JPH0628622A

JPH0628622A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH0628622A
Application number: JP1038892A
Authority: JP
Inventors: Toshinori Watanabe; 利徳渡辺; Fumito Koike; 文人小池; Masaji Saito; 正路斎藤
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1992-01-23
Filing date: 1992-01-23
Publication date: 1994-02-04

Abstract

(57)【要約】【目的】金属磁性層とギャップ層の膜付着力の向上を
図る。【構成】一対の磁気コア半体と、それらの間に設けら
れた磁気ギャップ層と、前記磁気コア半体とギャップ層
の間に設けられた金属磁性層を具備してなるメタルイン
ギャップ型の磁気ヘッドにおいて、前記金属磁性層と磁
気コア半体の間にＡｌ単体またはＡｌ化合物からなる中
間膜が形成されてなることを特徴とする磁気ヘッド。【効果】膜はがれを回避し、磁気記録特性の向上を図
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、いわゆるメタルインギ
ャップ型の磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録の分野においては、記録密度を
高めるために磁気テープ等の記録媒体の高保磁力化が推
進されているが、それに対応する磁気ヘッドの磁気コア
の材料として、飽和磁束密度（Ｂｓ）の高いものが要求
されている。

【０００３】しかし、従来のフェライトの磁気ヘッドは
飽和磁束密度が、約５０００Ｇ（ガウス）程度と低いた
め、高密度化の要求に対しては不十分である。このた
め、図６〜図８に示すような構成のいわゆるメタルイン
ギャップ型の磁気ヘッドが知られている。

【０００４】図６、図７に示す磁気ヘッドは、フェライ
トからなる一対の磁気コア半体１ａ、１ｂの各々の対向
端面に、例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金（センダス
ト）、パーマロイ、アモルファス金属等の金属磁性層２
ａ、２ｂを設けるとともに、この金属磁性層２ａ、２ｂ
を設けた磁気コア１ａ、１ｂの対向端面との間にＳｉＯ
₂等の非磁性体からなるギャップ層３ａ、３ｂによって
主ギャップＲを形成し、上記のように成膜された磁気コ
ア半体１ａ、１ｂをガラス層１２、１２により接合する
ことによって構成されたものである。

【０００５】このようなメタルインギャップ型の磁気ヘ
ッドは、磁気コア半体１ａ、１ｂの対向端面に金属磁性
層を設けない一般的な磁気ヘッドに比較して、強くしか
も鋭い記録磁界を得られるという利点があり、今後の活
用が期待されている。

【０００６】また、図８に示す磁気ヘッドは、フェライ
トからなる一対の磁気コア半体１ａ、１ｂの各々の対向
端面に、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₄Ｎ₃などの高融点材料からなる
下地層１０ａ、１０ｂを介して、例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓ
ｉ系合金（センダスト）、パーマロイ、アモルファス金
属等の金属磁性層２ａ、２ｂを設けるとともに、この金
属磁性層２ａ、２ｂとを設けた磁気コア半体１ａ、１ｂ
の対向端面との間に、ＳｉＯ₂等の非磁性体からなるギ
ャップ層３ａ、３ｂによって主ギャップＲを形成し、上
記のように成膜された磁気コア半体１ａ、１ｂをガラス
層１２、１２により接合することによって構成されたも
のである。

【０００７】上記の下地層１０ａ、１０ｂは、金属磁性
層層２ａ、２ｂの磁気コア半体１ａ、１ｂへの拡散を防
止するとともに、２次ギャップ対策として設けられる
が、これは省略されることもある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の磁
気ヘッドでは、前記金属磁性層２ａ、２ｂが、磁気ギャ
ップ層３との層間において、十分な密着強度を確保でき
ず、成膜段階で膜はがれを起こし易いという問題を有し
ていた。

【０００９】特に、近年においては、磁気ヘッドに組み
込んだ装置は小型化、軽量化する傾向にあり、移動に伴
う振動にさらされたり、悪環境のもとで使用されたりす
ることが多くなっている。そこで、磁気ヘッドには、磁
気特性が優秀であって磁気テープに対する耐摩耗性が優
れていることは勿論、温度や腐食性の雰囲気中での耐用
性、すなわち耐環境性や、耐振動性が高いこと等が要求
されている。

