JPH06295969A - Ｉｃリードフレームの表面処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】装置全体の背を低くして処理工程の確認を迅速
に行えるようにしつつ大幅なコスト低減を図れるように
する。 【構成】オーバーフロー受け槽２０を平面形状が処理槽
１０を包囲可能に形成するとともに、ローラコンベヤ１
を形成する各ローラ２の回転支持部（４，４）をオーバ
ーフロー受け槽２０の両側外方に配設し、処理槽１０の
両側上部にローラ２を通すための上部開放凹部１７，１
７を形成しかつこの上部開放凹部１７，１７を通して装
着されたローラ２の当該上部開放凹部１７，１７からオ
ーバーフロー受け槽２０の槽壁２３，２４までの間に当
該ローラ２を伝わって外方に流れる処理液を下方に落下
させる液切鍔体７，７を取付けた構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＩＣリードフレームを
ローラコンベヤで搬送しながら前処理，めっき処理等を
行う表面処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来表面処理装置の構成を図３〜図６に
示す。これらの図において、１はローラコンベヤで、所
定ピッチｐで列配された複数個のローラ２を有してい
る。また、１０はオーバーフロー型処理槽、２０はオー
バーフロー受け槽である。また、３０Ａは液循環装置
で、供給管３１，回収管３２，循環ポンプ３３，管理槽
３５，各種弁類等からなる。

【０００３】上記液循環装置３０Ａの循環ポンプ３３を
駆動して、管理槽３５内の処理液を供給管３１等を通し
て処理槽１０へ循環供給すると、当該処理槽１０内には
上昇液流が発生して両堰１１ａ，１２ａ間に所定高さの
盛り上り処理液Ｑｕが形成される。この盛り上り処理液
Ｑｕ中にローラコンベヤ１の各ローラ２上を搬送される
ＩＣリードフレームＷを連続通過させつつその表面処理
が行われる。なお、処理槽１０からのオーバーフロー液
はオーバーフロー受け槽２０に排出され当該槽２０から
回収管２２等を通して管理槽３５に戻される。

【０００４】ここで、上記表面処理装置においては、図
４に示す如く、処理槽１０の搬送方向長さＬ１はローラ
コンベヤ１の搬送速度と表面処理に要する時間との関係
から決定されている。また、ローラコンベヤ１のローラ
ピッチｐは、ＩＣリードフレームＷの長さに応じて決定
される。そこで、処理槽１０に１又は２以上のローラ２
を配置しなければならないことが生じる。

【０００５】処理槽１０に配置されるローラ２の回転支
持部（８，８）は、図５に示す如く、当該処理槽１０内
（槽壁１３，１４内面）に設けられているのが一般的で
ある。同様に、オーバーフロー受け槽２０に配置される
ローラ２の回転支持部も当該オーバーフロー受け槽２０
内又は図６に示す如く両槽壁２３，２４の上縁部に設け
られる。

【０００６】ここに、オーバーフロー受け槽２０は、処
理槽１０からのオーバーフロー液を受けて液循環装置３
０Ａへ確実に流し込めればよいので、コスト低減等の観
点から機械的強度および加工精度は最少限に止めてい
る。処理槽２０も同様である。

【０００７】ところで、オーバーフロー受け槽２０の搬
送方向長さＬ２を長くして処理槽１０前後の複数又はほ
とんどのローラ２をオーバーフロー受け槽２０に持たせ
たいが、実現はされていない。なぜならば、上記最少限
的条件からオーバーフロー受け槽２０の槽壁２３，２４
は長くなればなるほど変形する度合が増大してしまうた
めに、ローラ送り精度が低下してＩＣリードフレームＷ
の円滑搬送に支障を来たすという事態が生じてしまうか
らである。

【０００８】かくして、従来のオーバーフロー受け槽２
０は、その本来目的，コスト低減等の観点から、各槽内
に上流側または下流側の各１個のローラ２を配置してい
るに過ぎない。オーバーフロー受け槽２０をローラ支持
するために搬送方向に長くすることは、レイアウトの縮
小化の観点からも許されないことである。よって、オー
バーフロー受け槽２０は小容量とされ、かつ液循環の円
滑化および処理液組成の安定化のために必要とされる大
量の処理液を保有することは管理槽３５を大きくするこ
とによって達成している。このために、管理槽３５は慣
習的にオーバーフロー槽２０の下方に設けている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ＩＣリードフ
レームの生産量が増大するとともにつまり普及拡大がさ
れるに伴って次のような問題点が指摘されている。すな
わち、上記従来構造によると、装置全体の背が大きくな
るため処理工程の確認に手間どり品質低下の一因とな
る。したがって、当該装置周辺に点検用の架台を設ける
ことになるが、この場合は、コスト高，保守点検困難，
作業安全性の確保困難、下側が汚れる等の不具合が誘発
される。

