JPH06296971A - 超純水を使用する生産システム及び生産システムの稼動方法 - Google Patents
超純水を使用する生産システム及び生産システムの稼動方法Info
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- JPH06296971A JPH06296971A JP8955593A JP8955593A JPH06296971A JP H06296971 A JPH06296971 A JP H06296971A JP 8955593 A JP8955593 A JP 8955593A JP 8955593 A JP8955593 A JP 8955593A JP H06296971 A JPH06296971 A JP H06296971A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 67
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 66
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims abstract description 66
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 74
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 12
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 abstract 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 13
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006266 hibernation Effects 0.000 description 1
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】 超純水を使用する生産システムに関し、長期
にわたるシステム停止後、短時間で再稼動を可能とした
生産システムの提供を目的とする。 【構成】 超純水を製造する装置１０とこの装置１０で
製造された超純水を循環させるメイン配管１２とメイン
配管１２から生産設備１５に超純水を分岐する分岐配管
１６とを含む超純水を使用する生産システムにおいて、
超純水製造装置１０または、その超純水の供給側にフッ
化水素酸を注入するフッ化水素酸注入部１３を設けたこ
とを特徴とする。 【効果】 長期にわたるシステム停止後、短時間でシス
テムの再稼動が可能で、排水の処理コストも安くてす
み、生産設備内のフィルターの目詰まりによる交換も不
要である。
にわたるシステム停止後、短時間で再稼動を可能とした
生産システムの提供を目的とする。 【構成】 超純水を製造する装置１０とこの装置１０で
製造された超純水を循環させるメイン配管１２とメイン
配管１２から生産設備１５に超純水を分岐する分岐配管
１６とを含む超純水を使用する生産システムにおいて、
超純水製造装置１０または、その超純水の供給側にフッ
化水素酸を注入するフッ化水素酸注入部１３を設けたこ
とを特徴とする。 【効果】 長期にわたるシステム停止後、短時間でシス
テムの再稼動が可能で、排水の処理コストも安くてす
み、生産設備内のフィルターの目詰まりによる交換も不
要である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程中の洗
浄工程のように超純水を使用する生産システム及びその
稼動方法に関する。
浄工程のように超純水を使用する生産システム及びその
稼動方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハの製造工程では、その洗
浄に一般的に超純水が用いられる。その生産システムの
一例を図−２から説明する。図において、１は、超純水
を製造する装置で、補給水供給配管２から供給された一
次純水を更に精製して、高純度の超純水を得、メイン配
管３に供給している。４ａ，４ｂ，４ｃは超純水を使用
する生産設備で、それぞれ分岐配管５ａ，５ｂ，５ｃを
介して、メイン配管３に接続されている。６ａ，６ｂ，
６ｃは分岐配管５ａ，５ｂ，５ｃの中間に挿入され、開
