JPH0210828A - エッチング装置及びその方法 - Google Patents
エッチング装置及びその方法Info
- Publication number
- JPH0210828A JPH0210828A JP63161686A JP16168688A JPH0210828A JP H0210828 A JPH0210828 A JP H0210828A JP 63161686 A JP63161686 A JP 63161686A JP 16168688 A JP16168688 A JP 16168688A JP H0210828 A JPH0210828 A JP H0210828A
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- JP
- Japan
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- electrode
- upper electrode
- etching gas
- etching
- wafer
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- Pending
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体製造工程中のエツチング工程で用いるエ
ツチング装置及びその方法に関するものである。
ツチング装置及びその方法に関するものである。
従来の技術
第３図（ａ）は従来のエツチング装置の上部電極付近の
縦断断面図を示すものであシ、第３図（ｂ）は同図（ａ
）の上部電極表面の横断断面図を示すものである。
縦断断面図を示すものであシ、第３図（ｂ）は同図（ａ
）の上部電極表面の横断断面図を示すものである。
第３図（ａ）、Φ）において、３０１はチャンバー３０
２の上端に固定されている上部電極、３０３は上部電極
３０１の表面に設けられた複数個のノズル穴、３０４は
上部電極３０１と所定の間隙を有して対向するように設
けられた下部電極、３０５は下部電極３０４に載置され
たウェハー、３０６は上部電極側アース、３０７はＲＦ
電源、３０８は下部電極側アースである。
２の上端に固定されている上部電極、３０３は上部電極
３０１の表面に設けられた複数個のノズル穴、３０４は
上部電極３０１と所定の間隙を有して対向するように設
けられた下部電極、３０５は下部電極３０４に載置され
たウェハー、３０６は上部電極側アース、３０７はＲＦ
電源、３０８は下部電極側アースである。
以上のように構成されたエツチング装置において、上部
矢印方向からエツチングガスを供給すると上部電極３０
１の表面に設けられた複数個のノズル穴３０３からエツ
チングガスが放射状に吹き出し、下部電極３０４に載置
されたウェハー３０５をエツチングするしくみになって
いる。
矢印方向からエツチングガスを供給すると上部電極３０
１の表面に設けられた複数個のノズル穴３０３からエツ
チングガスが放射状に吹き出し、下部電極３０４に載置
されたウェハー３０５をエツチングするしくみになって
いる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来の構成では、長期間使用するとノ
ズル穴に堆積物がつまったシ、上部電極を形成する材質
固有のひずみによりノズル穴が変形してしまうので、エ
ツチングガスをウェハーに均一に吹きつけることができ
なくなシウエハーのエツチングを均一に行なうことがで
きないという欠点を有していた。
ズル穴に堆積物がつまったシ、上部電極を形成する材質
固有のひずみによりノズル穴が変形してしまうので、エ
ツチングガスをウェハーに均一に吹きつけることができ
なくなシウエハーのエツチングを均一に行なうことがで
きないという欠点を有していた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、ノズル穴
に堆積物がつまったり、ノズル穴がひずみによシ変形し
てしまった場合でも、エツチングガスを常に均一にウェ
ハーに吹きつけることができるイオンエツチング装置及
びその方法を提供することを目的とする。
に堆積物がつまったり、ノズル穴がひずみによシ変形し
てしまった場合でも、エツチングガスを常に均一にウェ
ハーに吹きつけることができるイオンエツチング装置及
びその方法を提供することを目的とする。
課題を解決するだめの手段
上記目的を達成するために本発明のエツチング装置はエ
ツチングガスを吹き出す複数個のノズル孔を有する一方
の電極と、前記一方の電極と所定の間隙を有して位置す
る他方の電極とを有し、前記一方の電極を回転させる駆
動源を備えた構成となっている。
ツチングガスを吹き出す複数個のノズル孔を有する一方
の電極と、前記一方の電極と所定の間隙を有して位置す
る他方の電極とを有し、前記一方の電極を回転させる駆
動源を備えた構成となっている。
まったシ、歪によシ変形が生じた場合においても電極が
回転することによりエツチングガスを常に均一にウェハ
ーに吹きつけることができる。
回転することによりエツチングガスを常に均一にウェハ
