JPH1064784A - 回転式塗布装置 - Google Patents

回転式塗布装置

Info

Publication number
JPH1064784A
JPH1064784A JP8217504A JP21750496A JPH1064784A JP H1064784 A JPH1064784 A JP H1064784A JP 8217504 A JP8217504 A JP 8217504A JP 21750496 A JP21750496 A JP 21750496A JP H1064784 A JPH1064784 A JP H1064784A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
rotating plate
upper rotating
rotation
light receiving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8217504A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3483400B2 (ja
Inventor
Yoshio Taniguchi
由雄 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP21750496A priority Critical patent/JP3483400B2/ja
Publication of JPH1064784A publication Critical patent/JPH1064784A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3483400B2 publication Critical patent/JP3483400B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 上部回転板が浮いた状態での回転を防止する
ことで、回転で上部回転板が外れて装置が破損すること
を防止する。 【解決手段】 光センサの投光部24と受光部25によ
って上部回転板5の装着状態を、上部回転板5がノブボ
ルト15上に乗り上げて浮いているかどうかを検出する
ことで監視している。リングプレート14に対して上部
回転板5が載置されてセットされたにもかかわらず、リ
ングプレート14のノブボルト15に上部回転板5の孔
部16が嵌合せずに浮き上がっていると光センサが検出
したときには、回転制御手段9を介して回転台11およ
び上部回転板5を回転させないようにすれば、回転始め
や回転中に一体的に回転する上部回転板5が飛んで各部
に当たり装置がその衝撃で破損することが防止される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置および液晶表示基板製造装置における基板処理装置
などに用いられ、液晶表示器用角形ガラス基板、カラー
フィルタ用ガラス基板、フォトマスク用基板、サーマル
ヘッド用セラミック基板、プリント基板および半導体ウ
エハなどの基板を保持して回転させ、遠心力を利用して
フォトレジスト液などの処理液を薄膜状に塗布する回転
式塗布装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば半導体基板や液晶表示器用
角形ガラス基板などの製造工程において、フォトプロセ
スでパターンを形成する際には、基板にフォトレジスト
液を塗布する工程や、基板に現像液を塗布する工程な
ど、各種の処理液を塗布する塗布工程が不可欠である。
このような回転式塗布工程に用いられる回転式塗布装置
には、図6に示すように、内部に基板51を水平状態に
保持して回転する基板載置部52が設けられている。こ
の基板載置部52の上方を上部回転板53で開閉自在に
構成し、基板載置部52の上方を上部回転板53と嵌合
させて蓋をすることで、その保持された基板51の周辺
を半密閉空間aとして、基板51上の中央部に処理液が
乗せられた状態で、その半密閉空間内の空気といっしょ
に基板載置部52および上部回転板53と共に基板51
を回転させることにより、その遠心力で均一に処理液を
基板51の上面に薄膜状に塗布するものである。このと
き、基板載置部52のノブボルト54が上部回転板53
の孔部55に嵌入しており、このノブボルト54で上部
回転板53の孔部55をひっかけて基板載置部52と上
