JPH06289264A - 半導体レーザ装置の光軸調整機構 - Google Patents
半導体レーザ装置の光軸調整機構Info
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- JPH06289264A JPH06289264A JP5079950A JP7995093A JPH06289264A JP H06289264 A JPH06289264 A JP H06289264A JP 5079950 A JP5079950 A JP 5079950A JP 7995093 A JP7995093 A JP 7995093A JP H06289264 A JPH06289264 A JP H06289264A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0225—Out-coupling of light
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- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体レーザの光軸やレーザ光を結像させる光
学系の光軸が傾いていても、被照射面上の所定位置にお
いて高い点像特性を有する点像を形成することができる
半導体レーザ装置の光軸調整機構を提供する。 【構成】レンズ４をバレル３に固定し、半導体レーザ６
を角度調整ホルダ１２に固定する。接触平面ＦＡとＦＢ
とを接触させながら、ＸＹプレート１１を移動させてＸ
Ｙアライメントを行い、接触球面ＲＡとＲＢとを接触さ
せながら角度調整ホルダ１２を回転させてθY方向等の
アライメントを行う。
学系の光軸が傾いていても、被照射面上の所定位置にお
いて高い点像特性を有する点像を形成することができる
半導体レーザ装置の光軸調整機構を提供する。 【構成】レンズ４をバレル３に固定し、半導体レーザ６
を角度調整ホルダ１２に固定する。接触平面ＦＡとＦＢ
とを接触させながら、ＸＹプレート１１を移動させてＸ
Ｙアライメントを行い、接触球面ＲＡとＲＢとを接触さ
せながら角度調整ホルダ１２を回転させてθY方向等の
アライメントを行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体レーザ装置の光軸
調整機構に関するものであり、更に詳しくは、半導体レ
ーザと光学系とのアライメント(alignment)を行うため
の半導体レーザ装置の光軸調整機構に関するものであ
る。
調整機構に関するものであり、更に詳しくは、半導体レ
ーザと光学系とのアライメント(alignment)を行うため
の半導体レーザ装置の光軸調整機構に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体レーザ装置の光軸調整
は、次のようにして行われている。まず、図９に示すよ
うにレンズ４をバレル３内に組み込む。バレル３の一方
の面は、基準面ＰＳとなっている。この基準面ＰＳは、
レーザ光ＬＥ(ＬＰがレーザ光ＬＥの発光点である)の点
像が形成される位置の基準となる平面であり、レーザ光
ＬＥは基準面ＰＳに対して一定の距離だけ離れた位置に
結像するようになっている。
は、次のようにして行われている。まず、図９に示すよ
うにレンズ４をバレル３内に組み込む。バレル３の一方
の面は、基準面ＰＳとなっている。この基準面ＰＳは、
レーザ光ＬＥ(ＬＰがレーザ光ＬＥの発光点である)の点
像が形成される位置の基準となる平面であり、レーザ光
ＬＥは基準面ＰＳに対して一定の距離だけ離れた位置に
結像するようになっている。
【０００３】一方、取付台１には凹部Ｃが形成されてい
る。この凹部Ｃは、取付台１に固定されている測定部２
に対して所定の位置関係にある。測定部２は、ピンフォ
トダイオード，ＣＣＤ(Charge Coupled Device)等の受
光素子で構成されている。測定部２の被照射面２ａは、
実際に同図に示す半導体装置が適用される装置の被照射
面に相当する。同図に示すように、基準面ＰＳを凹部Ｃ
