JPH06298780A - 均一触媒の配位子としてのフェロセンジホスフィン - Google Patents

均一触媒の配位子としてのフェロセンジホスフィン

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JPH06298780A
JPH06298780A JP6026612A JP2661294A JPH06298780A JP H06298780 A JPH06298780 A JP H06298780A JP 6026612 A JP6026612 A JP 6026612A JP 2661294 A JP2661294 A JP 2661294A JP H06298780 A JPH06298780 A JP H06298780A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ラセミ化合物および立体異性体の形態にある
1−〔2−(ホスフィノ)フェロセニル〕アルキリデン
ホスフィン、それらの製法、これらの配位子を含むイリ
ジウムおよびロジウム錯体ならびに、プロキラルな不飽
和化合物の均質水素化のためのエナンチオ選択性水素化
触媒としてのそれらの錯体の用途を提供すること。 【構成】 上記ホスフィンは、一般式(I) 【化17】 で示され、例えば{(S)−1−〔(R)−2(ジ−パ
ラ−トリルホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジシク
ロヘキシルホスフィンである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ラセミ化合物および立
体異性体の形態にある1−〔2−(ホスフィノ)フェロ
セニル〕アルキリデンホスフィン、それらの製法、これ
らの配位子を含むイリジウムおよびロジウム錯体、なら
びにプロキラルな不飽和化合物の均質水素化のためのエ
ナンチオ選択性水素化触媒としてのそれらの錯体の使用
に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】T. H
ayashiらは、Bull. Chem. Soc. Jpn., 53,1136〜1151に
おいて、不斉(整)合成のための遷移金属錯体の配位子
としてのキラルなフェロセニルホスフィン、すなわち
〔(R)−〔(S)−2−(ジフェニルホスフィノ)フ
ェロセニル〕エチル〕ジフェニルホスフィンの製造を記
載している。われわれの研究は、これらの配位子を含む
ロジウム錯体によってプロキラルな化合物を均質水素化
しても低い光学的収率しか得られないことを明らかにし
た。
【0003】反応時間が同じか短めであるならば、2−
ホスフィノ基の置換基がいずれもフェニルではないとき
に、エナンチオ選択性を大幅に高めうることが今や見い
だされた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、その態様の一
つにおいて、式(I):
【0005】
【化9】
【0006】(式中、R1 は、C1 〜C8 アルキル、フ
ェニル、または1〜3個のC1 〜C4アルキル基もしく
はC1 〜C4 アルコキシ基によって置換されているフェ
ニルであり;R2 およびR3 は、互いに独立して、C1
〜C12アルキル、C5 〜C12シクロアルキル、フェニ
ル、またはC1 〜C4 アルキル−もしくはC1 〜C4
ルコキシ−置換のC5 〜C12シクロアルキル、またはC
1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 アルコキシ、−SiR4
56 、ハロゲン、−SO3 M、−CO2 M、−PO
32 、−NR78 および−〔+ NR789 〕X
- からなる群より選択される1〜3個の同一もしくは異
なる員によって置換されているフェニルであるか;ある
いは、基−PR23 は、式(II):
【0007】
【化10】
【0008】で示される基であり、R4 、R5 およびR
6 は、それぞれ独立して、C1 〜C12アルキルまたはフ
ェニルであり、R7 およびR8 は、H、C1 〜C12アル
キルまたはフェニルであるか、またはR7 とR8 は、一
緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンまたは3
−オキサ−1,5−ペンチレンであり、R9 は、Hまた
はC1 〜C4 アルキルであり、R10とR11は、同一であ
って、C1 〜C12アルキル、C5 〜C12シクロアルキ
ル、またはC1 〜C4 アルキル−もしくはC1 〜C4
ルコキシ−置換のC5 〜C12シクロアルキル、またはC
1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 アルコキシ、−SiR4
56 、ハロゲン、−SO3 M、−CO2M、−PO3
2 、−NR78 および−〔+ NR789 〕X-
からなる群より選択される1〜3個の同一もしくは異
なる員によって置換されているフェニルであるか;ある
いは、R10とR11は、異なって、C1 〜C12アルキル、
5 〜C12シクロアルキル、またはC1 〜C4 アルキル
−もしくはC1 〜C4 アルコキシ−置換のC5 〜C12
クロアルキル、またはフェニル、またはC1 〜C4 アル
キル、C1 〜C4 アルコキシ、−SiR456 、ハ
ロゲン、−SO3 M、−CO2 M、−PO32 、−N
78 および−〔+ NR789 〕X- からなる群
より選択される1〜3個の同一もしくは異なる員によっ
て置換されているフェニルであるか;あるいは、基−P
1011は、式(II):
【0009】
【化11】
【0010】で示される基であり、MはHまたはアルカ
リ金属であり、X- は一塩基酸のアニオンであり、そし
* は立体不斉炭素原子を意味する)で示される、ラセ
ミ化合物およびジアステレオ異性体またはジアステレオ
異性体の混合物の形態にある化合物に関する。
【0011】アルキルと定義されたR1 は、直鎖状のも
のでも分岐したものでもよく、好ましくは1〜4個の炭
素原子を含む。典型的な例は、メチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert
−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチ
ルである。メチルおよびエチルが好ましく、メチルが特
に好ましい。
【0012】置換フェニルと定義されたR1 は、1個ま
たは2個の置換基を含むことが好ましい。アルキル置換
基は、典型的には、メチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、イソブチルまたはtert−ブチ
ルであることができる。メチルおよびエチルが好まし
い。アルコキシ置換基は、メトキシ、エトキシ、n−プ
ロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキ
シまたはtert−ブトキシであることができる。メトキシ
およびエトキシが好ましい。式(I)の化合物の好まし
い群においては、R1 は、フェニル、または1個もしく
は2個のC1 〜C4 アルキル基もしくはC1 〜C4 アル
コキシ基によって置換されているフェニルであることが
好ましい。
【0013】アルキルと定義されたR2 、R3 、R10
よびR11は、直鎖状のものでも分岐したものでもよく、
好ましくは1〜8個、もっとも好ましくは1〜4個の炭
素原子を含む。典型的な例は、メチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert
−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ノニル、デシル、ウンデシルおよびドデシルである。メ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチルおよびtert−ブチルが好ましい。R2
3 、ならびに/あるいはR10とR11が、同一であっ
て、アルキルであるとき、それらはイソプロピルまたは
tert−ブチルであることがもっとも好ましい。
