JPH06283601A - ラジカル反応による精密切断方法および精密切断装置 - Google Patents
ラジカル反応による精密切断方法および精密切断装置Info
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- JPH06283601A JPH06283601A JP7253893A JP7253893A JPH06283601A JP H06283601 A JPH06283601 A JP H06283601A JP 7253893 A JP7253893 A JP 7253893A JP 7253893 A JP7253893 A JP 7253893A JP H06283601 A JPH06283601 A JP H06283601A
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Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ラジカル反応によって切断加工する際、厚肉
な被切断物であっても、供給した反応ガスによって生じ
る生成ガスを反応ガスのガス流によって速やかにプラズ
マ外へ排出し、加工速度が低下しないようにする。 【構成】 ラジカル反応によって被切断物Mに形成され
る切断溝Maの溝底Mbに対し、ノズル23に形成した
斜め分流路76の噴出口76aから反応ガスを斜めに噴
出させながら、かつ揺動機構により被切断物Mをワイヤ
電極Wの長さ方向に揺動させる。ガス流の反転・乱流の
発生が、反応ガスを溝底Mbに十分いきわたらせるとと
もに生成ガスの排出を促進し、加工速度の低下は生じな
い。
な被切断物であっても、供給した反応ガスによって生じ
る生成ガスを反応ガスのガス流によって速やかにプラズ
マ外へ排出し、加工速度が低下しないようにする。 【構成】 ラジカル反応によって被切断物Mに形成され
る切断溝Maの溝底Mbに対し、ノズル23に形成した
斜め分流路76の噴出口76aから反応ガスを斜めに噴
出させながら、かつ揺動機構により被切断物Mをワイヤ
電極Wの長さ方向に揺動させる。ガス流の反転・乱流の
発生が、反応ガスを溝底Mbに十分いきわたらせるとと
もに生成ガスの排出を促進し、加工速度の低下は生じな
い。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ラジカル(遊離基)反
応を利用して、例えば、半導体デバイス製造用シリコン
単結晶やゲルマニウム単結晶、ガリウム−ひ素化合物、
或いは通常の機械的方法では切断が困難なセラミック
ス、ガラスなどの比較的厚肉の材料を精度よく切断する
のに適した精密切断装置に関する。
応を利用して、例えば、半導体デバイス製造用シリコン
単結晶やゲルマニウム単結晶、ガリウム−ひ素化合物、
或いは通常の機械的方法では切断が困難なセラミック
ス、ガラスなどの比較的厚肉の材料を精度よく切断する
のに適した精密切断装置に関する。
【0002】
【従来の技術】シリコン単結晶等の切断には、従来、ダ
イヤモンドホイールによるダイシング加工方法が採用さ
れているが、この方法による切断では、表面に塑性加工
層の残留、微細クラックの発生等によりウェハー品質が
低下し、製造されたウェハーの歩留り低下の原因となっ
ている。
イヤモンドホイールによるダイシング加工方法が採用さ
れているが、この方法による切断では、表面に塑性加工
層の残留、微細クラックの発生等によりウェハー品質が
低下し、製造されたウェハーの歩留り低下の原因となっ
ている。
【0003】このような問題点を解消するために、ラジ
カル反応を利用した精密加工方法が提案されている(特
開平1−125829号公報)。このラジカル反応によ
る精密加工方法は、反応ガスの雰囲気中に配した被加工
物近傍で、放電又はレーザ光励起により反応ガスを活性
化させてラジカルを生成し、該ラジカルと被加工物の構
成原子又は分子とをラジカル反応させて被加工物を加工
するものである。
カル反応を利用した精密加工方法が提案されている(特
開平1−125829号公報)。このラジカル反応によ
る精密加工方法は、反応ガスの雰囲気中に配した被加工
物近傍で、放電又はレーザ光励起により反応ガスを活性
化させてラジカルを生成し、該ラジカルと被加工物の構
成原子又は分子とをラジカル反応させて被加工物を加工
するものである。
【0004】そして、上記の公開公報には、加工方法の
一例として、ワイヤ供給用ボビンに巻かれたワイヤ電極
をワイヤ引取りボビンに巻き取りながら該ワイヤ電極に
電圧を印加し、ワイヤ電極と被切断物間に放電を発生さ
せて反応ガスを活性化させ、該反応ガスによりラジカル
を生成して該ラジカルと被切断物の構成原子又は分子と
をラジカル反応させ、被切断物をワイヤ電極に対して該
ワイヤ電極を横切る方向に相対的に移動させて被切断物
を切断するラジカル反応による精密切断方法が開示され
ている。
一例として、ワイヤ供給用ボビンに巻かれたワイヤ電極
をワイヤ引取りボビンに巻き取りながら該ワイヤ電極に
電圧を印加し、ワイヤ電極と被切断物間に放電を発生さ
せて反応ガスを活性化させ、該反応ガスによりラジカル
を生成して該ラジカルと被切断物の構成原子又は分子と
をラジカル反応させ、被切断物をワイヤ電極に対して該
ワイヤ電極を横切る方向に相対的に移動させて被切断物
を切断するラジカル反応による精密切断方法が開示され
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記方法においては、
切断加工部に対して反応ガスを適当量供給するとととも
に、その反応ガスによって生じる生成ガスをプラズマ外
へ速やかに排出することにより、投入した高周波電力が
生成ガスの再分解に使われる現象を未然に防ぐようにし
ている。ところが、特に、被切断物が厚肉で、切断加工
が深部へ進行した場合には、反応ガスの供給が不十分に
なってガス流による生成ガスの排出が起きにくくなるこ
とによって生成ガスの再分解が発生し、その結果、プラ
ズマの減少あるいは消滅が誘発されて加工速度の低下を