の内面に当て付けるようにして凹部Ｃにバレル３を嵌合
させると、基準面ＰＳと被照射面２ａとは平行になり、
前記点像が形成される位置が被照射面２ａ上の所定位置
ＦＰと一致するようになっている。
る。この凹部Ｃは、取付台１に固定されている測定部２
に対して所定の位置関係にある。測定部２は、ピンフォ
トダイオード，ＣＣＤ(Charge Coupled Device)等の受
光素子で構成されている。測定部２の被照射面２ａは、
実際に同図に示す半導体装置が適用される装置の被照射
面に相当する。同図に示すように、基準面ＰＳを凹部Ｃ
の内面に当て付けるようにして凹部Ｃにバレル３を嵌合
させると、基準面ＰＳと被照射面２ａとは平行になり、
前記点像が形成される位置が被照射面２ａ上の所定位置
ＦＰと一致するようになっている。
【０００４】次に、半導体レーザ６をレーザホルダ５内
に組み込む。そして、レーザホルダ５をコレット７でハ
ンドリングし、取付台１にセットされたバレル３に押し
当てる(矢印ｍ１)。その際、レーザホルダ５の接触平面
ＦＢをバレル３の接触平面ＦＡに当て付けるようにす
る。接触平面ＦＡは、前記基準面ＰＳに対して平行な面
である。
に組み込む。そして、レーザホルダ５をコレット７でハ
ンドリングし、取付台１にセットされたバレル３に押し
当てる(矢印ｍ１)。その際、レーザホルダ５の接触平面
ＦＢをバレル３の接触平面ＦＡに当て付けるようにす
る。接触平面ＦＡは、前記基準面ＰＳに対して平行な面
である。
【０００５】そして、測定部２の信号を見ながらＸ，Ｙ
方向のアライメントを行う。アライメントは、接触平面
ＦＡに接触平面ＦＢを接触させた状態でレーザホルダ５
をコレット７でＸ，Ｙ方向に移動させることにより行
う。ここで、Ｘ方向及びＹ方向とは、図８に示すように
ファーフィールドパターン(Far Field Pattern)の短軸
方向及び長軸方向にそれぞれ対応するものであり、Ｚ方
向はＸＹ平面に対して垂直方向に対応するものである。
尚、Ｚ方向のアライメントについては、不図示の機構に
より行う。
方向のアライメントを行う。アライメントは、接触平面
ＦＡに接触平面ＦＢを接触させた状態でレーザホルダ５
をコレット７でＸ，Ｙ方向に移動させることにより行
う。ここで、Ｘ方向及びＹ方向とは、図８に示すように
ファーフィールドパターン(Far Field Pattern)の短軸
方向及び長軸方向にそれぞれ対応するものであり、Ｚ方
向はＸＹ平面に対して垂直方向に対応するものである。
尚、Ｚ方向のアライメントについては、不図示の機構に
より行う。
【０００６】最適位置(即ち、図９に示すようにレンズ
４の光軸Ｘ１と半導体レーザ６の光軸Ｘ２とが合った位
置)で、レーザホルダ５をバレル３に固定する。固定は
ＹＡＧレーザＬＷによるスポット溶接によって行う。
尚、固定にはＵＶ硬化接着剤等を用いることもできる。
４の光軸Ｘ１と半導体レーザ６の光軸Ｘ２とが合った位
置)で、レーザホルダ５をバレル３に固定する。固定は
ＹＡＧレーザＬＷによるスポット溶接によって行う。
尚、固定にはＵＶ硬化接着剤等を用いることもできる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
半導体レーザ装置の光軸調整機構においては、レンズ４
の光軸Ｘ１や半導体レーザ６の光軸Ｘ２が基準面ＰＳに
対して傾いていると、Ｘ，Ｙ方向のアライメントでは点
像特性を最適な状態にすることができないといった問題
がある。つまり、測定部２上に形成される点像に不均一
な強度分布が発生してしまうのである。光軸Ｘ１の傾き
は、バレル３内にレンズ４が傾いて組み込まれた場合等
に生じる。また、光軸Ｘ２の傾きは、半導体レーザ６中
に設けられているレーザチップ(不図示)が傾いた状態で
ダイボンディングされている場合や、レーザホルダ５内
に半導体レーザ６が傾いて組み込まれている場合等に生
じる。
半導体レーザ装置の光軸調整機構においては、レンズ４
の光軸Ｘ１や半導体レーザ６の光軸Ｘ２が基準面ＰＳに
対して傾いていると、Ｘ，Ｙ方向のアライメントでは点