【0014】シクロアルキルと定義されたR2 、R3
10およびR11は、好ましくは5個〜8個、もっとも好
ましくは5個または6個の環員炭素原子を含む。シクロ
アルキルの典型的例は、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシルお
よびシクロドデシルである。シクロペンチルおよびシク
ロヘキシルが好ましく、シクロヘキシルが特に好まし
い。
【0015】シクロアルキルは、好都合には1〜3個の
アルキル基またはアルコキシ基によって置換されていて
もよい。このような基の例はすでに上述している。メチ
ルおよびエチルが好ましく、メトキシおよびエトキシも
同様に好ましい。置換シクロアルキルは、典型的には、
メチルシクロペンチル、メトキシシクロペンチル、メチ
ルシクロヘキシルまたはメトキシシクロヘキシルであ
る。
【0016】置換フェニルと定義されたR2 、R3 、R
10およびR11は、1個または2個の置換基を含むことが
好ましい。フェニルが2個または3個の置換基を含むな
らば、これらは同一でもよいし異なってもよい。
【0017】アルキルおよびアルコキシ置換基の例はす
でに上述している。フェニルの好ましいアルキルおよび
アルコキシ置換基は、メチル、エチルならびにメトキシ
およびエトキシである。
【0018】フェニルの置換基としてのハロゲンは、−
F、−Clおよび−Brからなる群より選択されること
が好ましい。
【0019】R4 、R5 およびR6 は、好ましくは1〜
8個、もっとも好ましくは1〜4個の炭素原子を含む直
鎖状または分岐したアルキルであることができる。アル
キル置換基の例はすでに上述している。好ましくは、ア
ルキルはメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチルま
たはtert−ブチルである。置換基−SiR456
トリメチルシリルであることがもっとも好ましい。
【0020】酸フェニル置換基−SO3 M、−CO2
および−PO3 Mのうち、−SO3M基が好ましい。M
はH、Li、NaまたはKであることが好ましい。
【0021】アルキルと定義されたR7 およびR8 は、
好ましくは1〜6個、もっとも好ましくは1〜4個の炭
素原子を含む。アルキルは直鎖状であることが好まし
い。好ましい例は、メチル、エチル、n−プロピルおよ
びn−ブチルである。アルキルと定義されたR9 はメチ
ルであることが好ましい。
【0022】一塩基酸のアニオンとしてのX- は、Cl
- 、Br- 、またはカルボン酸、典型的にはギ酸塩、酢
酸塩、トリクロロ酢酸塩もしくはトリフルオロ酢酸塩、
のアニオンであることが好ましい。
【0023】置換フェニルの代表的な例は、2−メチル
フェン−1−イル、3−メチルフェン−1−イル、4−
メチルフェン−1−イル、2−および4−エチルフェン
−1−イル、2−および4−イソプロピルフェン−1−
イル、2−および4−tert−ブチルフェン−1−イル、
2−メトキシフェン−1−イル、3−メトキシフェン−
1−イル、4−メトキシフェン−1−イル、2−および
4−エトキシフェン−1−イル、4−トリメチルシリル
フェン−1−イル、2−および4−フルオロフェン−1
−イル、2,4−ジフルオロフェン−1−イル、2−お
よび4−クロロフェン−1−イル、2,4−ジクロロフ
ェン−1−イル、2,4−ジメチルフェン−1−イル、
3,5−ジメチルフェン−1−イル、2−メトキシ−4
−メチルフェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−メ
トキシフェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジ
メチルアミノ)フェン−1−イル、2−および4−アミ
ノフェン−1−イル、2−および4−メチルアミノフェ
ン−1−イル、2−および4−(ジメチルアミノ)フェ
ン−1−イル、2−および4−SO3 H−フェン−1−
イル、2−および4−SO3 Na−フェン−1−イル、
2−および4−〔+NH3 Cl- 〕フェン−1−イル、
3,4,5−トリメチルフェン−1−イルならびに2,
4,6−トリメチルフェン−1−イルである。
【0024】同一の置換基としてのR2 およびR3 は、
フェニル、シクロヘキシル、2−もしくは4−メチルフ
ェン−1−イル、2−もしくは4−メトキシフェン−1
−イル、2−もしくは4−(ジメチルアミノ)フェン−
1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)
フェン−1−イルまたは3,5−ジメチル−4−メトキ
シフェン−1−イルであることが好ましい。
【0025】R2 とR3 とが異なる置換基であるなら
ば、R2 はフェニルであることが好ましく、R3 は、シ
クロヘキシル、2−もしくは4−メチルフェン−1−イ
ル、2−もしくは4−メトキシフェン−1−イル、4−
(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチ
ル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5
−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イルまたは4−
tert−ブチルフェン−1−イルであることが好ましい。
【0026】本発明の好ましい実施態様においては、R
2 とR3 は同一の置換基であり、シクロヘキシルまたは
フェニルである。
【0027】本発明の特に好ましい実施態様において
は、式(I)中、R1 はメチルであり、R2 およびR3
はそれぞれシクロヘキシルまたはフェニルである。
【0028】R10とR11が同一であるとき、それらは、
シクロヘキシル、tert−ブチル、2−もしくは4−メチ
ルフェン−1−イル、2−もしくは4−メトキシフェン
−1−イル、2−もしくは4−(ジメチルアミノ)フェ
ン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミ
ノ)フェン−1−イルまたは3,5−ジメチル−4−メ
トキシフェン−1−イルであることが好ましい。シクロ
ヘキシル、4−メチルフェン−1−イル、3,5−ジメ
チルフェン−1−イルおよびtert−ブチルが特に好まし
い。
【0029】R10とR11が異なるならば、R10はフェニ
ルであることが好ましく、R11は、シクロヘキシル、2
−もしくは4−メチルフェン−1−イル、2−もしくは
4−メトキシフェン−1−イル、4−(ジメチルアミ
ノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメ
チルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4
−メトキシフェン−1−イルまたは4−tert−ブチルフ
ェン−1−イルであることが好ましい。
【0030】特に好ましい式(I)の化合物は典型的に
は次のものである。 {(S)−1−〔(R)−2−(ジ−パラ−トリルホス
フィノ)フェロセニル〕}エチルジシクロヘキシルホス
フィン、{(R)−1−〔(S)−2−(ジシクロヘキ
シルホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジシクロヘキ
シルホスフィン、{(R)−1−〔(S)−2−(ジ−
tert−ブチルホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジフ
ェニルホスフィン、{(R)−1−〔(S)−2−(ジ
シクロヘキシルホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジ
フェニルホスフィン、および{(R)−1−〔(S)−
2−(ジ−(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ)
フェロセニル〕}エチルビス(3,5−ジメチルフェニ
ル)ホスフィン。
【0031】式(I)の化合物は、式(III ):
【0032】
【化12】
【0033】で示される化合物を、不活性溶媒の存在下
に、室温または上昇した温度で、式(IV):
【0034】
【化13】
【0035】で示されるホスフィンと反応させるか、ま