部回転板53を一体的に回転させている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の構成では、
基板51上の中央部に処理液が塗布された後に、基板載
置部52の上方開口部を上部回転板53で蓋をすべく基
板載置部52上に上部回転板53を装着した場合であっ
ても、図7に示すようにノブボルト54が上部回転板5
3の孔部55に正確に嵌入されているとは限らず、例え
ば基板載置部52と上部回転板53が位置ずれを起こし
たときには上部回転板53がノブボルト54に乗り上げ
て傾斜して浮いた状態となる。このような上部回転板5
3が浮いて傾斜した状態で基板載置部52と共に上部回
転板53が回転するという事態も発生する。このような
場合、互いに嵌合している他の上部回転板53の孔部5
5とノブボルト54も外れて上部回転板53が飛んで各
部に当たることになり、その衝撃で装置が破損して使用
できなくなるという問題が発生する。さらに、この破損
した装置の修復のために装置の可動率が低下して生産性
が大幅に低下してしまい、生産コストを上昇させてしま
うという問題も発生する。
【0004】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、上部回転板が浮いた状態での回転を防止すること
で、回転中の上部回転板の外れによる装置の破損を防止
することができる回転式塗布装置を提供することを目的
とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の回転式塗布装置
は、回転支持手段上に支持された基板を回転手段で回転
させることによって基板の表面に供給された処理液を遠
心力を用いて薄膜状に塗布する回転式塗布装置におい
て、回転支持手段上に装着可能な上部回転板と、回転支
持手段に対して上部回転板を着脱させる着脱手段と、こ
の着脱手段によって回転支持手段に上部回転板を装着さ
せた状態で、回転支持手段に対する上部回転板の装着状
態を検出する装着状態検出手段と、この装着状態検出手
段による上部回転板の装着状態に応じて回転手段を制御
する回転制御手段とを備えたことを特徴とするものであ
る。この着脱手段は、好ましくは、上部回転板と回転支
持手段の何れかを昇降させて上部回転板と回転支持手段
の嵌合を着脱させる構成とし、装着状態検出手段は、回
転支持手段に対する上部回転板の浮き上がりを検出する
ものである。
【0006】このように、本発明においては、装着状態
検出手段で上部回転板の装着状態を検出し、この検出し
た装着状態に応じて回転手段を制御している。例えば回
転支持手段に対して上部回転板が載置されてセットされ
たにもかかわらず、回転支持手段に上部回転板が嵌合せ
ずに浮き上がっているような場合には、これを、装着状
態検出手段が検出して回転制御手段で回転支持手段およ
び上部回転板を回転させないように制御すれば、回転始
めや回転中に一体的に回転する上部回転板が飛んで装置
に当たりその衝撃で破損するようなことはなくなる。ま
た、この破損した装置の修復のために装置の可動率が大
幅に低下してしまうという事態も防止されることにな
る。
【0007】また、好ましくは、本発明の回転式塗布装
置における装着状態検出手段は、回転支持手段に対する
上部回転板の浮き上がりを光学的に検知する投光部と受
光部を有し、上部回転板が浮き上がらずに装着されてい
る場合は上部回転板が投光部から受光部への光軸を遮る
ことなく、上部回転板が浮き上がって装着されている場
合は上部回転板がその光軸を少なくとも一部遮るような
高さ位置に投光部と受光部が互いに対向して配設されて
いることを特徴とする。この場合、より好ましくは、投
光部から受光部への光軸を少なくとも2ライン有するこ
とを特徴としている。
【0008】この構成により、装着状態検出手段を、投
光部と受光部とを有する透過型の光学的検出手段で構成
すれば、上部回転板の浮き上がりを容易に検出すること
が可能となる。また、投光部から受光部への検出用の光
軸を2ライン以上設ければ、回転支持手段に対する上部
回転板の嵌合不良による浮き上がりを確実に検出するこ
とが可能となる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る回転式塗布装
置の実施形態について図面を参照して説明する。
【0010】図1は本発明の一実施形態における回転式
塗布装置の正面概略構成を示す一部断面図であり、図2
は図1の回転式塗布装置の平面図である。
