JPH0629131U - 回転式基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の形状や大きさの変化に対し、投光器や
受光器の光軸を個々に調整せずに、精度を低下させずに
容易に対応できるようにする。 【構成】 回転台５０，５ａに対し、位置決めピン６を
備えた同一高さの支持ピン７０…をその取り付け位置を
基板８の大きさに対応させて取り付けて基板支持体を構
成し、かつ、その嵌合筒部１３ｂ，１３ａの底面１３０
ｂ，１３０ａから基板支持位置までの距離Ａ，Ｂをウエ
ハ８，８０の大きさ、形状によって変えたものを複数用
意し、処理するウエハの大きさに対応して所定の基板支
持体に付け換え、ウエハの形状や大きさの変化にかかわ
らず、支持ピン７０…に支持されたウエハの外縁のうち
最も回転中心Ｐに近い箇所の間近の内側で、投光器１１
と受光器１２とを結ぶ光軸Ｌが交差するように支持高さ
変更機構を構成する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板やフォトマスク用ガラス 基板や光ディスク用基板等の基板を基板支持体に適正な姿勢で支持して回転させ ることにより、基板上にフォトレジスト等の塗布液を供給して塗布液被膜を形成 したり、基板上に現像液を滴下して現像を行ったり、また純水等の洗浄液を供給 して基板を洗浄するなどの処理を行う回転式基板処理装置に関し、さらに詳しく は、基板支持体による基板の支持姿勢を検出することのできる回転式基板処理装 置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

スピンコータ、スピンデベロッパ、スピンスクラバ等の回転式基板処理装置で は、基板が正しい姿勢で基板支持体に支持されず、傾いたり偏心していたりする と、回転に伴って基板が基板支持体から脱落離脱して破損する危険がある。

【０００３】 そのため、基板を処理するための回転に先立ち、基板を基板支持体に支持させ た直後にその装着姿勢が適正かどうかを判別する必要があった。

【０００４】 そこで、従来では、例えば、特開平２−８６１４４号公報に開示されるように 、基板を間にした上下の一方に、光ビームを投射する光源を、他方に、光源から の光ビームを受光して受光信号を出力する受光器とを設け、基板が正常な姿勢で 基板支持体に支持されているときにはその基板により光源と受光器との光軸が常 に遮られるように配置し、基板を低速で１回転させ、その１回転の間に受光信号 の出力があるかどうかによって、基板支持体への基板の装着姿勢が適正かどうか を判別するように構成したものが知られている。

【０００５】 すなわち、正常な姿勢であれば、１回転の間中にわたって光ビームが基板によ って遮光されるために受光信号の出力が無く、逆に、正常な姿勢で無い場合には 、基板が１回転するうちの少なくとも１箇所において光源からの光ビームが受光 器に受光されて受光器から受光信号が出力されることになり、受光信号の出力の 有無によって、基板の装着姿勢が適正かどうかを判別できるのである。

【０００６】 このような装置で基板の支持姿勢の良否をより確実に精度良く検出するために は、光源と受光器との光軸が、基板支持体に正常な姿勢で支持されている基板の 外縁のうち最も回転中心に近い箇所の間近の内側の位置で基板と交差するように 、それらを精度良く配置する必要がある。

【０００７】 ところが、回転式基板処理装置で処理する基板は、その形状や大きさが常に一 定では無い。このように、姿勢判別対象である基板の大きさが変わるとか、オリ エンテーションフラットの寸法が変わったり、円形基板から角型基板に変わると いったように形状が変わるなどした場合に、基板に対して交差する光軸の位置を 調整する必要があるため、上述従来例では、基板の形状や大きさの変化に対応し て、光源と受光器それぞれの取り付け位置を調整するとともに、取り付け姿勢の 調整をも行って、基板が正常な姿勢で支持されているときに、基板の外縁のうち 最も回転中心に近い箇所の間近の内側で光源と受光器とを結ぶ光軸が交差するよ うにしていた。

【０００８】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上述のように、光軸を調整する場合に、光源と受光器それぞれ の取り付け位置を変更するのみならず、その取り付け姿勢をも調整しなければな らず、しかも、それらの調整を装置ケーシング内の狭い空間内で精度良く行わな ければならず、基板の形状や大きさの変化に対応するための調整が極めて面倒で ある欠点があった。

【０００９】 本考案は、このような事情に鑑みてなされたものであって、一旦光軸の初期設 定さえ行えば、基板の形状や大きさの変化に対していちいち光源や受光器を動か してその光軸を個々に調節する必要なく、且つ基板の姿勢検出の精度を低下させ ることなく、容易に対応できる回転式基板処理装置を提供することを目的とする 。