たは、式(VII ):
【0036】
【化14】
【0037】(式中、R1 、R10およびR11は、式
(I)と同義である)で示される化合物を、不活性溶媒
の存在下に、室温または上昇した温度で、式(IV):
【0038】
【化15】
【0039】で示されるホスフィンと反応させるかのい
ずれかによって製造することができる。
【0040】この方法も同様に本発明のさらなる目的を
構成する。
【0041】これらの反応そのものは公知であり、T. H
ayashiらにより、Bull. Chem. Soc.Jpn., 53,1136〜115
1に記載されている。式(III )および(VII )の化合
物のすべての立体異性体の製造も、また、この参考文献
に記載されているか、または同様にして実施することが
できる。式(IV)のホスフィンは、公知であるか、公知
の方法により、同様にして得ることができる。
【0042】反応温度は、20〜150℃、好ましくは
40〜100℃の範囲であることができる。適当な溶媒
は、プロトン系および非プロトン系の極性溶媒であり、
これらは、単独で使用してもよいし、2種以上の溶媒の
混合物として使用してもよい。溶媒の典型的な例は、ア
ルカノール、例えばメタノールおよびエタノールならび
にカルボン酸、例えばギ酸および酢酸である。
【0043】式(I)の化合物は、式(III )の化合物
をラセミ化合物、立体異性体の混合物または立体異性体
のいずれとして使用したかにより、ラセミ化合物、立体
異性体の混合物または立体異性体のいずれかとして得ら
れる。ラセミ化合物および立体異性体の混合物は、公知
の方法、好ましくは一般的にはクロマトグラフィー法に
より、立体異性体に分割することができる。
【0044】式(I)の化合物は、そのもの公知の方
法、典型的には蒸留、抽出、結晶化および/またはクロ
マトグラフィー法により、単離、精製することができ
る。
【0045】式(I)の化合物は、ロジウムおよびイリ
ジウム錯体の配位子として使用するのに適している。本
発明は、そのもう一つの態様において、式(V)および
(VI):
【0046】
【化16】
【0047】(式中、X1 は、2個のC2 〜C12オレフ
ィンまたは1個のC5 〜C12ジエンであり、ZはCl、
BrまたはIであり、A1 -は、酸素酸または錯体酸のア
ニオンであり、M1 はRhまたはIrであり、そしてY
は式(I)のジホスフィンである)で示される錯体に関
する。式(VI)の錯体が好ましい。
【0048】式(I)のジホスフィンに関して、すでに
述べたものと同じ好適例が当てはまる。オレフィンとし
てのX1 は、好ましくは2〜6個、もっとも好ましくは
2〜4個の炭素原子を含む。エチレンが特に好ましい。
さらなる例はプロペンおよび1−ブテンである。ジエン
としてのX1 は5〜8個の炭素原子を含むことが好まし
い。ジエンは、開鎖ジエン、一環式ジエンまたは二環式
ジエンのいずれでもよい。ジエンの2個のオレフィン基
は、1個または2個のCH2 基を介して結合されている
ことが好ましい。典型的な例は、1,3−ペンタジエ
ン、シクロペンタジエン、1,5−ヘキサジエン、1,
4−シクロヘキサジエン、1,4−および1,5−ヘプ
タジエン、1,4−および1,5−シクロヘプタジエ
ン、1,4−および1,5−オクタジエン、1,4−お
よび1,5−シクロオクタジエンならびにノルボルナジ
エンである。X1 は、2個のエチレン、1,5−ヘキサ
ジエン、1,5−シクロオクタジエンまたはノルボルナ
ジエンであることが好ましい。
【0049】式(V)のZはClまたはBrであること
が好ましい。式(VI)のA1 -の典型的な例は、Cl
4 -、FSO3 -、CH3 SO3 -、CF3 SO3 -、B
4 -、PF6 -、SbCl6 -、AsF6 -およびSbF6 -
ある。好ましくは、A1 -は、ClO4 -、CF3 SO3 -
BF4 -、PF6 -またはSbF6 -である。
【0050】新規な錯体は、式(I)の化合物と、式
〔M1 (X1 )Z〕2 またはM1 (X12 +1 -(式
中、M1 、X1 、ZおよびA1 -は、先に割り当てた意味
を有する)の金属錯体とを等モル量で反応させることに
より、その公知の方法によって得ることができる。とり
わけ欧州特許公開第(A)-0302021 号公報および米国特許
第(A)-5011995 号に記載されている金属錯体が公知であ
る。
【0051】この反応は、不活性ガス、典型的にはアル
ゴンの雰囲気下に、便宜的には0〜40℃の範囲の温
度、好ましくは室温で、好都合に実施することができ
る。炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン)、ハ
ロゲン化炭化水素類(塩化メチレン、クロロホルム、ク
ロロベンゼン)、アルカノール類(メタノール、エタノ
ール、2−メトキシエタノール)およびエーテル類(ジ
エチルエーテル、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン)ならびに
これらの混合物からなる群より好都合に選択される溶媒
または溶媒の混合物を同時に使用することが有利であ
る。新規な錯体は、従来の方法によって単離、精製する
こともできるし、水素化の前にその場で製造したのち、
溶解した形態で直接的に水素化触媒として使用すること
もできる。
【0052】この新規な錯体は、炭素二重結合および炭
素/ヘテロ原子二重結合を含むプロキラルな化合物、典
型的にはC=C、C=N、C=O、C=C−NおよびC
=C−Oより選択される基を含む化合物のエナンチオ選
択性水素化の均質触媒として使用するのに抜群に適して
いる(とりわけ、K. E. KoenigのThe Applicabilityof
Asymmetric Homogeneous Catalysis 、James D. Morris
on 編、Asymmetric Synthesis, Vol. 5, Academic Pres
s, 1985を参照してもよい)。このような化合物の例
は、プロキラルなオレフィン、エナミン、イミンおよび
ケトンである。短い反応時間中に驚くほど高い収率が得
られ、通常は定量的でさえある化学的転換が得られる。
特に驚くべきことは、新規な錯体によって得られる非常
に高い光学的収率である。エナンチオマー過剰率(ee)
は90%を超えることができる。式(V)および(VI)
の錯体のラセミ化合物、立体異性体の混合物または立体
異性体を使用することができ、立体異性体の混合物また
は立体異性体が好ましい。
【0053】本発明は、そのもう一つの態様において、
炭素二重結合または炭素/ヘテロ原子二重結合を含むプ
ロキラルな化合物、特に、C=C、C=N、C=O、C
=C−NまたはC=C−O基を含む化合物を不斉水素化
するための均一触媒としての、式(V)および(VI)の
新規な錯体の用途に関する。好ましい用途は、不斉炭素
二重結合、ケトイミンおよびケトンの水素化である。式
(V)および(VI)のイリジウム錯体は、また、プロキ
ラルなN−アリールケトイミンを水素化して光学活性の
第二級アミンにするための触媒としても好ましい。式
(V)および(VI)のロジウム錯体は、炭素二重結合、
例えばプロキラルな炭素二重結合を水素化するための触
媒として使用することが好ましい。
【0054】本発明は、そのさらに別の態様において、
炭素二重結合または炭素/ヘテロ原子二重結合を含むプ
ロキラルな化合物を均質な反応条件のもとで不斉水素化
する方法であって、該化合物を、−20〜+80℃の温
度範囲において、104 〜107Pa の水素圧のもと、触
媒量の式(V)または(VI)の錯体の存在下に水素化す
る方法を提供する。
【0055】好ましいプロキラルな化合物は、前述した
ものである。不斉ケトイミンおよびケトンが公知であ
る。好適なN−アリールケトイミンは、とりわけ欧州特
許公開第(A)-0256982 号公報に開示されたものである。
N−脂肪族ケトイミンは、とりわけ欧州特許公開第(A)-
0301457 号公報に開示されたものである。このようなイ
ミンは、市販されているか、公知の方法によって得るこ
とができる公知の相当する不斉ケトンから製造すること
ができる。好適な置換アルケンは、上記で引用したK.