【0011】図1において、この回転式塗布装置1は、
内部に基板2を水平に支持する基板載置部である円形の
回転支持手段3と、この回転支持手段3を回転駆動させ
る回転手段としての駆動モータ4と、この回転支持手段
3上に載置された基板2の上面と所定の間隔をもって平
行に配設されていると共に回転支持手段3と一体に回転
する円形の上部回転板5と、この上部回転板5上に固定
された係合部材6と係合可能に構成され、この係合部材
6と係合させて上部回転板5を昇降させることで、回転
支持手段3の上方開口部を開閉する着脱手段7と、この
着脱手段7によって回転支持手段3に上部回転板5を装
着させた状態で、回転支持手段3に対する上部回転板5
の装着状態を検出する装着状態検出手段8と、この装着
状態検出手段8による上部回転板5の装着状態に応じて
駆動モータ4をオンオフ制御する回転制御手段9と、図
示していないが、回転台3の近傍位置に配設され回転台
3上に保持された基板2上に処理液を供給する処理液供
給ノズルとを備えている。
【0012】この回転支持手段3は、多数の基板支持ピ
ン10が立設され、これらの基板支持ピン10上に基板
2が載置されて水平に支持する回転台11と、この回転
台11上に、基板2の4角にそれぞれ1対ずつ立設され
て基板2が位置決めされ回転台11と共に一体に回転可
能に保持する位置決めピン12と、この回転台11の外
周上面に、回転台11と同心円状に固定されると共に回
転台11と同外径のリング状のスペーサリング13と、
このスペーサリング13と同心円状に固定されると共に
回転台11と同外径のリング状のリングプレート14と
を有している。このリングプレート14上の外周縁に沿
った等間隔の適所(3個所〜12個所程度)にノブボル
ト15が立設されている。
【0013】また、上部回転板5は、リングプレート1
4上のノブボルト15に対応した外周縁にノブボルト1
5と嵌合可能な孔部16がノブボルト15と同数だけ設
けられている。また、この上部回転板5の下面は、回転
したときにノブボルト15と孔部16の嵌合で外れにく
くするために重心を下にすべく、リングプレート14の
内径よりも若干小径の中央範囲を板厚部17としてい
る。このように、ノブボルト15と上部回転板5の孔部
16とが嵌合することで、リングプレート14に上部回
転板5がノブボルト16を介して着脱自在でかつ一体的
に回転可能に取り付けられてリングプレート14の中央
開口部を覆う構成となっている。また、この上部回転板
5の孔部16をリングプレート14上のノブボルト15
との嵌合から取り外せば、リングプレート14の中央開
口部から基板2を取り出したり、回転台11上に保持さ
れた基板2の中央部上に処理液を供給することができる
ようになっている。
【0014】さらに、係合部材6は、上部回転板5上に
は、円筒状の取付部材18を介して鍔状の環状プレート
である上部プレート19が取り付けられていると共に、
この上部プレート19の周方向所定の4個所それぞれに
嵌合孔20が等間隔に配設されている。また、着脱手段
7は、上部プレート19の外側に配設され上下に移動自
在に構成された支持部材21の下端部にそれぞれ、環状
プレートであるフックプレート22が、上部回転板5と
上部プレート19の間に位置するように水平に取り付け
られている。このフックプレート22の内径内に、円筒
状の取付部材18がそれぞれ配設されるように構成され
ており、回転中に取付部材18がその内径縁部に当たら
ないようになっている。また、このフックプレート22
上には、上部プレート19の嵌合孔20に対応した位置
にその嵌合孔20と嵌合可能なフックピン23がそれぞ
れ配設されている。
【0015】さらに、装着状態検出手段8は、上部回転
板5の装着状態として上部回転板5の高さ位置が正常な
高さ位置よりも高くなっているかどうかを光学的に検知
する光学的検知手段としての光ファイバセンサなどの光
センサの投光部24と受光部25とで構成されている。
これらの投光部24および受光部25を、互いに対向し
て配設された支持部材21にそれぞれ配設し、一方の支
持部材21の投光部24が他方の支持部材21の受光部
25に上部プレート19の上端(上部プレート19上の
各構成部材の上端)から0.5mm〜3mm程度(より
好ましくは1mm)上の位置を介して対向するように配
設されていると共に、一方の支持部材21の受光部25
が他方の支持部材21の投光部24に上部プレート19
の上端(上部プレート19上の各構成部材の上端)から
0.5mm〜3mm程度(より好ましくは1mm)上の
