JPH0628967A - ディスペンサー陰極 - Google Patents
ディスペンサー陰極Info
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- JPH0628967A JPH0628967A JP1032991A JP1032991A JPH0628967A JP H0628967 A JPH0628967 A JP H0628967A JP 1032991 A JP1032991 A JP 1032991A JP 1032991 A JP1032991 A JP 1032991A JP H0628967 A JPH0628967 A JP H0628967A
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- tungsten
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/13—Solid thermionic cathodes
- H01J1/20—Cathodes heated indirectly by an electric current; Cathodes heated by electron or ion bombardment
- H01J1/28—Dispenser-type cathodes, e.g. L-cathode
-
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- H01J1/13—Solid thermionic cathodes
- H01J1/14—Solid thermionic cathodes characterised by the material
Landscapes
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Abstract
(57)【要約】
[目的]低い温度でも持続的に安定した熱電子の放出を
行なうことができ、しかも、長寿命化を図ることを可能
とした。 [構成]電子放出物質と、タングステンを含む多孔質基
体と、この多孔質基体を収納する貯蔵槽と、この貯蔵槽
を支持固定し内部にヒータが内蔵されたスリーブとを有
してなるディスペンサー陰極において、前記多孔質基体
にTiO2 またはZrO2が選択的に含まれていること
を特徴としている。
行なうことができ、しかも、長寿命化を図ることを可能
とした。 [構成]電子放出物質と、タングステンを含む多孔質基
体と、この多孔質基体を収納する貯蔵槽と、この貯蔵槽
を支持固定し内部にヒータが内蔵されたスリーブとを有
してなるディスペンサー陰極において、前記多孔質基体
にTiO2 またはZrO2が選択的に含まれていること
を特徴としている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はディスペンサー陰極に係
り、特に陰極線管等の電子管に使用される特に動作温度
を下げることにより、高電流密度と長寿命を有するよう
に改良されたディスペンサー陰極に関する。
り、特に陰極線管等の電子管に使用される特に動作温度
を下げることにより、高電流密度と長寿命を有するよう
に改良されたディスペンサー陰極に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、投射管、HDTV、プロジェクシ
ョンTV等が大型化する傾向にあり、この大型化に伴
い、新規な陰極が要求されている。
ョンTV等が大型化する傾向にあり、この大型化に伴
い、新規な陰極が要求されている。
【0003】このような要求に比較的適合した陰極とし
ては、ディスペンサー陰極があげられ、このディスペン
サー陰極は、従来の酸化物陰極に比べて極めて高い電流
密度を有するとともに、その寿命が極めて長いことか
ら、ディスペンサー陰極に対する研究開発が続けられて
いる。そして、このようなディスペンサー陰極の主流
は、含浸形と貯蔵形とに大別されるものである。
ては、ディスペンサー陰極があげられ、このディスペン
サー陰極は、従来の酸化物陰極に比べて極めて高い電流
密度を有するとともに、その寿命が極めて長いことか
ら、ディスペンサー陰極に対する研究開発が続けられて
いる。そして、このようなディスペンサー陰極の主流
は、含浸形と貯蔵形とに大別されるものである。
【0004】しかし、前記従来のディスペンサー陰極に
おいては、その動作温度が900〜1100℃であり、
従来の酸化物陰極に比べて約200℃程度高いという問
題を有している。このように動作温度が高いと、結果的
に極めて大きい熱量を有するヒータが要求されることに
なり、これにより、陰極自体の材料のみならず、その近