E. Koenigの出版物に記載されたものである。
【0056】この方法は、−10〜50℃の温度範囲に
おいて、好ましくは1・105 〜6・106 Paの水素圧
のもとで実施することが好ましい。
【0057】触媒の量は、式(V)または(VI)の錯体
に対する水素化される化合物(基質)のモル比が、好ま
しくは10,000〜20、より好ましくは5,000
〜20、特に2,000〜40、もっとも好ましくは
1,000〜50になるように選択することが好まし
い。
【0058】本方法を実施する好ましい形態は、特に新
規なイリジウム触媒を使用するときに、アンモニウムま
たはアルカリ金属の塩化物、臭化物またはヨウ化物をさ
らに同時に使用することを含む。量は、典型的には、式
(V)または(VI)の錯体を基準にして、0.1〜10
0、好ましくは1〜50、もっとも好ましくは2〜20
当量であることができる。ヨウ化物の添加が好ましい。
アンモニウムは、アルキル基中に1〜6個の炭素原子を
含むテトラアルキルアンモニウムであることが好まし
く、好ましいアルカリ金属はリチウム、ナトリウムおよ
びカリウムである。
【0059】水素化は、溶媒なしで実施することもでき
るし、溶媒の存在下に実施することもできる。単独また
は混合して使用することができる好適な溶媒は、典型的
には、脂肪族および芳香族の炭化水素類(ペンタン、ヘ
キサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン)、アルコール類、例えばメ
タノール、エタノール、プロパノールおよびブタノー
ル;エーテル類、例えばジエチルエーテル、2−メトキ
シエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラ
ヒドロフランおよびジオキサン;水素化炭化水素類、例
えば塩化メチレン、クロロホルム、1,1,2,2,−
テトラクロロエタンおよびクロロベンゼン;エステルお
よびラクトン類、例えば酢酸エチル、ブチロラクトンま
たはバレロラクトン;ならびにカルボキサミドおよびラ
クタム類、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミドおよびN−メチルピロリドンである。好ましい
混合物は、アルコールと芳香族炭化水素との混合物、典
型的にはメタノール/ベンゼンまたはメタノール/トル
エンである。好ましい溶媒は、メタノールそのものまた
はメタノールをベンゼンもしくはトルエンと混合したも
のである。
【0060】本新規な方法の特に好ましい実施態様は、
N−2,6−ジアルキルフェン−4−イルケトイミン、
典型的にはN−2,6−ジメチル−もしくはN−2−メ
チル−6−エチルフェン−4−イル−メトキシアセトン
イミンの水素化からなる。
【0061】本新規な水素化方法は、特に薬学および農
業化学の分野において、生物学的に活性な化合物の合成
に有用な中間体である光学的に純粋な化合物を得ること
を可能にする。したがって、例えば、雑草駆除に使用す
ることができる除草的に活性な5−イミダゾールカルボ
ン酸誘導体(欧州特許公開第0207563号公報)
を、第二級アミン、特にN−カルバルコキシメチルアミ
ンから製造することができる。光学的に純粋なα−アミ
ノカルボン酸エステルはペプチド合成に適している。有
用な合成成分である光学的に純粋なアミノカルボン酸
は、不飽和アミノカルボン酸から得ることができる。
【0062】
【実施例】以下の実施例により、本発明をさらに詳細に
説明する。化学的転換率は、ガスクロマトグラフィー
(15mのDB 17/30W カラム、供給元:米国JCW Scient
ific社、温度プログラム:220℃まで60/1分、Δ
T:10°・min-1)によって測定した。光学的収率、す
なわちエナンチオマー過剰率(ee)の測定も同様にガス
クロマトグラフィー(50mのChirasil-Valカラム、供
給元:米国Alltech 社、T:150℃恒温)、HPLC
(Chiracel OD カラム)またはシフト試薬を用いた 1
−NMRスペクトル分析によって行った。
【0063】A)実施例 実施例A1:{(S)−1−〔(R)−2−(ジ−p−
トリルホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジシクロヘ
キシルホスフィン(A) N−{〔(S)−1−〔(R)−2−(ジ−p−トリル
ホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジメチルアミン
〔Bull. Chem. Soc. Jpn., 53, 1138 (1980)にしたが
って、N−〔(S)−1−フェロセニル〕エチルジメチ
ルアミンとジ−パラ−トリルホスフィン塩化物とから製
造〕1.2g (2.56mmol)、酢酸15mlおよびジシ
クロヘキシルホスフィン0.62ml(3.07mmol)
を、アルゴン下に次々と25mlのSchlenk フラスコに仕
込み、攪拌しながら25分間100℃で加熱した。次
に、粗生成物を水/トルエンで抽出した。有機相を硫酸
ナトリウム上で乾燥し、溶媒を回転蒸発器により留去し
た。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフィー(溶剤:
ジエチルエーテル)に付した。粗生成物を熱エタノール
から再結晶して、Aの化合物1.4g (収率80%)を
橙色の結晶質物質として得た。 〔α〕22 D :+342°(c=0.41、CHCl331 P−NMR(CDCl3 ):15.5(d、j=2
7)、−27.8(d、j=27)
【0064】実施例A2:{(R)−1−〔(S)−2
−(ジシクロヘキシルホスフィノ)フェロセニル〕}エ
チルジシクロヘキシルホスフィン(B) N−{(R)−1−〔(S)−2−(ジシクロヘキシル
ホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジメチルアミン
0.262g (0.579mmol)、酢酸4mlおよびジシ
クロヘキシルホスフィン0.14ml(0.695mmol)