【００１０】

【課題を解決するための手段】

本考案の回転式基板処理装置は、上述のような目的を達成するために、基板を 支持する基板支持体と、その基板支持体を軸に取り付けて回転駆動する駆動源と 、基板支持体に支持された基板の位置を規制する位置決め部材と、基板支持体に 支持された基板の板状面を挟んだ一方側に設けられて基板に斜め方向に光を投射 する投光器と、基板の板状面を挟んだ投光器とは反対側に設けられて投光器から の光を受ける受光器とから成る回転式基板処理装置において、基板の大きさまた は形状の変化に対応して、基板支持体に支持された基板の外縁のうち最も回転中 心に近い箇所の間近の内側で、投光器と受光器とを結ぶ光軸が交差するように基 板の支持高さを変更する支持高さ変更機構を備えて構成する。

【００１１】 支持高さ変更機構としては、次のような各種の構成が採用できる。 (1) 回転台に支持ピンと位置決め部材とを取り付けて基板支持体を構成する場 合に、高さの異なる支持ピンと、基板の大きさや形状に応じた位置決め部材を回 転台に取り付けた基板支持体を予め複数準備しておき、処理する基板の大きさや 形状に応じて付け換える。

【００１２】 (2) 基板の大きさや形状に応じた位置決め部材を回転台に取り付けるとともに 駆動源の駆動軸に対する嵌合深さの異なる基板支持体を予め複数準備しておき、 基板の大きさや形状に応じて付け換える。

【００１３】 (3) 回転台に支持ピンと位置決め部材とを取り付けて基板支持体を構成する場 合に、回転台の、基板の形状や大きさの変化に対応する位置に、位置決め部材を 備えた支持ピンの取り付け孔を形成しておき、基板の形状や大きさに対応する支 持ピン（例えば、基板の大きさが変わる場合であれば、基板が大きくなるほど高 い支持ピンを使用する）に付け換える。このとき、例えば、基板の大きさが３種 類あるとした場合に、予め、回転台に３種類の大きさの基板に応じた高さの支持 ピンを取り付けておき、最小サイズの基板を支持する状態からそれより大きい基 板を支持する状態に変更する場合には、小さい側の不用な支持ピンを取り外すこ とによって対応するように、逆に、小さいものに変更する場合は、それより小さ い基板に対応する支持ピンを取り付けて対応するようにしても良い。

【００１４】 (4) 上記(3) の場合に、駆動源の駆動軸と回転台との嵌合部にスペーサを介装 して回転台の取り付け高さを変更できるようにしても良い。これによれば、支持 ピンとして同一高さのものを用いることができる利点がある。

【００１５】 (5) 回転台に、回転中心に対して遠近する方向に延びる状態で、位置決め部材 を備えた支持ピンの取り付け軸部を挿通する長穴を形成し、その長穴の上面位置 の高さを複数段に異ならせ、取り付け固定位置の変更に伴って基板の大きさに応 じた支持高さが得られるように構成する。

【００１６】

【作用】

本考案の回転式基板処理装置の構成によれば、処理しようとする基板の形状や 大きさに応じて、基板支持体全体を付け換えるとか、基板支持体を構成する部材 を付け換えるとか、あるいは、基板支持体を構成する部材の取り付け固定位置を 変更するといったような支持高さ変更機構により、基板支持体に支持されている 基板の支持高さを変更すれば、投光器から斜め方向に投射される光が基板と交差 する位置が変わる。そしてこれにより、投光器と受光器とを結ぶ光軸が、基板支 持体に支持された基板の外縁のうち最も回転中心に近い箇所の間近の内側の位置 で基板と交差するように調整される。

【００１７】

【実施例】

次に、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。

【００１８】 ＜第１実施例＞ 図１は本考案に係る回転式基板処理装置の第１実施例を示す全体概略側面図、 図２は全体概略平面図である。 図において１は駆動源としての電動モータ１であり、２は電動モータ１の駆動 軸である。この駆動軸２の側方には、ネジ４がねじこまれている。５は基板を支 持して回転するために必要な台である回転台であり、回転台５の下面には、下方 に開口した有底中空筒状の嵌合筒部１３が一体形成されており、嵌合筒部１３の 下端には切欠３が形成されている。この切欠３を前記ネジ４の位置に合わせて嵌 合筒部１３をその底面１３０が駆動軸２の上端に当接するまで駆動軸２にはめ込 むことにより、回転台５は駆動軸２に着脱可能に取り付けられる。また回転台５ 上には、上端に位置決め部材としての位置決めピン６…を突設した支持ピン７… が、駆動軸２の回転中心Ｐを中心とした円周に沿って所定間隔を隔てて６本設け られている。なお、位置決めピン６…のうち、後述する基板のオリエンテーショ ンフラットの位置に対応するものは、回転中心Ｐを中心とした円周よりも若干内 側に設けられている。

