JPH06281995A

JPH06281995A - 露出制御装置及びカメラ

Info

Publication number: JPH06281995A
Application number: JP6675193A
Authority: JP
Inventors: Goro Noto; 悟郎能登
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1993-03-25
Filing date: 1993-03-25
Publication date: 1994-10-07

Abstract

(57)【要約】【目的】遮光羽根を大型化することなく、しかも高精
度に遮光羽根の位置を検出することができる露出制御装
置を提供する。【構成】３枚の遮光羽根（セクタ）１１、１２、１３
の内、セクタ１１の一部に、Ｎ極とＳ極とを交互に複数
配列した磁性部１１ａを磁性メッキ法により形成し、ホ
ール素子１４によりセクタ１１の移動に伴う磁性部１１
ａの通過を検知し、セクタ１１〜１３により形成される
開口量を検出することができるようにしており、開口１
の位置に制限されることなく磁性部を配置でき、またセ
クタ１２、１３の位置に影響されることなくホール素子
１４を配置でき、露出制御装置の小型化を実現すること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はカメラやビデオカメラな
どの光学機器における遮光羽根を用いた露出制御装置及
び遮光羽根を用いた露出制御装置を備えたカメラに関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】カメラの開口を形成する遮光羽根を持つ
シャッタや絞りなどの露出制御装置において、その開口
量を検出しストロボ撮影時の発光タイミングの信号とし
て利用したり、日中光の撮影時における露出制御のシャ
ッタ閉じ命令信号として使用する制御方式は公知であ
る。

【０００３】遮光羽根（以下セクタと称す）の開口量を
検出する方式として次のものが提案されている。

【０００４】（１）セクタの一部に複数のスリットを形
成し、そのスリットをフォトセンサで検出することでセ
クタの位置を検出する直接検出方式。

【０００５】（２）セクタを駆動する部材の動きをフォ
トセンサや電気切片等で検出する間接検出方式。

【０００６】である。

【０００７】しかしながら上記（１）の直接検出方式で
は次のような欠点がある。

【０００８】スリットは、常に開口部以外のところを動
作するように設定しなければならないため、セクタが大
型化してしまうので、セクタの動作性能を悪くし、露出
制御装置のコンパクト化を妨げる。

【０００９】図１０はスリットを用いた直接検出方式の
露出制御装置を示し、１は開口部、２は不図示の地板に
支軸２ａにて回転自在に取り付けられた第１セクタで、
第１セクタ２には開口部１の外側に複数のスリット２ｂ
が設けられている。３は不図示の地板に支軸３ｂにて回
転自在に取り付けられた第２セクタである。４は駆動ピ
ンで、第１セクタ２の長溝２ｃと第２セクタ３の長溝３
ｂとに摺動可能に嵌合し、公知の機構により矢印Ａ及び
その逆方向に移動することにより、第１セクタ２と第２
セクタ３を一体となって駆動し、切欠部２ｄと切欠部３
ｃとで開口し、あるいは閉鎖するようになっている。５
は不図示の地板に取り付けられたフォトセンサーで、第
１セクタ２のスリット２ｂを検出し、第１セクタ２の位
置あるいは移動量を検出する。

【００１０】前述したように、スリット２ｂはセクタの
開口形状に影響を与えないように、開口部１よりも外側
を常に動作する位置に設けられているため、第１セクタ
２は大型化してしまっている。よってユニット全体の小
型化を妨げている。

【００１１】また、スリット２ｂのピッチ及び大きさは
製造上あまり小さくすることができないから、セクタの
細かい動きを検出することはできない。

【００１２】また前記（２）の間接検出方式では次のよ
うな欠点がある。

【００１３】この方式は、図８において、駆動ピン４も
しくはそれと一体的に動く部材の動きを検出しようとす
るものであるが、一般に駆動ピン４はセクタに比べて動
き量は少ない。そのため細かく動きを検出することは難
かしく、またセクタとの間に嵌合ガタがあるとセクタの
開口量と駆動ピン４の位置との間に誤差が生じてしま
い、セクタの開口量を正確に検出することは難しい。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】セクタの開口量を検出
するための直接検出方式は、間接検出方式に比べて検出
精度が高いものの、遮光部材であるセクタにスリットを
設けるため、スリットの形成位置が開口の外側に設けな
ければならないという制限があり、露出制御装置の大型
化を招き、ひいてはカメラの小型化の妨げにもなる。