を使用したことを除き、実施例A1の手順を繰り返し
て、Bの化合物0.23g (収率67%)を橙色の結晶
質物質として得た。31 P−NMR(CDCl3 ):12.6(d、j=
6)、−12.7(d、j=6)
【0065】実施例A3:{(R)−1−〔(S)−2
−(ジ−tert−ブチルホスフィノ)フェロセニル〕}エ
チルジフェニルホスフィン(C) N−{(R)−1−〔(S)−2−(ジ−tert−ブチル
ホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジメチルアミン
0.546g (1.36mmol)、酢酸5mlおよびジフェ
ニルホスフィン0.28ml(1.63mmol)を使用した
ことを除き、実施例A1の手順を繰り返して、Cの化合
物0.37g (収率50%)を橙色の結晶質物質として
得た。31 P−NMR(CDCl3 ):13.5(d、j=1
0)、−1.5(d、j=10)
【0066】実施例A4:{(R)−1−〔(S)−2
−(ジシクロヘキシルホスフィノ)フェロセニル〕}エ
チルジフェニルホスフィン(D) N−{(R)−1−〔(S)−2−(ジシクロヘキシル
ホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジメチルアミン
0.24g (0.53mmol)、酢酸4mlおよびジフェニ
ルホスフィン0.11ml(0.64mmol)を使用したこ
とを除き、実施例A1の手順を繰り返して、Dの化合物
0.12g (収率38%)を橙色の結晶質物質として得
た。31 P−NMR(CDCl3 ):4.6(d、j=6)、
−13.4(d、j=6)
【0067】実施例A5:{(R)−1−〔(S)−2
−(ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ)フ
ェロセニル〕}エチルジ(3,5−ジメチルフェニル)
ホスフィン(E) {(R)−1−〔(S)−2−(ビス(3,5−ジメチ
ルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジメ
チルアミン)1.0g (2.0mmol)、ビス(3,5−
ジメチルフェニル)ホスフィン0.53g (2.2mmo
l)および酢酸26mlを使用したことを除き、実施例A
1の手順を繰り返して、Eの化合物0.69mg(収率4
9%)を橙色の結晶質物質として得た。31 P−NMR(CDCl3 ):7.9(d、j=2
0)、−24.7(d、j=20)
【0068】実施例A6:{(R)−1−〔(S)−2
−(ジシクロヘキシルフェニルホスフィノ)フェロセニ
ル〕}エチルジ−tert−ブチルホスフィン(F) {(R)−1−〔(S)−2−(ジシクロヘキシル)ホ
スフィノ)フェロセニル〕}エチルジメチルアミン)
0.91g (2.0mmol)、ジ−tert−ブチルホスフィ
ン0.34g (2.3mmol)および酢酸12mlを使用し
たことを除き、実施例A1の手順を繰り返して、Fの化
合物330mg(収率30%)を橙色の発泡物質として得
た。31 P−NMR(CDCl3 ):46.6(d、j=1
6)、−15.4(d、j=16)
【0069】実施例A7:{(R)−1−〔(S)−2
−(ビス(2−ナフチル)ホスフィノ)フェロセニ
ル〕}エチルジフェニルホスフィン(G) {(R)−1−〔(S)−2−(ビス(2−ナフチル)
ホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジメチルアミン)
380mg(0.7mmol)、ジフェニルホスフィン134
μl (0.77mmol)および酢酸6mlを使用したことを
除き、実施例A1の手順を繰り返して、Gの化合物20
3mg(収率42.5%)を橙色の結晶質物質として得
た。31 P−NMR(CDCl3 ):7.0(d、j=2
2)、−23.3(d、j=22)
【0070】実施例A8:{(R)−1−〔(S)−2
−(ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ)フ
ェロセニル〕}エチルジフェニルホスフィン(H) {(R)−1−〔(S)−2−(ビス(3,5−ジメチ
ルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジメ
チルアミン)1.0g (2.0mmol)、ジフェニルホス
フィン0.4ml(2.3mmol)および酢酸15mlを使用
したことを除き、実施例A1の手順を繰り返して、Hの
化合物804mg(収率63%)を橙色の結晶質物質とし
て得た。31 P−NMR(CDCl3 ):5.8(d、j=2
0)、−25.3(d、j=20)
【0071】実施例A9:{(R)−1−〔(S)−2
−(ビス(2−ナフチル)ホスフィノ)フェロセニ
ル〕}エチルビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフ
ィン(I) {(R)−1−〔(S)−2−(ビス(2−ナフチル)
ホスフィノ)フェロセニル〕}エチルジメチルアミン)
1.08g (2.0mmol)、ビス(3,5−ジメチルフ
ェニル)ホスフィン0.53g (2.2mmol)および酢
酸15mlを使用したことを除き、実施例A1の手順を繰
り返して、Iの化合物1.07g (収率72.3%)を
橙色の結晶質物質として得た。31 P−NMR(CDCl3 ):8.1(d、j=2
0)、−23.9(d、j=20)
【0072】B)使用例 実施例B1:N−アセチルフェニルアラニンメチルエス
テルの製造 〔Rh(ノルボルナジエン)2 〕BF4 12.8mg
(0.034mmol)、Aの化合物22.6mg(0.03
6mmol)およびメタノール5mlからなる触媒溶液(アル
ゴン下に調製)をスチール製細管によってアルゴン下の
200mlガラス反応器に移した。次に、Z−メチル 2
−アセトアミドシンナメート(基質)750mg(3.4
2mmol)とメタノール5mlとの溶液を同様にして加え
た。基質/触媒のモル比は100であった。次に、0.
