JPH0629132U - 基板端縁洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の種類のいかんにかかわらず、基板の端
縁を効率良くかつ良好に洗浄できるようにする。 【構成】 表面に薄膜が形成された角型基板１を基板保
持手段２で載置保持し、その角型基板１の端縁の表面側
に、溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第１の溶剤ノズ
ル２４ａとガスを吐出して溶解物を角型基板の端縁より
も外方に吹き飛ばす第１のガスノズル２５ａを設け、一
方、裏面側に、溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第２
の溶剤ノズル２４ｂとガスを吐出して溶解された不要薄
膜を角型基板の端縁よりも外方に吹き飛ばす第２のガス
ノズル２５ｂを設け、更に、溶剤や不要薄膜を吸引排出
する吸引部材２３を設け、かつ、溶剤ノズル２４ａ，２
４ｂ、ガスノズル２５ａ，２５ｂおよび吸引部材２３そ
れぞれの固定位置を個別に調整できるようにする。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、フォトレジスト塗布液や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルター 用の染色剤といった薄膜が表面に形成された半導体ウエハや液晶用のガラス基板 やフォトマスク用のガラス基板やサーマルヘッド製造用のセラミック基板などの 基板に対し、その薄膜形成後の基板の端縁に溶剤を吐出して、基板端縁の不要薄 膜を溶解除去するために、表面に薄膜が形成された基板を載置保持する基板保持 手段と、その基板保持手段によって保持された基板の端縁の表裏両面の少なくと もいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、ガスを吐出 して溶解された不要薄膜を基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルと、基 板の端縁の外方に設けられて溶剤ノズルからの溶剤やガスノズルからのガスによ って吹き飛ばされた不要薄膜を吸引排出する吸引部材とを備えた基板端縁洗浄装 置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

上述のような基板端縁洗浄装置としては、従来、特公平３−７８７７７号公報 に開示されているものがあった。 この公知例によれば、表面に薄膜が形成された基板の周縁部の上面と下面に対 向して第１の管と第２の管が設けられるとともに、第１および第２の管の間の間 隙部でかつ基板端部の延長上に第３の管が設けられ、第１および第２の管から基 板の周縁部の上面と下面に溶剤を供給するとともに、それらの溶剤ならびに溶解 除去された不要薄膜を第３の管から吸引排出できるように構成されている。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上述した公知例の場合、第１および第２の管、ならびに、第３ の管が一体的に接続されており、第１および第２の管の対向距離が一定であるた め、例えば、厚みの違う基板を洗浄処理しようとした場合に、第１および第２の 管の溶剤吐出位置と基板の板面との距離に差が生じ、近づきすぎて必要以上に薄 膜を溶解除去してしまうとか、逆に、離れすぎて不要薄膜の除去不良を生じると いった欠点があった。

【０００４】 また、第１および第２の管からの溶剤の供給位置と、第３の管による溶剤など の吸引位置との距離が一定であるために、基板の大きさが異なって不要薄膜を除 去すべき長さに違いがあるような場合には対応できない欠点があった。このよう に、洗浄処理すべき基板の種類の変化に対応できない欠点があった。

【０００５】 本考案は、このような事情に鑑みてなされたものであって、請求項１に係る考 案の基板端縁洗浄装置は、基板の種類のいかんにかかわらず、基板の端縁を効率 良くかつ良好に洗浄できるようにすることを目的とし、また、請求項２および請 求項３に係る考案の基板端縁洗浄装置は、それぞれ簡単な構成で、小さな吸引力 でも溶剤や不要薄膜を良好に回収できるようにすることを目的とし、また、請求 項４に係る考案の基板端縁洗浄装置は、溶剤や不要薄膜を外部に洩らさずに良好 に回収できるようにすることを目的とし、また、請求項５に係る考案の基板端縁 洗浄装置は、溶剤の浪費を回避できるようにすることを目的とし、また、請求項 ６に係る考案の基板端縁洗浄装置は、角型基板に対して、その基板端縁の薄膜を 良好に溶解除去できるようにすることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

