JPH0627398A - レーザビーム走査装置 - Google Patents
レーザビーム走査装置Info
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- JPH0627398A JPH0627398A JP4184249A JP18424992A JPH0627398A JP H0627398 A JPH0627398 A JP H0627398A JP 4184249 A JP4184249 A JP 4184249A JP 18424992 A JP18424992 A JP 18424992A JP H0627398 A JPH0627398 A JP H0627398A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】レーザビームを射出して走査するためのレーザ
ビーム走査装置に関し、垂直振動方向と水平振動方向の
ビームウェストの調整を簡単な構成で簡単に行うことが
できるレーザビーム走査装置を提供することを目的とす
る。 【構成】レーザビームを射出する半導体レーザ１１と、
上記レーザビームを収束させ、且つ垂直振動方向のビー
ムウェスト位置と水平振動方向のビームウェスト位置と
を独立して制御するために、上記レーザビームの光軸に
対して傾けて、上記半導体レーザ１１のレーザビーム射
出端の近傍に配置された収束レンズ１２と、上記収束レ
ンズ１２を通過したレーザビームの進行方向を継続的に
規則的に変化させるためのビーム走査手段２０とを設け
て構成する。
ビーム走査装置に関し、垂直振動方向と水平振動方向の
ビームウェストの調整を簡単な構成で簡単に行うことが
できるレーザビーム走査装置を提供することを目的とす
る。 【構成】レーザビームを射出する半導体レーザ１１と、
上記レーザビームを収束させ、且つ垂直振動方向のビー
ムウェスト位置と水平振動方向のビームウェスト位置と
を独立して制御するために、上記レーザビームの光軸に
対して傾けて、上記半導体レーザ１１のレーザビーム射
出端の近傍に配置された収束レンズ１２と、上記収束レ
ンズ１２を通過したレーザビームの進行方向を継続的に
規則的に変化させるためのビーム走査手段２０とを設け
て構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザビームを射出
して走査するためのレーザビーム走査装置に関する。
して走査するためのレーザビーム走査装置に関する。
【０００２】レーザビーム走査装置は、バーコードリー
ダやレーザプリンタなどに広く用いられているが、レー
ザビームの焦点深度を確保するためには、垂直振動方向
のビームウェストと水平振動方向のビームウェストとを
独立して各々自由に設定できるようにする必要がある。
ダやレーザプリンタなどに広く用いられているが、レー
ザビームの焦点深度を確保するためには、垂直振動方向
のビームウェストと水平振動方向のビームウェストとを
独立して各々自由に設定できるようにする必要がある。
【０００３】
【従来の技術】レーザビーム走査装置に用いられるレー
ザ光源は、近年Ｈｅ−Ｎｅレーザ装置から半導体レーザ
に置き換わって、小型化と低コスト化がすすんだが、射
出ビームの整形は半導体レーザの方が困難である。
ザ光源は、近年Ｈｅ−Ｎｅレーザ装置から半導体レーザ
に置き換わって、小型化と低コスト化がすすんだが、射
出ビームの整形は半導体レーザの方が困難である。
【０００４】従来、半導体レーザから射出されたレーザ
ビームの整形は、ピンホールアパーチャを用いて最大径
の規制を行うと共に、半導体レーザからの射出ビームを
コリメータレンズで受け、垂直振動方向と水平振動方向
の各々のビームウェスト位置を所望の位置にするための
複数のシリンドリカルレンズ又はプリズムを配置してい
た。
ビームの整形は、ピンホールアパーチャを用いて最大径
の規制を行うと共に、半導体レーザからの射出ビームを
コリメータレンズで受け、垂直振動方向と水平振動方向
の各々のビームウェスト位置を所望の位置にするための
複数のシリンドリカルレンズ又はプリズムを配置してい
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、半導体レーザ
の射出端にコリメータレンズの他に複数のシリンドリカ
ルレンズやプリズムを設けると、部品数が多くて装置が
複雑になり、またビームウェストの調整作業も簡単では
ないので、部品と組立調整とに相当のコストがかかる欠
点がある。
の射出端にコリメータレンズの他に複数のシリンドリカ
ルレンズやプリズムを設けると、部品数が多くて装置が
複雑になり、またビームウェストの調整作業も簡単では
