JPH06274873A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板上に形成される非磁性薄膜の露光による
パターンニングを良好に行うことができる手段を備えた
磁気記録媒体の製造方法を提供すること。 【構成】 基板と非磁性薄膜の間に、レジスト露光時の
光を透過させない透過防止膜を形成し、異常露光を防止
した上で、非磁性薄膜のレジスト露光によるパターンニ
ングを行うことにより、均一で高精度の凹凸パターンの
形成を可能にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、金属スパッタ型磁気デ
ィスク等の磁気記録媒体の製造方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁気ディスク等の磁気記録媒体
は、情報量の大容量化にともなって、高速化及び高密度
化のための開発がすすめられているが、記録密度を上げ
るためには、記録再生用の磁気ヘッドの浮上量を少なく
する必要があり、このためには、磁気ディスク基板の表
面粗度を浮上量に対応したものにすることが条件のひと
つとなるが、これには、例えば表面粗度を浮上量の１／
１０以下にすることが必要であった。

【０００３】また、記録密度を向上させるためには、磁
性膜の厚さを薄くする必要があり、このため、スパッタ
リングなどの方法で作製した金属薄膜磁性体が用いられ
ている。そして、このような金属薄膜を使用した磁気デ
ィスクの基板として、良好な研磨性を有し、平面粗度を
小さくするために、ガラス基板、アルミニウム合金基板
が用いられている。

【０００４】また、磁気ディスク装置においては、浮上
する磁気ヘッドと磁気ディスク表面が極めて平滑で、且
つ微小間隔で対面していると、酸素、窒素、水等の分子
による界面張力等の大きな吸着力が生じ、ディスク停止
時に磁気ヘッドと磁気ディスク表面とが吸着することが
ある。これにより、最悪時には、磁気ヘッドが破壊され
るなどの回復不可能な故障が起こりうる可能性がある。

【０００５】そこで、磁気ヘッドの吸着を防止するため
に、磁気ディスク基板の表面に同心円状の条こんをつけ
て基板表面を微小粗さに調整し、粗面化するテクスチャ
加工が施されたものがある。このようなテクスチャ加工
が施された磁気ディスク基板に磁性膜がスパッタリング
法により形成されものについては、結晶磁気異方性によ
り円周方向の磁気特性が向上することが知られている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような透明なガラス基板を使用して、上記方法を用い
て磁気記録媒体の製造を行うと、レジストを感光させる
ときに、レジストを通過した光が基板底面などから反射
し、正常な露光が起こり得なくなり、現像後の形状不良
を引き起こしていた。このため、露光により形成される
パターンが不均一になり、磁気ヘッドの吸着防止性、記
録密度、信頼性、動作特性等の向上をはかるための障害
になっていた。

【０００７】本発明は、上記の問題点を解決するために
なされたものであり、基板上に形成される非磁性薄膜の
露光によるパターンニングを良好に行うことができる手
段を備えた磁気記録媒体の製造方法を提供することを目
的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明による磁気記録媒体の製造方法は、非磁性
の透明、或いは半透明の基板上に非磁性薄膜を形成す薄
膜形成工程と、その非磁性薄膜を露光によってパターン
ニングするパターンニング工程とを行うものであって、
前記薄膜形成工程前に、前記基板上に露光光源からの光
が透過しない透過防止膜を形成する工程を行うものであ
る。

【０００９】

【作用】上記構成を有する磁気記録媒体の製造方法は、
透過防止膜を形成する工程を付加することにより、その
後のパターンニング工程において、露光光源からの光が
基板に到達するのを防ぐ。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の磁気記録媒体の製造方法に関
する一実施例を図面を参照して説明する。尚、図１およ
び図２に示す基板、或いは磁気記録媒体は、それらの半
径方向の切断面を模式的に表したものである。

【００１１】本発明に用いられる磁気記録媒体の基板１
としては、図１（ａ）に示すような平板状のガラスが用
いられる。

【００１２】磁気記録媒体の製造方法としては、まず始
めに、前記基板１の少なくとも片面に、図１（ｂ）に示
すような透過防止膜２をスパッタリング、蒸着などの方
法を用いて作製する。尚、この透過防止膜２の厚さは、
露光に用いられる光源から照射される光が透過しない厚
さとする。例えば、アルミニウムを用いれば０.０５μ
ｍ程度の厚さが目安となる。また、透過防止膜２は一層
または複数層のいずれも構造でも良い。更にはマスク露
光には、紫外光が用いられる。

【００１３】そして、次に前記透過防止膜２の上に、エ
ッチング特性の異なる機能膜３をテクスチャ加工時に必
要な溝深さと同等の厚さに作成する。次に、この基板に
対して図１（ｃ）に示すようにレジスト４をスピンコー
トする。次に、図１（ｄ）に示すように、スパイラル
状、または同心円状にパターニングされたマスク８を用
いて、紫外光を使って露光を行う。そして、これを現像
すると図１(ｅ)に示すように、レジスト４にマスク８の
パターンが転写される。その後、更にこの基板上の機能
膜３が露出している部分を底面まで完全にエッチング
し、この後、図１（ｆ）に示すようにレジストを除去す
る。

【００１４】そして、上述のようにして出来上がった磁
気記録媒体用の基板に対して、その上面に従来からよく
知られているスパッタリングによって、クロムの下地層
５、磁性膜６、カーボンからなる保護膜７を順次成膜
し、図１（ｇ）に示す磁気記録媒体を作製することがで
きる。

【００１５】ここにおいて、前述の露光工程は基板１の
他方の面ついても同様に行うことができるが、この時、
透過防止膜２が存在しないと、先に形成された側のパタ
ーンによる光の散乱が起こり、露光不良が発生し、形成
されるパターンが不完全になる。一方、透過防止膜２が
存在すれば、光の散乱は生じないことにより、図２に示
すような良好なパターンを形成することができる。

【００１６】また、上記の説明は、片面ずつ露光を行う
ものであるが、両面同時に露光を行うことも可能であ
る。

【００１７】尚、マスク露光の行程をレーザービームを
用いて、直接スパイラル、または同芯円状にパターンを
形成することも可能である

【００１８】

【発明の効果】以上詳述したことから明かなように、本
発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性の透明、或い
は半透明の基板上に非磁性薄膜を形成す薄膜形成工程
と、その非磁性薄膜を露光によってパターンニングする
パターンニング工程とを行うものであり、前記薄膜形成
工程前に、前記基板上に露光光源からの光が透過しない
透過防止膜を形成する工程を行うことにより、フォトリ
ソグラフィを用い、レジストパターンを作成するとき
に、相対する面からの反射光が防止されることにより高
精度のレジストパターンが形成可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法の説明に供す
る図である。

【図２】図１に示す製造方法を用いて作製される磁気記
録媒体の構造を示す図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ 透過防止膜 ３ 機能膜 ４ レジスト ５ クロム膜 ６ 磁性膜 ７ 保護膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性の透明、或いは半透明の基板上に
   非磁性薄膜を形成す薄膜形成工程と、その非磁性薄膜を
   露光によってパターンニングするパターンニング工程と
   を行う磁気記録媒体の製造方法であって、 前記薄膜形成工程前に、前記基板上に露光光源からの光
   が透過しない透過防止膜を形成する工程を行うことを特
   徴とする磁気記録媒体の製造方法。