隣部品の素材までも高熱に十分耐えられる耐熱性素材で
製造しなければならない。しかも、高い動作温度のた
め、陰極からのBaあるいはBaOの蒸発量が著しく増
加され、近隣部品に付着されてしまい、特に、陰極に隣
接された制御グリッドに蒸発されたBaが付着されて陰
極を損傷させる、いわゆるグリッドエミッションとして
第2のエミッションを引起すことになってまう。
おいては、その動作温度が900〜1100℃であり、
従来の酸化物陰極に比べて約200℃程度高いという問
題を有している。このように動作温度が高いと、結果的
に極めて大きい熱量を有するヒータが要求されることに
なり、これにより、陰極自体の材料のみならず、その近
隣部品の素材までも高熱に十分耐えられる耐熱性素材で
製造しなければならない。しかも、高い動作温度のた
め、陰極からのBaあるいはBaOの蒸発量が著しく増
加され、近隣部品に付着されてしまい、特に、陰極に隣
接された制御グリッドに蒸発されたBaが付着されて陰
極を損傷させる、いわゆるグリッドエミッションとして
第2のエミッションを引起すことになってまう。
【0005】このような陰極の高い動作温度のために生
じる問題点を改善するものとして、アメリカ特許3,3
73,307号に開示されたMタイプのディスペンサー
陰極およびアメリカ特許4,737,639号に開示さ
れたSc系含浸形ディスペンサー陰極が注目されてい
る。
じる問題点を改善するものとして、アメリカ特許3,3
73,307号に開示されたMタイプのディスペンサー
陰極およびアメリカ特許4,737,639号に開示さ
れたSc系含浸形ディスペンサー陰極が注目されてい
る。
【0006】前記Mタイプのディスペンサー陰極は、多
孔質タングステン金属基体の表面にタングステンより仕
事関数の高いOs、Ir、Re、R等の白金族元素を被
覆したもので、前記物質の被覆効果を通じて陰極表面の
Ba濃度を高め、これにより、仕事関数を減少させるこ
とができるようになっている。
孔質タングステン金属基体の表面にタングステンより仕
事関数の高いOs、Ir、Re、R等の白金族元素を被
覆したもので、前記物質の被覆効果を通じて陰極表面の
Ba濃度を高め、これにより、仕事関数を減少させるこ
とができるようになっている。
【0007】また、前記Sc系ディスペンサー陰極は、
その動作温度を低減させることができるように、多孔質
基体の表面にScを含むコーティング層を形成したもの
である。
その動作温度を低減させることができるように、多孔質
基体の表面にScを含むコーティング層を形成したもの
である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来のデ
ィスペンサー陰極においても、やはり、従来の酸化物陰
極より動作温度が約100〜200℃程度高いので、同
様に、陰極材料および近隣部品材料を耐熱性素材で製造
しなければならず、しかも、高い動作温度のため、熱電
子放出物質が多量に蒸発することにより、陰極等の部材
の寿命が著しく短縮されてしまい、さらに、エイジング
(活性化)に要する時間が極めて長くなってしまうとい
う問題を有している。
ィスペンサー陰極においても、やはり、従来の酸化物陰
極より動作温度が約100〜200℃程度高いので、同
様に、陰極材料および近隣部品材料を耐熱性素材で製造
しなければならず、しかも、高い動作温度のため、熱電
子放出物質が多量に蒸発することにより、陰極等の部材
の寿命が著しく短縮されてしまい、さらに、エイジング
(活性化)に要する時間が極めて長くなってしまうとい
う問題を有している。
【0009】本発明は前記した点に鑑みてなされたもの
で、低い温度でも持続的に安定した熱電子の放出を行な
うことができ、しかも、長寿命化を図ることのできるデ
ィスペンサー陰極を提供することを目的とするものであ
る。
で、低い温度でも持続的に安定した熱電子の放出を行な
うことができ、しかも、長寿命化を図ることのできるデ
ィスペンサー陰極を提供することを目的とするものであ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明に係るディスペンサー陰極は、電子放出物質と、
タングステンを含む多孔質基体と、この多孔質基体を収
納する貯蔵槽と、この貯蔵槽を支持固定し内部にヒータ
が内蔵されたスリーブとを有してなるディスペンサー陰
極において、前記多孔質基体にTiO2 またはZrO2
が選択的に含まれていることを特徴とするものである。
本発明に係るディスペンサー陰極は、電子放出物質と、
タングステンを含む多孔質基体と、この多孔質基体を収
納する貯蔵槽と、この貯蔵槽を支持固定し内部にヒータ
が内蔵されたスリーブとを有してなるディスペンサー陰