【００１９】 そして、オリエンテーションフラットが形成された直径５インチの半導体ウエ ハ（以下５インチウエハ」という）８を支持ピン７…上に支持させ、位置決めピ ン６…により位置を規制した状態で鉛直軸芯Ｐ周りで回転させながら、その５イ ンチウエハ８上に洗浄液や表面処理液などをノズル９から供給し、各種の表面処 理を行うように構成されている。

【００２０】 回転台５の外側に、その外周を囲って処理液の飛散を防止するための上昇位置 と囲わない下降位置との間で昇降可能になすよう、図示しない昇降手段により駆 動されるカップ１０が設けられ、更に、カップ１０の外側において、支持ピン７ …に支持された５インチウエハ８の板状面を挟んだ一方側、即ち５インチウエハ ８の板状面よりも上側には、５インチウエハ８と交差するように斜め下方向に光 を投射する投光器１１が設けられている。そして、５インチウエハ８の板状面を 挟んだ投光器１１とは反対側、即ち５インチウエハ８の板状面よりも下側には、 投光器１１からの光を受けて受光信号を出力する受光器１２が設けられ、投光器 １１と受光器１２とを結ぶ光軸Ｌが、５インチウエハ８の外縁のうち最も回転中 心Ｐに近い箇所の間近の内側で交差するように構成されている。なお、本発明で 言う光軸とは、投光器１１が投射し、受光器１２が受光する基板検出用光線の光 束の経路をいう。

【００２１】 本実施例では、位置決めピン６…と支持ピン７…とを取り付けた回転台５を、 処理を行うウエハの大きさに応じて取り替えて使用する。 図１および図３の（ａ）は５インチウエハ８用の回転台５に、上端に位置決め ピン６が突設された支持ピン７が取り付けられ、５インチウエハ８を支持する状 態を示し、図３の（ｂ）は、直径６インチウエハの半導体ウエハ（以下「６イン チウエハ」という）８０用の回転台５ｚに、上端に位置決めピン６が突設された 支持ピン７ｚが取り付けられ、６インチウエハ８０を支持する状態を示している 。

【００２２】 回転台５ｚに取り付けられた６インチウエハ８０用の支持ピン７ｚは、回転台 表面から６インチウエハ８０を支持する位置（支持ピン７ｚの上端）までの高さ が、５インチウエハ８用の支持ピン７よりも高くなるように構成されている。 したがって、６インチウエハ８０用の回転台５ｚの嵌合筒部１３ｚの底面１３ ０ｚからウエハを支持する位置までの距離Ｙは、５インチウエハ８用の回転台５ の嵌合筒部１３の底面１３０からウエハを支持する位置までの距離Ｘよりも長く なるように構成される。

【００２３】 なお、６インチウエハ８０用の回転台５ｚの外径は、５インチウエハ８用の回 転台５と同一であるが、ウエハサイズに対応して支持ピンを取り付ける必要があ るので、支持ピン７ｚを取り付けるための穴の位置が、回転台５に形成された穴 の位置よりもより外径方向側に位置するようになされている。これによって支持 ピン７ｚは、５インチウエハ８用の回転台５に取り付けられる支持ピン７の取付 位置よりもより外径方向側に位置するように取り付けられる。このように、６イ ンチウエハ８０用の回転台５ｚと５インチウエハ８用の回転台５とは、上記した 支持ピンの取り付けられる穴の位置以外は同一の構成である。