像特性を最適な状態にすることができないといった問題
がある。つまり、測定部２上に形成される点像に不均一
な強度分布が発生してしまうのである。光軸Ｘ１の傾き
は、バレル３内にレンズ４が傾いて組み込まれた場合等
に生じる。また、光軸Ｘ２の傾きは、半導体レーザ６中
に設けられているレーザチップ(不図示)が傾いた状態で
ダイボンディングされている場合や、レーザホルダ５内
に半導体レーザ６が傾いて組み込まれている場合等に生
じる。
【０００８】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであって、半導体レーザの光軸やレーザ光を結像させ
る光学系の光軸が傾いていても、被照射面上の所定位置
において高い点像特性を有する点像を形成することがで
きる半導体レーザ装置の光軸調整機構を提供することを
目的とする。
のであって、半導体レーザの光軸やレーザ光を結像させ
る光学系の光軸が傾いていても、被照射面上の所定位置
において高い点像特性を有する点像を形成することがで
きる半導体レーザ装置の光軸調整機構を提供することを
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の半導体レーザ装置の光軸調整機構は、レーザ光
による被照射面上での所定位置に点像が形成されるよう
に、半導体レーザと該半導体レーザからのレーザ光を被
照射面側に導く光学系とのアライメントを行う半導体レ
ーザ装置の光軸調整機構において、前記光学系が固定さ
れた第１部材と，該第１部材との接触状態で前記被照射
面に対して平行方向に移動自在の第２部材と，前記半導
体レーザが固定され、前記第２部材との接触状態で回転
自在の第３部材と，を設けたことを特徴としている。
本発明の半導体レーザ装置の光軸調整機構は、レーザ光
による被照射面上での所定位置に点像が形成されるよう
に、半導体レーザと該半導体レーザからのレーザ光を被
照射面側に導く光学系とのアライメントを行う半導体レ
ーザ装置の光軸調整機構において、前記光学系が固定さ
れた第１部材と，該第１部材との接触状態で前記被照射
面に対して平行方向に移動自在の第２部材と，前記半導
体レーザが固定され、前記第２部材との接触状態で回転
自在の第３部材と，を設けたことを特徴としている。
【００１０】
【作用】このような構成によると、第３部材が第２部材
との接触状態で回転すると、第３部材に固定されている
半導体レーザが回転し、半導体レーザの光軸が傾くの
で、第３部材の回転によって半導体レーザの光軸と光学
系の光軸との相対的な傾きを補正することができる。第
３部材の回転に伴って被照射面上での所定位置から点像
がずれたとしても、第２部材を第１部材との接触状態で
被照射面に対して平行方向に移動させることによって、
そのずれを補正することができる。
との接触状態で回転すると、第３部材に固定されている
半導体レーザが回転し、半導体レーザの光軸が傾くの
で、第３部材の回転によって半導体レーザの光軸と光学
系の光軸との相対的な傾きを補正することができる。第
３部材の回転に伴って被照射面上での所定位置から点像
がずれたとしても、第２部材を第１部材との接触状態で
被照射面に対して平行方向に移動させることによって、
そのずれを補正することができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。尚、前記従来例(図９)と同一部分には同一の符号
を付して詳しい説明を省略する。
する。尚、前記従来例(図９)と同一部分には同一の符号
を付して詳しい説明を省略する。
【００１２】図１は本実施例である半導体レーザ装置の
光軸調整機構の断面構造を示しており、図２はその分解
斜視図を示している。本実施例は、前記従来例と同様
に、レーザ光ＬＥによる被照射面２ａ上での所定位置Ｆ
Ｐに点像が形成されるように、半導体レーザ６とレーザ
光ＬＥを被照射面２ａ側に導くレンズ４とのアライメン
トを行う半導体レーザ装置の光軸調整機構である。
光軸調整機構の断面構造を示しており、図２はその分解
斜視図を示している。本実施例は、前記従来例と同様