【００１０】これに対して、オーバーフロー受け槽２０
と管理槽３５とを一体化する、つまりオーバーフロー受
け槽２０で管理槽３５を兼用することにより背を低くす
ることが考えられるが、装置経済とローラコンベヤの構
成および送り精度の保障という相対問題を一挙に解決で
きないことから、結果的にはオーバーフロー受け槽２０
と管理槽３５とを分け、管理槽３５を大型化する上記従
来構造とし、かつ管理槽を処理槽の下に配設するという
妥協案としているのが実情である。

【００１１】本発明の目的は、装置全体の背を低くして
処理工程の確認を迅速に行えるようにしつつ大幅なコス
ト低減を達成することができるＩＣリードフレームの表
面処理装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本出願人は、各ローラの
回転支持部を処理槽およびオーバーフロー受け槽の両側
外方に配設して所要のローラ送り精度を確保し、かつオ
ーバーフロー受け槽を両回転支持部間のスペースを利用
して大容量とすることにより従来管理槽の役目も果たさ
せれば、ＩＣリードフレームの円滑搬送を確保しつつ装
置全体の背を低くすることが可能となるとの発想のもと
に試作機を製作して試験してみたが、この方法によると
ローラ位置が高くなってしまうため、ローラ上を搬送さ
れるＩＣリードフレームを完全処理可能な盛り上り処理
液を処理槽上に確立できず本末転倒となってしまうので
実用化できなかった。そこで、各ローラと各槽との位置
関係において槽形態を種々変えるなどして当該各ローラ
の配設位置を低くしてみたところ、今度は液漏れという
新たで厄介な問題が生じ実用化できなかった。

【００１３】そこで、本発明は、発想を転換し処理槽か
らのローラに沿う液漏れは許容するが、そのローラの回
転支持部に至る以前に強制的に下方に落下させる手立て
を講じることにより、始めて前記目的を達成できる構成
の表面処理装置を創成したものに係る。

【００１４】すなわち、本発明に係るＩＣリードフレー
ムの表面処理装置は、処理槽と，オーバーフロー受け槽
と，このオーバーフロー受け槽から吸込んだ処理液を処
理槽に循環供給する液循環装置と，ローラコンベヤとを
含み、処理槽上に形成された盛り上り処理液中にローラ
コンベヤで搬送されるＩＣリードフレームを連続通過さ
せつつその表面処理を行うＩＣリードフレームの表面処
理装置において、前記オーバーフロー受け槽を平面形状
が前記処理槽を包囲可能に形成するとともに、前記ロー
ラコンベヤを形成する各ローラの回転支持部をオーバー
フロー受け槽の両側外方に配設し、該処理槽の両側上部
にローラを通すための上部開放凹部を形成しかつこの上
部開放凹部を通して装着されたローラの当該上部開放凹
部からオーバーフロー受け槽の槽壁までの間に当該ロー
ラを伝わって外方に流れる処理液を下方に落下させる液
切鍔体を取付けたことを特徴とする。

【００１５】

【作用】上記構成による本発明では、液循環装置を駆動
させると、オーバーフロー受け槽に収容された処理液は
処理槽へ循環供給される。すると、処理槽内には上昇液
流が発生し盛り上り処理液が形成される。また、処理槽
からのオーバーフロー液はオーバーフロー受け槽に戻さ
れる。しかも、オーバーフロー受け槽を大容量とするこ
とができたので、液循環を円滑にかつ処理液組成を安定
化できる。