【００１５】本発明は、このような従来の問題を解決
し、直接検出方式のメリットを最大限発揮でき、しかも
大型化を招くことのない露出制御装置およびカメラを提
供することを目的とする。

【００１６】

【実施例】図１〜図３は本発明の第１実施例を示す。

【００１７】本実施例は、第１セクタ１１、第２セクタ
１２、第３セクタ１３の３枚のセクタにより開口１の開
口量を制御するもので、不図示の地板に夫々の支軸１１
ｂ，１２ｂ，１３ｂが軸支されることにより、各セクタ
１１〜１３はこれら支軸１１ｂ〜１３ｂを支点として回
転可能となっている。また、第１セクタ１１、第２セク
タ１２および第３セクタに夫々形成された長溝１１ｃ，
１２ｃ，１３ｃには図１０に示す従来例と同様の駆動ピ
ン４が摺動可能に嵌合し、各駆動ピン４の所定方向への
移動により各セクタ１１〜１３を回動するようにしてい
る。なお、各駆動ピン４は公知の駆動機構により一体に
駆動される。

【００１８】本実施例において、第１セクタ１１は、図
１に示すように、遮光部材から形成されているセクタ本
体の一部分に「Ｎ極」と「Ｓ極」を交互に複数配列した
磁性部１１ａを形成している。そして、この磁性部１１
ａの移動軌跡上に合わせて、磁性部１１ａのセンサ手段
としてホール素子１４を不図示の地板に取付け、第１セ
クタ１１の移動に伴う磁性部１１ａの通過を検出し、第
１〜第３セクタによる開口量を検出できるようになる。

【００１９】磁性部１１ａは、例えば公知の磁性メッキ
法により形成され、このメッキ法は、（株）総合技術セ
ンター発行の「磁性材料の開発と磁粉の高分散化技術」
に詳しく記載されているが、図２により簡単に説明する
と、セクタのベース材Ｂの両面をＮｉメッキした後、磁
性メッキであるＣｏ−Ｐメッキを該Ｎｉメッキ層の表面
に施す。なお、必要に応じてＣｏ−Ｐメッキ層の表面に
艶消の塗装を行うこともできる。

【００２０】すなわち、図８に示す従来例における検出
手段であるフォトセンサー５は少なくともセクタ３の通
過する位置に配置することはできないが、本実施例にお
ける検出手段であるホール素子１４は、第２セクタ１
２、第３セクタ１３の動作に影響を受けないので、磁性
部１１ａが通過するところならばどこに配置してもよ
く、レイアウトの自由度が広がる。またホール素子には
磁性部１１ａとのギャップ変化に対しては鈍感なので、
セクタがバタついても検出精度が悪くならない利点があ
る。

【００２１】また、図１０に示す従来例では検出用のス
リット２ｂは開口部１よりも外側を常に動作する位置に
設けなければならなかったが、本実施例における磁性部
１１ａは開口形状に全く影響を与えることがないので、
第１セクタ１１のどこに設けてもよいから、従来のよう
にセクタの大型化を招くことがない。

【００２２】したがって、露出制御装置のコンパクト化
を達成でき、カメラの小型化に寄与できる。ここで、磁
性メッキのメッキ条件と特性について以下に述べる。

【００２３】既に述べたように、セクタのベース材Ｂに
Ｎｉメッキした後にＣｏ−Ｐメッキを施しているが、Ｎ
ｉメッキ厚とホール素子１４の信号出力の関係について
図４に示す。

【００２４】図４は、Ｎｉのメッキ厚の違いによるギャ
ップと出力関係を示しており、Ｎｉメッキ層を厚くすれ
ば出力が大きくなることがわかる。しかしメッキを厚く
するとその分メッキ時間も長くなり、コストや生産性の
面で不具合が生じるし、セクタのイナーシャも増大して
駆動面でも悪い影響を与えるので、片側のＮｉメッキ厚
を５０μｍ以下の適切な値にすることが良い。

