整合用の流体と共に特殊プリズム
構造をフォトポリマー層８３に取付けて、フォトポリマ
ー層８３内の干渉ビーム間の所望の角度を形成する必要
がある。
【００２４】層８３が適切に露出されて、所望の格子を
そこに形成すると、ホログラフィック記録膜の場合に
は、層８３を紫外線に所要時間の間露出することによ
り、層８３は固定（重合）される。この全工程は、特に
ホログラフィック記録膜を利用する場合、組立工程技術
において極めて有効である。すなわち、ホログラフィッ
ク記録膜の連続ロールを露出工程，重合工程，切断工程
などで処理され、再ロールされるか、あるいは図７で説
明したようにパッケージを製造する組立工程で後で利用
するためにパッケージングされる。
【００２５】以上、光チャンネル導波管に対して光を入
射および／または抽出する改善された装置およびその装
置を製造する方法について説明してきた。さらに、成形
された光チャンネル導波管のＩ／Ｏノードを利用する新
規の改善された装置について説明してきた。また、製造
および利用するのが比較的簡単で安価な光チャンネル導
波管のＩ／Ｏノードを利用する新規の改善された装置に
ついて説明してきた。光チャンネル導波管から光を抽出
する装置は実質的に、電子バスにおける高インピーダン
ス・ノードと同様な、光の大半にあまり影響を与えずに
導波管コアにおいて光をサンプリングするサンプリング
装置である。また、高速電子装置におけるバックプレー
ンや他のバスに特に適用可能な、光チャンネル導波管の
Ｉ／Ｏチャンネルを利用する新規の改善された装置が開
示される。
【図面の簡単な説明】
【図１】光導波管の簡略Ｉ／Ｏノードを説明のために示
す。
【図２】光導波管の簡略双方向Ｉ／Ｏノードを説明のた
めに示す。
【図３】本発明を具現するノードを利用するための装置
を含む光チャンネル導波管におけるＩ／Ｏノードを示
す。
【図４】図３に示すノードおよび装置の端面図である。
【図５】図３に示すものと同様なノードを利用する複数
のノードおよび装置の上面図である。
【図６】図５に示すノードおよび装置の端面図である。
【図７】本方法により構造が完全品に形成されている、
図６と同様なノードおよび装置の端面図である。
【図８】図３のＩ／Ｏノードの製造において用いられる
装置の光線図である。
【符号の説明】
１０ 入／出力（Ｉ／Ｏ）ノード １１ 光チャンネル導波管 １２ 第１クラッド層 １５ 光学的に透明な材料 １６ ホログラフィック層 １７ 第１光入／出力面 １８ 第２光入／出力面 ２０ 格子 ２１ 光線 ２２ 横軸 ２５ Ｉ／Ｏノード ２６ 光導波管 ２７ 第１クラッド層 ２８ 光学的に透明な材料 ２９ ホログラフィック層 ３０ 第１光入／出力面 ３１ 第２光入／出力面 ３２ 第１群の格子 ３３ 第２群の格子 ３５ 格子 ３６ 格子 ３７ 光線 ３８ 横軸光 ４０ Ｉ／Ｏノード ４２ 光チャンネル導波管 ４３ 第１クラッド層 ４４ 光学的に透明な材料 ４５ 透過的ホログラフィック材料層 ４６ 第１領域 ４７ 第２領域 ５０ 光学的に透明な材料層 ５１ 光発生素子 ５２ 光検出素子 ５５ 光バス ５６ 第１クラッド層 ５７ 光チャンネル導波管 ５８ ホログラフィック材料層 ５９ 光学的に透明な材料 ６１ 光発生素子 ６２ 光検出素子 ６３ 電気接続 ６４ 外部接続パッド ７１ 外部リード ８０ 装置 ８２ ビーム・スプリッタ ８３ ホログラフィック材料層 ８５ ビーム ８８ 第１ミラー ８９ 第２ミラー ９０ レンズ ９２ 第１ミラー ９３ 第２ミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フレッド・ブイ・リチャ−ド アメリカ合衆国アリゾナ州スコッツデ− ル、イ−スト・チャ−タ−・オ−ク・ロ− ド7531 (72)発明者 マイケル・エス・レビ− アメリカ合衆国アリゾナ州アパ−チェ・ジ ャンクション、ノ−ス・ラバ−ジェ・ロ− ド30

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光チャンネル導波管において入／出力ノ
    ードを製造する方法であって：第１屈折率を有する第１
    クラッド層（１２）を設ける段階；前記第１クラッド層
    の表面にチャンネルを形成する段階；前記第１屈折率よ
    りも少なくとも０．０１大きい第２屈折率を有する光学
    的に透明なポリマー（１５）で前記チャンネルを封止す
    る段階であって、前記チャンネル内の前記光学的に透明