【００１６】かくして、ローラコンベヤを用いてＩＣリ
ードフレームを処理槽へ向けて搬送させると、処理槽上
に形成された盛り上り処理液中に入り上部開放凹部を通
して低く配設された各ローラによって当該盛り上り処理
液中を円滑に搬送通過させられ、かつＩＣリードフレー
ムの完全処理を長期に亘って安定して行える。この運転
中、処理液がローラを伝って処理槽の外側へ流れ出るが
液切鍔体によって強制的に下方に落下させられてオーバ
ーフロー受け槽に回収される。したがって、槽外への液
漏れが防止できるので、問題はない。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。本ＩＣリードフレームの表面処理装置は、図１お
よび図２に示す如く、基本的構成（ローラコンベヤ１，
処理槽１０，オーバーフロー受け槽２０，液循環装置３
０等）が従来例（図３）と同様とされており、各ローラ
２の回転支持部（４，４）を処理槽１０およびオーバー
フロー受け槽２０の両側外方に配設して所要のローラ送
り精度を確保し、かつオーバーフロー受け槽２０を両回
転支持部（４，４）間のスペースを積極的に利用するこ
とにより容量増大させて管理槽を兼用可能とし、さらに
処理液がローラ２を伝って槽外へ流れ出るのを液切鍔体
７を用いて防止可能に形成して、装置全体の背を低くし
て処理工程の確認を迅速に行えるようにしつつ大幅なコ
スト低減を達成できるようにしたものである。なお、従
来例（図３）と共通する構成要素については同一の符号
を付し、その説明を省略もしくは簡略化する。

【００１８】ここで、オーバーフロー受け槽２０は、図
１に示す如く、平面形状が処理槽１０を包囲可能に形成
されている。具体的には、オーバーフロー受け槽２０
は、処理槽１０の幅方向の周辺スペースを積極的に利用
するべく幅寸法（搬送方向と直交する方向の長さ）を増
大させかつ搬送方向長さはレイアウトの縮小化を図るた
めに短くしている。かかる構成により、オーバーフロー
受け槽２０は、大容量となり管理槽を兼用可能となる。
また、オーバーフロー受け槽２０に、処理槽１０からの
オーバーフロー液はもとより液切鍔体７でローラ２から
強制的に落下させられた処理液も確実に回収することが
できる。また、オーバーフロー受け槽２０は、コスト低
減等の観点から処理液の安定保持に支障を来たさない範
囲内でその機械的強度および加工精度は最少限に止めら
れている。なお、オーバーフロー受け槽２０の槽壁２
３，２４は、その上縁が各ローラ２よりも下方となるよ
うに高さが決定されている。

【００１９】また、処理槽１０の槽壁１３，１４の上部
には、ローラ２の配設位置を低くするための上部開放凹
部１７，１７が形成されている。この処理槽１０は、槽
壁１３，１４，図示しない上流側槽壁，下流側槽壁１２
および底部１６より形成されており、その容量はオーバ
ーフロー受け槽２０の容量を増大させるために盛り上り
処理液Ｑｕを安定して確立できる範囲内で最小とされて
いる。また、処理槽１０の槽壁１３，１４の下部には液
通過穴１５が設けられており処理槽１０の下方の空間
（処理槽１０の容積の約３倍）部分に処理液を収容でき
るようにしている。

【００２０】また、各ローラ２の回転支持部は、図２に
示す如く、オーバーフロー受け槽２０の両側外方に配設
された高剛性のローラ支持プレート４，４より形成され
ている。各ローラ支持プレート４は、ベース９上にオー
バーフロー受け槽２０の槽璧２３，２４に沿って強固に
取付けられており、その上部には各ローラ２の端部を回
転支持する軸受部５がローラ２の個数分だけ同一ピッチ
で設けられている。

【００２１】これにより、各槽１０，２０の機械的強度
・加工精度に関係なくＩＣリードフレームの円滑搬送に
必要なローラ送り精度を確保することができる。本実施
例では、各ローラ２は、それぞれの最上部を結ぶ面（ワ
ーク搬送面）が平滑となりかつ処理槽１０ではローラ位
置が低くなるように上部開放凹部１７，１７を通されて
ローラ支持プレート４，４の各軸受部５，５に回転支持
されている。

【００２２】また、液切鍔体７，７は、上部開放凹部１
７，１７を通して装着されたローラ２の当該上部開放凹
部１７，１７からオーバーフロー受け槽２０の槽壁２
３，２４までの間に取付けられており、当該ローラ２を
伝わって槽外へ流れる処理液を方向転換して下方に落下
させる機能を有している。