ーに吹きつけることができる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図（、）は本発明の第１の実施例におけるエツチン
グ装置の上部電極付近の縦断断面図を示すものであシ、
第１図（ロ）は同図（ａ）の上部電極表面の横断断面図
を示すものである。
グ装置の上部電極付近の縦断断面図を示すものであシ、
第１図（ロ）は同図（ａ）の上部電極表面の横断断面図
を示すものである。
第１図（ａ）、（ト）において、１０１は駆動軸、１０
２は滑車、１ｏ３はベルトであシ外部モータから得られ
る回転力を順次伝達し、上部電極１０４を回転させるし
くみになっている。１０５は上部電極１０４とチャンバ
ー１０６とが接する部分に設けられたポーフレベアリン
グであシ、上部型ｉｆ ０４の回転を滑らかに行う。
２は滑車、１ｏ３はベルトであシ外部モータから得られ
る回転力を順次伝達し、上部電極１０４を回転させるし
くみになっている。１０５は上部電極１０４とチャンバ
ー１０６とが接する部分に設けられたポーフレベアリン
グであシ、上部型ｉｆ ０４の回転を滑らかに行う。
１０７は電極と同一の中心を持ち同心円状に複数個設け
られたノズル孔であシ、矢印方向から供給されるエツチ
ングガスを放射状に排出する。１刀は上部電極１０４と
所定の間隙を有して対向するように設けられた下部電極
であシウエハ−１０９を載置している。１１０は上部電
極側アース、１１１はＲＦ電源、１１２は下部電極側ア
ースである。
られたノズル孔であシ、矢印方向から供給されるエツチ
ングガスを放射状に排出する。１刀は上部電極１０４と
所定の間隙を有して対向するように設けられた下部電極
であシウエハ−１０９を載置している。１１０は上部電
極側アース、１１１はＲＦ電源、１１２は下部電極側ア
ースである。
以上のように構成されたエツチング装置について、以下
その動作及びエツチング方法を説明する。
その動作及びエツチング方法を説明する。
まず、モータ等の駆動源によシ上部電極１０４を定常回
転させた後、矢印方向からエツチングガスの注入を行う
。注入されたエツチングガスは上部電極１０４の内管を
通過し、上部電極に設けられたノズル孔１０７よシ放射
状に吹き出る。今、万が−ノズル孔１０７が何らかの要
因で部分的に閉口した場合を考えると、エツチングの吹
き出しは部分的に抑制されるが、上部電極１０４が回転
するためウェハー１０９の表面は均一にエツチングされ
る。さらにノズル孔１０７が同心円状に複数個設けられ
ているのでエツチングの均一性を一層高めることができ
る。
転させた後、矢印方向からエツチングガスの注入を行う
。注入されたエツチングガスは上部電極１０４の内管を
通過し、上部電極に設けられたノズル孔１０７よシ放射
状に吹き出る。今、万が−ノズル孔１０７が何らかの要
因で部分的に閉口した場合を考えると、エツチングの吹
き出しは部分的に抑制されるが、上部電極１０４が回転
するためウェハー１０９の表面は均一にエツチングされ
る。さらにノズル孔１０７が同心円状に複数個設けられ
ているのでエツチングの均一性を一層高めることができ
る。
以下本発明の第２の実施例について図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第２図（ａ）は本発明の第２の実施例におけるエツチン
グ装置の上部電極付近の縦断断面図を示すものであシ、
第２図Φ）は同図（ａ）の上部電極表面の横断断面図を
示すものである。第２図（ａ） 、 （ｂ）において、
２０７は電極と異なる中心を持ち同心円状に複数個設け
られたノズル孔で、その他は第１図（ａ）。
グ装置の上部電極付近の縦断断面図を示すものであシ、
第２図Φ）は同図（ａ）の上部電極表面の横断断面図を
示すものである。第２図（ａ） 、 （ｂ）において、
２０７は電極と異なる中心を持ち同心円状に複数個設け
られたノズル孔で、その他は第１図（ａ）。
（ｂ）の構成と同様なものである。
以上のように回転可能である上部電極に電極と異なる中
心を持ち同心円状に複数個のノズル穴を設けることによ
シ、サイズの異なるウェハーに対してもエツチングガス
を均一に吹きつけることができる。
心を持ち同心円状に複数個のノズル穴を設けることによ
シ、サイズの異なるウェハーに対してもエツチングガス
を均一に吹きつけることができる。
発明の効果
以上のように本発明はエツチングガスを吹き出す複数個
のノズル孔を有する一方の電極と、前記一方の電極と所
定の間隙を有して位置する他方の電極とを有し、前記一
方の電極を回転させる駆動源を備えた構成とすることに
より、エッチングガスを被エツチング試料に均一に吹き
つけることができる優れたエツチング装置及びその方法
を実現できるものである。
のノズル孔を有する一方の電極と、前記一方の電極と所
定の間隙を有して位置する他方の電極とを有し、前記一
方の電極を回転させる駆動源を備えた構成とすることに
より、エッチングガスを被エツチング試料に均一に吹き
つけることができる優れたエツチング装置及びその方法
を実現できるものである。
第１図（ａ）は本発明の第１の実施例におけるエツチン
グ装置の上部電極付近の縦断断面図、第１図（ロ）は同
図（ａ）の上部電極表面の横断断面図、第２図（ａ）は
本発明の第２の実施例におけるエツチング装置の上部電