招く。
切断加工部に対して反応ガスを適当量供給するとととも
に、その反応ガスによって生じる生成ガスをプラズマ外
へ速やかに排出することにより、投入した高周波電力が
生成ガスの再分解に使われる現象を未然に防ぐようにし
ている。ところが、特に、被切断物が厚肉で、切断加工
が深部へ進行した場合には、反応ガスの供給が不十分に
なってガス流による生成ガスの排出が起きにくくなるこ
とによって生成ガスの再分解が発生し、その結果、プラ
ズマの減少あるいは消滅が誘発されて加工速度の低下を
招く。
【0006】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あって、厚肉な被切断物であっても供給した反応ガスに
よって生じる生成ガスを速やかにプラズマ外へ排出する
ガス流を生じせしめ加工速度の低下を防ぐことのできる
ラジカル反応による精密切断方法および精密切断装置を
提供することを目的としている。
あって、厚肉な被切断物であっても供給した反応ガスに
よって生じる生成ガスを速やかにプラズマ外へ排出する
ガス流を生じせしめ加工速度の低下を防ぐことのできる
ラジカル反応による精密切断方法および精密切断装置を
提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するためになされたもので、請求項1のラジカル反応
による精密切断方法は、ワイヤ電極に電圧を印加し、ワ
イヤ電極と被切断物間に放電を発生させることにより、
薄板状のノズルより噴出させた反応ガスを活性化させ、
該反応ガスによりラジカルを生成して該ラジカルと被切
断物の構成原子または分子とをラジカル反応させ、被切
断物をワイヤ電極に対して該ワイヤ電極を横切る方向に
相対的に移動させて被切断物を切断する方法であって、
前記ラジカル反応によって前記被切断物に形成される切
断溝の溝底に対して前記ノズルより噴出させる反応ガス
を斜めに噴出させながら、かつ該ノズルを被切断物に対
してワイヤ電極の長手方向に相対的に揺動させることを
特徴としている。
成するためになされたもので、請求項1のラジカル反応
による精密切断方法は、ワイヤ電極に電圧を印加し、ワ
イヤ電極と被切断物間に放電を発生させることにより、
薄板状のノズルより噴出させた反応ガスを活性化させ、
該反応ガスによりラジカルを生成して該ラジカルと被切
断物の構成原子または分子とをラジカル反応させ、被切
断物をワイヤ電極に対して該ワイヤ電極を横切る方向に
相対的に移動させて被切断物を切断する方法であって、
前記ラジカル反応によって前記被切断物に形成される切
断溝の溝底に対して前記ノズルより噴出させる反応ガス
を斜めに噴出させながら、かつ該ノズルを被切断物に対
してワイヤ電極の長手方向に相対的に揺動させることを
特徴としている。
【0008】また、請求項2のラジカル反応による精密
切断装置は、ワイヤ電極に電圧を印加し、ワイヤ電極と
被切断物間に放電を発生させることにより、薄板状のノ
ズルより噴出させた反応ガスを活性化させ、該反応ガス
によりラジカルを生成して該ラジカルと被切断物の構成
原子または分子とをラジカル反応させ、被切断物をワイ
ヤ電極に対して該ワイヤ電極を横切る方向に相対的に移
動させて被切断物を切断する装置であって、前記ノズル
は、エッチングによりガス流路が形成された2枚の金属
製薄板が相互に固着されてなり、かつ前記ワイヤ電極に
対向させられる一側縁には、ガス流路に連通するととも
に一側縁に対して所定角度をもった斜めの噴出口が形成
されており、該ノズルが、前記噴出口を前記ワイヤ電極
に向けた状態で該ワイヤ電極と略平行に配されているこ
とを特徴としている。
切断装置は、ワイヤ電極に電圧を印加し、ワイヤ電極と
被切断物間に放電を発生させることにより、薄板状のノ
ズルより噴出させた反応ガスを活性化させ、該反応ガス
によりラジカルを生成して該ラジカルと被切断物の構成
原子または分子とをラジカル反応させ、被切断物をワイ
ヤ電極に対して該ワイヤ電極を横切る方向に相対的に移
動させて被切断物を切断する装置であって、前記ノズル
は、エッチングによりガス流路が形成された2枚の金属
製薄板が相互に固着されてなり、かつ前記ワイヤ電極に
対向させられる一側縁には、ガス流路に連通するととも
に一側縁に対して所定角度をもった斜めの噴出口が形成
されており、該ノズルが、前記噴出口を前記ワイヤ電極
に向けた状態で該ワイヤ電極と略平行に配されているこ
とを特徴としている。
【0009】また、請求項3においては、請求項2のラ
ジカル反応による精密切断装置において、前記ノズルと
前記被切断物を支持する支持部材の少なくとも一方に、
被切断物に対してノズルをワイヤ電極の長手方向に相対
的に揺動させる揺動機構が付設されていることを特徴と
している。
ジカル反応による精密切断装置において、前記ノズルと
前記被切断物を支持する支持部材の少なくとも一方に、
被切断物に対してノズルをワイヤ電極の長手方向に相対
的に揺動させる揺動機構が付設されていることを特徴と
している。
【0010】
【作用】本発明のラジカル反応による精密切断方法によ
れば、ラジカル反応によって被切断物に形成される切断
溝の溝底に対してノズルより噴出させる反応ガスを斜め
に噴出させながら、かつノズルを被切断物に対してワイ
ヤ電極の長手方向に相対的に揺動させることにより、ノ
ズルから供給される反応ガスによって生じる生成ガスが
速やかにプラズマ外へ排出され、このため、特に溝底が
深部に至った場合でもその溝底に反応ガスが十分かつ均
一に供給され、もって溝底の反応生成物が確実かつ速や
かに排除される。その結果、切断溝の幅が均一に形成さ
れるとともに、加工速度の低下が生じるおそれがない。
また、この揺動によってノズルの特定部分が常にプラズ
マによって加熱されることが防止でき、その結果、ノズ
ルの変形の発生が防げ、これによって加工溝の蛇行が生
じるおそれがない。
れば、ラジカル反応によって被切断物に形成される切断
溝の溝底に対してノズルより噴出させる反応ガスを斜め
に噴出させながら、かつノズルを被切断物に対してワイ
