JPH062739U - プリント基板のエツチング、現像、剥離装置 - Google Patents

プリント基板のエツチング、現像、剥離装置

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JPH062739U
JPH062739U JP5236292U JP5236292U JPH062739U JP H062739 U JPH062739 U JP H062739U JP 5236292 U JP5236292 U JP 5236292U JP 5236292 U JP5236292 U JP 5236292U JP H062739 U JPH062739 U JP H062739U
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JP
Japan
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printed circuit
etching
circuit board
developing
disk
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Pending
Application number
JP5236292U
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English (en)
Inventor
輝幸 中野
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Ishii Hyoki Co Ltd
Original Assignee
Ishii Hyoki Co Ltd
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Publication date
Application filed by Ishii Hyoki Co Ltd filed Critical Ishii Hyoki Co Ltd
Priority to JP5236292U priority Critical patent/JPH062739U/ja
Publication of JPH062739U publication Critical patent/JPH062739U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 プリント基板のエッチング、現像又は剥離の
処理を能率的且つ均一に行える装置を提供する。 【構成】 任意速度で回転駆動されるものとした縦軸5
の下端に水平な円盤10の中心箇所を固定すると共に同
円盤の下面には薬液sを垂直下方へ向けて噴射するもの
としたノズル11を散点状に垂設したことを特徴とする
プリント基板のエッチング、現像、剥離装置である。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はプリント基板のエッチングや現像或いは剥離作業などを行う装置に関 する。
【0002】
【従来の技術】
プリント基板をエッチング、現像、剥離する装置は従来より存在しているので あって、例えば図3に示すようにプリント基板wを水平姿勢で搬送するためのロ ーラ搬送装置1とこの装置1で搬送されているプリント基板w上面に薬液を噴射 するものとしたノズル管装置2からなり、このさいノズル管装置2は管中心線廻 りの揺動自在となされている。
【0003】 この装置においてエッチングなどの処理能率を変化させる場合は搬送装置1の 送り速度を変化させてプリント基板wの移動速度を変化させるようになされる。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
上記した在来装置にあって薬液の十分な噴射を受けて処理効率を高めるには搬 送装置の送り速度が小となされるため時間当たりの処理能力が小さくなってコス トアップとなるのであり、またノズル管装置が揺動されたさいノズルから噴射さ れる薬液の垂直方向に対する傾斜角度が大きくなるためエッチング処理で形成さ れた縦壁に図3(b)に示すようなくびれpの生じる現象(サイドエッチング) が引き起こされるのである。本考案は主にこれらの問題点を解消し得るものとし たプリント基板のエッチング、現像、剥離装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本考案は、任意速度で回転駆動されるものとした縦軸 の下端に水平な円盤の中心箇所を固定すると共に同円盤の下面には薬液を垂直下 方へ向けて噴射するものとしたノズルを散点状に垂設したことを特徴とする。
【0006】
【作用】
本考案において処理能率を増大させるには縦軸の回転速度を大きくして円盤の 回転速度を増大させるのであり、これによりノズルからプリント基板に噴射され る時間当たりの薬液の量が増大され処理能率が向上するものとなる。また円盤の 回転速度の大小に拘らず薬液が常にノズルから垂直下方へ向けて噴射されるため サイドエッチングの生じ難いものとなる。
【0007】
【実施例】
図1及び図2により本考案の実施例を説明すると、プリント基板wを水平搬送 するための装置として従来と同様なローラ搬送装置1を形成するのであって、即 ち適宜な駆動機構を介して回転される軸3を並設すると共に各軸3にはゴムロー ラ4を列設するほか必要に応じて各軸3の回転速度を変更調整自在となす。
【0008】 しかして、ローラ搬送装置1の上方には図示しない軸受を介して一定高さでの 回転作動自在に縦軸5を設ける。この縦軸5は中心部を液路5aとなされ且つ図 示しないロータリジョイントなどを介することにより上方から適当圧の薬液sを 供給されるものとなされている。