【００１０】よって、本発明は上記課題に鑑みてなされ
たものであり、メタルインギャップ型の磁気ヘッドにお
いて、上記金属磁性層と磁気コア半体の間にＡｌ膜から
なる中間層を設けることによって、前記金属磁性層とギ
ャップ層における膜の密着強度を向上させ、膜付着力を
確保することによって、膜はがれを回避し、磁気記録特
性の良い磁気ヘッドの提供を目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、上記
課題を解決するために、一対の磁気コア半体と、それら
の間に設けられた磁気ギャップ層と、前記磁気コア半体
とギャップ層の間に設けられた金属磁性層を具備してな
るメタルインギャップ型の磁気ヘッドにおいて、前記金
属磁性層と磁気コア半体の間にＡｌ単体またはＡｌ化合
物からなる中間膜が形成されてなることを特徴とするも
のである。

【００１２】請求項２の発明は、上記課題を解決するた
めに、一対の磁気コア半体と、それらの間に設けられた
磁気ギャップ層と、前記磁気コアとギャップ層の間に設
けられた金属磁性層とを具備してなるメタルインギャッ
プ型の磁気ヘッドにおいて、前記金属磁性層と磁気コア
半体との間であって、前記ギャップ層間に形成された主
ギャップと非平行な部分のみに、Ａｌ単体又はＡｌ化合
物からなる中間膜が形成されてなることを特徴とするも
のである。

【００１３】請求項３の発明は、上記課題を解決するた
めに、請求項１または請求項２の磁気ヘッドにおいて、
中間層と磁気コア半体の間に高融点金属からなる下地層
が形成されてなることを特徴とするものである。

【００１４】

【作用】従って、本発明の磁気ヘッドでは、一対の磁気
コア半体と、それらの間に設けられた磁気ギャップ層
と、前記磁気コア半体とギャップ層の間に設けられた金
属磁性層とを具備してなるメタルインギャップ型の磁気
ヘッドの前記金属磁性層と前記磁気コア半体の間に、Ａ
ｌ又はＡｌ化合物からなる中間膜が形成されることによ
って、前記金属磁性層とギャップ層における膜の密着強
度を向上させ、膜付着力を確保し、膜はがれを回避する
ことにより磁気記録特性の向上を図ることができる。

【００１５】また、上記構成からなる磁気ヘッドの中間
層と磁気コア半体の間に高融点材料からなる下地層が設
けられることにより、中間膜を形成するＡｌ又はＡｌ化
合物の磁気コア半体への拡散を防止することが可能であ
り、２次ギャップの形成を防止する作用も奏する。そし
て、以上のように本発明の磁気ヘッドは、金属磁性層近
傍に薄膜を複数積層してなるものであり、渦電流損失の
増大や膜応力の増大を抑制し、磁気記録特性を向上を図
ることができる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の実施例について図１〜図５を
参照して説明する。なお、以下の実施例の説明におい
て、前記従来例と同一の構成要素については同一の符号
を付し、その説明を省略する。

【００１７】本実施例の磁気ヘッドは、図６〜図８に示
した従来のものと同様にメタルインギャップ型の磁気ヘ
ッドであるが、前記従来の磁気ヘッドと相違するところ
は、その金属磁性層２ａ、２ｂと磁気コア半体１ａ、１
ｂ間に、Ａｌ単体又はＡｌ化合物からなる中間層を設け
ているところである。

【００１８】（第一構成例）図１に示す第一構成例の磁
気ヘッドは、フェライトなどからなる一対の磁気コア半
体１ａ、１ｂと、それらの間に設けられたＳｉＯ₂など
からなる磁気ギャップ層３ａ、３ｂと、前記磁気コア半
体１ａ、１ｂとギャップ層３ａ、３ｂの間に形成された
Ｆｅ₇₆−Ｔａ₁₀−Ｃ₁₄の組成の薄膜などからなる金属磁
性層２ａ、２ｂと、前記金属磁性層２ａ、２ｂ及び磁気
コア半体１ａ、１ｂ間に形成されたＡｌ単体からなる中
間膜４ａ、４ｂと、前記磁気コア半体１ａ、１ｂ接合す
るためのガラス層１２、１２により構成されているもの
である。なお、前記金属磁性層２ａ、２ｂはＦｅ−Ａｌ
−Ｓｉ合金のセンダスト、パーマロイ、アモルファスな
どから形成しても良く、中間膜４ａ、４ｂは、Ａｌ単体
のみならずＡｌ₂Ｏ₃やＡｌＮなどのＡｌ化合物を用いて
も良い。第一構成例の磁気ヘッドにおける諸元を以下に
示す。金属磁性層の厚さ：３〜１０μm トラック幅：２０μm ギャップ深さ：２０μm ギャップ長：０．２μm 中間膜の厚さ：５０〜２００Å