ヤ電極の長手方向に相対的に揺動させることにより、ノ
ズルから供給される反応ガスによって生じる生成ガスが
速やかにプラズマ外へ排出され、このため、特に溝底が
深部に至った場合でもその溝底に反応ガスが十分かつ均
一に供給され、もって溝底の反応生成物が確実かつ速や
かに排除される。その結果、切断溝の幅が均一に形成さ
れるとともに、加工速度の低下が生じるおそれがない。
また、この揺動によってノズルの特定部分が常にプラズ
マによって加熱されることが防止でき、その結果、ノズ
ルの変形の発生が防げ、これによって加工溝の蛇行が生
じるおそれがない。
【0011】また、本発明のラジカル反応による精密切
断装置によれば、ノズルの一側縁に斜めに形成された噴
出口からワイヤ電極に向けて反応ガスが噴出されて切断
溝の溝底に供給され、さらにノズルを揺動機構により被
切断物に対してワイヤ電極の長手方向に相対的に揺動さ
せることにより、上記方法が的確に実施される。
断装置によれば、ノズルの一側縁に斜めに形成された噴
出口からワイヤ電極に向けて反応ガスが噴出されて切断
溝の溝底に供給され、さらにノズルを揺動機構により被
切断物に対してワイヤ電極の長手方向に相対的に揺動さ
せることにより、上記方法が的確に実施される。
【0012】
【実施例】図1ないし図7は本発明に係るラジカル反応
による精密切断装置の一実施例を示す。これら図におい
て符号1はフレームであり、三つのチャンバCa、C
b、Ccを有する。第1のチャンバCaにはワイヤ電極
Wの供給装置2が、また中央の第2のチャンバCbには
切断装置3が、更に第3のチャンバCcにはワイヤ電極
Wの引取り装置4がそれぞれ設けられている。
による精密切断装置の一実施例を示す。これら図におい
て符号1はフレームであり、三つのチャンバCa、C
b、Ccを有する。第1のチャンバCaにはワイヤ電極
Wの供給装置2が、また中央の第2のチャンバCbには
切断装置3が、更に第3のチャンバCcにはワイヤ電極
Wの引取り装置4がそれぞれ設けられている。
【0013】ワイヤ電極Wの供給装置2は、1ないし複
数本(本実施例では3本)のワイヤ電極Wが個別に巻か
れているワイヤ供給用ボビン5、ダンサーローラ6、ブ
レーキドラム7、および位置決めローラ8を主体として
構成されている。ワイヤ供給用ボビン5のワイヤ電極W
は、ダンサーローラ6、ブレーキドラム7、外部ローラ
10、ブレーキドラム7の順に巻き付けられ、位置決め
ローラ8に引き出される。ワイヤ供給用ボビン5は逆相
ブレーキ用モータ11の回転軸12に着脱自在に取り付
けられており、ワイヤ電極Wの引出し供給時における回
転に逆相ブレーキ用モータ11で抵抗が掛けられる。
数本(本実施例では3本)のワイヤ電極Wが個別に巻か
れているワイヤ供給用ボビン5、ダンサーローラ6、ブ
レーキドラム7、および位置決めローラ8を主体として
構成されている。ワイヤ供給用ボビン5のワイヤ電極W
は、ダンサーローラ6、ブレーキドラム7、外部ローラ
10、ブレーキドラム7の順に巻き付けられ、位置決め
ローラ8に引き出される。ワイヤ供給用ボビン5は逆相
ブレーキ用モータ11の回転軸12に着脱自在に取り付
けられており、ワイヤ電極Wの引出し供給時における回
転に逆相ブレーキ用モータ11で抵抗が掛けられる。
【0014】ダンサーローラ6はエンコーダ13の回動
アーム14に取り付けられている。エンコーダ13は、
回動アーム14の回動角からワイヤ供給用ボビン5とブ
レーキドラム7間のワイヤ電極Wの張力を検出し、その
検出信号を逆相ブレーキ用モータ11に出力する。逆相
ブレーキ用モータ11はエンコーダ13の検出信号に従
ってブレーキ力を変え、ワイヤ供給用ボビン5とブレー
キドラム7間のワイヤ電極Wの張力を一定に保つ。ブレ
ーキドラム7には電磁ブレーキ15が付設されており、
ブレーキドラム7の回転に抵抗を掛ける。
アーム14に取り付けられている。エンコーダ13は、
回動アーム14の回動角からワイヤ供給用ボビン5とブ
レーキドラム7間のワイヤ電極Wの張力を検出し、その
検出信号を逆相ブレーキ用モータ11に出力する。逆相
ブレーキ用モータ11はエンコーダ13の検出信号に従
ってブレーキ力を変え、ワイヤ供給用ボビン5とブレー
キドラム7間のワイヤ電極Wの張力を一定に保つ。ブレ
ーキドラム7には電磁ブレーキ15が付設されており、
ブレーキドラム7の回転に抵抗を掛ける。
【0015】切断装置3は、前後(図1では左右)各一
対の案内ローラ16・17、18・19と、これら案内
ローラ16・17、18・19の間に配設された給電ブ
ラシ21、22と、反応ガスを供給するノズル23と、
被切断物Mを支持する支持部材25と、支持部材25を
揺動させる揺動機構60(図5)とを主体として構成さ
れている。チャンバCb内には、基台26が、フレーム
1を構成する底板1aに下から挿通された固定ピン27
に固定されて設けられている。そしてこの基台26の垂
直板28には、上下部材29(図4)が調節ねじ30に
よって上下に調節自在に取り付けられ、また、この上下
部材29には、横移動部材31が調節ねじ32によっ
て、案内ローラ16・17、18・19の並び方向と直
交する水平方向(図1で紙面に垂直な方向)に調節自在
に取り付けられている。各案内ローラ16・17、18
・19は外周面にワイヤ電極Wの本数と同数の案内溝を
有する。
対の案内ローラ16・17、18・19と、これら案内
ローラ16・17、18・19の間に配設された給電ブ
ラシ21、22と、反応ガスを供給するノズル23と、
被切断物Mを支持する支持部材25と、支持部材25を
揺動させる揺動機構60(図5)とを主体として構成さ
れている。チャンバCb内には、基台26が、フレーム
1を構成する底板1aに下から挿通された固定ピン27
に固定されて設けられている。そしてこの基台26の垂
直板28には、上下部材29(図4)が調節ねじ30に
よって上下に調節自在に取り付けられ、また、この上下
部材29には、横移動部材31が調節ねじ32によっ
て、案内ローラ16・17、18・19の並び方向と直
交する水平方向(図1で紙面に垂直な方向)に調節自在
