JPH06298929A - 触媒組成物 - Google Patents
触媒組成物Info
- Publication number
- JPH06298929A JPH06298929A JP6066989A JP6698994A JPH06298929A JP H06298929 A JPH06298929 A JP H06298929A JP 6066989 A JP6066989 A JP 6066989A JP 6698994 A JP6698994 A JP 6698994A JP H06298929 A JPH06298929 A JP H06298929A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- catalyst composition
- polyketone
- viii metal
- group viii
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G67/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing oxygen or oxygen and carbon, not provided for in groups C08G2/00 - C08G65/00
- C08G67/02—Copolymers of carbon monoxide and aliphatic unsaturated compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポリケトンの製造に使用するのに適した新規
な触媒組成物を得る。 【構成】 (a)第VIII族金属に対し配位しうる少
なくとも1種のリガンドを含有する第VIII族金属化
合物と、(b)硼素ヒドロカルビル化合物とからなるポ
リケトンを製造するための触媒組成物であって、特に、
硼素ヒドロカルビル化合物は、式BXYZ[式中、X、
YおよびZの少なくとも1つは一価ヒドロカルビル基で
ある]のルイス酸である触媒組成物である。好適な触媒
組成物は、パラジウム錯体とB(C6 F5 )3 とで構成
される。
な触媒組成物を得る。 【構成】 (a)第VIII族金属に対し配位しうる少
なくとも1種のリガンドを含有する第VIII族金属化
合物と、(b)硼素ヒドロカルビル化合物とからなるポ
リケトンを製造するための触媒組成物であって、特に、
硼素ヒドロカルビル化合物は、式BXYZ[式中、X、
YおよびZの少なくとも1つは一価ヒドロカルビル基で
ある]のルイス酸である触媒組成物である。好適な触媒
組成物は、パラジウム錯体とB(C6 F5 )3 とで構成
される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリケトンの製造に使
用するのに適した新規な触媒組成物に関するものであ
る。
用するのに適した新規な触媒組成物に関するものであ
る。
【0002】
(a)1種もしくはそれ以上のオレフィンと(b)一酸
化炭素との線状交互重合体であるポリケトンを、オレフ
ィンと一酸化炭素とをパラジウム触媒の存在下にメタノ
ール、エタノールもしくはプロパノール溶剤中で重合さ
せる液相法によって製造することが知られている。たと
えば欧州特許第EP 121965号および欧州特許第
EP 314309号に詳細に開示されたこの種の方法
は典型的には(a)パラジウム化合物と、(b)パラジ
ウムに対し配位しない或いは極く弱く配位する陰イオン
源と、(c)式R1 R2 P−R−PR3 R4 [式中、R
1〜R4 は独立して必要に応じ極性置換しうるアリール
基であり、Rはたとえば−(CH2 )n −(n=2〜
6)のような二価の有機架橋基である]のビスホスフィ
ンとから得られる触媒を用いる。陰イオン源は典型的に
はその共役酸である。
化炭素との線状交互重合体であるポリケトンを、オレフ
ィンと一酸化炭素とをパラジウム触媒の存在下にメタノ
ール、エタノールもしくはプロパノール溶剤中で重合さ
せる液相法によって製造することが知られている。たと
えば欧州特許第EP 121965号および欧州特許第
EP 314309号に詳細に開示されたこの種の方法
は典型的には(a)パラジウム化合物と、(b)パラジ
ウムに対し配位しない或いは極く弱く配位する陰イオン
源と、(c)式R1 R2 P−R−PR3 R4 [式中、R
1〜R4 は独立して必要に応じ極性置換しうるアリール