閉するバルブを示す。生産設備４には図示しないが、異
物除去用のフィルターを備えている。
浄に一般的に超純水が用いられる。その生産システムの
一例を図−２から説明する。図において、１は、超純水
を製造する装置で、補給水供給配管２から供給された一
次純水を更に精製して、高純度の超純水を得、メイン配
管３に供給している。４ａ，４ｂ，４ｃは超純水を使用
する生産設備で、それぞれ分岐配管５ａ，５ｂ，５ｃを
介して、メイン配管３に接続されている。６ａ，６ｂ，
６ｃは分岐配管５ａ，５ｂ，５ｃの中間に挿入され、開
閉するバルブを示す。生産設備４には図示しないが、異
物除去用のフィルターを備えている。
【０００３】半導体ウェーハは、不所要の不純物が付着
するのを嫌うため、従来よりその洗浄には超純水が用い
られていたが、超純水中に所定濃度のフッ化水素酸を添
加した純水を用いることにより、洗浄と同時に自然酸化
膜の成長を抑制できることが特開平４−１０２３２３号
公報により知られている。
するのを嫌うため、従来よりその洗浄には超純水が用い
られていたが、超純水中に所定濃度のフッ化水素酸を添
加した純水を用いることにより、洗浄と同時に自然酸化
膜の成長を抑制できることが特開平４−１０２３２３号
公報により知られている。
【０００４】その生産システムを図−３から説明する。
図において、図−２と同一符号は同一物を示し、説明を
省略する。図−２と相異するのは、フッ化水素酸注入部
７をメイン配管３の基部に接続したことのみである。
図において、図−２と同一符号は同一物を示し、説明を
省略する。図−２と相異するのは、フッ化水素酸注入部
７をメイン配管３の基部に接続したことのみである。
【０００５】尚、このシステムで超純水を用いなければ
ならない場合には、メイン配管３と、生産設備４ｄ，４
ｅとを接続する分岐配管５ｄの間に、イオン交換部８と
フィルター９を挿入し、純水中のフッ化水素酸を除去
し、超純水に戻して使用している。
ならない場合には、メイン配管３と、生産設備４ｄ，４
ｅとを接続する分岐配管５ｄの間に、イオン交換部８と
フィルター９を挿入し、純水中のフッ化水素酸を除去
し、超純水に戻して使用している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】これらの生産システム
は、工場設備の長期休止時、用力供給設備の点検時に
は、他の生産設備と同時に停止させられる。
は、工場設備の長期休止時、用力供給設備の点検時に
は、他の生産設備と同時に停止させられる。
【０００７】このとき、図−２システムでは、純水中に
残存する生菌が長期にわたるシステム停止中に超純水製
造装置１から生産設備４に至る純水供給経路内で増殖す
る。このため、システム再稼動時に、超純水製造装置１
中に純水タンク（図示せず）に過酸化水素水を濃度が１
〜３％となるよう注入し、純水供給経路内を滅菌し、過
酸化水素水および死菌を含む水を排出した後生産設備４
を稼動するようにしている。そのため生産設備４を所定
の期日に稼動させるためには、滅菌作業を含む前作業を
先行して行わなければならず、工数がかかるうえ、高濃
度の過酸化水素水を含む廃液の処理が必要で、菌によっ
てフィルターが目詰りすると、フィルターの交換も必要
となり、コストが高くつくという問題があった。
残存する生菌が長期にわたるシステム停止中に超純水製
造装置１から生産設備４に至る純水供給経路内で増殖す
る。このため、システム再稼動時に、超純水製造装置１
中に純水タンク（図示せず）に過酸化水素水を濃度が１
〜３％となるよう注入し、純水供給経路内を滅菌し、過
酸化水素水および死菌を含む水を排出した後生産設備４
を稼動するようにしている。そのため生産設備４を所定
の期日に稼動させるためには、滅菌作業を含む前作業を
先行して行わなければならず、工数がかかるうえ、高濃
度の過酸化水素水を含む廃液の処理が必要で、菌によっ
てフィルターが目詰りすると、フィルターの交換も必要
となり、コストが高くつくという問題があった。
【０００８】一方図−３システムでは、長期にわたりシ
ステムを停止させた場合、メイン配管３および生産設備
４ａ，４ｂ，４ｃに至る純水供給経路ではフッ化水素酸
により生菌は存在しない。しかしながら超純水製造装置
１内およびイオン交換部８から生産設備４ｄ，４ｅに至
る純水供給経路では生菌が増殖し得る環境であるため、
図−２システムと同様の問題があった。
ステムを停止させた場合、メイン配管３および生産設備
４ａ，４ｂ，４ｃに至る純水供給経路ではフッ化水素酸