極付近の縦断断面図、第２図（ｂ）は同図（ａ）の上部
電極表面の横断断面図、第３図（ａ）は従来のエツチン
グ装置の上部電極付近の縦断断面図、第３図（ロ）は同
図（ａ）の上部電極表面の横断断面図である。 １０４・・・中上部電極、１ｏ了・・・・・・ノズル孔
、１０８・・・・・・下部電極、１０９・・・・・・ウ
ェハー代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１
名菓 図 υ２
グ装置の上部電極付近の縦断断面図、第１図（ロ）は同
図（ａ）の上部電極表面の横断断面図、第２図（ａ）は
本発明の第２の実施例におけるエツチング装置の上部電
極付近の縦断断面図、第２図（ｂ）は同図（ａ）の上部
電極表面の横断断面図、第３図（ａ）は従来のエツチン
グ装置の上部電極付近の縦断断面図、第３図（ロ）は同
図（ａ）の上部電極表面の横断断面図である。 １０４・・・中上部電極、１ｏ了・・・・・・ノズル孔
、１０８・・・・・・下部電極、１０９・・・・・・ウ
ェハー代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１
名菓 図 υ２
Claims (2)
- （１）エッチングガスを吹き出す複数個のノズル孔を有
する一方の電極と、前記一方の電極と所定の間隙を有し
て位置する他方の電極とを有し、前記一方の電極を回転
させる駆動源を備えたことを特徴とするエッチング装置
。 - （２）エッチングガスを吹き出す複数個のノズル孔を有
する一方の電極と、前記一方の電極と所定の間隙を有し
て位置する他方の電極との間に被エッチング試料を載置
し、その後前記一方の電極を回転させて前記被エッチン
グ試料をエッチングするエッチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63161686A JPH0210828A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | エッチング装置及びその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63161686A JPH0210828A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | エッチング装置及びその方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0210828A true JPH0210828A (ja) | 1990-01-16 |
Family
ID=15739924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63161686A Pending JPH0210828A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | エッチング装置及びその方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0210828A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH062739U (ja) * | 1992-06-15 | 1994-01-14 | 株式会社石井表記 | プリント基板のエツチング、現像、剥離装置 |
| JP2006245593A (ja) * | 2001-08-28 | 2006-09-14 | Nec Kagoshima Ltd | 基板処理装置 |
| JP2006261683A (ja) * | 2001-08-28 | 2006-09-28 | Nec Kagoshima Ltd | 基板処理装置 |
| JP2008177568A (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Psk Inc | 基板処理装置及び方法 |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP63161686A patent/JPH0210828A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH062739U (ja) * | 1992-06-15 | 1994-01-14 | 株式会社石井表記 | プリント基板のエツチング、現像、剥離装置 |
| JP2006245593A (ja) * | 2001-08-28 | 2006-09-14 | Nec Kagoshima Ltd | 基板処理装置 |
| JP2006261683A (ja) * | 2001-08-28 | 2006-09-28 | Nec Kagoshima Ltd | 基板処理装置 |
| JP2008177568A (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Psk Inc | 基板処理装置及び方法 |
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