極において、前記多孔質基体にTiO2 またはZrO2
が選択的に含まれていることを特徴とするものである。
【0011】また、好ましくは、前記多孔質基体の表面
にOs、Ir、Re、Ruのうち少なくとも1つの金属
からなる金属薄膜層を形成するものであり、さらに、前
記TiO2 またはZrO2 がタングステンに対して約1
0〜50重量%含まれるものである。
にOs、Ir、Re、Ruのうち少なくとも1つの金属
からなる金属薄膜層を形成するものであり、さらに、前
記TiO2 またはZrO2 がタングステンに対して約1
0〜50重量%含まれるものである。
【0012】
【作用】本発明によれば、含浸形陰極および貯蔵形陰極
に共に適用され、多孔質基体に選択的に含まれるTiO
2 またはZrO2 により、仕事関数を低減させることが
できるので、低い動作温度で高い電流密度を得ることが
でき、しかも、素材の熱変形が大幅に低減され、ヒータ
の発熱量の減少により長寿命化を図ることができる。特
に、多孔質基体の表面に白金族元素からなる金属薄膜層
を形成した場合には、相乗効果が期待できるので、酸化
物陰極より若干高い程度の動作温度で高い電流密度を得
ることができるものである。
に共に適用され、多孔質基体に選択的に含まれるTiO
2 またはZrO2 により、仕事関数を低減させることが
できるので、低い動作温度で高い電流密度を得ることが
でき、しかも、素材の熱変形が大幅に低減され、ヒータ
の発熱量の減少により長寿命化を図ることができる。特
に、多孔質基体の表面に白金族元素からなる金属薄膜層
を形成した場合には、相乗効果が期待できるので、酸化
物陰極より若干高い程度の動作温度で高い電流密度を得
ることができるものである。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1および図2を参
照して説明する。
照して説明する。
【0014】図1は本発明に係るディスペンサー陰極の
一実施例を示したものであり、本実施例の含浸形ディス
ペンサー陰極においては、多孔質基体1aには、電子放
出物質2aが含浸されており、この多孔質基体1aの表
面には、金属薄膜層3aが形成されている。前記多孔質
基体1aは、貯蔵槽4aの内部に貯蔵されており、この
貯蔵槽4aは、内部にヒータ6aが内蔵されたスリーブ
5aの先端部に支持固定されている。
一実施例を示したものであり、本実施例の含浸形ディス
ペンサー陰極においては、多孔質基体1aには、電子放
出物質2aが含浸されており、この多孔質基体1aの表
面には、金属薄膜層3aが形成されている。前記多孔質
基体1aは、貯蔵槽4aの内部に貯蔵されており、この
貯蔵槽4aは、内部にヒータ6aが内蔵されたスリーブ
5aの先端部に支持固定されている。
【0015】また、前記金属薄膜層3aは、Os、I
r、Re、Ru等の白金族元素から選択される少なくと
も1つの金属により形成されている。さらに、本発明の
特徴的要素である前記多孔質基体1aは、耐熱性金属で
あるタングステン(W)を主材料とし、これには、Ti
O2 が適量含有されるようになっている。
r、Re、Ru等の白金族元素から選択される少なくと
も1つの金属により形成されている。さらに、本発明の
特徴的要素である前記多孔質基体1aは、耐熱性金属で
あるタングステン(W)を主材料とし、これには、Ti
O2 が適量含有されるようになっている。
【0016】次に、本実施例によるディスペンサー陰極
において、前記多孔質基体1aの製造方法について説明
する。
において、前記多孔質基体1aの製造方法について説明
する。
【0017】まず、粒径が3〜8μmの純粋なタングス
テン粉末に、10〜50重量%のTiO2 をよく混ぜ合
せて混合粉末体を製造した後、この混合粉末体から通常
の方法で一定長さの帯状の圧縮成型体を形成する。
テン粉末に、10〜50重量%のTiO2 をよく混ぜ合
せて混合粉末体を製造した後、この混合粉末体から通常
の方法で一定長さの帯状の圧縮成型体を形成する。
【0018】その後、前記圧縮成型体を真空または水素
雰囲気で1500〜200℃で焼結することにより、1
5〜40%程度の気空率を有する固化した圧縮成型体を
製造する。このとき、WとTiO2 との融点差が大き
く、これらの焼結温度が高いので、焼結時に焼結助剤と
して微量のニッケルを添加させる。
雰囲気で1500〜200℃で焼結することにより、1
5〜40%程度の気空率を有する固化した圧縮成型体を
製造する。このとき、WとTiO2 との融点差が大き
く、これらの焼結温度が高いので、焼結時に焼結助剤と
して微量のニッケルを添加させる。
【0019】このような段階を経て、焼結完了された前
記圧縮成形体を所望の大きさに切断して単位多孔質基体
を形成する。そして、通常的な方法により、前記多孔質