請求項１に係る考案の基板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するため に、表面に薄膜が形成された基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持 手段によって保持された基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤 を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、ガスを吐出して溶解された不要薄 膜を基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルと、基板の端縁の外方に設け られて溶剤ノズルからの溶剤やガスノズルからのガスによって吹き飛ばされた不 要薄膜を吸引排出する吸引部材とを備えた基板端縁洗浄装置において、溶剤ノズ ル、ガスノズルおよび吸引部材それぞれの固定位置を、基板保持手段に対して個 別に調整可能に構成する。

【０００７】 使用する溶剤としては、フォトレジスト塗布液を溶解する場合には、アセトン 、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブ チルケトンなどのケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、蟻 酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエス テル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水 素類や、四塩化炭素、トリクロルエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリク ロルエタン、モノクロルベンゼン、クロルナフタリンなどのハロゲン化炭化水素 類や、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチル エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエーテル類 や、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキサイドなどを用いることができる 。また、染色剤を溶解する場合には、30〜60℃の温湯や、メタノール、エタノー ル、プロパノールなどの低級アルコールや、アセトンなどを用いることができ、 そして、これらの液体中に角型基板との濡れを良くするために界面活性剤を添加 しても良い。 ガスノズルから供給するガスとしては、窒素ガスなどの不活性ガスや空気を用 いることができる。

【０００８】 また、請求項２に係る考案の基板端縁洗浄装置は、前述のような目的を達成す るために、吸引部材の吸引口の開口面積を、前記吸引口に連なる延長部の開口横 断面積よりも小に構成する。

【０００９】 また、請求項３に係る考案の基板端縁洗浄装置は、前述のような目的を達成す るために、吸引部材の延長部の開口横断面積を、吸引口から所定長さの範囲は、 前記吸引口側ほど小さくなるように構成し、かつ、所定長さの範囲を超えた範囲 では一定になるように構成する。

【００１０】 また、請求項４に係る考案の基板端縁洗浄装置は、前述のような目的を達成す るために、吸引部材の吸引口の外方を覆って、吸引口の外部に洩れた溶剤や不要 薄膜を吸引排出する補助吸引部材を設けて構成する。

【００１１】 また、請求項５に係る考案の基板端縁洗浄装置は、前述のような目的を達成す るために、基板保持手段に基板が載置保持されていることを検出して基板信号を 出力する基板センサを設けるとともに、基板信号に応答して溶剤ノズルからの溶 剤およびガスノズルからのガスそれぞれを吐出する洗浄制御手段を備えて構成す る。

【００１２】 また、請求項６に係る考案の基板端縁洗浄装置は、前述のような目的を達成す るために、角型基板を洗浄する場合にあって、溶剤ノズル、ガスノズルおよび吸 引部材それぞれの固定位置を、基板保持手段に対して個別に調整可能に同一の支 持部材に設け、その支持部材を前記角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移 動手段を設けて構成する。

【００１３】

【作用】

請求項１に係る考案の基板端縁洗浄装置の構成によれば、表面に均一に薄膜を 形成した基板を基板保持手段に載置保持し、溶剤ノズルから基板の表裏両面の少 なくともいずれか一方に溶剤を吐出して基板の端縁の不要薄膜を溶解し、その溶 解物をガスノズルからガスを吐出することにより基板の端縁よりも外方に吹き飛 ばし、更に、溶剤および不要薄膜を吸引部材によって吸引排出することができ、 そして、洗浄すべき基板の種類が変わった場合には、その基板の種類に応じて、 溶剤ノズル、ガスノズルおよび吸引部材それぞれの固定位置を調整することがで きる。

【００１４】 また、請求項２および請求項３に係る考案の基板端縁洗浄装置の構成によれば 、吸引口部分での排気のための線速度を高めることができる。

【００１５】 また、請求項４に係る考案の基板端縁洗浄装置の構成によれば、吸引口部分に 吸引されずにその周囲に洩れた溶剤や不要薄膜を補助吸引部材によって吸引排出 することができる。

【００１６】 また、請求項５に係る考案の基板端縁洗浄装置の構成によれば、基板保持手段 に基板が載置されているときにのみ溶剤およびガスそれぞれを供給し、溶剤およ びガスの無駄な供給を回避することができる。

【００１７】 また、請求項６に係る考案の基板端縁洗浄装置の構成によれば、溶剤ノズル、 ガスノズルおよび吸引部材それぞれの固定位置を洗浄すべき角型基板に合うよう に調整し、その調整状態で、角型基板の端縁に沿わせて相対移動し、角型基板の 端縁の不要薄膜を吸引排出することができる。

【００１８】

【実施例】

次に、本考案の実施例を図面を用いて説明する。

【００１９】 図１は、本考案の実施例に係る基板端縁洗浄装置の全体概略平面図、図２は一 部切欠全体概略側面図であり、回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基 板１を載置保持する基板保持手段２の周囲４箇所に基板端縁洗浄具３が備えられ て、基板端縁洗浄装置４が構成されている。

【００２０】 基台Ｂに、第１のエアーシリンダ５と一対の第１のガイド６，６を介してシリ ンダ支持台７が昇降可能に設けられ、そのシリンダ支持台７上に第２のエアーシ リンダ８が設けられるとともに、第２のエアーシリンダ８に角型基板１を真空吸 着によって載置保持する基板載置プレート９が一体的に設けられ、前記基板保持 手段２が構成されている。

【００２１】 前記基板端縁洗浄具３は、洗浄具本体１０と、それを角型基板１の端縁に沿わ せて直線移動する移動手段１１と、洗浄具本体１０を角型基板１の端縁に対して 遠近変位する位置調整手段１２とから構成されている。

【００２２】 前記基台Ｂに取り付けられた支持台１３に、一対の第２のガイド１４，１４を 介して角型基板１の端縁に沿う方向に移動可能に移動台１５が設けられ、かつ、 支持台１３に、主動プーリー１６と従動プーリー１７とが取り付けられ、両プー リー１６，１７にベルト１８が巻回されるとともに主動プーリー１６に電動モー タ１９が連動連結され、そして、ベルト１８に移動台１５が一体的に取り付けら れ、洗浄具本体１０を角型基板１の端縁に沿わせて直線移動するように前記移動 手段１１が構成されている。

【００２３】 前記移動台１５に、図３の要部の一部切欠拡大側面図に示すように、一対の第 ３のガイド２０，２０と第３のエアーシリンダ２１とを介して、角型基板１に対 して遠近する方向に駆動移動可能に支持部材２２が設けられ、洗浄具本体１０を 角型基板１の大きさに応じ、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位で きるように前記位置調整手段１２が構成されている。

【００２４】 支持部材２２に上下方向に固定位置を調整可能に吸引部材２３が取り付けられ 、その吸引部材２３の吸引口２３ａを挟んだ上下方向の上側に第１の溶剤ノズル ２４ａと第１のガスノズル２５ａが、そして、下側に第２の溶剤ノズル２４ｂと 第２のガスノズル２５ｂが、それぞれ水平方向の軸芯Ｐ周りで回転可能に取り付 けられるとともに、長穴Ｈ…それぞれを通したネジ部材（図示せず）をナット（ 図示せず）で締め付けることにより固定位置を調整可能に支持部材２２に取り付 けられている。例えば、第１および第２の溶剤ノズル２４ａ，２４ｂの角型基板 １の面に対する調整角度は60〜68°であり、一方、第１および第２のガスノズル ２５ａ，２５ｂの角型基板１の面に対する調整角度は45〜53°である。

【００２５】 図示しないが、吸引部材２３には排気管を介して真空源が接続され、また、第 １および第２の溶剤ノズル２４ａ，２４ｂそれぞれには角型基板１の端縁に塗布 された不要薄膜を溶解可能な溶剤を供給する溶剤供給管が接続され、更に、第１ および第２のガスノズル２５ａ，２５ｂそれぞれには、ガスとして窒素ガスを供 給するガス供給管が接続され、それらの排気管、溶剤供給管およびガス供給管の いずれもが、洗浄具本体１０の移動を許容するように可撓性を有する材料で構成 されている。

【００２６】 吸引部材２３の吸引口２３ａの開口面積が、その吸引口２３ａに連なる延長部 ２３ｂの開口横断面積よりも小に構成され、かつ、その延長部２３ｂの開口横断 面積が、吸引口２３ａから所定長さの範囲は、吸引口２３ａ側ほど小さくなるよ うに構成し、かつ、所定長さの範囲を超えた範囲では一定になるように構成され 、吸引口２３ａでの線速度を高くして排気効率を向上できるように構成されてい る。

【００２７】 基板載置プレート９には、真空吸着孔（図示せず）が分散形成されるとともに 、それらの真空吸着孔に吸気管２６および電磁開閉弁２６ａを介して真空源２７ が接続され、かつ、吸気管２６の途中箇所の電磁開閉弁２６ａよりも基板載置プ レート９側に基板センサ２８が設けられ、基板載置プレート９上に角型基板１を 載置して吸着保持する状態と吸着保持しない状態とで吸気管２６内の圧力が変化 することに基づき、角型基板１が載置保持されていることを検出して基板信号を 出力するように構成されている。

【００２８】 基板センサ２８が、図４のブロック図に示すように、洗浄制御手段としてのマ イクロコンピュータ２９に接続され、そして、マイクロコンピュータ２９に、第 ３のエアーシリンダ２１、第１および第２の溶剤ノズル２４ａ，２４ｂの溶剤供 給管に接続された溶剤ポンプ３０、第１および第２のガスノズル２５ａ，２５ｂ のガス供給管に接続された液体窒素ボンベなどに付設された電磁操作式のガス開 閉弁３１、および、電磁開閉弁２６ａそれぞれが接続されている。

【００２９】 マイクロコンピュータ２９には、洗浄判別手段３２とガス供給手段３３と溶剤 供給手段３４と排気手段３５とが備えられている。 洗浄判別手段３２は、基板センサ２８からの基板信号に応答して第３のエアー シリンダ２１を伸長し、洗浄具本体１０を角型基板１の端縁に対する洗浄位置ま で変位させるようになっている。 また、ガス供給手段３３は、前記洗浄判別手段３２からの指令により、洗浄具 本体１０を洗浄位置まで変位するに足る時間が経過した後に、基板センサ２８か らの基板信号に応答してガス開閉弁３１を開き、第１および第２のガスノズル２ ５ａ，２５ｂから窒素ガスを供給するようになっている。 また、溶剤供給手段３４は、前記ガス供給手段３３からの指令により、所定時 間遅れてから、基板センサ２８からの基板信号に応答して溶剤ポンプ３０を駆動 し、第１および第２の溶剤ノズル２４ａ，２４ｂから溶剤を供給するようになっ ている。 また、排気手段３５は、基板センサ２８からの基板信号に応答して電磁開閉弁 ２６ａを開き、排気を行うようになっている。

【００３０】 図中、３６は、基板載置プレート９に載置された角型基板１の端面に当接する 当て板を示し、この当て板３６に第４のエアーシリンダ３７が連動連結され、角 型基板１を当て板３６に当接させて所定の位置決め状態で基板載置プレート９上 に載置するように構成されている。また、角型基板１を基板載置プレート９に載 置した後に当て板３６を当接させて、角型基板１を所定の位置に位置決めするよ うにしても良い。

【００３１】 以上の構成により、回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板１を基 板保持手段２に保持させ、角型基板１の各辺それぞれに対応するように洗浄具本 体１０を移動させ、その状態で、溶剤とガスを吐出するとともに排気しながら洗 浄具本体１０を各辺それぞれに沿わせて移動させ、角型基板１の各辺それぞれの 表裏両面と周端面の不要薄膜を溶解除去することができる。

【００３２】 図５は、変形例を示す要部の断面図であり、吸引部材２３の吸引口２３ａの外 方を覆って、吸引口２３ａの外部に洩れた溶剤や不要薄膜を吸引排出する補助吸 引部材３８が設けられ、吸引部材２３および補助吸引部材３８により、溶剤や不 要薄膜をより良好に吸引排出できるように構成されている。

【００３３】 上述実施例では、基板端縁洗浄装置をフォトレジスト塗布液などによる薄膜形 成のための回転塗布装置とは別に専用に構成し、スループットを向上できるよう に構成しているが、本考案としては、回転塗布装置内に組み込み、回転塗布装置 の基板保持手段を基板端縁洗浄装置の基板保持手段２に兼用構成するものでも良 い。

【００３４】 また、上記実施例では、基板保持手段２に対して洗浄具本体１０を移動するよ うに構成しているが、洗浄具本体１０を固定し、その洗浄具本体１０に対して基 板保持手段２を移動するように構成しても良く、要するに、第１および第２の溶 剤ノズル２４ａ，２４ｂ、ならびに、第１および第２のガスノズル２５ａ，２５ ｂと角型基板１とを相対的に直線移動するように構成するものであれば良い。

【００３５】 また、上記実施例では、洗浄具本体１０を角型基板１の四辺に対応させられる ように、全体として四個設けているが、本考案としては、洗浄具本体１０を一個 あるいは二個設け、角型基板１を回転して異なる辺部分をも洗浄できるように構 成しても良い。

【００３６】 また、上記実施例では、基板端縁の表裏両面に溶剤を吐出するように構成して いるが、例えば、回転可能に保持された角型基板１の下方側に溶剤を供給し、角 型基板１の裏面に回り込んで形成される薄膜を溶解除去するように構成した裏面 洗浄タイプの回転塗布装置で回転塗布により薄膜が形成された角型基板１に対し ては、角型基板１の端縁の表面側にのみ溶剤を吐出するように構成するとか、あ るいは、角型基板１の端縁の裏面側にのみ溶剤を吐出して表面張力により表面側 に回り込ませるように構成するなど、角型基板１の端縁の表裏両面の少なくとも いずれか一方に溶剤を吐出するように構成すれば良い。

【００３７】 なお、前記実施例のように角型基板１の表裏両面に溶剤を吐出するようにした 場合には、片側にだけ吐出して表面張力で回り込ませる場合と比較して次のよう な特段の効果を有する。つまり、表裏各々の側へ溶剤を吐出させる場合には、表 面張力で回り込ませることを一切考慮する必要がないので、角型基板１の表裏各 面に対して緩やかな流速で溶剤を吐出しなくてもよい。したがって、角型基板１ への溶剤吐出は、基板表面で溶剤が滞留することなく、次々と新鮮な溶剤が供給 されるような状態であるので、短時間に効率良く基板端縁で薄膜を除去できる。 このため、基板表面側の端縁において、端縁よりやや内側の薄膜が溶剤に膨潤さ れて、基板表面の膜厚均一性を低下させる虞が無い。

【００３８】 また、本考案は、上述実施例のような角型基板１を洗浄する場合に限らず、円 形基板を洗浄する場合にも適用できる。

【００３９】

【考案の効果】

以上の説明から明らかなように、請求項１に係る考案の基板端縁洗浄装置によ れば、洗浄すべき基板の種類に応じて、溶剤ノズル、ガスノズルおよび吸引部材 それぞれの固定位置を調整し、溶剤とガスとにより基板の端縁の不要薄膜を溶解 除去して基板の端縁よりも外方に吹き飛ばし、吸引部材によって吸引排出するか ら、基板の種類のいかんにかかわらず、基板の端縁を効率良くかつ良好に洗浄で きるようになった。