1MPa の圧力のもと、水素により、3サイクルで水素化
を実施し、水素圧を0.108MPa に設定した。反応混
合物を30分間25℃で攪拌し、フラスコに移し、溶媒
を回転蒸発器で留去した。化学的転換率は100%であ
り、N−アセチルフェニルアラニンメチルエステルをエ
ナンチオマー過剰率(ee)91.4%(S)で得た。
【0073】実施例B2:N−アセチルフェニルアラニ
ンメチルエステルの製造 Aの化合物の代わりにBの化合物21.7mg(0.03
6mmol)を使用したことを除き、実施例B1に記載の手
順を繰り返した。転換率は100%であり、eeは75%
(R)であった。
【0074】実施例B3:N−(2′−メチル−6−エ
チルフェン−1′−イル)−N−(1−メトキシメチ
ル)−エチルアミンの製造 (2′−メチル−6−エチルフェン−1′−イル)−N
−(1−メトキシメチル)−エト−1−イリデンアミン
5ml(24mmol)、〔Ir(1,5−シクロオクタジエ
ン)Cl〕2 10.2mg(0.015mmol)、Eの化合
物23.3mg(0.033mmol)およびテトラブチルア
ンモニウムヨージド50mgを次々と50mlスチール製オ
ートクレーブに仕込んだ。イミン/触媒の比率は800
であった。オートクレーブを閉じたのち、3サイクルで
導入したガス(アルゴン)のもとに置いた。次に、空気
を除きながら、イソプロパノール20mlをスチール製細
管によってオートクレーブに移した。さらなる3サイク
ル(2MPa 、常圧)において、水素によってアルゴンを
掃気した。水素を2.5MPa の圧力のもとで導入した。
室温で18時間の反応時間ののち、反応を打ち切った。
転換率は100%であり、エナンチオマー純度は81.
6%(S)であった。
【0075】実施例B4:N−(2′−メチル−6−エ
チルフェン−1′−イル)−N−(1−メトキシメチ
ル)−エチルアミンの製造 Eの化合物に代わりにGの化合物22.8mg(0.03
3mmol)を使用し、反応時間を18時間にしたことを除
き、実施例B3に記載の手順を繰り返した。転換率は6
2%であり、eeは75%(S)であった。
【0076】実施例B5:N−(2′−メチル−6−エ
チルフェン−1′−イル)−N−(1−メトキシメチ
ル)−エチルアミンの製造 Eの化合物に代わりにIの化合物24.6mg(0.03
3mmol)を使用し、反応時間を18時間にしたことを除
き、実施例B3に記載の手順を繰り返した。転換率は7
7%であり、eeは80.4%(S)であった。
【0077】 実施例B6:メチル 3−ヒドロキシブチラートの製造 すべての操作はアルゴン雰囲気下に実施した。〔Rh
(ノルボルナジエン)Cl〕2 5.1mg(0.011mm
ol)をメタノール10mlに加えた溶液に、Bの化合物1
4.4mg(0.023mmol)を加えた。別に、アセチル
酢酸メチル0.51g (4.4mmol)をメタノール5ml
に加えた。この基質溶液および触媒溶液をスチール製細
管によって次々とアルゴン下の50mlスチール製オート
クレーブに加えた。不活性ガスを水素によって3サイク
ル(2MPa 、常圧)で掃気した。次に、水素を2.5MP
a の圧力のもとで導入した。室温で20時間の反応時間
ののち、反応を打ち切った。転換率は100%であり、
エナンチオマー純度は94.5%(S)であった。
【0078】 実施例B7:メチル 3−ヒドロキシブチラートの製造 Bの化合物の代わりにAの化合物14.9mg(0.02
4mmol)を使用し、反応時間を24時間にしたことを除
き、実施例B6に記載の手順を繰り返した。転換率は1
00%であり、エナンチオマー純度は84.4%(S)
であった。
【0079】実施例B8:マンデル酸メチルの製造 メチル フェニルグリオキシラート0.268g (1.
63mmol)、〔Rh(ノルボルナジエン)Cl〕2 3.
9mg(0.0084mmol)、Cの化合物9.4mg(0.
018mmol)およびメタノール10mlを使用し、水素分
圧を4MPa にし、反応温度を25℃にし、反応時間を2
1時間にして、実施例B6に記載の手順を繰り返した。
転換率は74%であり、光学的収率は52%であった。
【0080】実施例B9:N−アセチルアラニンメチル
エステルの製造 O〔Rh(ノルボルナジエン)2 〕BF4 6.4mg
(0.017mmol)、Eの化合物13.1mg(0.01
9mmol)、Z−メチル 2−アセトアミドシンナメート
(基質)0.75g (3.42mmol)およびメタノール
15mlを使用し、水素分圧を2MPa にし、温度を40℃
にし、反応時間を2時間にして、実施例B6に記載の手
順を繰り返した。転換率は100%であり、eeは70%
(S)であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アミナ ヴィルト−ティジャニ フランス国 68520 バーンハウプト−ル −ハウト リュ プリンシパル 71 (72)発明者 ハイディ ランデルト スイス国 4310 ラインフェルデン リリ エンヴェーク 2

Claims (47)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I): 【化1】 (式中、R1 は、C1 〜C8 アルキル、フェニル、また
    は1〜3個のC1 〜C4アルキル基もしくはC1 〜C4
    アルコキシ基によって置換されているフェニルであり;
    2 およびR3 は、互いに独立して、C1 〜C12アルキ
    ル、C5 〜C12シクロアルキル、フェニル、またはC1
    〜C4 アルキル−もしくはC1 〜C4 アルコキシ−置換
    のC5 〜C12シクロアルキル、またはC1 〜C4 アルキ
    ル、C1 〜C4 アルコキシ、−SiR456 、ハロ
    ゲン、−SO3 M、−CO2 M、−PO32 、−NR
    78 および−〔+ NR789 〕X- からなる群よ
    り選択される1〜3個の同一もしくは異なる員によって
    置換されているフェニルであるか;あるいは、基−PR
    23 は、式(II): 【化2】 で示される基であり、R4 、R5 およびR6 は、それぞ
    れ独立して、C1 〜C12アルキルまたはフェニルであ
    り、R7 およびR8 は、H、C1 〜C12アルキルまたは
    フェニルであるか、またはR7 とR8 は、一緒になっ
    て、テトラメチレン、ペンタメチレンまたは3−オキサ
    −1,5−ペンチレンであり、R9 は、HまたはC1
    4 アルキルであり、R10とR11は、同一であって、C
    1 〜C12アルキル、C5 〜C12シクロアルキル、または
    1 〜C4 アルキル−もしくはC1 〜C4 アルコキシ−
    置換のC5 〜C12シクロアルキル、またはC1 〜C4
    ルキル、C1 〜C4 アルコキシ、−SiR456
    ハロゲン、−SO3 M、−CO2M、−PO32 、−
    NR78 および−〔+ NR789 〕X- からなる
    群より選択される1〜3個の同一もしくは異なる員によ
    って置換されているフェニルであるか;あるいは、R10
    とR11は、異なって、C1 〜C12アルキル、C5 〜C12
    シクロアルキル、またはC1 〜C4 アルキル−もしくは
    1 〜C4 アルコキシ−置換のC5 〜C12シクロアルキ
    ル、またはフェニル、またはC1 〜C4 アルキル、C1
    〜C4 アルコキシ、−SiR456 、ハロゲン、−
    SO3 M、−CO2 M、−PO32 、−NR78
    よび−〔+ NR789 〕X- からなる群より選択さ
    れる1〜3個の同一もしくは異なる員によって置換され
    ているフェニルであるか;あるいは、基−PR10
    11は、式(II): 【化3】 で示される基であり、MはHまたはアルカリ金属であ