基体1aに陰極物質を含浸させ、その表面に前記白金族
元素の中から選択された金属により金属薄膜層3aをコ
ーティングする。
記圧縮成形体を所望の大きさに切断して単位多孔質基体
を形成する。そして、通常的な方法により、前記多孔質
基体1aに陰極物質を含浸させ、その表面に前記白金族
元素の中から選択された金属により金属薄膜層3aをコ
ーティングする。
【0020】本実施例のディスペンサー陰極において
は、電子放出物質2aとタングステンとの還元反応等に
より生成された遊離Ba(BaO)は、白金族元素から
なる金属薄膜層3aの表面に拡散される際に、多孔質基
体1aに含まれたTiO2 と共に、極めて安定した構造
の分子(例えば、BaTiO3 )を形成する。そのた
め、前記分子により、金属薄膜層3aの表面に拡散され
たBaまたはBaO間の結束力が増加され、従来の陰極
に比べてその濃度が著しく増加される。その結果、熱電
子は低い温度で放出されることになる。
は、電子放出物質2aとタングステンとの還元反応等に
より生成された遊離Ba(BaO)は、白金族元素から
なる金属薄膜層3aの表面に拡散される際に、多孔質基
体1aに含まれたTiO2 と共に、極めて安定した構造
の分子(例えば、BaTiO3 )を形成する。そのた
め、前記分子により、金属薄膜層3aの表面に拡散され
たBaまたはBaO間の結束力が増加され、従来の陰極
に比べてその濃度が著しく増加される。その結果、熱電
子は低い温度で放出されることになる。
【0021】前述した本実施例による含浸型ディスペン
サー陰極を約1時間程度でエイジングした後、その電流
密度を測定した結果、750〜800℃の動作温度で、
電流密度は陰極で要求される5A/cm2 以上であるこ
とが確認された。また、動作温度が低いので、素材の熱
変形を大幅に低減させることができ、ヒータ6aの発熱
量の減少により著しい長寿命化を図ることができる。
サー陰極を約1時間程度でエイジングした後、その電流
密度を測定した結果、750〜800℃の動作温度で、
電流密度は陰極で要求される5A/cm2 以上であるこ
とが確認された。また、動作温度が低いので、素材の熱
変形を大幅に低減させることができ、ヒータ6aの発熱
量の減少により著しい長寿命化を図ることができる。
【0022】また、図2は本発明に係る貯蔵形のディス
ペンサー陰極の実施例を示したもので、本実施例におい
ては、貯蔵形ディスペンサー陰極は、貯蔵槽4bおよび
この貯蔵槽4bを先端部に支持固定しヒータ6bが内蔵
されたスリーブ5bを有している。前記貯蔵槽4bの内
部には、電子放出物質2bであるバリウムカルシウムア
ルミネートおよびタングステンからなる圧縮成型体7が
貯蔵されており、この圧縮成型体7の上部には、TiO
2 およびタングステンからなる多孔質基体1bが配置さ
れている。この多孔質基体1bの製造方法は、前記実施
例の製法と同様であるが、陰極物質は含浸されない。さ
らに、前記多孔質基体1bの表面には、白金族元素から
なる金属薄膜層3bが塗布されている。
ペンサー陰極の実施例を示したもので、本実施例におい
ては、貯蔵形ディスペンサー陰極は、貯蔵槽4bおよび
この貯蔵槽4bを先端部に支持固定しヒータ6bが内蔵
されたスリーブ5bを有している。前記貯蔵槽4bの内
部には、電子放出物質2bであるバリウムカルシウムア
ルミネートおよびタングステンからなる圧縮成型体7が
貯蔵されており、この圧縮成型体7の上部には、TiO
2 およびタングステンからなる多孔質基体1bが配置さ
れている。この多孔質基体1bの製造方法は、前記実施
例の製法と同様であるが、陰極物質は含浸されない。さ
らに、前記多孔質基体1bの表面には、白金族元素から
なる金属薄膜層3bが塗布されている。
【0023】このような本実施例の貯蔵形ディスペンサ
ー陰極は、前記実施例と同様に、ヒータ6bにより加熱
された前記陰極物質からの遊離BaまたはBaOの濃度
が増加し、仕事関数が減少するので、低い動作温度で電
子放出能力を得ることができる。
ー陰極は、前記実施例と同様に、ヒータ6bにより加熱
された前記陰極物質からの遊離BaまたはBaOの濃度
が増加し、仕事関数が減少するので、低い動作温度で電
子放出能力を得ることができる。
【0024】本発明者による実験によれば、本実施例に
よるディスペンサー陰極は、従来のディスペンサー陰極
より短い時間内で活性化された。そして、本実施例の貯
蔵形ディスペンサー陰極と前記図1に示す実施例の含浸
形ディスペンサー陰極とを相互比較したところ、両者の
動作温度や電流密度は類似した反面、その構造的な差に
より、前記図1に示す実施例の活性化時間が本実施例の
活性化時間より約1時間〜1時間30分程度長かった。
よるディスペンサー陰極は、従来のディスペンサー陰極