ないので、部品と組立調整とに相当のコストがかかる欠
点がある。
【０００６】そこで本発明は、垂直振動方向と水平振動
方向のビームウェストの調整を簡単な構成で簡単に行う
ことができるレーザビーム走査装置を提供することを目
的とする。
方向のビームウェストの調整を簡単な構成で簡単に行う
ことができるレーザビーム走査装置を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のレーザビーム走査装置は、実施例を説明す
るための図１に示されるように、レーザビームを射出す
る半導体レーザ１１と、上記レーザビームを収束させ、
且つ垂直振動方向のビームウェスト位置と水平振動方向
のビームウェスト位置とを独立して制御するために、上
記レーザビームの光軸に対して傾けて、上記半導体レー
ザ１１のレーザビーム射出端の近傍に配置された収束レ
ンズ１２と、上記収束レンズ１２を通過したレーザビー
ムの進行方向を継続的に規則的に変化させるためのビー
ム走査手段２０とを設けたことを特徴とする。
め、本発明のレーザビーム走査装置は、実施例を説明す
るための図１に示されるように、レーザビームを射出す
る半導体レーザ１１と、上記レーザビームを収束させ、
且つ垂直振動方向のビームウェスト位置と水平振動方向
のビームウェスト位置とを独立して制御するために、上
記レーザビームの光軸に対して傾けて、上記半導体レー
ザ１１のレーザビーム射出端の近傍に配置された収束レ
ンズ１２と、上記収束レンズ１２を通過したレーザビー
ムの進行方向を継続的に規則的に変化させるためのビー
ム走査手段２０とを設けたことを特徴とする。
【０００８】なお、上記収束レンズ１２は、上記レーザ
ビームの垂直振動方向に傾けて配置してもよく、上記収
束レンズ１２の傾き角度を変化させるための傾き角度制
御手段１８を設けてもよい。
ビームの垂直振動方向に傾けて配置してもよく、上記収
束レンズ１２の傾き角度を変化させるための傾き角度制
御手段１８を設けてもよい。
【０００９】また、上記収束レンズ１２を球面又は非球
面のレンズによって形成すると共に、上記収束レンズ１
２を通過したレーザビームの外径を規制するためのピン
ホールアパーチャ１３を配置して、上記収束レンズ１２
と上記ピンホールアパーチャ１３とによって上記レーザ
ビームのビーム整形を行うようにしてもよい。
面のレンズによって形成すると共に、上記収束レンズ１
２を通過したレーザビームの外径を規制するためのピン
ホールアパーチャ１３を配置して、上記収束レンズ１２
と上記ピンホールアパーチャ１３とによって上記レーザ
ビームのビーム整形を行うようにしてもよい。
【００１０】
【作用】図５に示されるように、半導体レーザ９１にお
いては、垂直振動方向の光波と水平振動方向の光波とで
発光点が異なり、一般に、垂直振動方向の発光点９２の
方が水平振動方向の発光点９３より５μｍ〜１０数μｍ
だけ外方に位置するような非点隔差がある。
いては、垂直振動方向の光波と水平振動方向の光波とで
発光点が異なり、一般に、垂直振動方向の発光点９２の
方が水平振動方向の発光点９３より５μｍ〜１０数μｍ
だけ外方に位置するような非点隔差がある。
【００１１】したがって、図６に示されるように、半導
体レーザ９１から射出されたレーザビームを１枚の凸レ
ンズ９４で収束させた場合には、垂直振動方向のビーム
ウェスト９５が水平振動方向のビームウェスト９６より
も遠くに形成される。
体レーザ９１から射出されたレーザビームを１枚の凸レ
ンズ９４で収束させた場合には、垂直振動方向のビーム
ウェスト９５が水平振動方向のビームウェスト９６より
も遠くに形成される。
【００１２】しかし、使用目的によっては、垂直振動方
向のビームウェスト９５の位置を水平振動方向のビーム
ウェスト９６の位置より近くしたり、両ビームウェスト
９５，９６を同じ位置にしなければならない場合があ
る。
向のビームウェスト９５の位置を水平振動方向のビーム
ウェスト９６の位置より近くしたり、両ビームウェスト
９５，９６を同じ位置にしなければならない場合があ
る。
【００１３】そこで図７に示されるように、凸レンズ９
４を垂直振動方向の平面内で光軸に対して傾けると、垂
直振動方向のビームウェスト９５の位置だけが凸レンズ
９４側に近づく。
４を垂直振動方向の平面内で光軸に対して傾けると、垂
直振動方向のビームウェスト９５の位置だけが凸レンズ
９４側に近づく。
【００１４】この現象は、凸レンズ９４が光軸に対して
角度をもつことによって発生するコマ収差によるもので
あり、凸レンズ９４を大きく傾斜させるほど傾斜させた
方向のビームウェスト位置が凸レンズ９４側に近づく。
角度をもつことによって発生するコマ収差によるもので