位置を介して対向するように配設されている。これらの
投光部24と受光部25とは、着脱手段7によってリン
グプレート14に上部回転板5を装着させた状態で、そ
のリングプレート14のノブボルト15に対して上部回
転板5の孔部16が嵌まり合っているかどうかの装着状
態を検出するように構成している。即ち、図3に示すよ
うに、上部回転板5の孔部16とノブボルト15との嵌
合がなされず上部回転板5がノブボルト15上に乗り上
げて浮き上がっていると、上部回転板5と共に上部プレ
ート19が傾くが、この浮き上がった状態を、対向して
配設された投光部24から受光部25への光軸が少なく
とも一部遮られることで検知することができ、上部回転
板5の装着状態、つまり、全ての孔部16とノブボルト
15が確実に嵌合して上部回転板5を回転させても問題
がないかどうかを検出している。つまり、これらの光セ
ンサの対向した投光部24と受光部25はそれぞれ、リ
ングプレート14のノブボルト15に嵌合するように降
ろされた上部回転板5の浮き上がった水平状態や傾斜状
態を検知する構成である。これらの光センサの投光部2
4と受光部25とがそれぞれ接続される回転制御手段9
は回転手段としての駆動モータ4に接続され、着脱手段
7による上部回転板5のリングプレート14への装着状
態が確実であるかどうかに応じて駆動モータ4のオン、
オフを制御する構成となっている。
【0016】また、これらの光センサは、互いに対向し
て配設された投光部24から受光部25への光学的検知
ライン26,27である光軸を平行に2ライン有してい
る。これらの投光部24および受光部25は、上部回転
板5が確実に嵌合して浮くこと無く水平に装着されてい
る場合は、この光軸を上部プレート19が遮ることな
く、また、上部回転板5が確実に嵌合せず上部回転板5
が浮き上がって装着されている場合は、この光軸を上部
プレート19が遮るように高さ調整されて支持されてい
る。これらの投光部24から受光部25への光学的検知
ライン26,27は、上部プレート19の中心点に対し
て対称な位置上を通るように2ライン有しており、リン
グプレート14に対する上部回転板5の浮き上がりを、
上部プレート19が光学的検知ライン26,27の光軸
の少なくとも何れかを遮るか否かで確実に検知すること
が可能となる。このとき、受光部25での検出は、投光
部24からの光量が殆ど全て到達したかどうかで上部回
転板5の浮き上がりを検出することもできるが、例えば
50パーセントの光量以上を受光部25が受光するかど
うかで上部回転板5の浮き上がりを検出することもでき
る。この投光部24からの光量の受光割合を低く設定す
ればするほど僅かな上部回転板5の浮き上がりをも検出
することができる。また、図2および図4(a)に示す
ように、光学的検知ライン26,27の光軸の進行方向
を互いに逆にしていることで、一方の投光部24から他
方の受光部25が受光しない構成、つまり、一方の投光
部24に対応した受光部25以外の他方の受光部25が
一方の投光部24からの光を受光しない構成とすること
により、光学的検知ライン26,27のうちの一つの光
軸を遮蔽する度合を誤動作無く正確に検知することがで
きる。
【0017】上記構成により、まず、上部回転板5を着
脱手段7を介して上昇させて回転台11上を開放させた
状態で、回転台11上に載置させた基板2上の中央部に
塗布液供給ノズル(図示せず)からフォトレジスト液な
どの塗布液を供給する。次に、この着脱手段7によって
上部回転板5を支持部材6およびフックプレート22と
共に下降させて、上部回転板5をリングプレート14上
に載置すると共に、このリングプレート14上のノブボ
ルト15を上部回転板5の孔部16にそれぞれ嵌入して
上部回転板5でリングプレート14の中央開口部を閉止
する。さらに、着脱手段7を介して支持部材6と共にフ
ックプレート22を下降させて、上部プレート19の周
方向所定位置の嵌合孔20とフックピン23による嵌合
を解除し、フックプレート22の内径内で、円筒状の取
付部材18が回転可能な状態になっている。
【0018】このとき、光センサの投光部24から受光
部25に光学的検知ラインである光軸が形成されて、上
部回転板5がリングプレート14に対して浮いているが
どうかを監視しており、例えば、上部回転板5の孔部1
6がリングプレート14のノブボルト15に対して確実
に嵌合せず上部回転板5がノブボルト15上に乗り上げ
るなどして浮き上がって装着されている場合には、光学