【００１９】上記金属磁性層２ａ、２ｂの厚さは、それ
ぞれ３〜１０μm程度とすることが良く、Ａｌ単体から
なる中間膜４ａ、４ｂの厚さは、５０〜１００Å程度と
することが望ましい。

【００２０】尚、上記金属磁性層２ａ、２ｂは、スパッ
タ、蒸着等の薄膜形成装置により作製する。また、前記
金属磁性層中にＣを添加する方法としては、ターゲット
板上にグラファイトのペレットを配置して複合ターゲッ
トとし、これをスパッタする方法、あるいは、Ｃを含ま
ないターゲット（Ｆｅ−Ｔ−Ｍ系）を用い、Ａｒ等の不
活性ガス中にメタン（ＣＨ₄）等の炭化水素ガスを混合
したガス雰囲気中でスパッタする反応性スパッタ法を用
いることができる。また、Ａｌからなる中間膜４ａ、４
ｂを形成する手段としては、スパッタ、真空蒸着法等を
用いる。

【００２１】よって、上記のような組成からなる金属磁
性層２ａ、２ｂ中のＣ（炭素）は、中間膜４ａ、４ｂを
形成するＡｌと結合し易く、金属磁性層２ａ、２ｂと中
間膜４ａ、４ｂとの膜間の密着強度を向上させることが
可能である。

【００２２】しかし、上記のように作製したままの膜
は、アモファス相をかなりの割合で含んだものであり、
不安定であるため、例えば５５０℃程度に加熱する熱処
理を施すことによって微結晶を析出させることが必要で
ある。

【００２３】ここで、上記構成からなる第一構成例の磁
気ヘッドにおけるフェライト（磁気コア）／Ａｌ膜（中
間膜）／Ｆｅ₇₆Ｔａ₁₀Ｃ₁₄膜（金属磁性層）間の膜はが
れ率を以下のような方法により測定した。上記本発明に
よる磁気ヘッドのヘッドチップ製造工程中では、図５に
示すようなチップ切断工程において、切断の際の力学的
な力により膜はがれを生じ易い。そこで、本発明による
磁気ヘッドのチップ切断後のチップ外観を顕微鏡で観察
し、膜はがれの箇所の数を数え、又同様な観察方法で観
察した従来の磁気ヘッドにおけるフェライト（磁気コ
ア）／Ｆｅ₇₆Ｔａ₁₀Ｃ₁₄膜（金属磁性層）の膜はがれ数
を数え、この値を１００として、本発明の磁気ヘッドに
おける膜はがれ数を規格化して表１に示した。

【００２４】なお、この熱処理は磁気ヘッドの製造工程におけるガラ
ス溶着工程と兼ねて行なうことが可能である。

【００２５】上記結果より、本発明の第一構成例の磁気
ヘッドは、従来の磁気ヘッドに比べ明らかに膜はがれ率
が低下し、膜付着力が向上していることがわかる。

【００２６】（第二構成例）図２に示す第二構成例の磁
気ヘッドは、一対の磁気コア半体１ａ、１ｂと、それら
の間に設けられた磁気ギャップ層３ａ、３ｂと、前記磁
気コア１ａ、１ｂとギャップ層３ａ、３ｂの間に形成さ
れた金属磁性層２ａ、２ｂとを具備し、前記金属磁性層
２ａ、２ｂと磁気コア半体１ａ、１ｂとの間であって、
前記ギャップ層３ａ、３ｂ間に形成された主ギャップＲ
と非平行な部分のみに、Ａｌ単体からなる中間膜５ａ、
５ｂが形成され、上記のように成膜された磁気コア半体
１ａ、１ｂをガラス層１２、１２によって接合されてな
るものである。第二構成例の磁気ヘッドにおける諸元を
以下に示す。金属磁性層の厚さ：３〜１０μm トラック幅：２０μm ギャップ深さ：２０μm ギャップ長：０．２μm 中間膜の厚さ：５０〜２０００Å

【００２７】上記金属磁性層２ａ、２ｂの厚さは、それ
ぞれ３〜１０μm程度とすることが良く、Ａｌ単体から
なる中間膜５ａ、５ｂの厚さは、５０〜２０００Å程度
とすることが望ましい。なお、前記金属磁性層２ａ、２
ｂ及びＡｌからなる中間膜５ａ、５ｂの作製方法は、上
述した第一構成例の薄膜形成方法と同様の方法を使用
し、さらに第一構成例の磁気ヘッドと同様に前記金属磁
性薄膜２ａ、２ｂ及び中間膜５ａ、５ｂを形成した後、
熱処理を施した。

【００２８】従って、上述した第二構成例の磁気ヘッド
は、前記中間膜５ａ、５ｂの形成部位は、第一構成例の
磁気ヘッドと異なるが、その効果は第一構成例と同様
に、金属磁性薄膜２ａ、２ｂ中のＣ（炭素）が、中間膜
５ａ、５ｂを形成するＡｌと結合し易く、金属磁性薄膜
２ａ、２ｂと中間膜５ａ、５ｂとの膜間の密着強度を向
上させ、前記両者の成膜段階における膜はがれを回避
し、膜付着力を向上させることができ、磁気記録特性の
向上を図ることが可能である。

【００２９】（第三構成例）図３に示す第三構成例の磁
気ヘッドは、フェライトなどからなる一対の磁気コア半
体１ａ、１ｂと、それらの間に設けられたＳｉＯ₂など
からなる磁気ギャップ層３ａ、３ｂと、前記磁気コア半
体１ａ、１ｂとギャップ層３ａ、３ｂの間に設けられた
Ｆｅ₇₆−Ｔａ₁₀−Ｃ₁₄の組成の薄膜などからなる金属磁
性層２ａ、２ｂと、前記金属磁性層２ａ、２ｂ及び磁気
コア１ａ、１ｂの間に設けられたＡｌ単体からなる中間
膜６ａ、６ｂと、前記中間膜６ａ、６ｂと磁気コア半体
１ａ、１ｂの間に形成された下地層７ａ、７ｂと、前記
磁気コア半体１ａ、１ｂを接合するためのガラス層１
２、１２によって構成されている。そして、前記金属磁
性層２ａ、２ｂはＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金のセンダスト、
パーマロイ、アモルファスなどから形成しても良く、中
間膜６ａ、６ｂは、Ａｌ単体のみならずＡｌ₂Ｏ₃やＡｌ
ＮなどのＡｌ化合物を用いることができ、前記下地層７
ａ、７ｂには、ＳｉＯ₂の他に高融点材料であるＳｉ₄Ｏ
₃、ＳｉＮ₂、ＴａＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ、Ｔａ、Ｐｔ等を
用いることが可能である。

【００３０】従って、第三構成例の磁気ヘッドは第一構
成例の磁気ヘッドの磁気コア半体１ａ、１ｂと中間膜６
ａ、６ｂの間にＳｉＯ₂等からなる下地層７ａ、７ｂを
設けたところに特徴がある。第三構成例の磁気ヘッドに
おける諸元を以下に示す。金属磁性層の厚さ：３〜１０μm トラック幅：２０μm ギャップ深さ：２０μm ギャップ長：０．２μm 中間膜の厚さ：５０〜２００Å 下地層の厚さ：５０〜２００Å

【００３１】上記金属磁性薄層２ａ、２ｂはの厚さは、
それぞれ３〜１０μm程度とすることが良く、Ａｌから
なる中間膜６ａ、６ｂの厚さは、５０〜２００Å程度と
することが望ましい。そして、前記下地層７ａ、７ｂ
は、蒸着またはスパッタにより形成し、その厚さは５０
〜２００Å程度とすることが望ましい。

【００３２】尚、上記金属磁性層２ａ、２ｂ及びＡｌ中
間膜６ａ、６ｂは、第一、第二構成例と同様な方法によ
り形成する。そして、下地層７ａ、７ｂは、蒸着又はス
パッタ等により形成する。そして膜形成後には、第一構
成例及び第二構成例の磁気ヘッドと同様に熱処理を施
し、膜の安定化を図る。なお、この熱処理は第一構成例
及び第二構成例の磁気ヘッドと同様に、磁気ヘッドの製
造工程におけるガラス溶着工程と兼ねて行なうことが可
能である。

【００３３】よって、第三構成例の磁気ヘッドにおいて
も、前記金属磁性層２ａ、２ｂ中のＣ（炭素）が中間膜
６ａ、６ｂを形成するＡｌと結合し易く、第一構成例及
び第二構成例の磁気ヘッドと同様に金属磁性層２ａ、２
ｂと中間膜６ａ、６ｂの膜間の密着強度を向上させるこ
とができる。

【００３４】また、上記構成からなる第三構成例磁気ヘ
ッドは、前記中間膜６ａ、６ｂと磁気コア半体１ａ、１
ｂの間にＳｉＯ₂等からなる下地層７ａ、７ｂを介在さ
せることによって、中間膜６ａ、６ｂを形成する磁性金
属の磁気コア半体１ａ、１ｂへの拡散を防止するととも
に、前記下地層７ａ、７ｂは、２次ギャップ対策として
も有効な効果を奏する。

【００３５】つまり、中間膜６ａ、６ｂを形成するＡｌ
は、Ｍｎ−Ｚｎフェライトからなる磁気コア半体１ａ、
１ｂ中のＯ₂と結合し易く、前記中間膜６ａ、６ｂを形
成するＡｌの磁気コア半体１ａ、１ｂへの拡散を防止す
るために、下地層７ａ、７ｂは有効である。そして、こ
の下地層７ａ、７ｂをＳｉＯ₂等より形成することによ
り、前記中間膜６ａ、６ｂ及び磁気ギャップ層３ａ、３
ｂそして下地層７ａ、７ｂを成膜した後に行なう膜の安
定化を図るための熱処理による高温に耐え、膜の特性に
影響を与えることがない。

【００３６】（第四構成例）図４に示す第四構成例の磁
気ヘッドは、一対の磁気コア半体１ａ、１ｂと、それら
の間に設けられた磁気ギャップ層３ａ、３ｂと、前記磁
気コア１ａ、１ｂとギャップ層３ａ、３ｂの間に設けら
れた金属磁性層２ａ、２ｂとを具備し、前記金属磁性層
２ａ、２ｂと磁気コア半体１ａ、１ｂとの間であって、
前記ギャップ層３ａ、３ｂ間に形成された主ギャップＲ
と非平行な部分のみに、Ａｌ単体からなる中間膜８ａ、
８ｂが形成され、かつ前記中間膜８ａ、８ｂと磁気コア
半体１ａ、１ｂの間には、ＳｉＯ₂等の高融点材料から
なる下地層９ａ、９ｂが設けられ、上記のように成膜さ
れた磁気コア半体１ａ、１ｂをガラス層１２、１２によ
って接合されてなるものである。なお、前記中間膜８
ａ、８ｂは、Ａｌ単体のみならずＡｌ₂Ｏ₃やＡｌＮなど
のＡｌ化合物を用いても良い。また、前記下地層９ａ、
９ｂには、ＳｉＯ₂の他に高融点材料であるＳｉ₄Ｏ₃、
ＳｉＮ₂、ＴａＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ、Ｔａ、Ｐｔ等を用
いても良い。

【００３７】そこで、第四構成例の磁気ヘッドにおける
諸元を以下に示す。金属磁性層の厚さ：３〜１０μm トラック幅：２０μm ギャップ深さ：２０μm ギャップ長：０．２μｍ中間膜の厚さ：５０〜２０００Å 下地層の厚さ：５０〜２００Å

【００３８】上記金属磁性層２ａ、２ｂの厚さは、それ
ぞれ３〜１０μｍ程度とすることが良く、Ａｌ膜からな
る中間膜８ａ、８ｂの厚さは、５０〜２０００Å程度と
することが望ましい。そして、前記下地層９ａ、９ｂ
は、蒸着またはスパッタにより形成し、その厚さは５０
〜２００Å程度とすることが好ましい。

【００３９】なお、前記金属磁性層及びＡｌ単体からな
る中間膜８ａ、８ｂの作製方法は、上述した第三構成例
の薄膜形成方法と同様の方法を使用した。そして、第三
構成例の磁気ヘッドと同様に前記金属磁性層２ａ、２ｂ
及び下地層９ａ、９ｂ並びに中間膜８ａ、８ｂを形成し
た後、熱処理を施した。

【００４０】従って、上述した第四構成例の磁気ヘッド
は、前記中間膜８ａ、８ｂの形成部位は第三構成例の磁
気ヘッドと異なるが、その効果は前記金属磁性層２ａ、
２ｂ中のＣ（炭素）が、中間膜８ａ、８ｂを形成するＡ
ｌと結合し易く、金属磁性層２ａ、２ｂと中間膜８ａ、
８ｂとの膜間の密着強度を向上させることができる。

【００４１】そして、第三構成例の磁気ヘッドと同様に
中間膜８ａ、８ｂと磁気コア半体１ａ、１ｂの間に下地
層９ａ、９ｂを設けることによって、前記中間膜８ａ、
８ｂを形成する磁性金属の磁気コア半体１ａ、１ｂへの
拡散を防止するとともに、２次ギャップ対策としても有
効な手段となる。

【００４２】

【発明の効果】従って、本発明の磁気ヘッドでは、一対
の磁気コア半体と、それらの間に設けられた磁気ギャッ
プ層と、前記磁気コア半体とギャップ層の間に設けられ
た金属磁性層を具備してなるメタルインギャップ型の磁
気ヘッドの金属磁性層と磁気コアの間にＡｌ又はＡｌ化
合物からなる中間膜が形成されてなることにより、前記
金属磁性層及び中間膜との膜の付着力を向上させ、前記
金属磁性薄膜及び中間膜そして磁気コア半体間における
膜はがれを回避するとともに、磁気記録特性の向上を図
ることができる。

【００４３】さらに前記中間膜と磁気コア半体の間に下
地層を形成した場合には、中間膜を形成する金属磁性層
の磁気コア半体への拡散を防止することが可能であり、
２次ギャップの形成を防止する作用も奏する。そして、
以上のように本発明の磁気ヘッドは、金属磁性層近傍に
薄膜を複数積層してなるものであり、渦電流損失の増大
や膜応力の増大を抑制し、磁気記録特性を向上を図るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の実施例における第一構成例の
磁気ヘッドの磁気テープ摺接面における要部拡大図であ
る。

【図２】図２は、本発明の実施例における第二構成例の
磁気ヘッドの磁気テープ摺接面における要部拡大図であ
る。

【図３】図３は、本発明の実施例における第三構成例の
磁気ヘッドの磁気テープ摺接面の要部拡大図である。

【図４】図４は、本発明の実施例における第四構成例の
磁気ヘッドの磁気テープ摺接面の要部拡大図である。

【図５】図５は、本実施例における膜はがれ率を測定方
法を説明するための図である。

【図６】図６は、一従来例のメタルインギャップ型の磁
気ヘッドの斜視図である。

【図７】図７は、図６の磁気ヘッドの磁気テープ摺接面
の要部拡大図である。

【図８】図８は、図６の磁気ヘッドの金属磁性層と磁気
コア半体の間に下地層を設けた磁気ヘッドにおける磁気
テープ摺接面の要部拡大図である。

【符号の説明】

１ａ磁気コア半体１ｂ磁気コア半体２ａ金属磁性層２ｂ金属磁性層３ａギャップ層３ｂギャップ層４ａ中間膜４ｂ中間膜５ａ中間膜５ｂ中間膜６ａ中間膜６ｂ中間膜７ａ下地層７ｂ下地層８ａ中間膜８ｂ中間膜９ａ下地層９ｂ下地層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の磁気コア半体と、それらの間に設
けられた磁気ギャップ層と、前記磁気コア半体とギャッ
プ層の間に設けられた金属磁性層を具備してなるメタル
インギャップ型の磁気ヘッドにおいて、前記金属磁性層
と磁気コア半体の間にＡｌ単体またはＡｌ化合物からな
る中間膜が形成されてなることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
【請求項２】一対の磁気コア半体と、それらの間に設
けられた磁気ギャップ層と、前記磁気コアとギャップ層
の間に設けられた金属磁性層とを具備してなるメタルイ
ンギャップ型の磁気ヘッドにおいて、前記金属磁性層と
磁気コア半体との間であって、前記ギャップ層間に形成
された主ギャップと非平行な部分のみに、Ａｌ単体又は
Ａｌ化合物からなる中間膜が形成されてなることを特徴
とする磁気ヘッド。
【請求項３】請求項１または請求項２の磁気ヘッドに
おいて、中間膜と磁気コア半体の間に高融点金属からな
る下地層が形成されてなることを特徴とする磁気ヘッ
ド。