に取り付けられている。各案内ローラ16・17、18
・19は外周面にワイヤ電極Wの本数と同数の案内溝を
有する。
【0016】切断装置3の案内ローラ16・17、18
・19は、横移動部材31に回転自在に取り付けられて
おり、供給装置2の位置決めローラ8からフレーム1の
隔壁1bに設けられたシール機構34を通してチャンバ
Cb内に送り込まれたワイヤ電極Wを水平に案内し、他
の隔壁1cに設けられたシール機構35を通してチャン
バCcに送り出す。また各給電ブラシ21、22は、取
付部材36に揺動自在に取り付けられた揺動部材37に
固定され、案内ローラ16・17、および案内ローラ1
8・19の中間においてワイヤ電極Wに接触している。
揺動部材37はブラシ揺動用モータ38によって給電ブ
ラシ21、22と一緒にワイヤ電極Wと直交する水平方
向に動かされる。取付部材36はワイヤ電極Wの長手方
向に調節自在とされている。
・19は、横移動部材31に回転自在に取り付けられて
おり、供給装置2の位置決めローラ8からフレーム1の
隔壁1bに設けられたシール機構34を通してチャンバ
Cb内に送り込まれたワイヤ電極Wを水平に案内し、他
の隔壁1cに設けられたシール機構35を通してチャン
バCcに送り出す。また各給電ブラシ21、22は、取
付部材36に揺動自在に取り付けられた揺動部材37に
固定され、案内ローラ16・17、および案内ローラ1
8・19の中間においてワイヤ電極Wに接触している。
揺動部材37はブラシ揺動用モータ38によって給電ブ
ラシ21、22と一緒にワイヤ電極Wと直交する水平方
向に動かされる。取付部材36はワイヤ電極Wの長手方
向に調節自在とされている。
【0017】反応ガスのノズル23は、案内ローラ17
・18の間において取付部材36に水平に取り付けられ
ている。このノズル23は、後で詳述するが、ラジカル
反応で被切断物Mに形成される切断溝Maの溝幅よりも
薄く平板状に形成され、その側縁(下縁)にその長手方
向のほぼ全長に沿ってスリット状の噴出口23aを有す
る。ノズル23の噴出口23aは案内ローラ17、18
間のワイヤ電極Wと所定の間隔をあけて平行にされてい
る。また、ノズル23は、塩素やフッ素系等の反応ガス
のボンベ(図示せず)にパイプを介して連結されてお
り、反応ガスを噴出口23aから切断溝Maの溝底Mb
に噴出する。
・18の間において取付部材36に水平に取り付けられ
ている。このノズル23は、後で詳述するが、ラジカル
反応で被切断物Mに形成される切断溝Maの溝幅よりも
薄く平板状に形成され、その側縁(下縁)にその長手方
向のほぼ全長に沿ってスリット状の噴出口23aを有す
る。ノズル23の噴出口23aは案内ローラ17、18
間のワイヤ電極Wと所定の間隔をあけて平行にされてい
る。また、ノズル23は、塩素やフッ素系等の反応ガス
のボンベ(図示せず)にパイプを介して連結されてお
り、反応ガスを噴出口23aから切断溝Maの溝底Mb
に噴出する。
【0018】また、被切断物Mの支持部材25は上下用
サーボモータ40によって上下に動かされるロッド41
にベース板61と送り板62とを介して支えられてい
る。上下用サーボモータ40は、切断の進行に合わせて
被切断物Mをロッド41と支持部材25等を介して上昇
させる。ロッド41が貫通された底板1aの部分にはベ
ローズ42が設けられ、その貫通部分を気密にしてい
る。送り板62は、ワイヤ電極Wの走行方向と直交する
水平方向に移動自在にベース板61の上に設けられてお
り、送り用モータ63によって動かされて被切断物Mを
切断幅だけ前進させる。
サーボモータ40によって上下に動かされるロッド41
にベース板61と送り板62とを介して支えられてい
る。上下用サーボモータ40は、切断の進行に合わせて
被切断物Mをロッド41と支持部材25等を介して上昇
させる。ロッド41が貫通された底板1aの部分にはベ
ローズ42が設けられ、その貫通部分を気密にしてい
る。送り板62は、ワイヤ電極Wの走行方向と直交する
水平方向に移動自在にベース板61の上に設けられてお
り、送り用モータ63によって動かされて被切断物Mを
切断幅だけ前進させる。
【0019】支持部材25は送り板62上に設けられた
レール62aにスライダー25aを嵌合させてワイヤ電
極Wの長手方向(走行方向)に揺動自在に設けられてい
る。送り板62には被切断物揺動用モータ64が設けら
れており、該モータ64の出力軸に結合されたボールス
クリュ65を支持部材25に設けられたナット66に螺
入させている。被切断物Mは、前記モータ64の正逆回
転によって支持部材25とともにワイヤ電極Wの長手方
向にノズル23に対して揺動させられる。本実施例の場
合、モータ64と、ボールスクリュ65、ナット66等
が前記揺動機構60を構成する。
レール62aにスライダー25aを嵌合させてワイヤ電
極Wの長手方向(走行方向)に揺動自在に設けられてい
る。送り板62には被切断物揺動用モータ64が設けら
れており、該モータ64の出力軸に結合されたボールス
クリュ65を支持部材25に設けられたナット66に螺
入させている。被切断物Mは、前記モータ64の正逆回
転によって支持部材25とともにワイヤ電極Wの長手方
向にノズル23に対して揺動させられる。本実施例の場
合、モータ64と、ボールスクリュ65、ナット66等
が前記揺動機構60を構成する。
【0020】ワイヤ電極Wの引取り装置4は、複数のガ
イドローラ43、44、45、46と、ワイヤ電極Wと
同数の引取りローラ47と、引取り用モータ48と、ピ
ンチローラ49とを主体として構成されている。引取り
用モータ48は引取りローラ47を回転させる。ピンチ
ローラ49は上下に回動自在とされたレバー51の先端
に取り付けられ、ばね52によって引取りローラ47に
圧接されている。
イドローラ43、44、45、46と、ワイヤ電極Wと
同数の引取りローラ47と、引取り用モータ48と、ピ
ンチローラ49とを主体として構成されている。引取り
用モータ48は引取りローラ47を回転させる。ピンチ
ローラ49は上下に回動自在とされたレバー51の先端
に取り付けられ、ばね52によって引取りローラ47に