より短い時間内で活性化された。そして、本実施例の貯
蔵形ディスペンサー陰極と前記図1に示す実施例の含浸
形ディスペンサー陰極とを相互比較したところ、両者の
動作温度や電流密度は類似した反面、その構造的な差に
より、前記図1に示す実施例の活性化時間が本実施例の
活性化時間より約1時間〜1時間30分程度長かった。
【0025】なお、前記各実施例のディスペンサー陰極
においては、多孔質基体の構成成分としてタングステン
およびTiO2 を使用したが、前記TiO2 の代わりに
同一重量%のZrO2 を使用しても同様の性能を発揮す
ることができることを確認した。
においては、多孔質基体の構成成分としてタングステン
およびTiO2 を使用したが、前記TiO2 の代わりに
同一重量%のZrO2 を使用しても同様の性能を発揮す
ることができることを確認した。
【0026】したがって、本実施例による改良されたデ
ィスペンサー陰極は、950〜1200℃で約4A/c
m2 の電流密度を示す従来のディスペンサー陰極とは異
なり、従来の酸化物陰極の動作温度より若干高い750
〜850℃で約5A/cm2以上の高電流密度を示し
た。しかも、動作温度が低いので、素材の熱変形が大幅
に低減され、ヒータ6bの発熱量の減少により長寿命化
を図ることができる。
ィスペンサー陰極は、950〜1200℃で約4A/c
m2 の電流密度を示す従来のディスペンサー陰極とは異
なり、従来の酸化物陰極の動作温度より若干高い750
〜850℃で約5A/cm2以上の高電流密度を示し
た。しかも、動作温度が低いので、素材の熱変形が大幅
に低減され、ヒータ6bの発熱量の減少により長寿命化
を図ることができる。
【0027】
【発明の効果】以上述べたように本発明に係るディスペ
ンサー陰極は、タングステンと酸化チタンを主成分とす
る多孔質高融点金属基体を有することにより、低い動作
温度で高い電流密度を得ることができ、しかも、素材の
熱変形が大幅に低減され、ヒータの発熱量の減少により
長寿命化を図ることができる。その結果、ディスプレイ
の大型化による高輝度、高精細化が可能となり、さら
に、活性化時間の短縮により陰極製造時間を短縮するこ
とができ、製品の生産効率を著しく向上させることがで
きる等の効果を奏する。
ンサー陰極は、タングステンと酸化チタンを主成分とす
る多孔質高融点金属基体を有することにより、低い動作
温度で高い電流密度を得ることができ、しかも、素材の
熱変形が大幅に低減され、ヒータの発熱量の減少により
長寿命化を図ることができる。その結果、ディスプレイ
の大型化による高輝度、高精細化が可能となり、さら
に、活性化時間の短縮により陰極製造時間を短縮するこ
とができ、製品の生産効率を著しく向上させることがで
きる等の効果を奏する。
【図1】本発明に係る含浸形のディスペンサー陰極の実
施例を示す断面図
施例を示す断面図
【図2】本発明に係る貯蔵形のディスペンサー陰極の実
施例を示す断面図
施例を示す断面図
【符号の説明】 1a,1b 多孔質基体 2a,2b 電子放出物質 3a,3b 金属薄膜層 4a,4b 貯蔵槽 5a,5b スリーブ 6a,6b ヒータ 7 圧縮成型体
Claims (3)
- 【請求項1】 電子放出物質と、タングステンを含む多
孔質基体と、この多孔質基体を収納する貯蔵槽と、この
貯蔵槽を支持固定し内部にヒータが内蔵されたスリーブ
とを有してなるディスペンサー陰極において、前記多孔
質基体にTiO2 またはZrO2 が選択的に含まれてい
ることを特徴とするディスペンサー陰極。 - 【請求項2】 前記多孔質基体の表面にOs、Ir、R
e、Ruのうち少なくとも1つの金属からなる金属薄膜
層を形成したことを特徴とするディスペンサー陰極。 - 【請求項3】 前記TiO2 またはZrO2 がタングス
テンに対して約10〜50重量%含まれていることを特
徴とするディスペンサー陰極。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1989-20792 | 1989-12-30 | ||
| KR1019890020792A KR0170221B1 (ko) | 1989-12-30 | 1989-12-30 | 디스펜서 음극 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0628967A true JPH0628967A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=19294823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1032991A Pending JPH0628967A (ja) | 1989-12-30 | 1991-01-04 | ディスペンサー陰極 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5126623A (ja) |