【００２４】 このような構成のもとで、５インチウエハおよび６インチウエハを処理する状 態について図２を参照しながら説明する。図において実線部分は、５インチウエ ハ８の処理される状態を示している。５インチウエハ８は、回転台５に取り付け られた支持ピン７によって支持されて図２に示す位置にあるときに、ウエハ外縁 のうち最も回転中心Ｐに近いオリエンテーションフラットの中央の間近の内側の 位置Ｒで光軸Ｌと交差するようになっている。続けて６インチウエハ８０を処理 する場合には、回転台５を駆動軸２から取り外し、支持ピン７ｚが取り付けられ た６インチウエハ８０用の回転台５ｚを駆動軸２にはめ込む。そこで６インチウ エハ８０を支持ピン７ｚに載せると、５インチウエハ８の場合よりも若干高い位 置に支持される。そして６インチウエハ８０は、図２の２点鎖線で示す位置にあ るときに、ウエハ外縁のうち最も回転中心Ｐに近いオリエンテーションフラット の中央の間近の内側の位置Ｓで光軸Ｌと交差するようになっている。

【００２５】 上記第１実施例においては、５インチウエハと６インチウエハとを処理する場 合について説明したが、前記支持ピン７や支持ピン７ｚ以外にも使用するウエハ の直径やオリエンテーションフラットの大きさや形状またはノッチの大きさ等に 応じて回転台表面からウエハを支持する位置までの高さの異なる支持ピンを取り 付けられた回転台を用意しておき、使用するウエハに応じて付け換えるようにし ておけば、本実施例は、様々なウエハに適用できる。

【００２６】 これらの構成により、処理する基板の大きさが変化しても、その大きさに対応 して所定の回転台５，５ｚに付け換え、支持ピン７…，７ｚ…に支持された基板 の外縁のうち最も回転中心Ｐに近い箇所の間近の内側で、投光器１１と受光器１ ２とを結ぶ光軸Ｌが交差するように基板の支持高さを変更する支持高さ変更機構 が構成されている。

【００２７】 そして、本構成によれば、例えば、５インチウエハ８を処理する場合には、そ れに応じた回転台５を駆動軸２に取り付けるだけで、投光器１１や受光器１２を 個々に調整しなくても、投光器１１と受光器１２とを結ぶ光軸Ｌが、回転台５に 取り付けられた支持ピン７に支持された５インチウエハ８の外縁のうち最も回転 中心Ｐに近い箇所の間近の内側の位置で５インチウエハ８と交差するようになっ ているので、５インチウエハ８の支持姿勢がずれていると、５インチウエハ８を １回転させる間に少なくとも１箇所において、投光器１１が発した光が受光器１ ２によって検出される。したがって、５インチウエハ８を搬入支持させた初期に おいて、カップ１０を回転台５の外周側を覆わない位置に下降させた状態で、５ インチウエハ８を低速で１回転させ、その１回転中における受光器１２からの受 光信号の出力の有無に基づいて５インチウエハ８の支持姿勢の良否を確実に検出 することができる。また、受光信号が出力されれば５インチウエハ８が所定姿勢 からズレていると判断して支持姿勢を修正し、処理に伴う回転によって５インチ ウエハ８が脱落して破損するといったことを未然に防止できるようになっている 。

【００２８】 上記第１実施例によれば、処理しようとする基板の大きさや形状の変化に対し て基板支持体を付け換えるだけで済み、手間が少なくて済む利点がある。また、 回転台５に対し、支持ピン７，７ｚ…の取り付け用の穴を、使用する全ての大き さの基板に対応する位置に形成しておけば、全く同じ形状の回転台５を共通して 使用できる。

【００２９】 なお、基板の外縁のうち最も回転中心Ｐに近い箇所の間近の内側の位置とは、 円形基板の場合にはその外縁Ｑの間近の内側［図９の（ａ）参照］、オリエンテ ーションフラットが形成された円形基板の場合にはオリエンテーションフラット の中央Ｑの間近の内側［図９の（ｂ）参照］、オリエンテーションノッチが形成 された円形基板の場合にはオリエンテーションノッチの先端Ｑの間近の内側［図 ９の（ｃ）参照］、長方形基板の場合には長辺の中央Ｑの間近の内側［図９の（ ｄ）参照］を指す。なお、上記第１実施例における回転台５および支持ピン７よ りなるものと、回転台５ｚおよび支持ピン７ｚよりなるものとがそれぞれ実用新 案登録請求の範囲に記載されるところの「基板支持体」に相当する。また上記第 １実施例における位置決めピン６が、実用新案登録請求の範囲に記載されるとこ ろの「位置決め部材」に相当する。

【００３０】 ＜第２実施例＞ 図４は本考案に係る回転式基板処理装置の第２実施例を示す。この第２実施例 は、基板の支持高さを変更するための回転台および支持ピンの構成が前述の第１ 実施例と異なっている。