あり、凸レンズ９４を大きく傾斜させるほど傾斜させた
方向のビームウェスト位置が凸レンズ９４側に近づく。
【００１５】本発明はこの現像を利用したものであり、
収束レンズ１２をレーザビームの光軸に対して傾けて配
置することにより、その傾かせた方向のビームウェスト
が収束レンズ１２側に近づくので、収束レンズ１２の傾
き方向と傾き角度を変えることにより、任意の方向のビ
ームウェストを任意の位置に設定することができる。
収束レンズ１２をレーザビームの光軸に対して傾けて配
置することにより、その傾かせた方向のビームウェスト
が収束レンズ１２側に近づくので、収束レンズ１２の傾
き方向と傾き角度を変えることにより、任意の方向のビ
ームウェストを任意の位置に設定することができる。
【００１６】その結果、ビーム走査手段２０によって進
行方向が継続的に規則的に変化させられるレーザビーム
が、走査対象に対して最も望ましい焦点深度を得ること
ができるようにすることができる。そして、傾き角度制
御手段１８を設ければ、収束レンズ１２の傾き角度を自
由に変えることができる。
行方向が継続的に規則的に変化させられるレーザビーム
が、走査対象に対して最も望ましい焦点深度を得ること
ができるようにすることができる。そして、傾き角度制
御手段１８を設ければ、収束レンズ１２の傾き角度を自
由に変えることができる。
【００１７】また、収束レンズ１２を通過したレーザビ
ームの外径を規制するピンホールアパーチャ１３を設け
て、収束レンズ１２とピンホールアパーチャ１３だけで
レーザビームのビーム整形を行うことができる。
ームの外径を規制するピンホールアパーチャ１３を設け
て、収束レンズ１２とピンホールアパーチャ１３だけで
レーザビームのビーム整形を行うことができる。
【００１８】
【実施例】図面を参照して実施例を説明する。図２は本
発明をバーコードスキャナに適用した実施例を示してい
る。
発明をバーコードスキャナに適用した実施例を示してい
る。
【００１９】図中１０は、レーザビームを射出する半導
体レーザ１１とその半導体レーザ１１から射出されたレ
ーザビームを収束させるための収束レンズ１２とを収容
した半導体レーザモジュールである。
体レーザ１１とその半導体レーザ１１から射出されたレ
ーザビームを収束させるための収束レンズ１２とを収容
した半導体レーザモジュールである。
【００２０】収束レンズ１２としては、球面又は非球面
の凸レンズが用いられており、半導体レーザ１１のレー
ザビーム射出端に対向してその近傍に配置されている。
半導体レーザモジュール１０のレーザビーム射出部に
は、ピンホールアパーチャ１３が形成されていて、レー
ザビームの外径がここで規制される。
の凸レンズが用いられており、半導体レーザ１１のレー
ザビーム射出端に対向してその近傍に配置されている。
半導体レーザモジュール１０のレーザビーム射出部に
は、ピンホールアパーチャ１３が形成されていて、レー
ザビームの外径がここで規制される。
【００２１】半導体レーザモジュール１０から射出され
たレーザビームは、平面ミラー１９で反射されて走査光
学系２０に入射する。そして、凹面ミラー２１の中央に
形成された小さな平面ミラー部２２で反射されてポリゴ
ンミラー２３の反射面に向かう。
たレーザビームは、平面ミラー１９で反射されて走査光
学系２０に入射する。そして、凹面ミラー２１の中央に
形成された小さな平面ミラー部２２で反射されてポリゴ
ンミラー２３の反射面に向かう。
【００２２】ポリゴンミラー２３は一定速度で回転駆動
されている。したがって、レーザビームはポリゴンミラ
ー２３の反射面で継続的に規則的に向きを変えながら反
射される。そして、三面ミラー２４を構成する三枚の平
面鏡のうちの一枚で底面ミラー２５に向けて反射され
る。
されている。したがって、レーザビームはポリゴンミラ
ー２３の反射面で継続的に規則的に向きを変えながら反
射される。そして、三面ミラー２４を構成する三枚の平
面鏡のうちの一枚で底面ミラー２５に向けて反射され
る。
【００２３】走査光学系２０の表面には、屈折率が場所
によって異なるホログラム材料が透明板に形成された屈
折率分布型のホログラムウィンド２６や凹凸による回折
格子が透明板に形成されたレリーフ型のホログラムウィ
ンドが配置されており、底面ミラー２５で反射されたレ
ーザビームはホログラムウィンド２６を通過することに
より屈折して収束する。
によって異なるホログラム材料が透明板に形成された屈
折率分布型のホログラムウィンド２６や凹凸による回折
格子が透明板に形成されたレリーフ型のホログラムウィ
ンドが配置されており、底面ミラー２５で反射されたレ
ーザビームはホログラムウィンド２６を通過することに