圧接されている。
【0021】中央のワイヤ電極Wは、ガイドローラ4
3、45に、また両側のワイヤ電極Wはガイドローラ4
3、44、46にそれぞれ案内されて、引取りローラ4
7とピンチローラ49の間にそれぞれ挟み込まれてお
り、引取り用モータ48による引取りローラ47の回転
でワイヤ供給用ボビン5から引取りローラ47に引き取
られる。引取りローラ47の下には、ロールカッタ53
が設けられている。ロールカッタ53は、引取りローラ
47に引き取られた用済みのワイヤ電極Wを所定の長さ
に切断する。
3、45に、また両側のワイヤ電極Wはガイドローラ4
3、44、46にそれぞれ案内されて、引取りローラ4
7とピンチローラ49の間にそれぞれ挟み込まれてお
り、引取り用モータ48による引取りローラ47の回転
でワイヤ供給用ボビン5から引取りローラ47に引き取
られる。引取りローラ47の下には、ロールカッタ53
が設けられている。ロールカッタ53は、引取りローラ
47に引き取られた用済みのワイヤ電極Wを所定の長さ
に切断する。
【0022】符号55は吸引ノズルであり、この吸引ノ
ズル55は、その先端を案内ローラ17、18間のワイ
ヤ電極Wの下に配した状態で各隔壁1b、1cを貫通し
て設けられ、水平移動用ステッピングモータ56によっ
て動かされる支承部材57に取り付けられている。水平
移動用ステッピングモータ56は、上下用サーボモータ
40に同期して作動し、上下用サーボモータ40によっ
て上昇させられる被切断物Mの切断溝Maの端部に吸引
ノズル55の先端を常時一致させる。各隔壁1b、1c
と吸引ノズル55との間にはベローズ58が設けられ、
その部分を気密にしている。
ズル55は、その先端を案内ローラ17、18間のワイ
ヤ電極Wの下に配した状態で各隔壁1b、1cを貫通し
て設けられ、水平移動用ステッピングモータ56によっ
て動かされる支承部材57に取り付けられている。水平
移動用ステッピングモータ56は、上下用サーボモータ
40に同期して作動し、上下用サーボモータ40によっ
て上昇させられる被切断物Mの切断溝Maの端部に吸引
ノズル55の先端を常時一致させる。各隔壁1b、1c
と吸引ノズル55との間にはベローズ58が設けられ、
その部分を気密にしている。
【0023】上記吸引ノズル55には、真空ポンプ(図
示せず)が連結されている。真空ポンプは、ラジカル反
応で生じた反応生成物と余剰反応ガスを、切断溝Maの
溝底Mbから吸引ノズル55を介して吸い取る。真空ポ
ンプによる吸引は、中央のチャンバCb内の気圧が左右
のチャンバCa、Ccの気圧より僅かに低くて反応ガス
がチャンバCbから外に洩れない程度とされる。各チャ
ンバCa、Cb、Ccの外壁には適宜点検窓59が設け
られる。
示せず)が連結されている。真空ポンプは、ラジカル反
応で生じた反応生成物と余剰反応ガスを、切断溝Maの
溝底Mbから吸引ノズル55を介して吸い取る。真空ポ
ンプによる吸引は、中央のチャンバCb内の気圧が左右
のチャンバCa、Ccの気圧より僅かに低くて反応ガス
がチャンバCbから外に洩れない程度とされる。各チャ
ンバCa、Cb、Ccの外壁には適宜点検窓59が設け
られる。
【0024】次に、前述のノズル23について図8ない
し図10を参照して説明する。このノズル23は、図8
に示すように、切断時に被切断物Mがその中央部分を通
過するノズル本体70と、このノズル本体70の両端部
に固定された固定用治具71とを有している。
し図10を参照して説明する。このノズル23は、図8
に示すように、切断時に被切断物Mがその中央部分を通
過するノズル本体70と、このノズル本体70の両端部
に固定された固定用治具71とを有している。
【0025】ノズル本体70は、片面にエッチングによ
り略対称な状態でガス流路72が形成された2枚の金属
製薄板70aが、ガス流路72の面を相互に向かい合わ
せて固着されてなるもので、ガス流路72は、図9に示
すように、ノズル本体70の上側部分に形成された長手
方向に延びる主流路73と、ノズル本体70の下側部分
に形成され上記主流路73から分岐する複数の分流路7
4とから構成され、さらに複数の分流路74は、ノズル
本体70の長手方向中央に形成された中央分流路75と
その両側の斜め分流路76とからなる。これら分流路7
5、76は、いずれもノズル本体70のワイヤ電極Wに
対向させられる一側縁にスリット状に開口しており、そ
の開口部が反応ガスの噴出口75a、76aとされてい
る。
り略対称な状態でガス流路72が形成された2枚の金属
製薄板70aが、ガス流路72の面を相互に向かい合わ
せて固着されてなるもので、ガス流路72は、図9に示
すように、ノズル本体70の上側部分に形成された長手
方向に延びる主流路73と、ノズル本体70の下側部分
に形成され上記主流路73から分岐する複数の分流路7
4とから構成され、さらに複数の分流路74は、ノズル
本体70の長手方向中央に形成された中央分流路75と
その両側の斜め分流路76とからなる。これら分流路7
5、76は、いずれもノズル本体70のワイヤ電極Wに
対向させられる一側縁にスリット状に開口しており、そ
の開口部が反応ガスの噴出口75a、76aとされてい
る。
【0026】中央分流路75は、ノズル本体70の一端
縁に対して直交して延びている。各斜め分流路76は、
中央分流路75を中心として線対称に配置され、主流路
73に接続された上端側よりも下流側がノズル本体70
の長手方向端部側に向くように傾斜されるとともに、互
いに平行な状態でノズル本体70の一端縁に対して所定
角度θをもって延びている。上記斜め分流路76の傾斜
角度θは、ワイヤ電極Wに供給される電力の大きさにも
よるが、40°〜70°、好ましくは45°〜65°の
範囲で設定される。上記の場合、両端の斜め分流路76
の各噴出口76a間の距離は、被切断物Mにおける最大
切断幅の2倍以上に設定されている。なお、完成された
ノズル本体70の厚さは、通常0.3〜1.0mm程度
である。
縁に対して直交して延びている。各斜め分流路76は、
中央分流路75を中心として線対称に配置され、主流路