的検知ライン26,27の光軸のうち少なくとも何れか
を上部プレート19の上端部が遮ることになる。これら
の光軸を上部プレート19が遮ったことを光センサが検
知した場合には、回転制御手段9が駆動モータ4を制御
して回転させないように制御する。この場合には、ラン
プやブザーなどによる警報を出力するようにしておけ
ば、上部回転板5の浮き上がりをその回転に先立って直
すことができる。
【0019】また、上部回転板5の孔部16がリングプ
レート14のノブボルト15に対して確実に嵌合して浮
くこと無く水平に装着されている場合には、光学的検知
ライン26,27の光軸を上部プレート19の上端部が
遮ることがない。このような場合には、駆動モータ4に
よって、基板2上の中央部に処理液が乗せられた状態で
半密閉空間内の空気といっしょに基板2を上部回転板5
および回転台11と共に一体に回転させて基板2上の処
理液を遠心力によって拡散させ、基板2上に処理液を薄
膜状に均一に塗布することができる。このとき、これら
の光軸のうち少なくとも何れかを上部プレート19の上
端部が少なくとも一部遮ったことを光センサが検知した
場合にはノブボルト15と孔部16の嵌合が何処かで外
れたと判断して、回転の途中であってもその回転を停止
させるように回転制御手段9が駆動モータ4を制御す
る。
【0020】この回転塗布終了後に、着脱手段7によっ
て支持部材6と共にフックプレート22を上昇させて、
フックプレート22のフックピン23を上部プレート1
9の嵌合孔20に嵌合させて、リングプレート14上に
載置された上部回転板5を上昇させ、上部回転板5の外
周縁部の孔部16からノブボルト15を離脱させ、リン
グプレート14の中央開口部を開放して基板2を取り出
す。
【0021】したがって、本発明においては、光センサ
の投光部24と受光部25によって上部回転板5の装着
状態を、上部回転板5がノブボルト15上に乗り上げて
浮いているかどうかを検出することで監視している。リ
ングプレート14に対して上部回転板5が載置されてセ
ットされたにもかかわらず、リングプレート14のノブ
ボルト15に上部回転板5が嵌合せず浮き上がっている
と光センサが検出したときには、回転制御手段9を介し
て回転台11と共に上部回転板5を回転させないように
すれば、回転始めや回転中に一体的に回転する上部回転
板5が飛んで各部に当たりその衝撃で装置が破損するこ
とを未然に防止することができる。
【0022】なお、本実施形態では、装着状態検知手段
として透過型の光センサを用いたが、これに限らず、反
射型の光センサや近接センサを用いてもよく、また、機
械式のスイッチなども用いることができる。この機械式
のスイッチの場合にはその取付が複雑になると共にその
取付精度も必要になるという問題を有している。
【0023】また、本実施形態では、図4(a)に示す
ように、投光部24から受光部25への光学的検知ライ
ン26,27は、環状で鍔状の上部プレート19の中心
点に対して対称な位置上を平行に通るように2ラインと
し、これらの光学的検知ライン26,27の光軸のうち
少なくとも何れかを上部プレート19の上端部が少なく
とも一部遮ったことを検知した場合に、ノブボルト15
と孔部16の嵌合が何処かで外れていると判断して、上
部回転板5を回転させないように回転制御手段9が駆動
モータ4を制御する構成としたが、図4(b)に示すよ
うに、投光部24から受光部25への光学的検知ライン
28,29が互いに直交するように投光部24および受
光部25の組みを2組み配設することもでき、このよう
な光学的検知ライン28,29の直交する場合を含め
て、回転中心またはその近傍位置で所定角度でクロスす
るように、対向した投光部24および受光部25の組み
を2組みそれぞれ配設することもできて、ノブボルト1
5と上部回転板5の孔部16の嵌合不良による浮き上が
りを確実に検出することができる。
【0024】さらに、本実施形態では、互いに対向して
配設された支持部材21にそれぞれ、光センサの投光部
24および受光部25を配設したが、図5に示すよう
に、フックプレート22上にスタッドボルトを介してフ
レーム31を取り付け、このフレーム31の両端部の正
面側にそれぞれ、センサ取付板32がその上下方向の長
穴を介して固定ねじ33で取り付けられている。また、
フレーム31の両端部の上面側にそれぞれ、センサ高さ
調整用の調整ねじ34を持った支持板35がそれぞれ取
り付けられており、この調整ねじ34の先端部をセンサ