より屈折して収束する。
【００２４】そして、ポリゴンミラー２３が回転してい
ることによって、レーザビームは光波の垂直振動方向を
走査方向にして高速で一方向に走査され、バーコード１
００に当たって反射される。
ることによって、レーザビームは光波の垂直振動方向を
走査方向にして高速で一方向に走査され、バーコード１
００に当たって反射される。
【００２５】図３は、走査光学系２０の側面図であり、
ホログラムウィンド２６の外側でバーコード１００に当
たって反射されたレーザビームは、ホログラムウィンド
２６を通って、底面ミラー２５、三面ミラー２４、ポリ
ゴンミラー２３で順に反射され、つづいて凹面ミラー２
１で反射されて収束され、小さな平面ミラー２７で反射
された後、凹面ミラー２１によるレーザビームの収束点
に配置された光検知器２８に入射し、電気信号に変換さ
れる。
ホログラムウィンド２６の外側でバーコード１００に当
たって反射されたレーザビームは、ホログラムウィンド
２６を通って、底面ミラー２５、三面ミラー２４、ポリ
ゴンミラー２３で順に反射され、つづいて凹面ミラー２
１で反射されて収束され、小さな平面ミラー２７で反射
された後、凹面ミラー２１によるレーザビームの収束点
に配置された光検知器２８に入射し、電気信号に変換さ
れる。
【００２６】このようにして、走査光学系２０において
は、ポリゴンミラー２３の回転によってレーザビームが
走査され、光検知器２８からの出力信号によってバーコ
ード１００を読み取ることができる。
は、ポリゴンミラー２３の回転によってレーザビームが
走査され、光検知器２８からの出力信号によってバーコ
ード１００を読み取ることができる。
【００２７】図１は、半導体モジュール１０内の構成を
示しており、収束レンズ１２はレンズホルダ１４に固着
されている。そしてそのレンズホルダ１４は、半導体レ
ーザ１１から射出されるレーザビームの水平振動方向に
向けて配置された軸１５を中心にして、レーザビームの
垂直振動方向に自由に傾けることができる。
示しており、収束レンズ１２はレンズホルダ１４に固着
されている。そしてそのレンズホルダ１４は、半導体レ
ーザ１１から射出されるレーザビームの水平振動方向に
向けて配置された軸１５を中心にして、レーザビームの
垂直振動方向に自由に傾けることができる。
【００２８】軸１５に固着された歯車１６は、減速歯車
１７を介してモータ１８によって駆動される。１８ａは
モータドライバ回路、１１ａは半導体レーザドライバ回
路である。
１７を介してモータ１８によって駆動される。１８ａは
モータドライバ回路、１１ａは半導体レーザドライバ回
路である。
【００２９】このような構成により、収束レンズ１２は
レーザビームの垂直振動方向に傾けて配置されており、
図７に示されるのと同様に垂直振動方向のビームウェス
トの方が水平振動方向のビームウェストよりも収束レン
ズ１２の近くに移動した状態になっている。
レーザビームの垂直振動方向に傾けて配置されており、
図７に示されるのと同様に垂直振動方向のビームウェス
トの方が水平振動方向のビームウェストよりも収束レン
ズ１２の近くに移動した状態になっている。
【００３０】そして、組立時あるいは必要に応じて、モ
ータ１８駆動により収束レンズ１２の傾き角度を変え
て、垂直振動方向のビームウェスト位置を水平振動方向
のビームウェストとは独立して調整することができる。
ータ１８駆動により収束レンズ１２の傾き角度を変え
て、垂直振動方向のビームウェスト位置を水平振動方向
のビームウェストとは独立して調整することができる。
【００３１】その結果、走査ビームのビーム形状を空間
的広がりをもった任意の位置で円形ビームに又は楕円ビ
ームに調整して、読み取り対象のバーコード１００に対
して最も望ましい焦点深度をとることができる。
的広がりをもった任意の位置で円形ビームに又は楕円ビ
ームに調整して、読み取り対象のバーコード１００に対
して最も望ましい焦点深度をとることができる。
【００３２】図４は本発明の第２の実施例を示してお
り、ホログラムディスク３１を回転させてレーザビーム
を走査するようにしたレーザプリンタの走査装置に本発
明を適用した例を示しており、３２は感光ドラムであ
る。
り、ホログラムディスク３１を回転させてレーザビーム
を走査するようにしたレーザプリンタの走査装置に本発
明を適用した例を示しており、３２は感光ドラムであ
る。
【００３３】この場合には、垂直振動方向及び水平振動
方向のビームウェストが同位置になって、感光ドラム３
２表面上に円形のビームが照射されるような角度に収束
レンズ１２の角度を固定しておく。
方向のビームウェストが同位置になって、感光ドラム３
２表面上に円形のビームが照射されるような角度に収束