により生菌は存在しない。しかしながら超純水製造装置
１内およびイオン交換部８から生産設備４ｄ，４ｅに至
る純水供給経路では生菌が増殖し得る環境であるため、
図−２システムと同様の問題があった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題の解決
を目的として提案されたもので、超純水を製造する装置
と、超純水製造装置で製造された超純水を循環させるメ
イン配管と、メイン配管から生産設備に超純水を分岐す
る分岐配管とを含む超純水を使用する生産システムにお
いて、超純水製造装置または、その超純水の供給側にフ
ッ化水素酸を注入するフッ化水素酸注入部を設けたこと
を特徴とする超純水を使用する生産システムを提供す
る。
を目的として提案されたもので、超純水を製造する装置
と、超純水製造装置で製造された超純水を循環させるメ
イン配管と、メイン配管から生産設備に超純水を分岐す
る分岐配管とを含む超純水を使用する生産システムにお
いて、超純水製造装置または、その超純水の供給側にフ
ッ化水素酸を注入するフッ化水素酸注入部を設けたこと
を特徴とする超純水を使用する生産システムを提供す
る。
【００１０】また超純水供給経路中のフッ化水素酸濃度
を所定レベルに設定した後、生産システムの運転を停止
し、生産システムの運転再開時に超純水供給経路のフッ
化水素酸濃度が所定レベル以下になった後、生産設備を
再稼動させることを特徴とする超純水を使用する生産シ
ステムの稼動方法も提供する。
を所定レベルに設定した後、生産システムの運転を停止
し、生産システムの運転再開時に超純水供給経路のフッ
化水素酸濃度が所定レベル以下になった後、生産設備を
再稼動させることを特徴とする超純水を使用する生産シ
ステムの稼動方法も提供する。
【００１１】
【作用】上記構成によれば、超純水製造装置から出て、
この装置に戻るメイン配管を含む純水供給経路にフッ化
水素酸を、注入させることができるため、システムを長
期にわたって停止させても生菌の増殖がなく、フッ化水
素酸は、過酸化水素よりも低濃度で殺菌することができ
るのでシステム再稼動時に、洗浄が容易であり生産設備
を速やかに再稼動させることができる。
この装置に戻るメイン配管を含む純水供給経路にフッ化
水素酸を、注入させることができるため、システムを長
期にわたって停止させても生菌の増殖がなく、フッ化水
素酸は、過酸化水素よりも低濃度で殺菌することができ
るのでシステム再稼動時に、洗浄が容易であり生産設備
を速やかに再稼動させることができる。
【００１２】
【実施例】以下に本発明の実施例を図−１から説明す
る。図において、１０は超純水製造装置で、純水タンク
１０ａと紫外線照射部１０ｂとイオン交換部１０ｃとフ
ィルター１０ｄが配管（符号なし）により直列的に接続
されている。
る。図において、１０は超純水製造装置で、純水タンク
１０ａと紫外線照射部１０ｂとイオン交換部１０ｃとフ
ィルター１０ｄが配管（符号なし）により直列的に接続
されている。
【００１３】この超純水製造装置１０には、補給水供給
配管１１から供給された１次純水が、純水タンク１０ａ
に接続され、フィルター１０ｄから出た超純水は、メイ
ン配管１２の一端に供給され、他端から排出される超純
水は、純水タンク１０ａに戻される。この超純水製造装
置１０は更に、イオン交換部１０ｃの両端に、連動する
三方弁１０ｅ，１０ｆが配置され、各三方弁間をバイパ
ス配管１０ｇで接続し、イオン交換部１０ｃを選択的に
バイパス可能としている。
配管１１から供給された１次純水が、純水タンク１０ａ
に接続され、フィルター１０ｄから出た超純水は、メイ
ン配管１２の一端に供給され、他端から排出される超純
水は、純水タンク１０ａに戻される。この超純水製造装
置１０は更に、イオン交換部１０ｃの両端に、連動する
三方弁１０ｅ，１０ｆが配置され、各三方弁間をバイパ
ス配管１０ｇで接続し、イオン交換部１０ｃを選択的に
バイパス可能としている。
【００１４】１３はフッ化水素酸を超純水製造装置１０
に注入するフッ化水素酸注入部で、図示例ではシステム
停止時に純水タンク１０ａと紫外線照射部１０ｂの間の
配管中へフッ化水素酸を所定の濃度となるように供給す
る。
に注入するフッ化水素酸注入部で、図示例ではシステム
停止時に純水タンク１０ａと紫外線照射部１０ｂの間の
配管中へフッ化水素酸を所定の濃度となるように供給す
る。
【００１５】１４はメイン配管１２の送り側と戻り側を