【００２３】かかる液切鍔体７，７により、ローラ２を
上部開放凹部１７，１７を通して配設位置を低くしたこ
とによる処理液の漏れを一掃することができ、オーバー
フロー受け槽２０を大容量として管理槽を兼用させるこ
とが実用上可能であることが保障される。本実施例で
は、各液切鍔体７は、より一段と効果的に液漏れを防止
するために各ローラ２に沿って三段形状とされており、
各ローラ２の上部開放凹部１７および槽壁２３（２４）
間部分の中央部にパッキンを介して装着されている。

【００２４】また、上記した如く、オーバーフロー受け
槽２０で管理槽を兼用させる構成としたことより、液循
環装置３０を供給管３２，循環ポンプ３３，モータ３４
等から構成し、モータ３４により循環ポンプ３３を駆動
して大容量のオーバーフロー受け槽２０内の処理液を供
給管３１等を介して処理槽１０へ循環供給している。な
お、液循環装置３０の各構成部品は、オーバーフロー受
け槽２０の近傍に集中して配設されている。また、液循
環装置３０の供給管３１は、処理槽１０がオーバーフロ
ー受け槽２０に内包されていることより極めて短くな
る。また、循環ポンプ３３は、吐出水頭の減少により負
荷が大幅に軽減されるので小型のポンプを使用してい
る。

【００２５】なお、図２において、４１は回転駆動機構
である。回転駆動機構４１は、各ローラ２の一端部に装
着された歯付きプーリ４２と，各プーリ４２と噛合しつ
つ図中矢印方向に回動される歯付きベルト４３と，歯付
きベルト４３を回動するための駆動モータ４４とを含み
構成されている。したがって、駆動モータ４４を駆動す
ると、各ローラ２は、同期的に同一方向に回転してＩＣ
リードフレームを搬送することができる。

【００２６】次に、作用について説明する。液循環装置
３０のモータ３４を駆動して循環ポンプ３３を作動させ
ることにより、オーバーフロー受け槽２０に収容された
処理液は供給管３１を通して処理槽１０へ供給され、当
該処理槽１０上には所定高さの盛り上り処理液Ｑｕが形
成される。また、処理槽１０からのオーバーフロー液
は、オーバーフロー受け槽２０に戻される。しかも、オ
ーバーフロー受け槽２０を大容量としたので、液循環を
円滑にかつ処理液組成を安定化できる。

【００２７】かくして、ローラコンベヤ１を用いてＩＣ
リードフレームを処理槽１０へ向けて搬送させると、処
理槽１０に形成された盛り上り処理液Ｑｕ中に入り各ロ
ーラ２によって円滑に当該盛り上り処理液Ｑｕ中を搬送
通過させられ表面処理される。ここで、オーバーフロー
受け槽２０によって処理液組成が安定化されているの
で、ＩＣリードフレームの完全処理を長期に亘って安定
して行える。

【００２８】この運転中、処理槽１０内の処理液がロー
ラ２を伝って外方へ流れ出るが液切鍔体７によって強制
的に下方に落下させられてオーバーフロー受け槽２０に
回収される。したがって、槽外への液漏れが防止できる
ので問題はない。

【００２９】しかして、この実施例によれば、オーバー
フロー受け槽２０を平面形状が処理槽１０を包囲可能に
形成するとともに、ローラコンベヤ１を形成する各ロー
ラ２の回転支持部（４，４）をオーバーフロー受け槽２
０の両側外方に配設し、処理槽１０の両側上部にローラ
２を通すための上部開放凹部１７，１７を形成しかつこ
の上部開放凹部１７，１７を通して装着されたローラ２
の当該上部開放凹部１７，１７からオーバーフロー受け
槽２０の槽壁２３，２４までの間に当該ローラ２を伝わ
って外方に流れる処理液を下方に落下させる液切鍔体７
を取付けた構成としたので、次のような効果を奏する。

【００３０】 オーバーフロー受け槽２０で管理槽を
兼用することができ大幅なコスト低減を図ることができ
る。特に、各槽１０，２０の機械的強度・加工精度を最
少限としたので、より一層のコスト低減を図ることがで
きる。

【００３１】 また、回転支持部（４，４）で各ロー
ラ２の送り精度が確保され、かつ大容量のオーバーフロ
ー受け槽２０で処理液の組成を安定化できるのでＩＣリ
ードフレームを高品質に表面処理することができる。

【００３２】 また、オーバーフロー受け槽２０を容
量を大きくしつつ搬送方向長さを短くすることができレ
イアウトの縮小化を図ることができる。この点からも大
幅なコスト低減を図ることができる。

【００３３】 さらに、オーバーフロー受け槽２０で
管理槽を兼用することができるので装置全体の背が低く
なり、点検用の架台を用いることなく品種切替作業やＩ
Ｃリードフレームの搬送状況を監視できる。つまり、処
理工程の確認を迅速に行える。この点からも、大幅なコ
スト低減と高品質処理を図ることができる。しかも、保
守点検が容易となり、架台の乗り降りの際の事故も一掃
できる。さらに下側が汚れるといった事態も生じない。

【００３４】 さらに、液循環装置３０の供給管３１
が短小となるとともに、ポンプ３３が小型化されるの
で、装置全体の小型化を一段と図ることができる。ま
た、液循環装置３０の各構成部品をオーバーフロー受け
槽２０の近傍に集中配設したので保守点検が容易とな
る。

【００３５】 さらにまた、処理槽１０下方の空間部
分にも処理液を収容できるようにしたので、オーバーフ
ロー受け槽２０に一段と処理液を安定的に収容すること
ができる。そのため、より一層の液循環の円滑化および
処理液組成の安定化を図ることができる。この点からも
ＩＣリードフレームＷの高品質処理が達成される。

【００３６】なお、上記実施例では、液切鍔体７をロー
ラ２の上部開放凹部１７および槽壁２３（２４）間部分
の中央部にパッキンを介して装着したが、ローラ２を伝
ってきた処理液を強制的に方向転換させて下方へ落下さ
せることができればどのように構成してもよい。例え
ば、液切鍔体７をローラ２の上部開放凹部１７の近傍部
分に装着してもよい。また、液切鍔体７をローラ２と一
体に形成してもよい。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、オーバーフロー受け槽
を平面形状が処理槽を包囲可能に形成するとともに、ロ
ーラコンベヤを形成する各ローラの回転支持部をオーバ
ーフロー受け槽の両側外方に配設し、処理槽の両側上部
にローラを通すための上部開放凹部を形成しかつこの上
部開放凹部を通して装着されたローラの当該上部開放凹
部からオーバーフロー受け槽の槽壁までの間に当該ロー
ラを伝わって外方に流れる処理液を下方に落下させる液
切鍔体を取付けた構成としたので、液漏れ防止およびＩ
Ｃリードフレームの完全処理を確約しつつオーバーフロ
ー受け槽を大容量として管理槽を兼用可能とすることが
できる。これにより、装置全体の背を低くして処理工程
の確認を迅速に行えるようにしつつ大幅なコスト低減を
図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例を説明するための一部を切り欠
いた斜視図である。

【図２】同じく、ローラコンベヤとローラ支持プレート
との位置関係を説明するための斜視図である。

【図３】従来表面処理装置の構成を説明するための図で
ある。

【図４】従来表面処理装置におけるローラコンベヤの処
理槽およびオーバーフロー受け槽に対する配設状況を説
明するための平面図である。

【図５】従来表面処理装置におけるローラ支持方法を説
明するための図である。

【図６】従来表面処理装置におけるローラ支持方法の別
の例を説明するための図である。

【符号の説明】

１ ローラコンベヤ ２ ローラ ４ ローラ支持プレート（回転支持部） ７ 液切鍔体 １０ 処理槽 １７ 上部開放凹部 ２０ オーバーフロー受け槽 ３０ 液循環装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/50 Ｄ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理槽と，オーバーフロー受け槽と，こ
   のオーバーフロー受け槽から吸込んだ処理液を処理槽に
   循環供給する液循環装置と，ローラコンベヤとを含み、
   処理槽上に形成された盛り上り処理液中にローラコンベ
   ヤで搬送されるＩＣリードフレームを連続通過させつつ
   その表面処理を行うＩＣリードフレームの表面処理装置
   において、 前記オーバーフロー受け槽を平面形状が前記処理槽を包
   囲可能に形成するとともに、前記ローラコンベヤを形成
   する各ローラの回転支持部をオーバーフロー受け槽の両
   側外方に配設し、該処理槽の両側上部にローラを通すた
   めの上部開放凹部を形成しかつこの上部開放凹部を通し
   て装着されたローラの当該上部開放凹部からオーバーフ
   ロー受け槽の槽壁までの間に当該ローラを伝わって外方
   に流れる処理液を下方に落下させる液切鍔体を取付けた
   ことを特徴とするＩＣリードフレームの表面処理装置。