レンズ１２の角度を固定しておく。
【００３４】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、例えば、収束レンズ１２はレーザビームの
垂直振動方向にのみ角度を変えるのではなく、水平振動
方向にも角度を変えられるようにしてもよい。
のではなく、例えば、収束レンズ１２はレーザビームの
垂直振動方向にのみ角度を変えるのではなく、水平振動
方向にも角度を変えられるようにしてもよい。
【００３５】
【発明の効果】本発明のレーザビーム走査装置によれ
ば、収束レンズをレーザビームの光軸に対して傾けて配
置するだけで垂直振動方向のビームウェスト位置と水平
振動方向のビームウェスト位置を互いに独立して任意に
設定することができ、その結果、最も望ましい焦点深度
やビーム形状を容易に得ることができる。
ば、収束レンズをレーザビームの光軸に対して傾けて配
置するだけで垂直振動方向のビームウェスト位置と水平
振動方向のビームウェスト位置を互いに独立して任意に
設定することができ、その結果、最も望ましい焦点深度
やビーム形状を容易に得ることができる。
【００３６】そして、レーザビームの整形を収束レンズ
とピンホールアパーチャだけで行うことができるので、
装置の構成を非常に簡素にすることができて、部品コス
ト及び組立調整コストを大幅に低減させることができ
る。
とピンホールアパーチャだけで行うことができるので、
装置の構成を非常に簡素にすることができて、部品コス
ト及び組立調整コストを大幅に低減させることができ
る。
【図１】第１の実施例の半導体レーザモジュールの構成
図である。
図である。
【図２】第１の実施例のレーザビーム走査装置の斜視図
である。
である。
【図３】第１の実施例の走査光学系の側面図である。
【図４】第２の実施例のレーザビーム走査装置の斜視図
である。
である。
【図５】半導体レーザの特性説明図である。
【図６】半導体レーザの特性説明図である。
【図７】半導体レーザの特性説明図である。
１１ 半導体レーザ １２ 収束レンズ １３ ピンホールアパーチャ ２０ 走査光学系（ビーム走査手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４ Ａ 7251−5Ｃ (72)発明者 高島 裕一郎 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】レーザビームを射出する半導体レーザ（１
１）と、 上記レーザビームを収束させ、且つ垂直振動方向のビー
ムウェスト位置と水平振動方向のビームウェスト位置と
を独立して制御するために、上記レーザビームの光軸に
対して傾けて、上記半導体レーザ（１１）のレーザビー
ム射出端の近傍に配置された収束レンズ（１２）と、 上記収束レンズ（１２）を通過したレーザビームの進行
方向を継続的に規則的に変化させるためのビーム走査手
段（２０）とを設けたことを特徴とするレーザビーム走
査装置。 - 【請求項２】上記収束レンズ（１２）は、上記レーザビ
ームの垂直振動方向に傾けて配置されている請求項１記
載のレーザビーム走査装置。 - 【請求項３】上記収束レンズ（１２）の傾き角度を変化
させるための傾き角度制御手段（１８）が設けられてい
る請求項１又は２記載のレーザビーム走査装置。 - 【請求項４】上記収束レンズ（１２）を球面又は非球面
のレンズによって形成すると共に、上記収束レンズ（１
２）を通過したレーザビームの外径を規制するためのピ
ンホールアパーチャ（１３）を配置して、上記収束レン
ズ（１２）と上記ピンホールアパーチャ（１３）とによ
って上記レーザビームのビーム整形が行われるようにし
た請求項１、２又は３記載のレーザビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18424992A JP3181381B2 (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 半導体レーザモジュール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18424992A JP3181381B2 (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 半導体レーザモジュール |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0627398A true JPH0627398A (ja) | 1994-02-04 |
| JP3181381B2 JP3181381B2 (ja) | 2001-07-03 |