連通するサブメイン配管、１５ａ〜ｆは生産設備でメイ
ン配管１２およびサブメイン配管１４に沿って配置さ
れ、各配管に分岐配管１６ａ〜ｆを介して接続されてい
る。この分岐配管１６ａ〜ｆには、バルブ（符号なし）
が挿入され、生産設備１５ａ〜ｆには、図示しないが異
物除去用のフィルターが備えてある。
連通するサブメイン配管、１５ａ〜ｆは生産設備でメイ
ン配管１２およびサブメイン配管１４に沿って配置さ
れ、各配管に分岐配管１６ａ〜ｆを介して接続されてい
る。この分岐配管１６ａ〜ｆには、バルブ（符号なし）
が挿入され、生産設備１５ａ〜ｆには、図示しないが異
物除去用のフィルターが備えてある。
【００１６】１７は、メイン配管１２の戻り部に配置さ
れ純水中のフッ化水素酸濃度を検出するセンサーを示
す。
れ純水中のフッ化水素酸濃度を検出するセンサーを示
す。
【００１７】以下にこのシステムの動作を説明する。ま
ず、フッ化水素酸注入部１３の動作を停止させ、三方弁
１０ｅ，１０ｆをイオン交換部１０ｃ側に接続し、補給
水供給配管１１から純水タンク１０ａに供給された１次
純水を紫外線照射部１０ｂに送り、紫外線により純水中
の生菌を殺菌し、イオン交換部１０ｃにより、イオンを
除去し、フィルター１０ｄにより死菌を含む異物を除去
し超純水を得る。この超純水はメイン配管１２およびサ
ブメイン配管１４に供給され、分岐配管１６を介して生
産設備１５に供給され、超純水を使用した処理が行われ
る。
ず、フッ化水素酸注入部１３の動作を停止させ、三方弁
１０ｅ，１０ｆをイオン交換部１０ｃ側に接続し、補給
水供給配管１１から純水タンク１０ａに供給された１次
純水を紫外線照射部１０ｂに送り、紫外線により純水中
の生菌を殺菌し、イオン交換部１０ｃにより、イオンを
除去し、フィルター１０ｄにより死菌を含む異物を除去
し超純水を得る。この超純水はメイン配管１２およびサ
ブメイン配管１４に供給され、分岐配管１６を介して生
産設備１５に供給され、超純水を使用した処理が行われ
る。
【００１８】このシステムを長期にわたる休止状態にす
る前に生産設備１５で超純水を使用した処理が完了した
後、三方弁１０ｅ，１０ｆをバイパス配管１０ｇ側に切
替え、フッ化水素酸注入部１３を作動させ、フッ化水素
酸を、超純水製造装置１０内に注入し、紫外線照射部１
０ｂ、バイパス配管１０ｇ、フィルター１０ｄを通して
メイン配管１２にフッ化水素酸を含む純水を送り込み、
生産設備１５を通して外部へ排出すると共に、残りの純
水をメイン配管１２を通して、純水タンク１０ａに戻
す。この時、センサー１７がフッ化水素酸の存在を検知
し、この検知出力に基づいて、補給供給配管１１からの
補給水の供給を停止させる。これにより、メイン配管１
２中のフッ化水素酸濃度は徐々に上昇し、センサー１７
が例えば、１００ppm 以下の所定の濃度に達したことを
検知すると、フッ化水素注入部１３の動作を停止させ、
システム全体の動作を停止させ、長期にわたる休止状態
に入る。
る前に生産設備１５で超純水を使用した処理が完了した
後、三方弁１０ｅ，１０ｆをバイパス配管１０ｇ側に切
替え、フッ化水素酸注入部１３を作動させ、フッ化水素
酸を、超純水製造装置１０内に注入し、紫外線照射部１
０ｂ、バイパス配管１０ｇ、フィルター１０ｄを通して
メイン配管１２にフッ化水素酸を含む純水を送り込み、
生産設備１５を通して外部へ排出すると共に、残りの純
水をメイン配管１２を通して、純水タンク１０ａに戻
す。この時、センサー１７がフッ化水素酸の存在を検知
し、この検知出力に基づいて、補給供給配管１１からの
補給水の供給を停止させる。これにより、メイン配管１
２中のフッ化水素酸濃度は徐々に上昇し、センサー１７
が例えば、１００ppm 以下の所定の濃度に達したことを
検知すると、フッ化水素注入部１３の動作を停止させ、
システム全体の動作を停止させ、長期にわたる休止状態
に入る。
【００１９】この状態では、システム全体の純水中にフ
ッ化水素酸が所定の濃度で存在するため、システム中に
存在する生菌を完全に殺すことができ、当然、菌の発生
やその増殖も生じない。
ッ化水素酸が所定の濃度で存在するため、システム中に
存在する生菌を完全に殺すことができ、当然、菌の発生
やその増殖も生じない。
【００２０】システムの運転再開は以下のように行われ
る。まず、補給水供給配管１１から１次純水を、純水タ
ンク１０ａに送り込み、超純水製造装置１０を動作させ
る。このとき、イオン交換部１０ｃはバイパス配管１０