    なポリマーは、臨界内部反射角度を有する光導波管（１
    １）を形成する段階；前記第２屈折率と実質的に同様な
    屈折率を有するホログラフィック材料から、第１および
    第２の実質的に平行で離間した光入／出力面（１７，１
    ８）を有するホログラフィック層（１６）を形成する段
    階；前記ホログラフィック層の前記第１光入／出力面と
    第２光入／出力面との間に実質的に延在する複数の格子
    （２０）を前記ホログラフィック層に形成する段階であ
    って、前記複数の格子は前記ホログラフィック層の前記
    第１および第２光入／出力面と所定の角度（ａ）を形成
    するように配置され、前記ホログラフィック層の前記第
    ２光入／出力面に入射しかつ実質的に垂直な光線が、前
    記ホログラフィック層の横軸との角度であって、前記光
    導波管の臨界角度よりも小さい角度で前記格子によって
    屈折される段階；および前記第１光入／出力面を前記光
    学的に透明なポリマーより上にして、前記ホログラフィ
    ック層を前記第１クラッド層の表面に固定する段階；に
    よって構成されることを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】 第１屈折率を有し、チャンネルが形成さ
    れている成形されたクラッド層（４３）；前記第１屈折
    率よりも少なくとも０．０１大きい第２屈折率を有し、
    臨界内部反射角度を有する光チャンネル導波管を形成す
    るように前記クラッド層の前記チャンネルに配置された
    光学的に透明な材料（４４）であって、前記光チャンネ
    ル導波管が露出面を有する光学的に透明な材料（４
    ４）；前記第２屈折率と実質的に同様な屈折率を有する
    ホログラフィック層（４５）であって、第１および第２
    の実質的に平行で離間した光入／出力面で形成され、前
    記ホログラフィック層の前記第１光入／出力面と第２光
    入／出力面との間に実質的に延在するように形成された
    複数の格子を有し、前記第１光入／出力面は前記光チャ
    ンネル導波管の前記露出面に対して上になる関係で固定
    されるホログラフィック層（４５）；前記ホログラフィ
    ック層の前記第１および第２光入／出力面とある角度を
    形成するように配置された前記複数の格子であって、前
    記ホログラフィック層の前記第２光入／出力面に入射し
    かつ実質的に垂直な光線が、前記光導波管の横軸との角
    度であって、前記光チャンネル導波管の前記臨界角度よ
    りも大きい角度で前記格子によって屈折される前記複数
    の格子；前記ホログラフィック層の前記第２光入／出力
    面に固定される光学的に透明な材料層（５０）；および
    前記光チャンネル導波管と光通信する、前記光学的に透
    明な層上に固定装着された光発生素子（５１）および光
    検出素子（５２）の少なくとも一つを含む電子素子（５
    １，５２）；によって構成されることを特徴とする光チ
    ャンネル導波管における入／出力ノードおよびこのノー
    ドを利用する装置。
  3. 【請求項３】 周りのクラッド層に形成され、かつ臨界
    反射角度との所定の反射率と、露出側面とを有する光チ
    ャンネル導波管（１１）；第１および第２の実質的に平
    行で離間した光入／出力面（１７，１８）を有する透過
    的ホログラフィック層（１６）であって、前記ホログラ
    フィック層の前記第１光入／出力面と第２光入／出力面
    との間に実質的に延在するように形成された複数の格子
    （２０）を有し、前記第１光入／出力面は前記光チャン
    ネル導波管の前記露出側面に対して上になる関係で固定
    される透過的ホログラフィック層（１６）：および前記
    ホログラフィック層の前記第１および第２光入／出力面
    とある角度（ａ）を形成するように配置された前記複数
    の格子であって、前記ホログラフィック層の前記第２光
    入／出力面に入射しかつ実質的に垂直な光線が前記格子
    によって前記光導波管内に屈折される前記複数の格子；
    によって構成されることを特徴とする光チャンネル導波
    管における入／出力ノード。
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