取付板32の上端部に螺合して吊り下げるように構成し
ている。これらのセンサ取付板32の一方には光センサ
の投光部36が取り付けられ、他方には光センサの受光
部37が取り付けられている。これらの投光部36およ
び受光部37の配置高さを調整するときには、固定ねじ
33を緩めて調整ねじ34を右回転させればセンサ取付
板32が上下方向の長穴に沿って上方向に移動し、調整
ねじ34を左回転させればセンサ取付板32が上下方向
の長穴に沿って下方向に移動することになり、センサ高
さを精度良く調整することができる。この調整後に固定
ねじ33を締め付けてセンサ取付板32を固定する。以
上のようにしてフレーム31の両端部にそれぞれ投光部
36と受光部37がそれぞれ取り付けられたセンサ部3
8が環状のフックプレート22上に固定され、このセン
サ部38と上部プレート19を介して対向するフックプ
レート22上の位置に別のセンサ部38が固定される。
これらの対向した一方のセンサ部38の投光部36が他
方のセンサ部38の受光部37に光軸が一致するように
対向し、かつ、一方のセンサ部38の受光部37が他方
のセンサ部38の投光部36に光軸が一致するように対
向して配置されている。その他は、上記実施形態と同様
に、所定ピッチで平行な光学的検知ライン26,27の
光軸のうち少なくとも何れかを上部プレート19の上端
部が少なくとも一部遮ったことを検知した場合に、ノブ
ボルト15と上部回転板5の孔部16の嵌合が何処かで
外れていると判断して、上部回転板5を回転させないよ
うに回転制御手段9が駆動モータ4を制御するようにす
ればよい。このように構成すれば、光センサの投光部3
6および受光部37を容易に精度良く取り付けることが
でき、その高さ調整も容易に行うことができる。また、
これらの1組みの光学的検知ライン26,27を2組み
互いにクロスするように設けて、ノブボルト15と上部
回転板5の孔部16の嵌合不良による上部回転板5の浮
き上がりをより正確に検出するようにしてもよい。
【0025】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、装着状態
検出手段で上部回転板の装着状態を検出し、この検出し
た装着状態に応じて回転手段を制御している。例えば回
転支持手段に対して上部回転板が載置されてセットされ
たにもかかわらず、回転支持手段に上部回転板が嵌合せ
ず浮き上がっているような場合には、これを、装着状態
検出手段が検出して回転制御手段で回転支持手段と共に
上部回転板を回転させないようにすれば、回転始めや回
転中に一体的に回転する上部回転板が飛んで各部に当た
って装置が衝撃で破損するようなことを防止することが
できる。また、この破損した装置の修復のために装置の
可動率が大幅に低下してしまうという事態も防止するこ
とができる。
【0026】また、装着状態検出手段を、投光部と受光
部とを有する透過型の光学的検出手段で構成すれば、上
部回転板の浮き上がりを容易に検出することができる。
また、投光部から受光部への検出用の光軸を2ライン以
上設ければ、回転支持手段に対する上部回転板の嵌合不
良による浮き上がりを確実に検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態における回転式塗布装置の
正面概略構成を示す一部断面図である。
【図2】図1の回転式塗布装置の平面図である。
【図3】図1の回転式塗布装置の上部回転板が傾斜して
装着された場合の正面概略構成を示す一部断面図であ
る。
【図4】光学的検知ラインの光軸位置関係を示す模式図
であって、(a)は平行光軸の場合を示す図、(b)は
クロス光軸の場合を示す図である。
【図5】光センサの他の取付例を示す要部構成図であ
る。
【図6】従来の回転式塗布装置の上部回転板が装着され
る前の概略構成を示す要部正面図である。
【図7】従来の回転式塗布装置の上部回転板が傾斜して
装着された場合の概略構成を示す要部正面図である。
【符号の説明】
1 回転式塗布装置 2 基板 3 回転支持手段 4 駆動モータ(回転手段) 5 上部回転板 6 係合部材 7 着脱手段 8 装着状態検出手段 9 回転制御手段 11 回転台 14 リングプレート 15 ノブボルト 16 孔部 19 上部プレート 20 嵌合孔 22 フックプレート 23 フックピン 24,36 投光部 25,37 受光部 26,27,28,29 光学的検知ライン 31 フレーム 32 センサ取付板 34 調整ねじ 35 支持板 38 センサ部