【００３１】 本実施例では５インチウエハ８を処理する場合には図４の（ａ）に示す回転台 ５０および支持ピン７０を、６インチウエハ８０を処理する場合には図４の（ｂ ）に示す回転台５ａおよび支持ピン７０を、それぞれ使用する。ここでは、位置 決めピン６０…と支持ピン７０…はまったく同じものを用いる。また、５インチ ウエハ８用の回転台５０と、６インチウエハ８０用の回転台５ａとは、その直径 は同じであるが、位置決めピン６０…と支持ピン７０…の取り付け位置が、それ ぞれの基板直径に応じて異なっている。また、６インチウエハ８０用の回転台５ ａの嵌合筒部１３ａの底面１３０ａから基板支持位置（支持ピン７０…の上端） までの距離Ｂは、５インチウエハ８用の回転台５０の嵌合筒部１３ｂの底面１３ ０ｂから基板支持位置までの距離Ａよりも長くなるように、嵌合筒部１３ａ，１ ３ｂの構成が異なっている。

【００３２】 この第２実施例においても、使用するウエハの大きさに対応して所定の回転台 に付け換え、支持ピン７０…に支持されたウエハの外縁のうち最も回転中心Ｐに 近い箇所の間近の内側で、投光器１１と受光器１２とを結ぶ光軸Ｌが交差するよ うにウエハの支持高さを変更する支持高さ変更機構が構成されている。

【００３３】 上記第２実施例によれば、処理しようとするウエハの大きさや形状の変化に対 して回転台を付け換えるだけで済み、手間が少なく、また、同じ位置決めピン６ ０…、支持ピン７０…を共通して使用できる。

【００３４】 なお、この第２実施例の変形例として、駆動軸２に嵌合筒部１３ａ，１３ｂの 下端面を当接支持する鍔部（図示せず）を形成し、その鍔部と嵌合筒部１３ａ， １３ｂの下端面との間に必要に応じてスペーサ（図示せず）を介装することによ ってウエハの支持高さを変更するようにすれば、回転台も共用できる。なお、上 記第２実施例における回転台５０および支持ピン７０よりなるものと、回転台５ ａおよび支持ピン７０よりなるものとがそれぞれ実用新案登録請求の範囲に記載 されるところの「基板支持体」に相当する。また上記第２実施例における位置決 めピン６が、実用新案登録請求の範囲に記載されるところの「位置決め部材」に 相当する。

【００３５】 ＜第３実施例＞ 図５は本考案に係る回転式基板処理装置の第３実施例を示す全体概略平面図で あり、基板支持体を構成する回転台５ｃに、周方向に所定間隔を隔てるとともに 、３種類の径の円に沿うように、支持ピン７ａ，７ｂ，７ｃをネジ込みによって 取り付ける取り付け孔１４ａ…，１４ｂ…，１４ｃ…が形成されている。

【００３６】 各取り付け孔１４ａ…，１４ｂ…，１４ｃ…それぞれには、図６の全体概略側 面図に示すように、上端に位置決めピン６を突設され外周側程基板の支持位置が 高い支持ピン７ａ，７ｂ，７ｃを取り付け、支持ピン７ａ…，７ｂ…，７ｃ…に 支持された５インチウエハ８の外縁のうち最も回転中心Ｐに近い箇所の間近の内 側で、投光器１１と受光器１２とを結ぶ光軸Ｌが交差するように５インチウエハ ８の支持高さを変更する支持高さ変更機構が構成されている。この第３実施例に おいて、取り付け孔１４ａ…，１４ｂ…，１４ｃ…それぞれにネジを形成せず、 ナットによって支持ピン７ａ…，７ｂ…，７ｃ…を回転台５に取り付けるように 構成しても良い。

【００３７】 上記第３実施例によれば、処理しようとするウエハの大きさや形状の変化にか かわらず、回転台５ｃを共用できて経済的である。なお、上記第３実施例におけ る回転台５ｃおよび支持ピン７ａよりなるものと、回転台５ｃおよび支持ピン７ ｂよりなるものと、回転台５ｃおよび支持ピン７ｃよりなるものとがそれぞれ実 用新案登録請求の範囲に記載されるところの「基板支持体」に相当する。また上 記第３実施例における位置決めピン６が、実用新案登録請求の範囲に記載される ところの「位置決め部材」に相当する。