73に接続された上端側よりも下流側がノズル本体70
の長手方向端部側に向くように傾斜されるとともに、互
いに平行な状態でノズル本体70の一端縁に対して所定
角度θをもって延びている。上記斜め分流路76の傾斜
角度θは、ワイヤ電極Wに供給される電力の大きさにも
よるが、40°〜70°、好ましくは45°〜65°の
範囲で設定される。上記の場合、両端の斜め分流路76
の各噴出口76a間の距離は、被切断物Mにおける最大
切断幅の2倍以上に設定されている。なお、完成された
ノズル本体70の厚さは、通常0.3〜1.0mm程度
である。
【0027】ノズル本体70の両端部に固定された各固
定用治具71には、円筒状のガス導入口77がそれぞれ
設けられている。これらガス導入口77は、固定用治具
71側の一端が、前記ガス流路72における主流路73
の端部にそれぞれ連通しており、他端が反応ガスのボン
ベ(図示略)にパイプ等を介して連結されている。
定用治具71には、円筒状のガス導入口77がそれぞれ
設けられている。これらガス導入口77は、固定用治具
71側の一端が、前記ガス流路72における主流路73
の端部にそれぞれ連通しており、他端が反応ガスのボン
ベ(図示略)にパイプ等を介して連結されている。
【0028】以上が本実施例の精密切断装置の構成であ
り、本実施例では、供給装置2、切断装置3、引取り装
置4等が各3組設けられ、被切断物Mの3個所を同時に
切断する構成とされているが、必要に応じそれらの組数
を増減させることができる。また、ワイヤ供給用ボビン
5やダンサーローラ6、ブレーキドラム7、シール機構
34、35等のワイヤ電極Wの移送系はすべて絶縁され
ていることは言うまでもなく、その絶縁静電容量は、な
るべく小さい方が好ましい。また、各チャンバCa、C
b、Cc内で発生した電磁波によって、モータ類の誤動
作や焼損などの危険性があるため、モータ類および配線
には電磁波防止のシールド対策が施される。
り、本実施例では、供給装置2、切断装置3、引取り装
置4等が各3組設けられ、被切断物Mの3個所を同時に
切断する構成とされているが、必要に応じそれらの組数
を増減させることができる。また、ワイヤ供給用ボビン
5やダンサーローラ6、ブレーキドラム7、シール機構
34、35等のワイヤ電極Wの移送系はすべて絶縁され
ていることは言うまでもなく、その絶縁静電容量は、な
るべく小さい方が好ましい。また、各チャンバCa、C
b、Cc内で発生した電磁波によって、モータ類の誤動
作や焼損などの危険性があるため、モータ類および配線
には電磁波防止のシールド対策が施される。
【0029】次に、上記のように構成された本発明に係
るラジカル反応による精密切断装置の作用を説明する
が、その作用は、本発明の切断方法の一実施例である。
るラジカル反応による精密切断装置の作用を説明する
が、その作用は、本発明の切断方法の一実施例である。
【0030】引取り用モータ48で引取りローラ47を
回転駆動し、ワイヤ供給用ボビン5に巻かれたワイヤ電
極Wを引取りローラ47に引き取りながら、ノズル23
から反応ガスを供給し、また被切断物揺動用モータ64
で被切断物Mをワイヤ電極Wの長手方向に揺動させると
ともに、給電ブラシ21、22を通じてワイヤ電極Wに
電圧を印加し、ワイヤ電極Wと被切断物Mとの間に放電
を発生させる。放電によって反応ガスが活性化してラジ
カルを生成し、該ラジカルは被切断物Mの構成原子又は
分子とラジカル反応する。この結果、被切断物Mに溝M
aが穿設され、被切断物Mが切断されるようになる。
回転駆動し、ワイヤ供給用ボビン5に巻かれたワイヤ電
極Wを引取りローラ47に引き取りながら、ノズル23
から反応ガスを供給し、また被切断物揺動用モータ64
で被切断物Mをワイヤ電極Wの長手方向に揺動させると
ともに、給電ブラシ21、22を通じてワイヤ電極Wに
電圧を印加し、ワイヤ電極Wと被切断物Mとの間に放電
を発生させる。放電によって反応ガスが活性化してラジ
カルを生成し、該ラジカルは被切断物Mの構成原子又は
分子とラジカル反応する。この結果、被切断物Mに溝M
aが穿設され、被切断物Mが切断されるようになる。
【0031】被切断物Mを揺動させるにあたっては、図
11ないし図12に示すように、ノズル23における両
端の斜め分流路76の各噴出口76a間を、被切断物M
の切断溝Maの溝底Mbが往復するようにする。ノズル
23から供給される反応ガスは、ワイヤ電極Wに吹き付
けられてこれを均等に冷却し、局部的な温度上昇を防止
するため、ワイヤ電極Wに投入可能な電力が増大し、加
工エネルギーが高くなる効果が生じる。
11ないし図12に示すように、ノズル23における両
端の斜め分流路76の各噴出口76a間を、被切断物M
の切断溝Maの溝底Mbが往復するようにする。ノズル
23から供給される反応ガスは、ワイヤ電極Wに吹き付
けられてこれを均等に冷却し、局部的な温度上昇を防止
するため、ワイヤ電極Wに投入可能な電力が増大し、加
工エネルギーが高くなる効果が生じる。
【0032】なお、給電に際してブラシ揺動用モータ3
8は給電ブラシ21、22をワイヤ電極Wと直交する水
平方向に揺動させ、給電ブラシ21、22の局部摩耗を
防止する。また、被切断物Mの切断の進行に従って上下
用サーボモータ40を作動させ、被切断物Mを上昇させ
る。また、吸引ノズル55で溝底Mbの余剰反応ガスと
該ガスによって排出される反応生成物を吸引し、中央の
チャンバCbの気圧をチャンバCa、Ccよりも僅かに
低くする。このため、反応生成物によって放電が止るこ
とがなく、ラジカル反応、つまり切断が円滑に行われる
とともに、反応ガスの外部への漏洩が防止される。この
際、吸引ノズル55は、被切断物Mの外周面に沿って相
対移動するように、被切断物Mの上昇に同期してステッ
ピングモータ56で水平に動かす。
8は給電ブラシ21、22をワイヤ電極Wと直交する水
平方向に揺動させ、給電ブラシ21、22の局部摩耗を
防止する。また、被切断物Mの切断の進行に従って上下
用サーボモータ40を作動させ、被切断物Mを上昇させ