    り、X- は一塩基酸のアニオンであり、そして* は、立
    体不斉炭素原子を意味する)で示される、ラセミ化合物
    もしくはそのジアステレオ異性体またはジアステレオ異
    性体の混合物の形態にある化合物。
  2. 【請求項2】 アルキルとしてのR1 が、直鎖状である
    請求項1記載の式(I)の化合物。
  3. 【請求項3】 R1 が、C1 〜C4 アルキルである請求
    項2記載の式(I)の化合物。
  4. 【請求項4】 R1 が、メチルまたはエチルである請求
    項3記載の式(I)の化合物。
  5. 【請求項5】 R1 が、フェニル、または1個もしくは
    2個のC1 〜C4 アルキル基もしくはC1 〜C4 アルコ
    キシ基によって置換されているフェニルである請求項1
    記載の式(I)の化合物。
  6. 【請求項6】 R2 およびR3 が、C1 〜C8 アルキル
    である請求項1記載の式(I)の化合物。
  7. 【請求項7】 R2 とR3 が、同一であって、イソプロ
    ピルまたはtert−ブチルである請求項6記載の式(I)
    の化合物。
  8. 【請求項8】 R10とR11が、同一であって、イソプロ
    ピルまたはtert−ブチルである請求項6記載の式(I)
    の化合物。
  9. 【請求項9】 シクロアルキルとしての、R2 、R3
    10およびR11が、5〜8個の環員炭素原子を含む請求
    項1記載の式(I)の化合物。
  10. 【請求項10】 シクロアルキルとしての、R2 、R
    3 、R10およびR11が、シクロペンチルまたはシクロヘ
    キシルである請求項9記載の式(I)の化合物。
  11. 【請求項11】 置換フェニルとしての、R2 、R3
    10およびR11が、2−メチルフェン−1−イル、3−
    メチルフェン−1−イル、4−メチルフェン−1−イ
    ル、2−および4−エチルフェン−1−イル、2−およ
    び4−イソプロピルフェン−1−イル、2−および4−
    tert−ブチルフェン−1−イル、2−メトキシフェン−
    1−イル、3−メトキシフェン−1−イル、4−メトキ
    シフェン−1−イル、2−および4−エトキシフェン−
    1−イル、4−トリメチルシリルフェン−1−イル、2
    −および4−フルオロフェン−1−イル、2,4−ジフ
    ルオロフェン−1−イル、2−および4−クロロフェン
    −1−イル、2,4−ジクロロフェン−1−イル、2,
    4−ジメチルフェン−1−イル、3,5−ジメチルフェ
    ン−1−イル、2−メトキシ−4−メチルフェン−1−
    イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イ
    ル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン
    −1−イル、2−および4−アミノフェン−1−イル、
    2−および4−メチルアミノフェン−1−イル、2−お
    よび4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−お
    よび4−SO3 H−フェン−1−イル、2−および4−
    SO3Na−フェン−1−イル、2−および4−〔+
    3 Cl- 〕フェン−1−イル、2,4,6−トリメチ
    ルフェン−1−イルならびに3,4,5−トリメチルフ
    ェン−1−イルからなる群より選択される請求項1記載
    の式(I)の化合物。
  12. 【請求項12】 R2 とR3 が、フェニル、シクロヘキ
    シル、2−および4−メチルフェン−1−イル、2−お
    よび4−メトキシフェン−1−イル、2−および4−
    (ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチ
    ル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イルならびに
    3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イルから
    なる群より選択される同一の置換基である請求項1記載
    の式(I)の化合物。
  13. 【請求項13】 R2 とR3 とが異なって、R2 がフェ
    ニルであり、そしてR3 が、シクロヘキシル、2−およ
    び4−メチルフェン−1−イル、2−および4−メトキ
    シフェン−1−イル、4−(ジメチルアミノ)フェン−
    1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)
    フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフ
    ェン−1−イルならびに4−tert−ブチル−フェン−1
    −イルからなる群より選択される請求項1記載の式
    (I)の化合物。
  14. 【請求項14】 R2 とR3 が、同一の置換基であっ
    て、シクロヘキシルまたはフェニルである請求項1記載
    の式(I)の化合物。
  15. 【請求項15】 R10とR11が、同一の置換基であっ
    て、シクロヘキシル、tert−ブチル、2−もしくは4−
    メチルフェン−1−イル、2−もしくは4−メトキシフ
    ェン−1−イル、2−もしくは4−(ジメチルアミノ)
    フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチル
    アミノ)フェン−1−イルまたは3,5−ジメチル−4
    −メトキシフェン−1−イルである請求項1記載の式
    (I)の化合物。
  16. 【請求項16】 R10がフェニルであり、そしてR
    11が、シクロヘキシル、2−もしくは4−メチルフェン
    −1−イル、2−もしくは4−メトキシフェン−1−イ
    ル、4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5
    −ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イ
    ル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル
    または4−tert−ブチル−フェン−1−イルである請求
    項1記載の式(I)の化合物。
  17. 【請求項17】 R1 がメチルであり、そしてR2 およ
    びR3 が、それぞれ、シクロヘキシルまたはフェニルで
    ある請求項1記載の式(I)の化合物。
  18. 【請求項18】 請求項1記載の式(I)の化合物を製
    造する方法であって、式(III ): 【化4】 で示される化合物を、不活性溶媒の存在下に、室温また
    は上昇した温度で、式(IV): 【化5】 で示されるホスフィンと反応させるか、または、式(VI
    I ): 【化6】 (式中、R1 、R10およびR11は、請求項1と同義であ
    る)で示される化合物を、不活性溶媒の存在下に、室温
    または上昇した温度で、式(IV): 【化7】 (式中、R1 、R2 、R3 、R10およびR11は、請求項
    1と同義である)で示されるホスフィンと反応させるか
    のいずれかであることを特徴とする方法。
  19. 【請求項19】 式(V)または(VI): 【化8】 (式中、X1 は、2個のC2 〜C12オレフィンまたは1
    個のC5 〜C12ジエンであり、ZはCl、BrまたはI
    であり、A1 -は、酸素酸または錯体酸のアニオンであ
    り、M1 はRhまたはIrであり、Yは請求項1記載の
    式(I)の化合物である)で示される錯体。