| JP (1) | JPH0628967A (ja) |
| KR (1) | KR0170221B1 (ja) |
| NL (1) | NL9002890A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006025175A1 (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 表示装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| DE4207220A1 (de) * | 1992-03-07 | 1993-09-09 | Philips Patentverwaltung | Festkoerperelement fuer eine thermionische kathode |
| GB2279495A (en) * | 1993-06-22 | 1995-01-04 | Thorn Microwave Devices Limite | Thermionic cathode |
| KR100291903B1 (ko) * | 1993-08-23 | 2001-09-17 | 김순택 | 전자관용산화물음극 |
| KR950012511A (ko) * | 1993-10-05 | 1995-05-16 | 이헌조 | 음극선관용 함침형 음극 |
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| US8311186B2 (en) * | 2007-12-14 | 2012-11-13 | Schlumberger Technology Corporation | Bi-directional dispenser cathode |
Family Cites Families (3)
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|---|---|---|---|---|
| US4810926A (en) * | 1987-07-13 | 1989-03-07 | Syracuse University | Impregnated thermionic cathode |
| KR910003698B1 (en) * | 1988-11-11 | 1991-06-08 | Samsung Electronic Devices | Cavity reservoir type dispenser cathode and method of the same |
| KR910006044B1 (ko) * | 1988-11-12 | 1991-08-12 | 삼성전관 주식회사 | 디스펜서 캐소오드의 제조방법 |
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1989
- 1989-12-30 KR KR1019890020792A patent/KR0170221B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-12-28 NL NL9002890A patent/NL9002890A/nl not_active Application Discontinuation
- 1990-12-31 US US07/636,442 patent/US5126623A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-01-04 JP JP1032991A patent/JPH0628967A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006025175A1 (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 表示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5126623A (en) | 1992-06-30 |
| KR0170221B1 (ko) | 1999-02-01 |
| NL9002890A (nl) | 1991-07-16 |
| KR910013351A (ko) | 1991-08-08 |
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