Family
ID=16150006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18424992A Expired - Fee Related JP3181381B2 (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 半導体レーザモジュール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3181381B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989008714A1 (fr) * | 1988-03-08 | 1989-09-21 | Chemunex | Procede de recherche, qualitatif ou quantitatif de micro-organismes, installation pour la mise en oeuvre dudit procede |
| WO2008056577A1 (en) | 2006-11-10 | 2008-05-15 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Si-O CONTAINING HYDROGENATED CARBON FILM, OPTICAL DEVICE INCLUDING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE Si-O CONTAINING HYDROGENATED FILM AND THE OPTICAL DEVICE |
| JP2012512508A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-05-31 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 照明手段及び同照明手段を少なくとも１つ有するプロジェクタ |
-
1992
- 1992-07-13 JP JP18424992A patent/JP3181381B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989008714A1 (fr) * | 1988-03-08 | 1989-09-21 | Chemunex | Procede de recherche, qualitatif ou quantitatif de micro-organismes, installation pour la mise en oeuvre dudit procede |
| WO2008056577A1 (en) | 2006-11-10 | 2008-05-15 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Si-O CONTAINING HYDROGENATED CARBON FILM, OPTICAL DEVICE INCLUDING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE Si-O CONTAINING HYDROGENATED FILM AND THE OPTICAL DEVICE |
| US8047653B2 (en) | 2006-11-10 | 2011-11-01 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Si-O containing hydrogenated carbon film, optical device including the same, and method for manufacturing the Si-O containing hydrogenated carbon film and the optical device |
| JP2012512508A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-05-31 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 照明手段及び同照明手段を少なくとも１つ有するプロジェクタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3181381B2 (ja) | 2001-07-03 |
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