る。また、吸引ノズル55で溝底Mbの余剰反応ガスと
該ガスによって排出される反応生成物を吸引し、中央の
チャンバCbの気圧をチャンバCa、Ccよりも僅かに
低くする。このため、反応生成物によって放電が止るこ
とがなく、ラジカル反応、つまり切断が円滑に行われる
とともに、反応ガスの外部への漏洩が防止される。この
際、吸引ノズル55は、被切断物Mの外周面に沿って相
対移動するように、被切断物Mの上昇に同期してステッ
ピングモータ56で水平に動かす。
【0033】さて、上記ノズル23および被切断物Mの
揺動は、最も重要な切断溝Maの溝底Mbへの反応ガス
の均一な供給を促進するとともに、溝底Mbの反応生成
物を排除して切断加工を円滑に行わせる。
揺動は、最も重要な切断溝Maの溝底Mbへの反応ガス
の均一な供給を促進するとともに、溝底Mbの反応生成
物を排除して切断加工を円滑に行わせる。
【0034】すなわち、ノズル23に対して被切断物M
が往復揺動する過程において、形成された中央分流路7
5の片側(図11ないし図13でA側)の各斜め分流路
76に対向しているときには、その噴出口76aから斜
め分流路76の傾斜角にもとづいて斜めに反応ガスが溝
底Mbに噴出し、他側(図11ないし図13でB側)に
移動したときには、前記片側とは逆の角度で他側の斜め
分流路76の噴出口76aから斜めに反応ガスが溝底M
bに供給される。つまり、ノズル23に対して被切断物
Mを上記のように揺動させることにより、反応ガスのガ
ス流の方向が交互に反転することになり、加えて被切断
物Mが揺動することにより、ガス流の気圧が激しく変動
してワイヤ電極Wと溝底Mbとの間に乱流が生じ、この
ため、特に溝底Mbが深部に至った場合でも、その溝底
Mbに反応ガスが十分かつ均一に供給され、もって溝底
Mbの反応生成物が確実かつ速やかに排除されるように
なる。その結果、切断溝Maの幅が均一に形成されると
ともに、一定した加工速度が得られ加工速度の低下が生
じるおそれがない。
が往復揺動する過程において、形成された中央分流路7
5の片側(図11ないし図13でA側)の各斜め分流路
76に対向しているときには、その噴出口76aから斜
め分流路76の傾斜角にもとづいて斜めに反応ガスが溝
底Mbに噴出し、他側(図11ないし図13でB側)に
移動したときには、前記片側とは逆の角度で他側の斜め
分流路76の噴出口76aから斜めに反応ガスが溝底M
bに供給される。つまり、ノズル23に対して被切断物
Mを上記のように揺動させることにより、反応ガスのガ
ス流の方向が交互に反転することになり、加えて被切断
物Mが揺動することにより、ガス流の気圧が激しく変動
してワイヤ電極Wと溝底Mbとの間に乱流が生じ、この
ため、特に溝底Mbが深部に至った場合でも、その溝底
Mbに反応ガスが十分かつ均一に供給され、もって溝底
Mbの反応生成物が確実かつ速やかに排除されるように
なる。その結果、切断溝Maの幅が均一に形成されると
ともに、一定した加工速度が得られ加工速度の低下が生
じるおそれがない。
【0035】ノズル23の斜め分流路76(噴出口76
a)の角度と加工速度の関係を、電極に供給する電力を
変えて行った実験によると、斜め分流路76(噴出口7
6a)の角度を前記の如く好ましい範囲、特に45〜6
0度の場合において、速い加工速度が得られている。
a)の角度と加工速度の関係を、電極に供給する電力を
変えて行った実験によると、斜め分流路76(噴出口7
6a)の角度を前記の如く好ましい範囲、特に45〜6
0度の場合において、速い加工速度が得られている。
【0036】なお、上記実施例のノズル23におけるノ
ズル本体70のガス流路72は、主流路73から、ノズ
ル本体70の長手方向の中間を境にして左右対称に複数
の斜め分流路76が形成されているが、図14に示すよ
うに、一方向に向けて斜め分流路76を形成し、その先
端開口部が反応ガスの噴出口76aとした構成でもよ
い。
ズル本体70のガス流路72は、主流路73から、ノズ
ル本体70の長手方向の中間を境にして左右対称に複数
の斜め分流路76が形成されているが、図14に示すよ
うに、一方向に向けて斜め分流路76を形成し、その先
端開口部が反応ガスの噴出口76aとした構成でもよ
い。
【0037】また、上記実施例においては、被切断物M
を揺動機構60によってワイヤ電極Wの長手方向に揺動
させているが、本発明はこれに限定されず、ノズルを揺
動機構によって揺動させる構成であってもよく、要はノ
ズル23と被切断物Mとをワイヤ電極Wの長手方向に相
対的に揺動させる構成であればよい。したがって、ノズ
ル23と被切断物Mとを揺動させる構成であってもよ
い。
を揺動機構60によってワイヤ電極Wの長手方向に揺動
させているが、本発明はこれに限定されず、ノズルを揺
動機構によって揺動させる構成であってもよく、要はノ
ズル23と被切断物Mとをワイヤ電極Wの長手方向に相
対的に揺動させる構成であればよい。したがって、ノズ
ル23と被切断物Mとを揺動させる構成であってもよ
い。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のラジカル
反応による精密切断方法および精密切断装置によれば、
ラジカル反応によって被切断物に形成される切断溝の溝
底に対しノズルより噴出させる反応ガスを斜めに噴出さ
せながら、さらにはノズルと被切断物とをワイヤ電極の
長手方向に相対的に揺動させる構成とすることにより、
ノズルから供給される反応ガスによって生じる生成ガス
が速やかにプラズマ外へ排出され、このため、特に溝底
が深部に至った場合でもその溝底に反応ガスが十分かつ
均一に供給され、もって溝底の反応生成物が確実かつ速
やかに排除され、その結果、切断溝の幅が均一に形成さ
れるとともに、加工速度の低下が生じるおそれがないと
いった効果を有する。
反応による精密切断方法および精密切断装置によれば、
ラジカル反応によって被切断物に形成される切断溝の溝
底に対しノズルより噴出させる反応ガスを斜めに噴出さ
せながら、さらにはノズルと被切断物とをワイヤ電極の
長手方向に相対的に揺動させる構成とすることにより、