ｇによりパイパスされている。これにより、フッ化水素
酸を含む純水は、メイン配管１２に送られ、生産設備１
５を通って、外部へ排出されると共に、残りの純水は、
純水タンク１０ａに戻されフッ化水素酸濃度を下げ、セ
ンサー１７が所定の濃度に下がったことを検知すると、
三方弁１０ｅ，１０ｆをバイパス配管１０ｇ側からイオ
ン交換部１０ｃ側に切換え、超純水製造装置１０を正常
動作状態とする。そして、センサー１７がフッ化水素酸
濃度が０に近い例えば１ppb 以下になったことを検知し
たら、生産設備１５を再稼動させ、システム全体を正常
動作状態とする。
る。まず、補給水供給配管１１から１次純水を、純水タ
ンク１０ａに送り込み、超純水製造装置１０を動作させ
る。このとき、イオン交換部１０ｃはバイパス配管１０
ｇによりパイパスされている。これにより、フッ化水素
酸を含む純水は、メイン配管１２に送られ、生産設備１
５を通って、外部へ排出されると共に、残りの純水は、
純水タンク１０ａに戻されフッ化水素酸濃度を下げ、セ
ンサー１７が所定の濃度に下がったことを検知すると、
三方弁１０ｅ，１０ｆをバイパス配管１０ｇ側からイオ
ン交換部１０ｃ側に切換え、超純水製造装置１０を正常
動作状態とする。そして、センサー１７がフッ化水素酸
濃度が０に近い例えば１ppb 以下になったことを検知し
たら、生産設備１５を再稼動させ、システム全体を正常
動作状態とする。
【００２１】これにより、システム停止時に、純水供給
経路内で生菌が存在せず、菌が生産設備１５内にフィル
ターに目詰まりすることなく、フィルターの交換も不要
である。
経路内で生菌が存在せず、菌が生産設備１５内にフィル
ターに目詰まりすることなく、フィルターの交換も不要
である。
【００２２】また、フッ化水素酸の濃度は、従来滅菌に
使用された過酸化水素水の濃度に比して、数１００〜数
１００分の１ですみ、排水の処理コストも大幅に低減で
きる。
使用された過酸化水素水の濃度に比して、数１００〜数
１００分の１ですみ、排水の処理コストも大幅に低減で
きる。
【００２３】更に、従来システムでは再稼動に先行し
て、純水供給経路内の生菌を殺菌処理する必要があっ
て、再稼動までに時間を要していたが、本発明によれ
ば、時間を要する殺菌処理が全く不要で、短時間で再稼
動が可能である。
て、純水供給経路内の生菌を殺菌処理する必要があっ
て、再稼動までに時間を要していたが、本発明によれ
ば、時間を要する殺菌処理が全く不要で、短時間で再稼
動が可能である。
【００２４】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、長期にわ
たるシステム停止後、短時間でシステムの再稼動が可能
で、排水の処理コストも安くてすみ、生産設備内のフィ
ルターの目詰まりによる交換も不要であるという効果が
得られる。
たるシステム停止後、短時間でシステムの再稼動が可能
で、排水の処理コストも安くてすみ、生産設備内のフィ
ルターの目詰まりによる交換も不要であるという効果が
得られる。
【図１】 本発明による超純水を使用する生産システム
の概略説明図
の概略説明図
【図２】 従来の超純水を使用する生産システムの説明
図
図
【図３】 フッ化水素酸を含む超純水を使用する生産シ
ステムの説明図
ステムの説明図
１０ 超純水製造装置 １０ａ 純水タンク １０ｂ 紫外線照射部 １０ｃ イオン交換部 １０ｄ フィルター １０ｇ バイパス配管 １１ 補給水供給配管 １２ メイン配管 １３ フッ化水素酸注入部 １４ サブメイン配管 １５ 生産設備 １６ 分岐配管 １７ センサー
Claims (8)
- 【請求項１】超純水を製造する装置と、超純水製造装置
で製造された超純水を循環させるメイン配管と、メイン
配管から生産設備に超純水を分岐する分岐配管とを含む
超純水を使用する生産システムにおいて、超純水製造装
置または、その超純水の供給側にフッ化水素酸を注入す
るフッ化水素酸注入部を設けたことを特徴とする超純水
を使用する生産システム。 - 【請求項２】フッ化水素酸が添加された超純水のフッ化
水素酸濃度が、０〜１００ppm に設定されることを特徴
とする請求項１に記載の超純水を使用する生産システ
ム。 - 【請求項３】メイン配管の送り側と戻り側をサブメイン
配管にて連通すると共に、このサブメイン配管から分岐
配管を介して生産設備に接続したことを特徴とする請求
項１に記載の超純水を使用する生産システム。 - 【請求項４】フッ化水素酸注入部は、超純水製造装置の