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転支持手段上に支持された基板を回転
    手段で回転させることによって前記基板の表面に供給さ
    れた塗布液を遠心力を用いて薄膜状に塗布する回転式塗
    布装置において、 前記回転支持手段上に装着可能であり、回転支持手段に
    装着された状態で、回転手段によって回転支持手段と一
    体に回転する上部回転板と、 前記回転支持手段に対して前記上部回転板を着脱させる
    着脱手段と、 前記着脱手段によって前記回転支持手段に前記上部回転
    板を装着させた状態で、前記回転支持手段に対する前記
    上部回転板の装着状態を検出する装着状態検出手段と、 前記装着状態検出手段による前記上部回転板の装着状態
    に応じて前記回転手段を制御する回転制御手段とを備え
    たことを特徴とする回転式塗布装置。
  2. 【請求項2】 前記着脱手段は、前記上部回転板と回転
    支持手段の何れかを昇降させて前記上部回転板と回転支
    持手段の嵌合を着脱させる構成とし、前記装着状態検出
    手段は、前記回転支持手段に対する前記上部回転板の浮
    き上がりを検出する構成としたことを特徴とする請求項
    1記載の回転式塗布装置。
  3. 【請求項3】 前記装着状態検出手段は、前記回転支持
    手段に対する前記上部回転板の浮き上がりを光学的に検
    知する投光部と受光部とを有し、前記上部回転板が浮き
    上がらず装着されている場合は前記上部回転板が前記投
    光部から前記受光部への光軸を遮ることなく、前記上部
    回転板が浮き上がって装着されている場合は前記上部回
    転板が前記光軸を少なくとも一部遮るような高さ位置に
    前記投光部と受光部が互いに対向して配設されているこ
    とを特徴とする請求項1または2記載の回転式塗布装
    置。
  4. 【請求項4】 前記装着状態検出手段は、投光部から受
    光部への光軸を少なくとも2ライン有したことを特徴と
    する請求項1〜3の何れかに記載の回転式塗布装置。
JP21750496A 1996-08-19 1996-08-19 回転式塗布装置 Expired - Fee Related JP3483400B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21750496A JP3483400B2 (ja) 1996-08-19 1996-08-19 回転式塗布装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21750496A JP3483400B2 (ja) 1996-08-19 1996-08-19 回転式塗布装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1064784A true JPH1064784A (ja) 1998-03-06
JP3483400B2 JP3483400B2 (ja) 2004-01-06