基であり、Rはたとえば−(CH2 )n −(n=2〜
6)のような二価の有機架橋基である]のビスホスフィ
ンとから得られる触媒を用いる。陰イオン源は典型的に
はその共役酸である。
【0003】さらに欧州特許第EP−A−246683
号からは、触媒における成分(b)を塩化錫もしくは塩
化ゲルマニウムにより置換してもポリケトンを製造しう
ることが公知である。強酸と弱塩基とのこの種の塩は電
子アクセプタ、すなわち「ルイス」酸である。
号からは、触媒における成分(b)を塩化錫もしくは塩
化ゲルマニウムにより置換してもポリケトンを製造しう
ることが公知である。強酸と弱塩基とのこの種の塩は電
子アクセプタ、すなわち「ルイス」酸である。
【0004】欧州特許第EP−A−508502号は、
(a)第VIII族金属化合物と、(b)一般式MFn
[式中、Mは弗素と共にルイス酸を生成しうる元素を示
し、Fは弗素を示し、nは3もしくは5の数値を示す]
のルイス酸と、(c)デンテート配位子が第VIII族
金属と錯体化しうる少なくとも2個の燐−、窒素−もし
くは硫黄−含有デンテート基を有するデンテート配位子
とからなる触媒組成物を開示している。。
(a)第VIII族金属化合物と、(b)一般式MFn
[式中、Mは弗素と共にルイス酸を生成しうる元素を示
し、Fは弗素を示し、nは3もしくは5の数値を示す]
のルイス酸と、(c)デンテート配位子が第VIII族
金属と錯体化しうる少なくとも2個の燐−、窒素−もし
くは硫黄−含有デンテート基を有するデンテート配位子
とからなる触媒組成物を開示している。。
【0005】従来技術の触媒組成物に伴う問題は、その
反応速度を改善することである。
反応速度を改善することである。
【0006】今回、特定の硼素化合物と組合せた第VI
II族金属化合物に基づく触媒組成物を用いて高反応速
度が得られることを突き止めた。
II族金属化合物に基づく触媒組成物を用いて高反応速
度が得られることを突き止めた。
【0007】
【発明の要点】本発明によれば: (a)第VIII族金属に対し配位しうる少なくとも1
種のリガンドを含有する第VIII族金属化合物と、
(b)硼素ヒドロカルビル化合物、好ましくは式BXY
Z[式中、X、YおよびZの少なくとも1つは一価ヒド
ロカルビル基である]のルイス酸とからなることを特徴
とするポリケトンを製造するための触媒組成物が提供さ
れる。
種のリガンドを含有する第VIII族金属化合物と、
(b)硼素ヒドロカルビル化合物、好ましくは式BXY
Z[式中、X、YおよびZの少なくとも1つは一価ヒド
ロカルビル基である]のルイス酸とからなることを特徴
とするポリケトンを製造するための触媒組成物が提供さ
れる。
【0008】さらに本発明の利点はプロトン酸(特に、
たとえば2未満の低pKaを有するもの)を用いる必要
性を顕著に減少させ或いは全く排除する可能性である
が、少量の水は許容することができる。残留量のこの種
の酸がポリケトン中に保持されると、ポリケトンの熱安
定性は低下すると思われる。
たとえば2未満の低pKaを有するもの)を用いる必要
性を顕著に減少させ或いは全く排除する可能性である
が、少量の水は許容することができる。残留量のこの種
の酸がポリケトン中に保持されると、ポリケトンの熱安
定性は低下すると思われる。
【0009】ここで用いるポリケトンという用語は、1
種もしくはそれ以上のオレフィンと一酸化炭素との共重
合体を意味すべく用いられる。この種の物質の理想的な
構造は、厳密に交互するオレフィン単位と一酸化炭素単
位との重合体である。本発明により製造されるポリケト
ンはこの理想的な構造に対応するが、主としてこの構造
に対応し少量(すなわち10重量%まで)の対応ポリオ
レフィンを含有する物質のこの規定の範囲内であると考
えられる。
種もしくはそれ以上のオレフィンと一酸化炭素との共重
合体を意味すべく用いられる。この種の物質の理想的な
構造は、厳密に交互するオレフィン単位と一酸化炭素単
位との重合体である。本発明により製造されるポリケト
ンはこの理想的な構造に対応するが、主としてこの構造
に対応し少量(すなわち10重量%まで)の対応ポリオ
レフィンを含有する物質のこの規定の範囲内であると考
えられる。
【0010】次に重合のための供給原料を考慮すれば、
任意の一酸化炭素源を使用しうると思われる。すなわ
ち、一酸化炭素は窒素、不活性ガスおよび水素を含有す
ることができる。
任意の一酸化炭素源を使用しうると思われる。すなわ
ち、一酸化炭素は窒素、不活性ガスおよび水素を含有す
ることができる。
【0011】理論上、任意のオレフィンを使用しうる
が、エチレンまたはエチレンを含むオレフィンの混合物
(たとえばエチレン/プロピレン、エチレン/ブチレ
ン、エチレン/ヘキセンなど)を使用すれば最良の反応
速度が得られる。エチレンの不存在下に得られる低い速
度は、エチレン供給原料を用いてのみこの方法を使用し
うることを示すと解釈してはならない。何故なら、たと
えばプロピレン、4−メチルペンテン−1、スチレン、
アクリレート、酢酸ビニルなどの他のオレフィンも全て
反応をある程度受けるからである。
が、エチレンまたはエチレンを含むオレフィンの混合物
(たとえばエチレン/プロピレン、エチレン/ブチレ
ン、エチレン/ヘキセンなど)を使用すれば最良の反応
速度が得られる。エチレンの不存在下に得られる低い速
度は、エチレン供給原料を用いてのみこの方法を使用し
うることを示すと解釈してはならない。何故なら、たと
えばプロピレン、4−メチルペンテン−1、スチレン、
アクリレート、酢酸ビニルなどの他のオレフィンも全て
反応をある程度受けるからである。
【0012】本発明の触媒組成物は第VIII族金属化
合物からなっている。第VIII族金属は鉄、コバル
ト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オ
スミウム、イリジウムおよび白金である。第VIII族
金属としてはパラジウムが特に好適である。
合物からなっている。第VIII族金属は鉄、コバル
ト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オ
スミウム、イリジウムおよび白金である。第VIII族
金属としてはパラジウムが特に好適である。
【0013】第VIII族金属化合物はさらに第VII
I族金属化合物に対し配位しうる少なくとも1種のリガ
ンドを含有する。この種のリガンドの例は燐−、砒素
−、アンチモン−、窒素−および硫黄−供与リガンド、
好ましくは燐−供与リガンド、たとえばホスフィン、ホ
スフィナイト、ホスホナイトもしくはホスファイト、好
ましくはホスフィンである。ホスフィンを使用する場
合、これらは一座もしくは二座とすることができる。有
用な一座リガンドは式PR1 R2 R3 [式中、R1、R
2 およびR3 は独立して適宜置換されたアルキルもしく
はアリール基、たとえばC1 〜C6 アルキル、フェニ
ル、アニシル、トリルである]を有する。R1=R2 =
R3 であることが好ましい。すなわち、好適な一座ホス
フィンはPPh3 、PMe3 、PEt3 およびP(n−
Bu)3 である。或いは二座ホスフィン、特に式R4 R
5 P−R8 −PR6 R7 [式中、R4 、R5 、R6 およ
びR7 は同一もしくは異なってもよく、全て基R1 、R
2 、R3 と同じ意味を有し、R8はたとえば−(C
H2 )n −のような二価の有機基であり、ここでn=2
〜6である]のホスフィンを使用することができる。こ
の種の二座ホスフィンの例は1,3−ビス(ジフェニル
ホスフィノ)プロパン(dppp);1,2−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)エタン(dppe);1,4−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(dppb)および
1,3−[ビス(2−メトキシフェニル)ホスフィノ]
プロパンである。
I族金属化合物に対し配位しうる少なくとも1種のリガ
ンドを含有する。この種のリガンドの例は燐−、砒素
−、アンチモン−、窒素−および硫黄−供与リガンド、
好ましくは燐−供与リガンド、たとえばホスフィン、ホ
スフィナイト、ホスホナイトもしくはホスファイト、好
ましくはホスフィンである。ホスフィンを使用する場
合、これらは一座もしくは二座とすることができる。有
用な一座リガンドは式PR1 R2 R3 [式中、R1、R
2 およびR3 は独立して適宜置換されたアルキルもしく
はアリール基、たとえばC1 〜C6 アルキル、フェニ
ル、アニシル、トリルである]を有する。R1=R2 =
R3 であることが好ましい。すなわち、好適な一座ホス
フィンはPPh3 、PMe3 、PEt3 およびP(n−
Bu)3 である。或いは二座ホスフィン、特に式R4 R
5 P−R8 −PR6 R7 [式中、R4 、R5 、R6 およ
びR7 は同一もしくは異なってもよく、全て基R1 、R
2 、R3 と同じ意味を有し、R8はたとえば−(C
H2 )n −のような二価の有機基であり、ここでn=2
〜6である]のホスフィンを使用することができる。こ
の種の二座ホスフィンの例は1,3−ビス(ジフェニル
ホスフィノ)プロパン(dppp);1,2−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)エタン(dppe);1,4−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(dppb)および
1,3−[ビス(2−メトキシフェニル)ホスフィノ]
プロパンである。
【0014】この種のリガンドを含有する第VIII族
金属化合物は予備生成状態にて反応媒体に添加すること
ができ、或いは第VIII族金属先駆体とリガンドとを
別々に、好ましくは同時に添加してその場で生成させる
ことができる。この種の第VIII族金属先駆体は好適
には単なる二元化合物、たとえば塩化パラジウム、酢酸
パラジウムである。好適な第VIII族金属化合物はP
d(PP)(酢酸)2[ここでPPは上記したような二
座リガンド、たとえばdpppである]である。
金属化合物は予備生成状態にて反応媒体に添加すること
ができ、或いは第VIII族金属先駆体とリガンドとを
別々に、好ましくは同時に添加してその場で生成させる
ことができる。この種の第VIII族金属先駆体は好適
には単なる二元化合物、たとえば塩化パラジウム、酢酸
パラジウムである。好適な第VIII族金属化合物はP
d(PP)(酢酸)2[ここでPPは上記したような二
座リガンド、たとえばdpppである]である。
【0015】第VIII族金属に対し配位しうるリガン
ドの他に、好ましくは第VIII族金属化合物は第VI
II族金属に結合した他の基を含む。これらの基は、第
VIII族金属化合物を生ぜしめる際に使用された任意
の第VIII族金属先駆体から誘導することができる。
この種の基は好適にはハロゲン基(特に塩素基)、酢酸
基、トリフルオロ酢酸基、トシレート基、硝酸基、硫酸
基、アセチルアセトン酸基、シアン基、好ましくは酢酸
基である。
ドの他に、好ましくは第VIII族金属化合物は第VI
II族金属に結合した他の基を含む。これらの基は、第
VIII族金属化合物を生ぜしめる際に使用された任意
の第VIII族金属先駆体から誘導することができる。
この種の基は好適にはハロゲン基(特に塩素基)、酢酸
基、トリフルオロ酢酸基、トシレート基、硝酸基、硫酸
基、アセチルアセトン酸基、シアン基、好ましくは酢酸
基である。
【0016】第VIII族金属化合物の他に、本発明の
触媒組成物はさらに硼素ヒドロカルビル化合物(たとえ
ば硼素アルキルもしくは硼素アリール化合物)をも含
む。特に硼素ヒドロカルビル化合物は、式BXYZ[式
中、X、YおよびZの少なくとも1つは一価ヒドロカル
ビル基である]のルイス酸とすることができる。X、Y
もしくはZのいずれか1つが一価ヒドロカルビル基であ
る場合、これは好適にはアルキル、たとえばC1 〜C6
アルキル基またはアリール基、たとえば置換もしくは未
置換のフェニル基、たとえばC6 H5 もしくはC6 F5
である。他の適する一価ヒドロカルビル基はm,m−C
6 H3 (CF3 )2 、CF3 およびC2 F5 である。基
X、YおよびZの2個もしくは3個が一緒になってそれ
ぞれ二価もしくは三価の基を形成しうることも了解すべ
きである。X、YおよびZの少なくとも1つは一価ヒド
ロカルビル基であるが、X、YおよびZの少なくとも2
種、好ましくは3種はそれぞれ一価ヒドロカルビル基で
あることが好ましい。この種のルイス酸の適する例はB
Me3 、BEt3 、B(C6 H5 )3 、B[mm−CF
3 )2 C6 H3 ]3 、B(メシチル)3 、B(p−FC
6 H4 )3 、B(m−CF3 C6 H4 )3 およびB(C
6 H5 )3 、好ましくはB(C6 H5 )3 である。X、
YおよびZの1種もしくはそれ以上がヒドロカルビル基
でない場合、これは好適にはOH、ORもしくはハロゲ
ン基であり、好ましくはたとえば弗素基、塩素基もしく
は臭素基(特に弗素基)のようなハロゲン基である。
X、YおよびZの1つがヒドロカルビル基以外の基であ
る化合物の例は式RB(OH)2 [式中、Rはヒドロカ
ルビル基である]のボロン酸、たとえばPhB(OH)
2 およびヒドロカルビル1,3,2−ベンゾジオキサボ
ロールである。
触媒組成物はさらに硼素ヒドロカルビル化合物(たとえ
ば硼素アルキルもしくは硼素アリール化合物)をも含
む。特に硼素ヒドロカルビル化合物は、式BXYZ[式
中、X、YおよびZの少なくとも1つは一価ヒドロカル
ビル基である]のルイス酸とすることができる。X、Y
もしくはZのいずれか1つが一価ヒドロカルビル基であ
る場合、これは好適にはアルキル、たとえばC1 〜C6
アルキル基またはアリール基、たとえば置換もしくは未
置換のフェニル基、たとえばC6 H5 もしくはC6 F5
である。他の適する一価ヒドロカルビル基はm,m−C
6 H3 (CF3 )2 、CF3 およびC2 F5 である。基
X、YおよびZの2個もしくは3個が一緒になってそれ
ぞれ二価もしくは三価の基を形成しうることも了解すべ
きである。X、YおよびZの少なくとも1つは一価ヒド
ロカルビル基であるが、X、YおよびZの少なくとも2
種、好ましくは3種はそれぞれ一価ヒドロカルビル基で
あることが好ましい。この種のルイス酸の適する例はB
Me3 、BEt3 、B(C6 H5 )3 、B[mm−CF
3 )2 C6 H3 ]3 、B(メシチル)3 、B(p−FC
6 H4 )3 、B(m−CF3 C6 H4 )3 およびB(C
6 H5 )3 、好ましくはB(C6 H5 )3 である。X、
YおよびZの1種もしくはそれ以上がヒドロカルビル基
でない場合、これは好適にはOH、ORもしくはハロゲ
ン基であり、好ましくはたとえば弗素基、塩素基もしく
は臭素基(特に弗素基)のようなハロゲン基である。
X、YおよびZの1つがヒドロカルビル基以外の基であ
る化合物の例は式RB(OH)2 [式中、Rはヒドロカ
ルビル基である]のボロン酸、たとえばPhB(OH)
2 およびヒドロカルビル1,3,2−ベンゾジオキサボ
ロールである。
【0017】本発明に使用するのに適した他の硼素ヒド
ロカルビル化合物は式MBR4 [式中、Mはアルカリ金
属、たとえばLi、Naであり、Rはヒドロカルビル
基、たとえばC6 H5 、C6 F5 および置換同族体であ
る]の硼素塩である。たとえば、適する化合物はLiB
(C6 F5 )4 もしくはNaB(C6 F5 )4 とするこ
とができる。
ロカルビル化合物は式MBR4 [式中、Mはアルカリ金
属、たとえばLi、Naであり、Rはヒドロカルビル
基、たとえばC6 H5 、C6 F5 および置換同族体であ
る]の硼素塩である。たとえば、適する化合物はLiB
(C6 F5 )4 もしくはNaB(C6 F5 )4 とするこ
とができる。
【0018】硼素ヒドロカルビル化合物、たとえばルイ
ス酸BXYZは、第VIII族金属:硼素の比が10:
1〜1:200、好ましくは1:1〜1:100、より
好ましくは1:5〜1:70の範囲、たとえば1:50
となるような量で反応媒体に添加される。
ス酸BXYZは、第VIII族金属:硼素の比が10:
1〜1:200、好ましくは1:1〜1:100、より
好ましくは1:5〜1:70の範囲、たとえば1:50
となるような量で反応媒体に添加される。
【0019】触媒組成物は気相または液相のいずれかで
使用することができる。液相という用語は、ポリケトン
生成物が反応溶剤に対し不溶性であるようなスラリー相
をも包含すると了解すべきである。触媒組成物を液相で
用いる場合は、任意適する溶剤を使用することができ
る。この種の溶剤の例はケトン(たとえばアセトン)、
エーテル、グリコールエーテル、塩素化溶剤(たとえば
クロロホルム、ジクロルメタン)、炭化水素溶剤(たと
えばシクロヘキサン、トルエン)、メタノールおよびエ
タノールである。特に好適な溶剤は任意のオレフィン系
不飽和炭化水素であり、特にこの種の炭化水素が重合反
応における反応体となる場合である。この種のオレフィ
ン系不飽和炭化水素の例はC3 〜C10オレフィン(好ま
しくはC3〜C6 オレフィン、たとえばプロピレン、n
−ブテン、イソブテンおよびn−ヘキセン)、並びにス
チレンである。溶剤として好適なオレフィン系不飽和オ
レフィンはプロピレンである。非アルコール性の溶剤系
を必要に応じ用いうることが本発明の特徴である。最終
重合体におけるアルコール不純物は、重合体を食品包装
に用いる場合には望ましくない。何故なら、アルコール
は一般に毒性であるからである。溶剤は少量、たとえば
約0.5%wt/wtまでの水を含有することもでき
る。反応を気相で行う場合は少量の水を添加することが
できる。水を存在させる場合、好ましくは硼素1モル当
り少なくとも4モルの量で存在させる。
使用することができる。液相という用語は、ポリケトン
生成物が反応溶剤に対し不溶性であるようなスラリー相
をも包含すると了解すべきである。触媒組成物を液相で
用いる場合は、任意適する溶剤を使用することができ
る。この種の溶剤の例はケトン(たとえばアセトン)、
エーテル、グリコールエーテル、塩素化溶剤(たとえば
クロロホルム、ジクロルメタン)、炭化水素溶剤(たと
えばシクロヘキサン、トルエン)、メタノールおよびエ
タノールである。特に好適な溶剤は任意のオレフィン系
不飽和炭化水素であり、特にこの種の炭化水素が重合反
応における反応体となる場合である。この種のオレフィ
ン系不飽和炭化水素の例はC3 〜C10オレフィン(好ま
しくはC3〜C6 オレフィン、たとえばプロピレン、n
−ブテン、イソブテンおよびn−ヘキセン)、並びにス
チレンである。溶剤として好適なオレフィン系不飽和オ
レフィンはプロピレンである。非アルコール性の溶剤系
を必要に応じ用いうることが本発明の特徴である。最終
重合体におけるアルコール不純物は、重合体を食品包装
に用いる場合には望ましくない。何故なら、アルコール
は一般に毒性であるからである。溶剤は少量、たとえば
約0.5%wt/wtまでの水を含有することもでき
る。反応を気相で行う場合は少量の水を添加することが
できる。水を存在させる場合、好ましくは硼素1モル当
り少なくとも4モルの量で存在させる。
【0020】重合法は好適には20〜150℃、好まし
くは50〜120℃の範囲の温度および高められた圧力
(たとえば1〜100バール)にて行われる。反応条件
下でオレフィンが気体であれば、過剰圧力のガスは好ま
しくは一酸化炭素または一酸化炭素とオレフィンであ
る。重合工程はバッチ式または連続式のいずれでも操作
することができる。
くは50〜120℃の範囲の温度および高められた圧力
(たとえば1〜100バール)にて行われる。反応条件
下でオレフィンが気体であれば、過剰圧力のガスは好ま
しくは一酸化炭素または一酸化炭素とオレフィンであ
る。重合工程はバッチ式または連続式のいずれでも操作
することができる。
【0021】他面において本発明によれば、末端基の少
なくとも30モル%、好ましくは少なくとも40モル
%、より好ましくは約50モル%がアリール基もしくは
置換アリール基、たとえばフェニルもしくは置換フェニ
ル、好ましくはC6 F5 基であるポリケトンが提供され
る。
なくとも30モル%、好ましくは少なくとも40モル
%、より好ましくは約50モル%がアリール基もしくは
置換アリール基、たとえばフェニルもしくは置換フェニ
ル、好ましくはC6 F5 基であるポリケトンが提供され
る。
【0022】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに説明す
る。
る。
【0023】実験 トルエンとジエチルエーテルとはナトリウムから蒸留し
た。ジクロルメタンは水素化カルシウムから蒸留した。
た。ジクロルメタンは水素化カルシウムから蒸留した。
【0024】フィトン等により記載された方法[Chem.C
omm.1968、6]にしたがって塩化アセチルをPd
(PPh3 )4 に添加することによりPd(PPh3 )
2 (COCH3 )Clを97%収率で作成した。Pd
(PPh3 )4 はクールソンにより記載された方法[イ
ンオーガニック・シンセシス、1970、第13巻、第
121頁]にしたがって合成した。
omm.1968、6]にしたがって塩化アセチルをPd
(PPh3 )4 に添加することによりPd(PPh3 )
2 (COCH3 )Clを97%収率で作成した。Pd
(PPh3 )4 はクールソンにより記載された方法[イ
ンオーガニック・シンセシス、1970、第13巻、第
121頁]にしたがって合成した。
【0025】実施例1 (a)Pd(dppp)(COCH3 )Clの製造 Pd(PPh3 )2 (COCH3 )Cl(6.1319
g、8.6ミリモル)と1,3−ビス(ジフェニルホス
フィノ)プロパン(dppp)(3.7711g、9.
1ミリモル)とトルエン(100ml)とを混合し、得
られた混合物を窒素下で1時間攪拌した。ジエチルエー
テル(100ml)を添加し、混合物を濾過した。固体
生成物をジエチルエーテル(20ml)で洗浄し、減圧
乾燥してPd(dppp)(COCH3 )Cl(4.8
521g、8.1ミリモル)を得た。収率=94%。
g、8.6ミリモル)と1,3−ビス(ジフェニルホス
フィノ)プロパン(dppp)(3.7711g、9.
1ミリモル)とトルエン(100ml)とを混合し、得
られた混合物を窒素下で1時間攪拌した。ジエチルエー
テル(100ml)を添加し、混合物を濾過した。固体
生成物をジエチルエーテル(20ml)で洗浄し、減圧
乾燥してPd(dppp)(COCH3 )Cl(4.8
521g、8.1ミリモル)を得た。収率=94%。
【0026】(b)重合 トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素(0.0436
g、0.085ミリモル)を乾燥されかつ脱ガスされた
ジクロルメタン(100ml)に溶解させ、窒素下で3
00mlのオートクレーブ・エンジニア反応器に移し
た。攪拌された反応器内容物を一酸化炭素とエチレンと
の1:1混合物によりゲージ圧45バールまで加圧し、
70℃まで加熱した。乾燥されかつ脱ガスされたジクロ
ルメタンにおけるPd(dppp)(COCH3 )Cl
(0.0154g、0.026ミリモル)の溶液を反応
器に添加し、圧力を1:1のCO/C2 H4 の添加によ
りゲージ圧50バールに調整した。その後の反応に際
し、ゲージ圧50バールの圧力を1:1のCO/C2 H
4 の添加により維持した。反応器にパラジウム錯体を添
加してから3時間の後、混合物を冷却すると共にガス成
分を排気して反応を停止させた。交互エテン/CO共重
合体を濾過によって回収し、減圧乾燥させた。収量=1
1.502g。これは1393g/gPd/hの生産性
を示す。
g、0.085ミリモル)を乾燥されかつ脱ガスされた
ジクロルメタン(100ml)に溶解させ、窒素下で3
00mlのオートクレーブ・エンジニア反応器に移し
た。攪拌された反応器内容物を一酸化炭素とエチレンと
の1:1混合物によりゲージ圧45バールまで加圧し、
70℃まで加熱した。乾燥されかつ脱ガスされたジクロ
ルメタンにおけるPd(dppp)(COCH3 )Cl
(0.0154g、0.026ミリモル)の溶液を反応
器に添加し、圧力を1:1のCO/C2 H4 の添加によ
りゲージ圧50バールに調整した。その後の反応に際
し、ゲージ圧50バールの圧力を1:1のCO/C2 H
4 の添加により維持した。反応器にパラジウム錯体を添
加してから3時間の後、混合物を冷却すると共にガス成
分を排気して反応を停止させた。交互エテン/CO共重
合体を濾過によって回収し、減圧乾燥させた。収量=1
1.502g。これは1393g/gPd/hの生産性
を示す。
【0027】実施例2 (a)Pd(dppp)(OAc)2 の製造 酢酸パラジウム(1.000g、4.4563×10-3
モル)をHPLC級のアセトン(100ml)に溶解さ
せ、この溶液を2時間攪拌し、次いで濾過した。濾液に
HPLC級のアセトン(25ml)におけるdppp
(1.8390g)の溶液を1/2時間かけてゆっくり
添加した。その直後に針状結晶が生成し始めた。次いで
ジエチルエーテル(25ml)をゆっくり添加し、混合
物を1/2時間にわたり静置させた。得られた淡黄色沈
殿物を濾過し、トルエン(5ml)で洗浄し、減圧乾燥
してPd(dppp)(OAc)2 (2.146g)を
得た。
モル)をHPLC級のアセトン(100ml)に溶解さ
せ、この溶液を2時間攪拌し、次いで濾過した。濾液に
HPLC級のアセトン(25ml)におけるdppp
(1.8390g)の溶液を1/2時間かけてゆっくり
添加した。その直後に針状結晶が生成し始めた。次いで
ジエチルエーテル(25ml)をゆっくり添加し、混合
物を1/2時間にわたり静置させた。得られた淡黄色沈
殿物を濾過し、トルエン(5ml)で洗浄し、減圧乾燥
してPd(dppp)(OAc)2 (2.146g)を
得た。
【0028】(b)重合 B(C6 F5 )3 (0.2407g)を空気中で秤量し
て乾燥シュレンク管に入れ、乾燥ジクロルメタン(10
0ml)における溶液を窒素下で作成した。次いで、こ
の溶液を300mlの攪拌オートクレーブに移し、25
gのプロペンを添加した。
て乾燥シュレンク管に入れ、乾燥ジクロルメタン(10
0ml)における溶液を窒素下で作成した。次いで、こ
の溶液を300mlの攪拌オートクレーブに移し、25
gのプロペンを添加した。