運転停止前に、生産設備を含む超純水供給経路中のフッ
化水素濃度が所定のレベルとなるように、フッ化水素酸
を注入することを特徴とする請求項２に記載の超純水を
使用する生産システム。 - 【請求項５】メイン配管戻り部にフッ化水素酸濃度を検
出するセンサーを設け、このセンサーの出力に基づい
て、生産システムの運転を停止することを特徴とする請
求項４に記載の超純水を使用する生産システム。 - 【請求項６】メイン配管戻り部のセンサー出力に基づい
て、純水タンクへの補給水の供給を停止することを特徴
とする請求項５に記載の超純水を使用する生産システ
ム。 - 【請求項７】超純水生産装置が純水タンクと、イオン交
換部と、フィルターを含み、イオン交換部に選択的に切
換可能なバイパスを設けたことを特徴とする請求項１に
記載の超純水を使用する生産システム。 - 【請求項８】超純水供給経路中のフッ化水素酸濃度を所
定レベルに設定した後、生産システムの運転を停止し、
生産システムの運転再開時に超純水供給経路のフッ化水
素酸濃度が所定レベル以下になった後、生産設備を再稼
動させることを特徴とする超純水を使用する生産システ
ムの稼動方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8955593A JPH06296971A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | 超純水を使用する生産システム及び生産システムの稼動方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8955593A JPH06296971A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | 超純水を使用する生産システム及び生産システムの稼動方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06296971A true JPH06296971A (ja) | 1994-10-25 |
Family
ID=13974074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8955593A Pending JPH06296971A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | 超純水を使用する生産システム及び生産システムの稼動方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06296971A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12122702B2 (en) | 2022-03-22 | 2024-10-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ultrapure water supply apparatus, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02233194A (ja) * | 1989-03-06 | 1990-09-14 | Morita Kagaku Kogyo Kk | 超純水ラインの滅菌方法 |
-
1993
- 1993-04-16 JP JP8955593A patent/JPH06296971A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02233194A (ja) * | 1989-03-06 | 1990-09-14 | Morita Kagaku Kogyo Kk | 超純水ラインの滅菌方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12122702B2 (en) | 2022-03-22 | 2024-10-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ultrapure water supply apparatus, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same |
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