Family

ID=16705278

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21750496A Expired - Fee Related JP3483400B2 (ja) 1996-08-19 1996-08-19 回転式塗布装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3483400B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009178667A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Toray Ind Inc 塗液供給用容器および塗液供給方法。
CN103831209A (zh) * 2014-03-06 2014-06-04 昆山市力格自动化设备有限公司 一种自动点胶机

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5821353A (ja) * 1981-05-28 1983-02-08 ベブ・カ−ル・ツアイス・イエ−ナ 位置決め装置における基体不整合状態を検知し除去する装置
JPH0286144A (ja) * 1988-09-22 1990-03-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置における基板装着姿勢検出装置
JPH05146736A (ja) * 1991-11-27 1993-06-15 Sharp Corp スピン式コーテイング装置
JPH0629131U (ja) * 1992-09-17 1994-04-15 大日本スクリーン製造株式会社 回転式基板処理装置
JPH06210230A (ja) * 1993-01-20 1994-08-02 Sharp Corp スピン式コーティング装置
JPH0817707A (ja) * 1994-06-28 1996-01-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 回転塗布装置
JPH0851061A (ja) * 1994-08-08 1996-02-20 Tokyo Electron Ltd 塗布膜形成方法及びその装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5821353A (ja) * 1981-05-28 1983-02-08 ベブ・カ−ル・ツアイス・イエ−ナ 位置決め装置における基体不整合状態を検知し除去する装置
JPH0286144A (ja) * 1988-09-22 1990-03-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置における基板装着姿勢検出装置
JPH05146736A (ja) * 1991-11-27 1993-06-15 Sharp Corp スピン式コーテイング装置
JPH0629131U (ja) * 1992-09-17 1994-04-15 大日本スクリーン製造株式会社 回転式基板処理装置
JPH06210230A (ja) * 1993-01-20 1994-08-02 Sharp Corp スピン式コーティング装置
JPH0817707A (ja) * 1994-06-28 1996-01-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 回転塗布装置
JPH0851061A (ja) * 1994-08-08 1996-02-20 Tokyo Electron Ltd 塗布膜形成方法及びその装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009178667A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Toray Ind Inc 塗液供給用容器および塗液供給方法。
CN103831209A (zh) * 2014-03-06 2014-06-04 昆山市力格自动化设备有限公司 一种自动点胶机
CN103831209B (zh) * 2014-03-06 2016-08-24 昆山市力格自动化设备有限公司 一种自动点胶机

Also Published As

Publication number Publication date
JP3483400B2 (ja) 2004-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4517315B2 (ja) 基板落下防止機構およびこれを備えた基板検査装置
JP4408351B2 (ja) アライメント装置
TWI405048B (zh) 接近式曝光裝置、其光罩搬送方法及面板基板的製造方法
KR20020065020A (ko) 반도체 웨이퍼 위치 상태 감지시스템 및 그 방법
KR20220026754A (ko) 기판 처리 설비에서 기판의 얼라인 장치 및 얼라인 방법
JP3483400B2 (ja) 回転式塗布装置
JP2003203965A (ja) 基板支持ピンの支持位置検知方法、その傾き検知方法及びそれらの教示装置並びに教示用治具
KR20020064013A (ko) 베이크 장치
WO2018161569A1 (zh) 基板加热炉温度监测系统及方法
TWI714866B (zh) 基板處理裝置以及基板處理方法
JP2555849Y2 (ja) 回転式基板処理装置
CN105609449A (zh) 自动校准基板位置的机台及半导体加工设备
KR19990042581A (ko) 노광장치
KR102798182B1 (ko) 기판 세정 장치
CN211955945U (zh) 一种偏光片旋转机构和检测设备
JPH10150094A (ja) ウェーハ検出装置
JPH1174240A (ja) 基板処理装置
KR20020062437A (ko) 웨이퍼의 베이크 장치 및 그 방법
CN217238553U (zh) 模组检测设备
KR102821310B1 (ko) 기판 세정 장치
KR102836608B1 (ko) 기판 세정 장치
JP5219980B2 (ja) プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板ロード/アンロード方法、及び表示用パネル基板の製造方法
KR20240126197A (ko) 기판 세정 장치
KR20070113615A (ko) 평판 디스플레이 제조용 장비
KR20030073938A (ko) 포지션 센서를 갖는 반도체 제조 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030924

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071017

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081017

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091017

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091017

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091017

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101017

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101017

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111017

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111017

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111017

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121017

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121017

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees