JPH0629190A - 光縮小投影露光装置 - Google Patents
光縮小投影露光装置Info
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- JPH0629190A JPH0629190A JP4293325A JP29332592A JPH0629190A JP H0629190 A JPH0629190 A JP H0629190A JP 4293325 A JP4293325 A JP 4293325A JP 29332592 A JP29332592 A JP 29332592A JP H0629190 A JPH0629190 A JP H0629190A
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- Japan
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- light
- optical fiber
- optical
- light sources
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 露光時間を短縮することができ、また、解像
度の劣化を防ぐことができ、しかも、コストを削減でき
るステッパを提供する。 【構成】 複数の光源２ａと、その各光源から取り出さ
れた単色光を単一の光ファイバ１に入射させてそれらの
光を撚り合わせた光を、レティクル５を介してステッパ
レンズ６により像を結ぶように構成する。
度の劣化を防ぐことができ、しかも、コストを削減でき
るステッパを提供する。 【構成】 複数の光源２ａと、その各光源から取り出さ
れた単色光を単一の光ファイバ１に入射させてそれらの
光を撚り合わせた光を、レティクル５を介してステッパ
レンズ６により像を結ぶように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は光縮小投影露光装置に
関し、さらに詳しくは、半導体装置の製造や電子回路の
形成などに用いられる光縮小投影露光装置（「光学式ス
テッパ」あるいは「ステッパ」とも称される）に関す
る。
関し、さらに詳しくは、半導体装置の製造や電子回路の
形成などに用いられる光縮小投影露光装置（「光学式ス
テッパ」あるいは「ステッパ」とも称される）に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ステッパは、ＬＳＩの高集積化に
対応するため、レンズのＮＡ（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ Ａ
ｐｅｒｔｕｒｅ。開口数）を大きくすることにより解像
度を向上させてきた。
対応するため、レンズのＮＡ（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ Ａ
ｐｅｒｔｕｒｅ。開口数）を大きくすることにより解像
度を向上させてきた。
【０００３】また、ステッパの解像度を上げる他の方法
として、たとえばＦＬＥＸ法が知られている。この方法
では、図９に示すように、半導体ウェハ２０上に形成さ
れているフォトレジスト２１を露光する際に、光学系を
垂直方向に移動させて結像位置を変化させる。
として、たとえばＦＬＥＸ法が知られている。この方法
では、図９に示すように、半導体ウェハ２０上に形成さ
れているフォトレジスト２１を露光する際に、光学系を
垂直方向に移動させて結像位置を変化させる。
【０００４】すると、１回目の露光では、（ａ）図に示
すように、フォトレジスト２１内の点ｉa が結像位置と
なる。この状態からプロジェクションレンズ１０を垂直
に距離Δだけ移動した後、２回目の露光を行うと、結像
位置は（ｂ）図に示すように点ｉb となり、プロジェク
ションレンズ１０の移動した距離Δの長さだけ下方へ移
動する。この方法では、距離Δを小さくして３回、４回
と露光してもよい。
すように、フォトレジスト２１内の点ｉa が結像位置と
なる。この状態からプロジェクションレンズ１０を垂直
に距離Δだけ移動した後、２回目の露光を行うと、結像
位置は（ｂ）図に示すように点ｉb となり、プロジェク
ションレンズ１０の移動した距離Δの長さだけ下方へ移
動する。この方法では、距離Δを小さくして３回、４回
と露光してもよい。
【０００５】このＦＬＥＸ法により、フォトレジストの
厚みに対して光の焦点深度が小さいために生じる解像度
の劣化を防止することができる。
厚みに対して光の焦点深度が小さいために生じる解像度
の劣化を防止することができる。
【０００６】ところが、上記したＦＬＥＸ法では、２回
以上の露光が必要であり、その露光処理に時間がかかる
ため、ステッパのスループットが約半分に落ちるという
問題がある。現状では、ＬＳＩ用６インチウェハで１時
間当たり数十枚程度であること、ステッパが非常に高価
であることを考慮すれば、スループットが半分になるこ
とによるコスト上昇は避けられず、大きな問題である。
以上の露光が必要であり、その露光処理に時間がかかる
ため、ステッパのスループットが約半分に落ちるという
問題がある。現状では、ＬＳＩ用６インチウェハで１時
間当たり数十枚程度であること、ステッパが非常に高価
であることを考慮すれば、スループットが半分になるこ
とによるコスト上昇は避けられず、大きな問題である。
【０００７】ステッパの解像度を上げる他の方法として
は、図１０に示すように、遮光部材を介在させる方法が
知られている。すなわち、その方法は、光源５１から出
た光を透過させるハエの目状レンズ５２とレティクル５
３との間に遮光部材５４を配したことを特徴とする。こ
の方法において、用いられる遮光部材５４としては、図
１１に示すように、（ａ）輪帯照明、（ｂ）２分割照
明、（ｃ）４分割照明、（ｄ）４つ穴変形照明などを得
るために、いろいろな遮光パターンが工夫されている。
は、図１０に示すように、遮光部材を介在させる方法が
知られている。すなわち、その方法は、光源５１から出
た光を透過させるハエの目状レンズ５２とレティクル５
３との間に遮光部材５４を配したことを特徴とする。こ
の方法において、用いられる遮光部材５４としては、図
１１に示すように、（ａ）輪帯照明、（ｂ）２分割照
明、（ｃ）４分割照明、（ｄ）４つ穴変形照明などを得
るために、いろいろな遮光パターンが工夫されている。
【０００８】ところが、このような遮光部材５４を配す
る方法では、遮光部材５４を配さない場合に比べて光強
度が大幅に低下するという欠点がある。すなわち、図１
１の（ａ）〜（ｄ）における光強度は、遮光部材５４を
配さない場合に比べて１／２〜１／１０となる。このた
め、露光に要する時間は、遮光部材５４を配さない場合
のそれに比べて大幅に増加する。
る方法では、遮光部材５４を配さない場合に比べて光強
度が大幅に低下するという欠点がある。すなわち、図１
１の（ａ）〜（ｄ）における光強度は、遮光部材５４を
配さない場合に比べて１／２〜１／１０となる。このた
め、露光に要する時間は、遮光部材５４を配さない場合
のそれに比べて大幅に増加する。
【０００９】一般に、ステッパはきわめて高価であり、
１台当たり１億円から３億円もする。また、ステッパの
スループットは、露光時間の影響が大きく、ＬＳＩ用６
インチウェハで１時間当たり数十枚程度である。したが
って、露光時間が長くなると、コストへの影響は甚大で
ある。
１台当たり１億円から３億円もする。また、ステッパの
スループットは、露光時間の影響が大きく、ＬＳＩ用６
インチウェハで１時間当たり数十枚程度である。したが
って、露光時間が長くなると、コストへの影響は甚大で
ある。
【００１０】一方、図１０に示すような遮光部材５４を
介在させることなく変形照明を実現する手段として、特
開平３−１１４２１８号公報および特開昭６２−２６１
８号公報に開示された、光ファイバを用いたステッパに
よる方法がある。すなわち、これらの方法は、図１２に
示すように、光源６１と、この光源６１から出た光をレ
ティクル６２に導く光ファイバ６３と、そのレティクル
６２を介して像を結ぶためのステッパレンズ６４とを備
えたステッパによるものである。
介在させることなく変形照明を実現する手段として、特
開平３−１１４２１８号公報および特開昭６２−２６１
８号公報に開示された、光ファイバを用いたステッパに
よる方法がある。すなわち、これらの方法は、図１２に
示すように、光源６１と、この光源６１から出た光をレ
ティクル６２に導く光ファイバ６３と、そのレティクル
６２を介して像を結ぶためのステッパレンズ６４とを備
えたステッパによるものである。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法によれば、光源６１から出た光が光ファイバ６３
に入射される際に光ファイバ６３の入射端部６３ａにお
いて光の導入ロスなどが避けられず、露光時間の短縮を
図るためには、光強度をより大きくすることが望まれて
いた。
の方法によれば、光源６１から出た光が光ファイバ６３
に入射される際に光ファイバ６３の入射端部６３ａにお
いて光の導入ロスなどが避けられず、露光時間の短縮を
図るためには、光強度をより大きくすることが望まれて
いた。
【００１２】本発明は、以上の実情に鑑みてなされたも
のであり、露光時間を短縮することができ、また、解像
度の劣化を防ぐことができ、しかもコストを削減できる
光縮小投影露光装置を提供することを目的とする。
のであり、露光時間を短縮することができ、また、解像
度の劣化を防ぐことができ、しかもコストを削減できる
光縮小投影露光装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段およびその作用】本発明に
係る光縮小投影露光装置は以下の２つの形態をとる。そ
の第１の形態は、複数の光源と、その各光源から取り出
された単色光を単一の光ファイバに入射させる複数の集
光レンズと、その光ファイバからの出力光をレティクル
に導くコンデンサレンズと、そのレティクルを介して像
を結ぶためのステッパレンズとを同一光学系に備えてな
る光縮小投影露光装置である。
係る光縮小投影露光装置は以下の２つの形態をとる。そ
の第１の形態は、複数の光源と、その各光源から取り出
された単色光を単一の光ファイバに入射させる複数の集
光レンズと、その光ファイバからの出力光をレティクル
に導くコンデンサレンズと、そのレティクルを介して像
を結ぶためのステッパレンズとを同一光学系に備えてな
る光縮小投影露光装置である。
【００１４】すなわち、第１の光縮小投影露光装置によ
れば、複数光源からの単色光が１本の光ファイバに集め
られ、その光ファイバからの出力光は１つのコンデンサ
レンズおよびレティクルを介してステッパレンズに導か
れ、それぞれの単色光に応じた焦点位置に結像させるこ
とができる。
れば、複数光源からの単色光が１本の光ファイバに集め
られ、その光ファイバからの出力光は１つのコンデンサ
レンズおよびレティクルを介してステッパレンズに導か
れ、それぞれの単色光に応じた焦点位置に結像させるこ
とができる。
【００１５】本発明の第２の形態は、複数の光源と、複
数本の光ファイバが束ねられてなり前記複数の光源から
出た光がそれぞれ入射する複数の光ファイバ束とを備
え、１の光ファイバ束を構成する光ファイバが、その出
射端において、他の光ファイバ束を構成する光ファイバ
の出射端と隣り合った状態に配されてなる光縮小投影露
光装置である。
数本の光ファイバが束ねられてなり前記複数の光源から
出た光がそれぞれ入射する複数の光ファイバ束とを備
え、１の光ファイバ束を構成する光ファイバが、その出
射端において、他の光ファイバ束を構成する光ファイバ
の出射端と隣り合った状態に配されてなる光縮小投影露
光装置である。
【００１６】すなわち、第２の光縮小投影露光装置によ
れば、１の光ファイバ束を構成する光ファイバが、その
出射端において、他の光ファイバ束を構成する光ファイ
バの出射端と隣り合った状態に配されてなるので、相異
なる光ファイバ束の光ファイバを組み合わせることで光
出射部の形状を自由に形成することができる。
れば、１の光ファイバ束を構成する光ファイバが、その
出射端において、他の光ファイバ束を構成する光ファイ
バの出射端と隣り合った状態に配されてなるので、相異
なる光ファイバ束の光ファイバを組み合わせることで光
出射部の形状を自由に形成することができる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の３つの実施例を図面に基づい
て詳しく説明する。なお、これらによって本発明が限定
されるものではない。
て詳しく説明する。なお、これらによって本発明が限定
されるものではない。
【００１８】実施例１ 図１において、光縮小投影露光装置（ステッパ）Ｓ1
は、２つの光源２ａ，２ｂと、２つの集光レンズ３ａ，
３ｂと、光ファイバ１と、その光ファイバ１からの出力
光（出射光）をレティクル５に導くコンデンサレンズ４
と、そのレティクル５を介して像を結ぶためのステッパ
レンズ６とを同一光学系に備えてなる。すなわち、光源
２ａ，２ｂのそれぞれの光軸上には、それぞれの光源２
ａ，２ｂから取り出された単色光を光ファイバ１に入射
させる集光レンズ３ａ，３ｂが設けられている。
は、２つの光源２ａ，２ｂと、２つの集光レンズ３ａ，
３ｂと、光ファイバ１と、その光ファイバ１からの出力
光（出射光）をレティクル５に導くコンデンサレンズ４
と、そのレティクル５を介して像を結ぶためのステッパ
レンズ６とを同一光学系に備えてなる。すなわち、光源
２ａ，２ｂのそれぞれの光軸上には、それぞれの光源２
ａ，２ｂから取り出された単色光を光ファイバ１に入射
させる集光レンズ３ａ，３ｂが設けられている。
【００１９】これらの光源２ａ，２ｂの構成は、たとえ
ば図４に示すように、ステッパの光源として用いる放電
管２０１から発光された光を、所定部分を露出させ、他
の部分は遮光材２０３で覆った反射鏡２０２に反射させ
るとともに、スリット２０４を通過した光を光学フィル
タ２０５に透過させることにより、所定の単色光が得ら
れる構成となっている。ここでは放電管２０１を用いて
おり、図３に示すような、石英ガラス管内に封入した水
銀蒸気の放電による発光を利用した超高圧水銀灯３０が
用いられている。
ば図４に示すように、ステッパの光源として用いる放電
管２０１から発光された光を、所定部分を露出させ、他
の部分は遮光材２０３で覆った反射鏡２０２に反射させ
るとともに、スリット２０４を通過した光を光学フィル
タ２０５に透過させることにより、所定の単色光が得ら
れる構成となっている。ここでは放電管２０１を用いて
おり、図３に示すような、石英ガラス管内に封入した水
銀蒸気の放電による発光を利用した超高圧水銀灯３０が
用いられている。
【００２０】このような光源を用いた場合、波長により
光の発射方向が異なり、それぞれの光は周波数やスペク
トル分布などの諸性質が異なることは周知である。した
がって、解像度を向上させるために、発光するすべての
光を利用するのではなく、特定の方向の光束を選択する
手段を適宜設けることにより、光束の限定が行われてい
るわけである。
光の発射方向が異なり、それぞれの光は周波数やスペク
トル分布などの諸性質が異なることは周知である。した
がって、解像度を向上させるために、発光するすべての
光を利用するのではなく、特定の方向の光束を選択する
手段を適宜設けることにより、光束の限定が行われてい
るわけである。
【００２１】なお、この光源としては、単色光を発する
ものを用いてもよい。その場合は、上述した光束を選択
する手段を設ける必要はない。
ものを用いてもよい。その場合は、上述した光束を選択
する手段を設ける必要はない。
【００２２】図１に示すように、光ファイバ１には、２
つの集光レンズ３ａ，３ｂによって複数の単色光が集め
られ、異なった波長の単色光が出力光として光ファイバ
１から出射される構成となっている。また、この光ファ
イバ１から出射した光の光軸上に、その出射した光の方
向を定めるコンデンサレンズ４と、露光すべきレティク
ル５を介した光をフォトレジスト２１内の結像位置に導
くステッパレンズ６とが備えられた構成となっている。
つの集光レンズ３ａ，３ｂによって複数の単色光が集め
られ、異なった波長の単色光が出力光として光ファイバ
１から出射される構成となっている。また、この光ファ
イバ１から出射した光の光軸上に、その出射した光の方
向を定めるコンデンサレンズ４と、露光すべきレティク
ル５を介した光をフォトレジスト２１内の結像位置に導
くステッパレンズ６とが備えられた構成となっている。
【００２３】以上の構成からなるステッパの動作を説明
する。光源２ａ，２ｂからそれぞれの集光レンズ３ａ，
３ｂを介して光ファイバ１に入射された２種類の単色光
は、それらの光束が撚り合わされて光ファイバ１から出
力（出射）される。この出力光（出射光）は、図２に示
すように、ステッパレンズ６を介して露光する半導体ウ
ェハ２０上のフォトレジスト２１に入射される。
する。光源２ａ，２ｂからそれぞれの集光レンズ３ａ，
３ｂを介して光ファイバ１に入射された２種類の単色光
は、それらの光束が撚り合わされて光ファイバ１から出
力（出射）される。この出力光（出射光）は、図２に示
すように、ステッパレンズ６を介して露光する半導体ウ
ェハ２０上のフォトレジスト２１に入射される。
【００２４】この場合、波長の異なる入射光は、それぞ
れフォトレジスト２１内の結像位置に像を結ぶ。すなわ
ち、破線で示した波長の長い光はｉL の位置で、また実
線で示した波長の短い光はｉS の位置で、それぞれの像
が結ばれる。したがって、垂直方向に焦点深度の異なる
２箇所が同時に露光される。
れフォトレジスト２１内の結像位置に像を結ぶ。すなわ
ち、破線で示した波長の長い光はｉL の位置で、また実
線で示した波長の短い光はｉS の位置で、それぞれの像
が結ばれる。したがって、垂直方向に焦点深度の異なる
２箇所が同時に露光される。
【００２５】このように、波長の異なる複数の光を束ね
た光を用いることにより、複数の結像位置での露光が可
能となり、焦点深度を必要に応じて適宜調整することが
できる。
た光を用いることにより、複数の結像位置での露光が可
能となり、焦点深度を必要に応じて適宜調整することが
できる。
【００２６】なお、この実施例では、光源が２つであっ
て波長の異なる２つの光を用いたものを示したが、光源
が３つ以上であっても同様である。また、同一の波長の
光を集めた場合は、充分な光強度の出力光が得られ、露
光時間を短縮することもできる。
て波長の異なる２つの光を用いたものを示したが、光源
が３つ以上であっても同様である。また、同一の波長の
光を集めた場合は、充分な光強度の出力光が得られ、露
光時間を短縮することもできる。
【００２７】実施例２ 図５において、光縮小投影露光装置（ステッパ）Ｓ2
は、左右２つの光源１２ａ，１２ｂと、２つの集光用反
射鏡１３ａ，１３ｂと、２つの光ファイバ束１７ａ，１
７ｂと、それらの光ファイバ束１７ａ，１７ｂからの出
力光をレティクル（図示略）に導くコンデンサレンズ
（図示略）と、そのレティクルを介して像を結ぶための
ステッパレンズ（図示略）とを同一光学系に備えてな
る。
は、左右２つの光源１２ａ，１２ｂと、２つの集光用反
射鏡１３ａ，１３ｂと、２つの光ファイバ束１７ａ，１
７ｂと、それらの光ファイバ束１７ａ，１７ｂからの出
力光をレティクル（図示略）に導くコンデンサレンズ
（図示略）と、そのレティクルを介して像を結ぶための
ステッパレンズ（図示略）とを同一光学系に備えてな
る。
【００２８】２つの光ファイバ束１７ａ，１７ｂのそれ
ぞれは、複数本の光ファイバ１７ａ1 ，１７ａ2 ，１７
ａ3 ，……１７ａn ，１７ｂ1 ，１７ｂ2 ，１７ｂ3 ，
……１７ｂn （ｎは自然数を表す）が束ねられてなる。
そして、２つの光源１２ａ，１２ｂから出た光がそれぞ
れ、対応する光ファイバ束１７ａ，１７ｂに入射する。
ぞれは、複数本の光ファイバ１７ａ1 ，１７ａ2 ，１７
ａ3 ，……１７ａn ，１７ｂ1 ，１７ｂ2 ，１７ｂ3 ，
……１７ｂn （ｎは自然数を表す）が束ねられてなる。
そして、２つの光源１２ａ，１２ｂから出た光がそれぞ
れ、対応する光ファイバ束１７ａ，１７ｂに入射する。
【００２９】左側の光ファイバ束１７ａを構成する光フ
ァイバ１７ａ1 ，１７ａ2 ，１７ａ3 ，……１７ａn
は、各出射端において、右側の光ファイバ束１７ｂを構
成する光ファイバ１７ｂ1 ，１７ｂ2 ，１７ｂ3 ，……
１７ｂn の出射端と１本おきにかつ環状に配されて、互
いに隣り合った状態とされている。すなわち、２つの光
ファイバ束１７ａ，１７ｂの出射端部１７ｃは１つの輪
になっており、輪帯照明に用いられる。
ァイバ１７ａ1 ，１７ａ2 ，１７ａ3 ，……１７ａn
は、各出射端において、右側の光ファイバ束１７ｂを構
成する光ファイバ１７ｂ1 ，１７ｂ2 ，１７ｂ3 ，……
１７ｂn の出射端と１本おきにかつ環状に配されて、互
いに隣り合った状態とされている。すなわち、２つの光
ファイバ束１７ａ，１７ｂの出射端部１７ｃは１つの輪
になっており、輪帯照明に用いられる。
【００３０】なお、ここでは光源が２つの場合を示した
が、光源が３つ以上の場合も同様である。たとえば、図
６に示すように、光源（図示略）の数を３にし、各光源
に対応させて光ファイバ束（図示略）を１つずつ配す
る。そして、１の光源に対応する１の光ファイバ束を構
成する光ファイバの出射端Ａ1 ，Ａ2 ，Ａ3 ……を、他
の２つの光源にそれぞれ対応する他の２つの光ファイバ
束を構成する光ファイバの出射端Ｂ1 ，Ｂ2 ，Ｂ3 …
…，Ｃ1 ，Ｃ2 ，Ｃ3 ……と互いに隣り合った状態で環
状に配する。このようにすると、光源が２つの場合より
も、光の強度分布を均一にすることができる。
が、光源が３つ以上の場合も同様である。たとえば、図
６に示すように、光源（図示略）の数を３にし、各光源
に対応させて光ファイバ束（図示略）を１つずつ配す
る。そして、１の光源に対応する１の光ファイバ束を構
成する光ファイバの出射端Ａ1 ，Ａ2 ，Ａ3 ……を、他
の２つの光源にそれぞれ対応する他の２つの光ファイバ
束を構成する光ファイバの出射端Ｂ1 ，Ｂ2 ，Ｂ3 …
…，Ｃ1 ，Ｃ2 ，Ｃ3 ……と互いに隣り合った状態で環
状に配する。このようにすると、光源が２つの場合より
も、光の強度分布を均一にすることができる。
【００３１】このように、１の光源に対応する１の光フ
ァイバ束を構成する光ファイバを、その出射端におい
て、他の光源に対応する他の光ファイバ束を構成する光
ファイバの出射端と隣り合った状態に配することで、光
の強度分布を従来よりも均一にすることができるととも
に、複数の光源が経時変化することによって光分布に不
均一が生じるおそれを防止することができる。
ァイバ束を構成する光ファイバを、その出射端におい
て、他の光源に対応する他の光ファイバ束を構成する光
ファイバの出射端と隣り合った状態に配することで、光
の強度分布を従来よりも均一にすることができるととも
に、複数の光源が経時変化することによって光分布に不
均一が生じるおそれを防止することができる。
【００３２】実施例３ 図７において、光縮小投影露光装置（ステッパ）Ｓ3
は、左右２つの光源３２ａ，３２ｂと、２つの集光用反
射鏡３３ａ，３３ｂと、２つの光ファイバ束３７ａ，３
７ｂと、それらの光ファイバ束３７ａ，３７ｂからの出
力光をレティクル（図示略）に導くコンデンサレンズ
（図示略）と、そのレティクルを介して像を結ぶための
ステッパレンズ（図示略）とを同一光学系に備えてな
る。
は、左右２つの光源３２ａ，３２ｂと、２つの集光用反
射鏡３３ａ，３３ｂと、２つの光ファイバ束３７ａ，３
７ｂと、それらの光ファイバ束３７ａ，３７ｂからの出
力光をレティクル（図示略）に導くコンデンサレンズ
（図示略）と、そのレティクルを介して像を結ぶための
ステッパレンズ（図示略）とを同一光学系に備えてな
る。
【００３３】光ファイバ束３７ａ，３７ｂのそれぞれ
は、複数本の光ファイバ３７ａ1 ，３７ａ2 ，３７ａ3
，……３７ａn ，３７ｂ1 ，３７ｂ2 ，３７ｂ3 ，…
…３７ｂn が束ねられてなる。そして、２つの光源３２
ａ，３２ｂから出た光がそれぞれの光ファイバ束３７
ａ，３７ｂに入射する。
は、複数本の光ファイバ３７ａ1 ，３７ａ2 ，３７ａ3
，……３７ａn ，３７ｂ1 ，３７ｂ2 ，３７ｂ3 ，…
…３７ｂn が束ねられてなる。そして、２つの光源３２
ａ，３２ｂから出た光がそれぞれの光ファイバ束３７
ａ，３７ｂに入射する。
【００３４】左側の光ファイバ束３７ａを構成する光フ
ァイバ３７ａ1 ，３７ａ2 ，３７ａ3 ，……３７ａn
は、各出射端において、右側の光ファイバ束３７ｂを構
成する光ファイバ３７ｂ1 ，３７ｂ2 ，３７ｂ3 ，……
３７ｂn の出射端と１本おきにかつ円形に配されて、互
いに隣り合った状態とされている。すなわち、２つの光
ファイバ束１７ａ，１７ｂの出射端部３７ｃには４つの
円形の穴が形成されており、４つ穴変形照明に用いられ
る。
ァイバ３７ａ1 ，３７ａ2 ，３７ａ3 ，……３７ａn
は、各出射端において、右側の光ファイバ束３７ｂを構
成する光ファイバ３７ｂ1 ，３７ｂ2 ，３７ｂ3 ，……
３７ｂn の出射端と１本おきにかつ円形に配されて、互
いに隣り合った状態とされている。すなわち、２つの光
ファイバ束１７ａ，１７ｂの出射端部３７ｃには４つの
円形の穴が形成されており、４つ穴変形照明に用いられ
る。
【００３５】なお、ここでは光源が２つの場合を示した
が、光源が３つ以上の場合も同様である。たとえば、図
８に示すように、光源の数を４にし、各光源に対応させ
て光ファイバ束を１つずつ配する。そして、１の光源に
対応する１の光ファイバ束を構成する光ファイバの出射
端Ａ1 ，Ａ2 ，Ａ3 ，Ａ4 ……を、他の３つの光源にそ
れぞれ対応する他の３つの光ファイバ束を構成する光フ
ァイバの出射端Ｂ1 ，Ｂ2 ，Ｂ3 ，Ｂ4 ……，Ｃ1 ，Ｃ
2 ，Ｃ3 ，Ｃ4 ……，Ｄ1 ，Ｄ2 ，Ｄ3 ，Ｄ4……と順
に隣り合った状態で円形に配する。このようにすると、
光源が２つの場合よりも、光の強度分布を均一にするこ
とができる。
が、光源が３つ以上の場合も同様である。たとえば、図
８に示すように、光源の数を４にし、各光源に対応させ
て光ファイバ束を１つずつ配する。そして、１の光源に
対応する１の光ファイバ束を構成する光ファイバの出射
端Ａ1 ，Ａ2 ，Ａ3 ，Ａ4 ……を、他の３つの光源にそ
れぞれ対応する他の３つの光ファイバ束を構成する光フ
ァイバの出射端Ｂ1 ，Ｂ2 ，Ｂ3 ，Ｂ4 ……，Ｃ1 ，Ｃ
2 ，Ｃ3 ，Ｃ4 ……，Ｄ1 ，Ｄ2 ，Ｄ3 ，Ｄ4……と順
に隣り合った状態で円形に配する。このようにすると、
光源が２つの場合よりも、光の強度分布を均一にするこ
とができる。
【００３６】このように、１の光源に対応する１の光フ
ァイバ束を構成する光ファイバを、その出射端におい
て、他の光源に対応する他の光ファイバ束を構成する光
ファイバの出射端と隣り合った状態に配することで、光
の強度分布を従来よりも均一にすることができるととも
に、複数の光源が経時変化することによって光分布に不
均一が生じるおそれを防止することができる。
ァイバ束を構成する光ファイバを、その出射端におい
て、他の光源に対応する他の光ファイバ束を構成する光
ファイバの出射端と隣り合った状態に配することで、光
の強度分布を従来よりも均一にすることができるととも
に、複数の光源が経時変化することによって光分布に不
均一が生じるおそれを防止することができる。
【００３７】
【発明の効果】本発明の請求項１記載の光縮小投影露光
装置は、上記のように、複数の光源と、その各光源から
取り出された単色光を単一の光ファイバに入射させてそ
れらの光を撚り合わせた光を、レティクルを介してステ
ッパレンズにより像を結ぶように構成したので、複数の
単色光に応じた結像位置での露光ができる。この結果、
解像劣化を防ぐことができ、しかも、従来のように露光
装置をメカニカルに移動させながら何回も露光を行う必
要がなく１回の露光で済み、露光時間を短縮することが
でき、コストも削減することができる。
装置は、上記のように、複数の光源と、その各光源から
取り出された単色光を単一の光ファイバに入射させてそ
れらの光を撚り合わせた光を、レティクルを介してステ
ッパレンズにより像を結ぶように構成したので、複数の
単色光に応じた結像位置での露光ができる。この結果、
解像劣化を防ぐことができ、しかも、従来のように露光
装置をメカニカルに移動させながら何回も露光を行う必
要がなく１回の露光で済み、露光時間を短縮することが
でき、コストも削減することができる。
【００３８】本発明の請求項２記載の光縮小投影露光装
置は、上記のように、光源の個数を必要なだけ増設する
ことができるので、必要に応じて光強度を大きくするこ
とができる。そして、光縮小投影露光装置のスループッ
トを向上させることができるとともに、高解像度を実現
することが可能になる。
置は、上記のように、光源の個数を必要なだけ増設する
ことができるので、必要に応じて光強度を大きくするこ
とができる。そして、光縮小投影露光装置のスループッ
トを向上させることができるとともに、高解像度を実現
することが可能になる。
【００３９】また、本発明の請求項２記載の光縮小投影
露光装置にあっては、光ファイバ束を構成する光ファイ
バを自在に撚り合わせることができるので、光ファイバ
束における入射端から出射端に至るまでの経路および出
射端における光ファイバの密度を任意に加減調整するこ
とができる。すなわち、たとえば、互いに異なる位相や
波長を有する複数種類の光を、それらの光源に対応する
光ファイバ束を構成する光ファイバの出射端に任意の密
度で任意の位置に出射させることができる。これによ
り、中心部と周辺部で光の強度分布を任意に変えること
なども可能になる。
露光装置にあっては、光ファイバ束を構成する光ファイ
バを自在に撚り合わせることができるので、光ファイバ
束における入射端から出射端に至るまでの経路および出
射端における光ファイバの密度を任意に加減調整するこ
とができる。すなわち、たとえば、互いに異なる位相や
波長を有する複数種類の光を、それらの光源に対応する
光ファイバ束を構成する光ファイバの出射端に任意の密
度で任意の位置に出射させることができる。これによ
り、中心部と周辺部で光の強度分布を任意に変えること
なども可能になる。
【００４０】さらに、本発明の請求項２記載の光縮小投
影露光装置によれば、光ファイバ束の出射端部の形状を
自由自在に形成することができるので、輪帯照明、２分
割照明、４分割照明、４つ穴変形照明などの、所望形状
の照明に対応することが可能になる。
影露光装置によれば、光ファイバ束の出射端部の形状を
自由自在に形成することができるので、輪帯照明、２分
割照明、４分割照明、４つ穴変形照明などの、所望形状
の照明に対応することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１に係る光縮小投影露光装置に
おける露光光学系の概略構成説明図。
おける露光光学系の概略構成説明図。
【図２】その光縮小投影露光装置における露光光学系の
作用を説明する作用説明図。
作用を説明する作用説明図。
【図３】その光縮小投影露光装置に用いられる光源の構
成説明図。
成説明図。
【図４】その光縮小投影露光装置に用いられる光源から
単色光を得るための構成を示す構成説明図。
単色光を得るための構成を示す構成説明図。
【図５】本発明の実施例２に係る光縮小投影露光装置に
おける露光光学系の概略構成説明図。
おける露光光学系の概略構成説明図。
【図６】その光縮小投影露光装置に用いられる光ファイ
バ束の変形例を示す構成説明図。
バ束の変形例を示す構成説明図。
【図７】本発明の実施例３に係る光縮小投影露光装置に
おける露光光学系の概略構成説明図。
おける露光光学系の概略構成説明図。
【図８】その光縮小投影露光装置に用いられる光ファイ
バ束の変形例を示す構成説明図。
バ束の変形例を示す構成説明図。
【図９】従来の光縮小投影露光装置の作用を説明する作
用説明図。
用説明図。
【図１０】従来の光縮小投影露光装置における露光光学
系の概略構成説明図。
系の概略構成説明図。
【図１１】その光縮小投影露光装置における各種の遮光
パターンを説明する説明図。
パターンを説明する説明図。
【図１２】従来の他の光縮小投影露光装置における露光
光学系の概略構成説明図。
光学系の概略構成説明図。
１ 光ファイバ ２ａ，２ｂ 光源 ３ａ，３ｂ 集光レンズ ４ コンデンサレンズ ５ レティクル ６ ステッパレンズ １２ａ，１２ｂ 光源 １３ａ，１３ｂ 集光用反射鏡 １７ａ，１７ｂ 光ファイバ束 ２０ 半導体ウェハ ２１ フォトレジスト ３２ａ，３２ｂ 光源 ３３ａ，３３ｂ 集光用反射鏡 ３７ａ，３７ｂ 光ファイバ束
Claims (2)
- 【請求項１】 複数の光源と、その各光源から取り出さ
れた単色光を単一の光ファイバに入射させる複数の集光
レンズと、その光ファイバからの出力光をレティクルに
導くコンデンサレンズと、そのレティクルを介して像を
結ぶためのステッパレンズとを同一光学系に備えてなる
光縮小投影露光装置。 - 【請求項２】 複数の光源と、複数本の光ファイバが束
ねられてなり前記複数の光源から出た光がそれぞれ入射
する複数の光ファイバ束とを備え、１の光ファイバ束を
構成する光ファイバが、その出射端において、他の光フ
ァイバ束を構成する光ファイバの出射端と隣り合った状
態に配されてなる光縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4293325A JPH0629190A (ja) | 1992-05-13 | 1992-10-30 | 光縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12045392 | 1992-05-13 | ||
| JP4-120453 | 1992-05-13 | ||
| JP4293325A JPH0629190A (ja) | 1992-05-13 | 1992-10-30 | 光縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0629190A true JPH0629190A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=26458033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4293325A Pending JPH0629190A (ja) | 1992-05-13 | 1992-10-30 | 光縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0629190A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5604636A (en) * | 1994-05-20 | 1997-02-18 | Ando Electric Co., Ltd. | Method of receiving light and light receiving module of less polarized light dependency |
| US5729331A (en) * | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
| US6157497A (en) * | 1993-06-30 | 2000-12-05 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
| KR100387419B1 (ko) * | 2001-05-30 | 2003-06-18 | 한국디엔에스 주식회사 | 웨이퍼 가장자리 노광 시스템 |
| KR100452519B1 (ko) * | 2000-08-25 | 2004-10-12 | 캐논 가부시끼가이샤 | 복수의 광원을 가진 조명장치와 이 조명장치를 가지는노광장치 |
| KR100497274B1 (ko) * | 2001-05-28 | 2005-07-01 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼 가장자리 노광 시스템 |
-
1992
- 1992-10-30 JP JP4293325A patent/JPH0629190A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5729331A (en) * | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
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| US6351305B1 (en) | 1993-06-30 | 2002-02-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method for transferring pattern onto a substrate |
| US6480262B1 (en) | 1993-06-30 | 2002-11-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus for illuminating a mask, method of manufacturing and using same, and field stop used therein |
| US6509954B1 (en) | 1993-06-30 | 2003-01-21 | Nikon Corporation | Aperture stop having central aperture region defined by a circular ARC and peripheral region with decreased width, and exposure apparatus and method |
| US6556278B1 (en) | 1993-06-30 | 2003-04-29 | Nikon Corporation | Exposure/imaging apparatus and method in which imaging characteristics of a projection optical system are adjusted |
| US6795169B2 (en) | 1993-06-30 | 2004-09-21 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
| US5604636A (en) * | 1994-05-20 | 1997-02-18 | Ando Electric Co., Ltd. | Method of receiving light and light receiving module of less polarized light dependency |
| KR100452519B1 (ko) * | 2000-08-25 | 2004-10-12 | 캐논 가부시끼가이샤 | 복수의 광원을 가진 조명장치와 이 조명장치를 가지는노광장치 |
| KR100497274B1 (ko) * | 2001-05-28 | 2005-07-01 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼 가장자리 노광 시스템 |
| KR100387419B1 (ko) * | 2001-05-30 | 2003-06-18 | 한국디엔에스 주식회사 | 웨이퍼 가장자리 노광 시스템 |
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