【００３８】 ＜第４実施例＞ 図７は本考案に係る回転式基板処理装置の第４実施例を示す要部の斜視図、図 ８は要部の断面図であり、回転台５ｄに、周方向に所定間隔を隔てるとともに、 回転台５ｄの径方向に延びる状態で、上端に位置決めピン６が突設された支持ピ ン７ｄから下方に突設されたネジ軸１５を挿通する長穴１６が形成され、かつ、 その長穴１６の回転台５ｄの径方向外方側に支持ピン７ｄを高い位置で支持する 支持部１７が突設形成されるとともに、ネジ軸１５にナット１８が取り付けられ ている。

【００３９】 この構成により、ウエハの大きさや形状変化に対応し、ナット１８を弛めて支 持ピン７ｄを長穴１６に沿って移動させ、その長穴１６の両端のいずれか一方で ナット１８により締め付け固定し、支持ピン７ｄ…に支持されたウエハの外縁の うち最も回転中心Ｐに近い箇所の間近の内側で、投光器１１と受光器１２とを結 ぶ光軸Ｌが交差するようにウエハの支持高さを変更する支持高さ変更機構が構成 されている。

【００４０】 この第４実施例によれば、処理しようとするウエハの大きさや形状の変化にか かわらず、回転台５ｄおよび支持ピン７ｄ…を共用できるとともに、支持ピン７ ｄ…を回転台５ｄから外してしまわずに済んで調整操作がしやすい利点がある。

【００４１】 上述実施例では、いずれも位置決めピン６を備えた支持ピン７ｄを示している が、本考案としては、支持ピンとは別体で構成した位置決めピンを用い、支持ピ ンによってウエハの下面を支持するように構成しても良い。

【００４２】 なお、上記第４実施例における回転台５ｄおよび支持ピン７ｄよりなるものが 実用新案登録請求の範囲に記載されるところの「基板支持体」に相当する。また 上記第４実施例における位置決めピン６が、実用新案登録請求の範囲に記載され るところの「位置決め部材」に相当する。

【００４３】 また、上記第１から第４の実施例においては、処理する基板を半導体ウエハの 場合について説明したが、本考案が適用されるものはこれに限られるものではな く、本考案は、液晶表示装置用ガラス基板やフォトマスク用ガラス基板、さらに 光ディスク用基板等、種々基板に適用可能なことはいうまでもない。

【００４４】

【考案の効果】

本考案の回転式基板処理装置によれば、基板支持体全体、あるいは、基板支持 体を構成する部材の付け換えや取り付け固定位置の変更等による支持高さ変更機 構によって、基板の形状や大きさの変化に対して対応できるから、従来のように 、装置ケーシング内の狭い空間内で、投光器および受光器それぞれの取り付け位 置や取り付け姿勢を調整して光軸を調整する場合に比べ、基板の形状や大きさの 変化に対応するための調整作業を、精度を低下させずに容易に行うことができる ようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る回転式基板処理装置の第１実施例
を示す全体概略側面図である。

【図２】第１実施例の全体概略平面図である。

【図３】基板支持体の一部切欠側面図である。

【図４】本考案に係る回転式基板処理装置の第２実施例
の一部切欠側面図である。

【図５】本考案に係る回転式基板処理装置の第３実施例
を示す全体概略平面図である。

【図６】第３実施例の要部側面図である。

【図７】本考案に係る回転式基板処理装置の第４実施例
を示す要部の斜視図である。

【図８】第４実施例の要部の断面図である。

【図９】各種基板の形状を説明する平面図である。

【符号の説明】

１…駆動源としての電動モータ ２…駆動軸 ５，５ｚ，５０，５ａ，５ｃ，５ｄ…回転台 ６…位置決めピン ７，７ｚ，７０，７ａ，７ｃ，７ｄ…支持ピン ８…直径５インチウエハ １１…投光器 １２…受光器 ８０…直径６インチウエハ Ｌ…光軸

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を支持する基板支持体と、 前記基板支持体を軸に取り付けて回転駆動する駆動源
   と、 前記基板支持体に支持された前記基板の位置を規制する
   位置決め部材と、 前記基板支持体に支持された前記基板の板状面を挟んだ
   一方側に設けられて前記基板に斜め方向に光を投射する
   投光器と、 前記基板の板状面を挟んだ前記投光器とは反対側に設け
   られて前記投光器からの光を受ける受光器と、 から成る回転式基板処理装置において、 前記基板の大きさまたは形状の変化に対応して、前記基
   板支持体に支持された前記基板の外縁のうち最も回転中
   心に近い箇所の間近の内側で、前記投光器と前記受光器
   とを結ぶ光軸が交差するように前記基板の支持高さを変
   更する支持高さ変更機構を備えたことを特徴とする回転
   式基板処理装置。