【００２５】一方Ｃｏ−Ｐメッキ厚と信号出力について
考える。一般的傾向として最大磁束密度（Ｃｏ−Ｐメッ
キ表面での磁束密度）はメッキ厚によってあまり変化し
ないので、（（株）総合技術センター出版「磁性材料」
より）、上述のＮｉメッキと同様な理由により、片側の
Ｃｏ−Ｐメッキ厚を５０μｍ以下の適切な値にすること
が望ましい。

【００２６】図５は本発明の第２実施例を示している。

【００２７】本実施例は、図１に示す第１実施例に比べ
て、第１セクタ１１に形成している磁性部１１ｄの「Ｎ
極」と「Ｓ極」のピッチを、図６に示すように、より細
く形成し、また、センサとしてＭＲ素子２１を用いて第
１セクタ１１の移動に伴う磁性部１１ｄの通過を検出す
る。図６の（ａ）は第１実施例における磁性部１１ａを
示し、図６の（ｂ）は本実施例の磁性部１１ｄを示す。

【００２８】本実施例では上記した第１実施例のホール
素子１４を用いた時と同様に、ＭＲ素子２１は第２セク
タ１２、第３セクタ１３の動作に影響を受けないので、
磁性部１１ｄが通過するところならばどこに配置しても
よく、レイアウトの自由度が広がる。また磁性部１１ｄ
は開口形状に全く影響を与えることがないので、第１セ
クタ１１のどこに設けてもよいから、図８の従来例のよ
うにセクタの大型化を招くことがない。

【００２９】さらに第１実施例におけるホール素子１４
が検出できる磁性部１１ａのＮ極とＳ極のピッチは１ｍ
ｍ以上なので、細かい制御のいらないカメラに適してい
るが、本実施例で用いているＭＲ素子２１が検出できる
磁性部１１ｄのＮ極とＳ極のピッチは０．１ｍｍ以上な
ので、細かい制御が必要なカメラにも利用することがで
きる。そして、従来ではフォトセンサー信号の入力後あ
る一定秒時経過後に羽根閉じ信号を出すことによって開
口量を制御していたが、ＭＲ素子２１を用いた検出方式
では、磁性部１１ｄの位置やパターンを適切にすること
でＭＲ信号の入力だけで開口制御できるようになる。

【００３０】図７にＭＲ信号の入力による開口制御する
ためのブロック図、図８にＭＲ信号と開口波形の図を示
す。

【００３１】図７において、２２は磁気検出回路で、Ｍ
Ｒ素子２１に電圧を加えたり、ＭＲ素子２１の出力電圧
をコンパレータにかけて図８に示すようなパルス状のＭ
Ｒ信号を形成する回路を含んでいる。２３は駆動ピン４
の駆動機構を制御する駆動制御回路であり、２４は露出
制御装置を制御する制御回路である。

【００３２】図８は各セクタが全開した時のＭＲ信号と
開口波形であるが、各セクタの開き始めから開き終わり
まで（ｘ−ｙ区間）に磁気検出回路２２から数パルスの
ＭＲ信号が得られることがわかる。つまり、公知の技術
でこのＭＲ信号のパルス数をカウントし、不図示のカメ
ラの測距手段により得られた絞り値を基に、その絞り値
に対応したカウント数のＭＲ信号が得られたところで、
制御回路２４から駆動制御回路２３へ閉じ信号を送れ
ば、駆動ピン４が閉じ方向に駆動され、各セクタは閉じ
る。このように、ＭＲ信号の入力だけで開口制御が可能
となる。

【００３３】なお、ＭＲ信号だけでなく、従来公知のよ
うにＭＲ信号の入力から所定秒時経過後に駆動制御回路
２３へ閉じ信号を送って開口制御してもよい。

【００３４】さらに、ＭＲ素子２１の代わりにホール素
子１４を用いても、同様にホール信号の入力だけで開口
制御できるのは言うまでもない。

【００３５】以上のように、本実施例では、磁性めっき
とＭＲ素子の組合せにより、コンパクトで細かい制御の
できる露出制御装置を提供することが可能となる。

【００３６】図９は本発明の第３実施例を示す。

【００３７】本実施例は、第１，第２実施例と同様に３
枚のセクタにより開口量を制御しているが、第１セクタ
３１自体を永久磁石材料により形成している。具体的に
は、永久磁石材料を圧延して適切な厚みにした後、所定
の形状に打抜き、適当位置に「Ｎ極」と「Ｓ極」を交互
に一定ピッチで複数着磁処理した着磁部３１ａを形成さ
れている。そして、この着磁部３１ａを第２実施例と同
様にＭＲ素子２１により検出するようにしている。