【0009】 6は縦軸5に固定されたプーリで、7は回転速度を任意に変更し得るものとし たモータで出力軸にプーリ8が固定してあり、またこれら二つのプーリ6、8間 には伝動ベルト9が掛け回してある。
【0010】 10は中空部10aの形成された水平円盤であって、これの中心箇所を縦軸5 の下端に固定すると共に下面には多数のノズル11を散点状に設け、液路5aを 通じて中空部10a内に流入した薬液sがノズル11から垂直下方へ向けて噴射 されるものとなしてある。このさいノズル11の噴射パターンは扇形、ドーナツ 形、カーテン形など任意なものとなして差し支えない。
【0011】 上記の如く構成した本考案装置によりプリント基板をエッチングするさいは次 のように実施する。ローラ搬送装置1を作動させた後、これのゴムローラ4上に 銅箔c(図3参照)の被着されたプリント基板wを載置するのであり、これによ りプリント基板wは水平姿勢を保持されてゆっくりと矢印方向f1へ移動される 。
【0012】 この一方ではモータ7を始動して縦軸5及び円盤10を回転させると共に外方 から液路5aへ薬液sを供給するのであり、これにより薬液sは縦軸5廻りに回 転されるノズル11から垂直下方へ噴射されるものとなる。
【0013】 しかしてプリント基板wが円盤10の下方に達するとノズル11から噴射され る薬液sは上側の銅箔cの表面に衝突してこれに描かれた配線部位の箇所を除い た範囲を侵食するものとなる。このさい、薬液sは垂直下方へ向けて噴射される ため、銅箔cの表面が侵食されて形成された図2に示す縦壁aは正確な垂直状と なされ不必要なくびれは生じないのであり、またプリント基板wに対するノズル 11の移動方向が円盤10のプリント基板進行方向の前部と後部で逆対称となる ことから均一で微細なエッチングを実施し得るのであり、さらに円盤10が回転 していることからプリント基板w上の薬液sが外方へ円滑に排除されるものとな り、これによりプリント基板wは均一な仕上がりとなって品質が向上するものと なるのである。
【0014】 エッチングなどの処理能率を増大させるさいはローラ搬送装置1の送り速度を 低下させる方法もあるが一般にはモータ7の回転速度を増大させて円盤10の回 転速度を大きくなす。これによるときはノズル11の移動速度が増大されて単位 時間におけるプリント基板wへの薬液sの噴射量が増加するため、ローラ搬送装 置1の送り速度を低下させないでも処理能率が向上するのである。
【0015】 なお本考案装置はプリント基板wのエッチング処理のみならず、現像処理や剥 離処理にも効果的に使用される。
【0016】
【考案の効果】
上記した本考案装置によれば、プリント基板の送り速度を低下させることなく 処理能率を増大させることができ製品のコストダウンが図られるものとなるので あり、また円盤の回転速度の大小に拘らずノズルから噴射される薬液が常に垂直 下方へ向かうためサイドエッチングの生じ難いとものとなり、またプリント基板 に対するノズルの移動方向が円盤のプリント基板進行方向の前部と後部で逆対称 となるため均一で微細なエッチングが実施されるものとなり、さらに円盤が回転 されるためプリント基板表面へ噴射された薬液が外方へ排除され易くなって一層 均一な処理が行えるものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の実施例装置を示し、(a)は平面図で
(b)は側面図である。
【図2】同装置で処理されるプリント基板周辺を示す側
面図である。
【図3】従来例に係り、(a)は斜視図で(b)は拡大
側面図である。
【符号の説明】
5 縦軸 10 円盤 11 ノズル

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 任意速度で回転駆動されるものとした縦
    軸の下端に水平な円盤の中心箇所を固定すると共に同円
    盤の下面には薬液を垂直下方へ向けて噴射するものとし
    たノズルを散点状に設けたことを特徴とするプリント基
    板のエッチング、現像、剥離装置。
JP5236292U 1992-06-15 1992-06-15 プリント基板のエツチング、現像、剥離装置 Pending JPH062739U (ja)

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JPH062739U true JPH062739U (ja) 1994-01-14

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ID=12912700

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JP5236292U Pending JPH062739U (ja) 1992-06-15 1992-06-15 プリント基板のエツチング、現像、剥離装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07321450A (ja) * 1994-05-20 1995-12-08 Nec Corp 保護膜剥離方法および装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6013082A (ja) * 1983-07-01 1985-01-23 Nec Corp 搬送表面処理装置
JPH0210828A (ja) * 1988-06-29 1990-01-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd エッチング装置及びその方法

Patent Citations (2)

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