  20. 【請求項20】 式(VI)の錯体である請求項19記載
    の錯体。
  21. 【請求項21】 X1 が、2個のエチレン、1,5−ヘ
    キサジエン、1,5−シクロオクタジエンまたはノルボ
    ナジエンである請求項19記載の錯体。
  22. 【請求項22】 Zが、ClまたはBrである請求項1
    9記載の錯体。
  23. 【請求項23】 Zが、ClO4 -、FSO3 -、CH3
    3 -、CF3 SO3 -、BF4 -、PF6 -、SbCl6 -、A
    sF6 -およびSbF6 -からなる群より選択される請求項
    19記載の錯体。
  24. 【請求項24】 アルキルとしてのR1 が、直鎖状であ
    る請求項19記載の錯体。
  25. 【請求項25】 R1 が、C1 〜C4 アルキルである請
    求項24記載の錯体。
  26. 【請求項26】 R1 が、メチルまたはエチルである請
    求項25記載の錯体。
  27. 【請求項27】 R1 がフェニル、または1個もしくは
    2個のC1 〜C4 アルキル基もしくはC1 〜C4 アルコ
    キシ基によって置換されているフェニルである請求項1
    9記載の錯体。
  28. 【請求項28】 R2 およびR3 が、C1 〜C8 アルキ
    ルである請求項27記載の錯体。
  29. 【請求項29】 R2 とR3 が、同一であって、イソプ
    ロピルまたはtert−ブチルである請求項27記載の錯
    体。
  30. 【請求項30】 R10とR11が、同一であって、イソプ
    ロピルまたはtert−ブチルである請求項27記載の錯
    体。
  31. 【請求項31】 シクロアルキルとしての、R2 、R
    3 、R10およびR11が、5〜8個の環員炭素原子を含む
    請求項19記載の錯体。
  32. 【請求項32】 シクロアルキルとしての、R2 、R
    3 、R10およびR11が、シクロペンチルまたはシクロヘ
    キシルである請求項31記載の錯体。
  33. 【請求項33】 置換フェニルとしての、R2 、R3
    10およびR11が、2−メチルフェン−1−イル、3−
    メチルフェン−1−イル、4−メチルフェン−1−イ
    ル、2−および4−エチルフェン−1−イル、2−およ
    び4−イソプロピルフェン−1−イル、2−および4−
    tert−ブチルフェン−1−イル、2−メトキシフェン−
    1−イル、3−メトキシフェン−1−イル、4−メトキ
    シフェン−1−イル、2−および4−エトキシフェン−
    1−イル、4−トリメチルシリルフェン−1−イル、2
    −および4−フルオロフェン−1−イル、2,4−ジフ
    ルオロフェン−1−イル、2−および4−クロロフェン
    −1−イル、2,4−ジクロロフェン−1−イル、2,
    4−ジメチルフェン−1−イル、3,5−ジメチルフェ
    ン−1−イル、2−メトキシ−4−メチルフェン−1−
    イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イ
    ル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン
    −1−イル、2−および4−アミノフェン−1−イル、
    2−および4−メチルアミノフェン−1−イル、2−お
    よび4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−お
    よび4−SO3 H−フェン−1−イル、2−および4−
    SO3Na−フェン−1−イル、2−および4−〔+
    3 Cl- 〕フェン−1−イル、2,4,6−トリメチ
    ルフェン−1−イルならびに3,4,5−トリメチルフ
    ェン−1−イルからなる群より選択される請求項19記
    載の錯体。
  34. 【請求項34】 R2 とR3 が、シクロヘキシル、2−
    および4−メチルフェン−1−イル、2−および4−メ
    トキシフェン−1−イル、2−および4−(ジメチルア
    ミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジ
    メチルアミノ)フェン−1−イルならびに3,5−ジメ
    チル−4−メトキシフェン−1−イルからなる群より選
    択される同一の置換基である請求項19記載の錯体。
  35. 【請求項35】 R2 とR3 が異なり、R2 がフェニル
    であり、そしてR3が、シクロヘキシル、2−および4
    −メチルフェン−1−イル、2−および4−メトキシフ
    ェン−1−イル、4−(ジメチルアミノ)フェン−1−
    イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェ
    ン−1−イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン
    −1−イルならびに4−tert−ブチルフェン−1−イル
    からなる群より選択される請求項19記載の錯体。
  36. 【請求項36】 R2 とR3 が、同一の置換基であっ
    て、シクロヘキシルまたはフェニルである請求項19記
    載の錯体。
  37. 【請求項37】 R1 がメチルであり、そしてR2 およ
    びR3 が、それぞれ、シクロヘキシルまたはフェニルで
    ある請求項19記載の錯体。
  38. 【請求項38】 R10とR11が、同一の置換基であっ
    て、シクロヘキシル、tert−ブチル、2−もしくは4−
    メチルフェン−1−イル、2−もしくは4−メトキシフ
    ェン−1−イル、2−もしくは4−(ジメチルアミノ)
    フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチル
    アミノ)フェン−1−イルまたは3,5−ジメチル−4
    −メトキシフェン−1−イルである請求項19記載の錯
    体。
  39. 【請求項39】 炭素二重結合または炭素/ヘテロ原子
    二重結合を含む化合物を均質な反応条件のもとで不斉水
    素化する方法であって、該化合物を、−20〜+80℃
    の温度範囲において、104 〜107Pa の水素圧のも
    と、触媒量の、請求項19記載の式(V)または(VI)
    の錯体の存在下に水素化することを特徴とする方法。
  40. 【請求項40】 水素圧が、105 〜6・106 Paであ
    る請求項39記載の方法。
  41. 【請求項41】 温度が、−10〜+50℃の範囲にあ
    る請求項39記載の方法。
  42. 【請求項42】 式(V)または(VI)の錯体に対する
    水素化される化合物(基質)のモル比が、10,000
    〜20になるように触媒の量を選択する請求項39記載
    の方法。
  43. 【請求項43】 反応を溶媒の存在下に実施する請求項
    39記載の方法。
  44. 【請求項44】 溶媒が、メタノール、またはメタノー
    ルとベンゼンもしくはトルエンとの混合物である請求項
    39記載の方法。
  45. 【請求項45】 炭素二重結合または炭素/ヘテロ原子
    二重結合を含むプロキラルな化合物を不斉水素化するた
    めの均一触媒としての、請求項19記載の式(V)また
    は(VI)の錯体の用途。
  46. 【請求項46】 不斉炭素二重結合、ケトイミンおよび
    ケトンを水素化するための請求項45記載の用途。
  47. 【請求項47】 式(V)または(VI)のロジウム錯体
    によって不斉炭素二重結合を水素化するための請求項4
    5記載の用途。
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