【００４０】 また、請求項２および請求項３に係る考案の基板端縁洗浄装置によれば、吸引 口部分での排気のための線速度を高めることができるから、排気効率を向上でき 、吸引口部分を狭くするだけの簡単な構成でありながら、小さな吸引力でも溶剤 や不要薄膜を良好に回収できるようになった。

【００４１】 また、請求項４に係る考案の基板端縁洗浄装置によれば、吸引口部分に吸引さ れずにその周囲に洩れた溶剤や不要薄膜を補助吸引部材によって吸引排出できる から、溶剤や不要薄膜を外部に洩らさずにより一層良好に回収できるようになっ た。

【００４２】 また、請求項５に係る考案の基板端縁洗浄装置によれば、基板保持手段に基板 が載置されているときにのみ溶剤およびガスそれぞれを供給するから、溶剤およ びガスのいずれの消費量をも少なくでき、ランニングコストを低減できるように なった。

【００４３】 また、請求項６に係る考案の基板端縁洗浄装置によれば、溶剤ノズル、ガスノ ズルおよび吸引部材それぞれの固定位置を洗浄すべき角型基板に合うように調整 し、その調整状態での相対移動により角型基板の端縁の不要薄膜を吸引排出する から、角型基板の端縁の薄膜を良好に溶解除去できるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例に係る基板端縁洗浄装置の全体
概略平面図である。

【図２】一部切欠全体概略側面図である。

【図３】要部の一部切欠拡大側面図である。

【図４】ブロック図である。

【図５】吸引構成の変形例を示す要部の断面図である。

【符号の説明】

１…角型基板 ２…基板保持手段 １１…移動手段 ２２…支持部材 ２３…吸引部材 ２３ａ…吸引口 ２３ｂ…延長部 ２４ａ…第１の溶剤ノズル ２４ｂ…第２の溶剤ノズル ２５ａ…第１のガスノズル ２５ｂ…第２のガスノズル ２８…基板センサ ２９…洗浄制御手段としてのマイクロコンピュータ ３８…補助吸引部材

Claims (6)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に薄膜が形成された基板を載置保持
   する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持さ
   れた前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一
   方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、
   ガスを吐出して溶解された不要薄膜を前記基板の端縁よ
   りも外方に吹き飛ばすガスノズルと、前記基板の端縁の
   外方に設けられて前記溶剤ノズルからの溶剤や前記ガス
   ノズルからのガスによって吹き飛ばされた不要薄膜を吸
   引排出する吸引部材とを備えた基板端縁洗浄装置におい
   て、前記溶剤ノズル、ガスノズルおよび吸引部材それぞ
   れの固定位置を、前記基板保持手段に対して個別に調整
   可能に構成したことを特徴とする基板端縁洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の吸引部材の吸引口の開
   口面積を、前記吸引口に連なる延長部の開口横断面積よ
   りも小に構成してある基板端縁洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の吸引部材の延長部の開
   口横断面積を、吸引口から所定長さの範囲は、前記吸引
   口側ほど小さくなるように構成し、かつ、所定長さの範
   囲を超えた範囲では一定になるように構成してある基板
   端縁洗浄装置。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の吸
   引部材の吸引口の外方を覆って、前記吸引口の外部に洩
   れた溶剤や不要薄膜を吸引排出する補助吸引部材を設け
   た基板端縁洗浄装置。
5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の基
   板保持手段に基板が載置保持されていることを検出して
   基板信号を出力する基板センサを設けるとともに、前記
   基板信号に応答して溶剤ノズルからの溶剤およびガスノ
   ズルからのガスそれぞれを吐出する洗浄制御手段を備え
   てある基板端縁洗浄装置。
6. 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかに記載の基
   板が角型基板であり、溶剤ノズル、ガスノズルおよび吸
   引部材それぞれの固定位置を、基板保持手段に対して個
   別に調整可能に同一の支持部材に設け、その支持部材を
   前記角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段
   を設けてある基板端縁洗浄装置。