に、レーザ光ＬＥによる被照射面２ａ上での所定位置Ｆ
Ｐに点像が形成されるように、半導体レーザ６とレーザ
光ＬＥを被照射面２ａ側に導くレンズ４とのアライメン
トを行う半導体レーザ装置の光軸調整機構である。
【００１３】そして、従来例(図９)におけるレーザホル
ダ５の代わりに、バレル３との接触状態で被照射面２ａ
に対して平行方向(即ち、Ｘ，Ｙ方向)に移動自在のＸＹ
プレート１１と，半導体レーザ６が内部に固定され、Ｘ
Ｙプレート１１との接触状態で回転自在の角度調整ホル
ダ１２とを設けたことに特徴がある。尚、図１及び図２
中、取付台１及びコレット７を省略しているが、本実施
例においても測定部２は取付台１の所定位置に配されて
おり、またコレット７は角度調整ホルダ１２のハンドリ
ングに用いられる。
ダ５の代わりに、バレル３との接触状態で被照射面２ａ
に対して平行方向(即ち、Ｘ，Ｙ方向)に移動自在のＸＹ
プレート１１と，半導体レーザ６が内部に固定され、Ｘ
Ｙプレート１１との接触状態で回転自在の角度調整ホル
ダ１２とを設けたことに特徴がある。尚、図１及び図２
中、取付台１及びコレット７を省略しているが、本実施
例においても測定部２は取付台１の所定位置に配されて
おり、またコレット７は角度調整ホルダ１２のハンドリ
ングに用いられる。
【００１４】ＸＹプレート１１には、図１に示すように
前記レーザホルダ５(図９)と同様に接触平面ＦＢが設け
られている。また、図７に示すように、角度調整ホルダ
１２の外周の一部には半導体レーザ６の発光点ＬＰを球
の中心とする接触球面ＲＢが形成されており、ＸＹプレ
ート１１にも接触球面ＲＢと同一曲率の接触球面ＲＡが
形成されている。この接触球面ＲＡは、ＸＹプレート１
１に設けられた開口２０により形成されている。
前記レーザホルダ５(図９)と同様に接触平面ＦＢが設け
られている。また、図７に示すように、角度調整ホルダ
１２の外周の一部には半導体レーザ６の発光点ＬＰを球
の中心とする接触球面ＲＢが形成されており、ＸＹプレ
ート１１にも接触球面ＲＢと同一曲率の接触球面ＲＡが
形成されている。この接触球面ＲＡは、ＸＹプレート１
１に設けられた開口２０により形成されている。
【００１５】図１に示すように、接触球面ＲＢがＸＹプ
レート１１の接触球面ＲＡ全面と接触するように、角度
調整ホルダ１２をＸＹプレート１１にセットし、接触平
面ＦＢをバレル３の接触平面ＦＡに接触させた状態で、
角度調整ホルダ１２をＸＹプレート１１と共に移動させ
ることで、レンズ４に対する半導体レーザ６のＸ，Ｙ方
向のアライメントを行うことができる。
レート１１の接触球面ＲＡ全面と接触するように、角度
調整ホルダ１２をＸＹプレート１１にセットし、接触平
面ＦＢをバレル３の接触平面ＦＡに接触させた状態で、
角度調整ホルダ１２をＸＹプレート１１と共に移動させ
ることで、レンズ４に対する半導体レーザ６のＸ，Ｙ方
向のアライメントを行うことができる。
【００１６】また、接触球面ＲＡと接触球面ＲＢとが同
一曲率を有しているので、接触球面ＲＢと接触球面ＲＡ
の全面とが常に接触した状態で、発光点ＬＰを中心に角
度調整ホルダ１２を回転させることができる。従って、
ＸＹプレート１１との接触状態で角度調整ホルダ１２を
回転させると、半導体レーザ６も回転してその光軸Ｘ２
が傾くので、光軸Ｘ１と光軸Ｘ２との相対的な傾きを補
正することができる。このとき、角度調整ホルダ１２の
回転に伴って被照射面２ａ上での所定位置ＦＰから点像
がずれたとしても、ＸＹプレート１１をバレル３との接
触状態でＸ，Ｙ方向に移動させることによって、そのず
れを補正することができる。
一曲率を有しているので、接触球面ＲＢと接触球面ＲＡ
の全面とが常に接触した状態で、発光点ＬＰを中心に角
度調整ホルダ１２を回転させることができる。従って、
ＸＹプレート１１との接触状態で角度調整ホルダ１２を
回転させると、半導体レーザ６も回転してその光軸Ｘ２
が傾くので、光軸Ｘ１と光軸Ｘ２との相対的な傾きを補
正することができる。このとき、角度調整ホルダ１２の
回転に伴って被照射面２ａ上での所定位置ＦＰから点像
がずれたとしても、ＸＹプレート１１をバレル３との接
触状態でＸ，Ｙ方向に移動させることによって、そのず
れを補正することができる。
【００１７】従って、光軸Ｘ１や光軸Ｘ２が傾いていて
も、点像を所定位置ＦＰに合わせた状態で点像特性を向
上させることができる。尚、発光点ＬＰを中心に角度調
整ホルダ１２を回転させるのは、Ｘ，Ｙ方向にＸＹプレ
ート１１を移動させてもＺ方向には発光点ＬＰが移動せ
ず、その結果、測定面２ａ上での点像もＺ方向について
は移動しないからである。
も、点像を所定位置ＦＰに合わせた状態で点像特性を向
上させることができる。尚、発光点ＬＰを中心に角度調
整ホルダ１２を回転させるのは、Ｘ，Ｙ方向にＸＹプレ
ート１１を移動させてもＺ方向には発光点ＬＰが移動せ
ず、その結果、測定面２ａ上での点像もＺ方向について
は移動しないからである。
【００１８】上記調整を行うために用いる装置には、少
なくともＸ方向，Ｙ方向並びにＸＺ平面及びＹＺ平面に
沿った回転方向に、不図示のコレットで角度調整ホルダ
１２を回す機能があればよい。ＸＺ平面及びＹＺ平面に
沿った回転方向とは、図８に示すように発光点ＬＰを中
心とした回転方向θX及びθYにそれぞれ対応するもので
ある。
なくともＸ方向，Ｙ方向並びにＸＺ平面及びＹＺ平面に
沿った回転方向に、不図示のコレットで角度調整ホルダ
１２を回す機能があればよい。ＸＺ平面及びＹＺ平面に
沿った回転方向とは、図８に示すように発光点ＬＰを中
心とした回転方向θX及びθYにそれぞれ対応するもので
ある。
【００１９】光軸調整が完了したら、従来例と同様にレ
ーザホルダ５をバレル３に固定する。即ち、ＹＡＧレー
ザＬＷ(図１)によるスポット溶接等によって固定を行
う。
ーザホルダ５をバレル３に固定する。即ち、ＹＡＧレー
ザＬＷ(図１)によるスポット溶接等によって固定を行
う。
【００２０】次に、半導体レーザ６の光軸Ｘ２が傾いて
いる場合のアライメントについて説明する。図３(Ａ)
は、光軸Ｘ２が基準面ＰＳに対する垂直方向からθY方
向に傾いた状態において、ＸＹプレート１１の移動によ
りＹ方向のアライメントのみを行うことによって、所定
位置ＦＰに点像を位置させた場合を示している。レンズ
４の光軸Ｘ１は基準面ＰＳに対して垂直になっているの
で、光軸Ｘ１と光軸Ｘ２とは相対的に傾いた状態にあ
る。そのため、点像の光強度分布は、図４(Ａ)に示すよ
うに大きくいびつな形状になる。
いる場合のアライメントについて説明する。図３(Ａ)
は、光軸Ｘ２が基準面ＰＳに対する垂直方向からθY方
向に傾いた状態において、ＸＹプレート１１の移動によ
りＹ方向のアライメントのみを行うことによって、所定
位置ＦＰに点像を位置させた場合を示している。レンズ
４の光軸Ｘ１は基準面ＰＳに対して垂直になっているの
で、光軸Ｘ１と光軸Ｘ２とは相対的に傾いた状態にあ
る。そのため、点像の光強度分布は、図４(Ａ)に示すよ
うに大きくいびつな形状になる。
【００２１】ここで、図３(Ｂ)に示すようにＸＹプレー
ト１１の移動によるＹ方向のアライメントと共に、角度
調整ホルダ１２の傾斜によるθY方向のアライメントを
行うことによって、光軸Ｘ１と光軸Ｘ２とを一致させ
る。すると、点像の光強度分布は、図４(Ｂ)に示すよう
に均一な分布になる。
ト１１の移動によるＹ方向のアライメントと共に、角度
調整ホルダ１２の傾斜によるθY方向のアライメントを
行うことによって、光軸Ｘ１と光軸Ｘ２とを一致させ
る。すると、点像の光強度分布は、図４(Ｂ)に示すよう
に均一な分布になる。
【００２２】次に、レンズ４の光軸Ｘ１が傾いている場
合のアライメントについて説明する。図５(Ａ)は、光軸
Ｘ１が基準面ＰＳに対する垂直方向からθY方向に傾い
た状態において、ＸＹプレート１１の移動によりＹ方向
のアライメントのみを行うことによって、所定位置ＦＰ
に点像を位置させた場合を示している。半導体レーザ６
の光軸Ｘ２は基準面ＰＳに対して垂直になっているの
で、光軸Ｘ１と光軸Ｘ２とは、相対的に傾いた状態にあ
る。そのため、点像の光強度分布は、図６(Ａ)に示すよ
うに大きくいびつな形状になる。
合のアライメントについて説明する。図５(Ａ)は、光軸
Ｘ１が基準面ＰＳに対する垂直方向からθY方向に傾い
た状態において、ＸＹプレート１１の移動によりＹ方向
のアライメントのみを行うことによって、所定位置ＦＰ
に点像を位置させた場合を示している。半導体レーザ６
の光軸Ｘ２は基準面ＰＳに対して垂直になっているの
で、光軸Ｘ１と光軸Ｘ２とは、相対的に傾いた状態にあ
る。そのため、点像の光強度分布は、図６(Ａ)に示すよ
うに大きくいびつな形状になる。
【００２３】ここで、図５(Ｂ)に示すようにＸＹプレー
ト１１の移動によるＹ方向のアライメントと共に、角度
調整ホルダ１２の傾斜によるθY方向のアライメントを
行うことによって、光軸Ｘ２を光軸Ｘ１に対して平行に
し、方向を一致させる。すると、点像の光強度分布は、
図６(Ｂ)に示すようにほぼ均一な分布になる。この場
合、レーザ光ＬＥは被照射面２ａに対して傾斜した状態
にあるため、点像の光強度分布にはわずかに歪が残るこ
とになる。
ト１１の移動によるＹ方向のアライメントと共に、角度
調整ホルダ１２の傾斜によるθY方向のアライメントを
行うことによって、光軸Ｘ２を光軸Ｘ１に対して平行に
し、方向を一致させる。すると、点像の光強度分布は、
図６(Ｂ)に示すようにほぼ均一な分布になる。この場
合、レーザ光ＬＥは被照射面２ａに対して傾斜した状態
にあるため、点像の光強度分布にはわずかに歪が残るこ
とになる。
【００２４】本実施例では、角度調整ホルダ１２をθY
方向に回転させることによりアライメントを行う場合に
ついて説明したが、θX方向に回転させることによりア
ライメントを行う場合についても上記と同様にして行う
ことができる。
方向に回転させることによりアライメントを行う場合に
ついて説明したが、θX方向に回転させることによりア
ライメントを行う場合についても上記と同様にして行う
ことができる。
【００２５】ところで、前記ＸＹプレート１１には、必
ずしも接触球面ＲＡのような球面が設けられている必要
はない。例えば、図７(Ｂ)に示すストレートな開口２０
ａのエッジに接触球面ＲＢを当て付けた状態で、角度調
整ホルダ１２を回転させるようにしてもよい。この場
合、ＸＹプレートを低コストで製造することができる。
ずしも接触球面ＲＡのような球面が設けられている必要
はない。例えば、図７(Ｂ)に示すストレートな開口２０
ａのエッジに接触球面ＲＢを当て付けた状態で、角度調
整ホルダ１２を回転させるようにしてもよい。この場
合、ＸＹプレートを低コストで製造することができる。
【００２６】
【発明の効果】以上説明した通り本発明によれば、第３
部材は第２部材との接触状態で回転自在となっているの
で、半導体レーザの光軸やレーザ光を結像させる光学系
の光軸が被照射面に対する垂直方向から傾いていても、
第３部材を回転させることにより第３部材に固定されて
いる半導体レーザの光軸を傾けることによって、光学系
の光軸と半導体レーザの光軸との相対的な傾きを補正す
ることができる。しかも、このときに第３部材の回転に
伴って被照射面上で点像が所定位置からずれたとして
も、第２部材は光学系が固定された第１部材との接触状
態で被照射面に対して垂直方向に移動自在となっている
ので、この方向での半導体レーザと光学系とのアライメ
ントによって被照射面上での点像のずれを補正すること
ができる。従って、半導体レーザの光軸やレーザ光を結
像させる光学系の光軸が傾いていても、被照射面上の所
定位置において高い点像特性を有する点像を形成するこ
とができる。
部材は第２部材との接触状態で回転自在となっているの
で、半導体レーザの光軸やレーザ光を結像させる光学系
の光軸が被照射面に対する垂直方向から傾いていても、
第３部材を回転させることにより第３部材に固定されて
いる半導体レーザの光軸を傾けることによって、光学系
の光軸と半導体レーザの光軸との相対的な傾きを補正す
ることができる。しかも、このときに第３部材の回転に
伴って被照射面上で点像が所定位置からずれたとして
も、第２部材は光学系が固定された第１部材との接触状
態で被照射面に対して垂直方向に移動自在となっている
ので、この方向での半導体レーザと光学系とのアライメ
ントによって被照射面上での点像のずれを補正すること
ができる。従って、半導体レーザの光軸やレーザ光を結
像させる光学系の光軸が傾いていても、被照射面上の所
定位置において高い点像特性を有する点像を形成するこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図。
【図２】本発明の一実施例を示す分解斜視図。
【図３】本発明の一実施例において半導体レーザの光軸
が傾いている場合の光軸調整前後の状態を示す断面図。
が傾いている場合の光軸調整前後の状態を示す断面図。
【図４】本発明の一実施例において半導体レーザの光軸
が傾いている場合の光軸調整前後の点像の光強度分布を
示す図。
が傾いている場合の光軸調整前後の点像の光強度分布を
示す図。
【図５】本発明の一実施例においてレンズの光軸が傾い
ている場合の光軸調整前後の状態を示す断面図。
ている場合の光軸調整前後の状態を示す断面図。
【図６】本発明の一実施例においてレンズの光軸が傾い
ている場合の光軸調整前後の点像の光強度分布を示す
図。
ている場合の光軸調整前後の点像の光強度分布を示す
図。
【図７】本発明の一実施例における角度調整ホルダ及び
ＸＹプレートを示す断面図。
ＸＹプレートを示す断面図。
【図８】本発明の一実施例及び従来例における光軸調整
の方向とファーフィールドパターンとの関係を示す図。
の方向とファーフィールドパターンとの関係を示す図。
【図９】従来例を示す断面図。
２ …測定部 ３ …バレル ４ …レンズ ６ …半導体レーザ １１ …ＸＹプレート １２ …角度調整ホルダ ＲＡ，ＲＢ …接触球面 ＦＡ，ＦＢ …接触平面 ＬＥ …レーザ光 ＬＷ …レーザ溶接光 ＰＳ …基準面
Claims (1)
- 【請求項１】レーザ光による被照射面上での所定位置に
点像が形成されるように、半導体レーザと該半導体レー
ザからのレーザ光を被照射面側に導く光学系とのアライ
メントを行う半導体レーザ装置の光軸調整機構におい
て、 前記光学系が固定された第１部材と，該第１部材との接
触状態で前記被照射面に対して平行方向に移動自在の第
２部材と，前記半導体レーザが固定され、前記第２部材
との接触状態で回転自在の第３部材と，を設けたことを
特徴とする半導体レーザ装置の光軸調整機構。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP5079950A JPH06289264A (ja) | 1993-04-07 | 1993-04-07 | 半導体レーザ装置の光軸調整機構 |
| US08/222,580 US5408493A (en) | 1993-04-07 | 1994-04-04 | Apparatus and method for adjusting the optical axis of a semiconductor laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5079950A JPH06289264A (ja) | 1993-04-07 | 1993-04-07 | 半導体レーザ装置の光軸調整機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06289264A true JPH06289264A (ja) | 1994-10-18 |
Family
ID=13704593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5079950A Pending JPH06289264A (ja) | 1993-04-07 | 1993-04-07 | 半導体レーザ装置の光軸調整機構 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5408493A (ja) |
| JP (1) | JPH06289264A (ja) |
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