【００３８】本実施例によれば、前述した各実施例と同
様の効果が得られ、カメラの小型化を図ることができ
る。

【００３９】なお、上記した第１，第２実施例におい
て、第１セクタ１１に設けられている磁性部の記録情報
はＮ極，Ｓ極であるが、これに限ることはなく、他の情
報であってもよい。

【００４０】また、遮光部材からなるセクタの枚数は上
記した実施例に限定されるものではなく、２枚又はそれ
以上であってもよい。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
開口位置に制限されることなく遮光羽根の位置を検出で
きる手段を遮光羽根に設けることができ、遮光羽根の小
型化とそれによる露出制御装置のコンパクト化が可能と
なった。また、遮光羽根の位置を検出するための検出素
子のレイアウトの自由度が広がり、これによっても露出
制御装置のコンパクト化を実現することができ、結果と
してカメラの小型化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例における第１セクタの平面
図。

【図２】図１の第１セクタに形成された磁性部の断面を
示す図。

【図３】第１実施例の露出制御装置の正面図。

【図４】磁性メッキのメッキ条件と出力特性の関係を示
す図。

【図５】第２実施例の露出制御装置の正面図。

【図６】磁性部のピッチ間隔を示し、（ａ）は第１実施
例の磁性部、（ｂ）は第２実施例の磁性部を示す。

【図７】ＭＲ信号の入力により開口制御するためのブロ
ック図。

【図８】ＭＲ信号と開口波形を示す図。

【図９】第３実施例の露出制御装置の正面図。

【図１０】従来の露出制御装置の正面図。

【符号の説明】

１…開口４…駆動ピン１１，１１２，１３，３１…セクタ１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，３１ｂ…支軸１１ｃ，１２ｃ，１３ｃ，３１ｃ…長溝１１ａ，１１ｄ，３１ａ…磁性部１４…ホール素子２１…ＭＲ素子

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の遮光羽根を開口に対して移動させ
ることにより露出の制御を行う露出制御装置において、該複数の遮光羽根の少なくとも一つの遮光羽根には、そ
の一部に位置情報を記録した磁性層が形成され、該位置
情報を検出する位置情報検出手段により遮光羽根の位置
を検出することを特徴とする露出制御装置。
【請求項２】請求項１において、磁性層は、磁性メッ
キ法により形成されていることを特徴とする露出制御装
置。
【請求項３】請求項２において、磁性層は遮光羽根の
基材上に形成したニッケルメッキ層と、該ニッケルメッ
キ層上に形成したコバルトメッキ層から構成されている
ことを特徴とする露出制御装置。
【請求項４】請求項３において、ニッケルメッキ層は
片側５０μｍ以下、コバルトメッキ層は片側５０μｍ以
下であることを特徴とする露出制御装置。
【請求項５】複数の遮光羽根を開口に対して移動させ
ることにより露出の制御を行う露出制御装置において、該複数の遮光羽根の少なくとも一つの遮光羽根は、磁性
材料から構成し、その一部に位置情報を記録した情報記
録部が形成され、該位置情報を検出する位置情報検出手
段により遮光羽根の位置を検出することを特徴とする露
出制御装置。
【請求項６】請求項１又は５において、位置情報検出
手段はＭＲ素子であることを特徴とする露出制御装置。
【請求項７】請求項１又は５において、位置情報検出
手段はホール素子であることを特徴とする露出制御装
置。
【請求項８】請求項６又は７において、ＭＲ素子又は
ホール素子からの入力信号のパルス数をカウントして開
口制御することを特徴とする露出制御装置。
【請求項９】請求項１ないし８のいずれかに記載の露
出制御装置を有することを特徴とするカメラ。