ノズルから供給される反応ガスによって生じる生成ガス
が速やかにプラズマ外へ排出され、このため、特に溝底
が深部に至った場合でもその溝底に反応ガスが十分かつ
均一に供給され、もって溝底の反応生成物が確実かつ速
やかに排除され、その結果、切断溝の幅が均一に形成さ
れるとともに、加工速度の低下が生じるおそれがないと
いった効果を有する。
【図1】本発明のラジカル反応による精密切断装置の一
実施例を示す正断面図である。
実施例を示す正断面図である。
【図2】同平断面図である。
【図3】同側断面図である。
【図4】案内ローラと給電ブラシ等の関係を示す外観図
である。
である。
【図5】被切断物を揺動させる揺動機構の一例を示す外
観図である。
観図である。
【図6】ワイヤ電極とノズルおよび被切断物の関係を示
す側面図である。
す側面図である。
【図7】図6の(VII−VII)線部分の断面図である。
【図8】ノズルの斜視図である。
【図9】ノズル内部のガス流路を示す正面図である。
【図10】ノズルの斜め分流路から噴出する反応ガスの
ガス流の状態を説明する正面図である。
ガス流の状態を説明する正面図である。
【図11】被切断物を揺動機構により揺動させている一
状態を示す正面図および平面図である。
状態を示す正面図および平面図である。
【図12】被切断物を揺動機構により揺動させている一
状態を示す斜視図である。
状態を示す斜視図である。
【図13】同他の状態を示す斜視図である。
【図14】ノズル内部のガス流路の変形例を示す正面図
である。
である。
23 ノズル 25 支持部材 60 揺動機構 70a 金属製薄板 72 ガス流路 76 斜め分流路 76a 噴出口 M 被切断物 Ma 切断溝 Mb 溝底 W ワイヤ電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市村 稔 神奈川県横浜市磯子区新磯子町27番地 株 式会社新潟鉄工所横浜開発センター製品開 発部内 (72)発明者 吉田 健 神奈川県横浜市磯子区新磯子町27番地 株 式会社新潟鉄工所横浜開発センター材料構 造研究部内 (72)発明者 城野 義巳 神奈川県横浜市磯子区新磯子町27番地 株 式会社新潟鉄工所横浜開発センター材料構 造研究部内 (72)発明者 西村 晃 神奈川県横浜市磯子区新磯子町27番地 株 式会社新潟鉄工所横浜開発センター材料構 造研究部内
Claims (3)
- 【請求項1】 ワイヤ電極に電圧を印加し、ワイヤ電極
と被切断物間に放電を発生させるとともに薄板状のノズ
ルより噴出させた反応ガスを活性化させ、該反応ガスに
よりラジカルを生成して該ラジカルと被切断物の構成原
子または分子とをラジカル反応させ、被切断物をワイヤ
電極に対して該ワイヤ電極を横切る方向に相対的に移動
させて被切断物を切断する方法であって、 前記ラジカル反応によって前記被切断物に形成される切
断溝の溝底に対して前記ノズルより噴出させる反応ガス
を斜めに噴出させながら、かつ該ノズルを被切断物に対
してワイヤ電極の長手方向に相対的に揺動させることを
特徴とするラジカル反応による精密切断方法。 - 【請求項2】 ワイヤ電極に電圧を印加し、ワイヤ電極
と被切断物間に放電を発生させるとともに薄板状のノズ
ルより噴出させた反応ガスを活性化させ、該反応ガスに
よりラジカルを生成して該ラジカルと被切断物の構成原
子または分子とをラジカル反応させ、被切断物をワイヤ
電極に対して該ワイヤ電極を横切る方向に相対的に移動
させて被切断物を切断する装置であって、 前記ノズルは、エッチングによりガス流路が形成された
2枚の金属製薄板が相互に固着されてなり、かつ前記ワ
イヤ電極に対向させられる一側縁には、ガス流路に連通
するとともに一側縁に対して所定角度をもった斜めの噴
出口が形成されており、 該ノズルが、前記噴出口を前記ワイヤ電極に向けた状態
で該ワイヤ電極と略平行に配されていることを特徴とす
るラジカル反応による精密切断装置。 - 【請求項3】 請求項2のラジカル反応による精密切断
装置において、前記ノズルと前記被切断物を支持する支
持部材の少なくとも一方に、被切断物に対してノズルを
ワイヤ電極の長手方向に相対的に揺動させる揺動機構が
付設されていることを特徴とする請求項2記載のラジカ
ル反応による精密切断装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7253893A JPH06283601A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | ラジカル反応による精密切断方法および精密切断装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7253893A JPH06283601A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | ラジカル反応による精密切断方法および精密切断装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06283601A true JPH06283601A (ja) | 1994-10-07 |
Family
ID=13492235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7253893A Withdrawn JPH06283601A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | ラジカル反応による精密切断方法および精密切断装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06283601A (ja) |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP7253893A patent/JPH06283601A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000530 |