【0029】次いでオートクレーブを反応ガス(予備混
合ののCO/C2 H4 、50/50v/v)によりケー
ジ圧30バールまで加圧し、70℃まで加熱した。
合ののCO/C2 H4 、50/50v/v)によりケー
ジ圧30バールまで加圧し、70℃まで加熱した。
【0030】乾燥ジクロルメタン(10ml)における
Pd(dppp)(OAc)2 (0.0154g)の溶
液をオートクレーブ中に注入し、次いでこれをCO/C
2 H4 によりケージ圧50バール(反応圧力)まで加圧
した。
Pd(dppp)(OAc)2 (0.0154g)の溶
液をオートクレーブ中に注入し、次いでこれをCO/C
2 H4 によりケージ圧50バール(反応圧力)まで加圧
した。
【0031】反応を1時間行い、22.495gのポリ
ケトンを回収した。これは8730g/gPd/hの生
産性を示す。
ケトンを回収した。これは8730g/gPd/hの生
産性を示す。
【0032】
【発明の効果】特定の硼素化合物と組合せた第VIII
族金属化合物に基づく本発明に係る触媒組成物を用いる
ことにより、高反応速度が得られる。
族金属化合物に基づく本発明に係る触媒組成物を用いる
ことにより、高反応速度が得られる。
【0033】従って、本発明の触媒組成物によれば、プ
ロトン酸(特に、たとえば2未満の低pKaを有するも
の)を用いる必要性を顕著に減少させ、或いは全く排除
する可能性であり、そして少量の水は許容することがで
きる。残留量のこの種の酸がポリケトン中に保持される
と、ポリケトンの熱安定性は低下する。
ロトン酸(特に、たとえば2未満の低pKaを有するも
の)を用いる必要性を顕著に減少させ、或いは全く排除
する可能性であり、そして少量の水は許容することがで
きる。残留量のこの種の酸がポリケトン中に保持される
と、ポリケトンの熱安定性は低下する。
【0034】さらに、本発明の触媒組成物によれば、末
端基の少なくとも30モル%、好ましくは少なくとも4
0モル%、より好ましくは約50モル%がアリール基も
しくは置換アリール基、たとえばフェニルもしくは置換
フェニル、好ましくはC6 F5 基であるポリケトンが提
供される。
端基の少なくとも30モル%、好ましくは少なくとも4
0モル%、より好ましくは約50モル%がアリール基も
しくは置換アリール基、たとえばフェニルもしくは置換
フェニル、好ましくはC6 F5 基であるポリケトンが提
供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エイドリアン ピーター カーク イギリス国、ケイティー6 4エイチエ イ、サリー、サービトン、キャサリン ロ ード 19デー番
Claims (13)
- 【請求項1】 (a)第VIII族金属に対し配位しう
る少なくとも1種のリガンドを含有する第VIII族金
属化合物と、(b)硼素ヒドロカルビル化合物とからな
ることを特徴とするポリケトンを製造するための触媒組
成物。 - 【請求項2】 硼素ヒドロカルビル化合物が式BXYZ
[式中、X、YおよびZの少なくとも1つは一価ヒドロ
カルビル基である]のルイス酸である請求項1に記載の
触媒組成物。 - 【請求項3】 X、YおよびZの少なくとも1つがC1
〜C6 アルキル基または置換もしくは未置換のフェニル
基である請求項2に記載の触媒組成物。 - 【請求項4】 基X、YおよびZのそれぞれが同一であ
る請求項2または3に記載の触媒組成物。 - 【請求項5】 X、YおよびZがそれぞれC6 F5 であ
る請求項4に記載の触媒組成物。 - 【請求項6】 第VIII族金属がパラジウムである請
求項1〜5のいずれかに記載の触媒組成物。 - 【請求項7】 第VIII族金属が式Pd(P−P)
(酢酸)2 [式中、P−Pは二座ホスィンである]の化
合物である請求項6に記載の触媒組成物。 - 【請求項8】 第VIII族金属:硼素の比が1:5〜
1:70の範囲である触媒組成物。 - 【請求項9】 一酸化炭素を請求項1〜8のいずれかに
記載の触媒組成物の存在下に1種もしくはそれ以上のオ
レフィンと接触させることを特徴とするポリケトンの製
造方法。 - 【請求項10】 末端基の少なくとも30モル%がアリ
ール基または置換アリール基であるポリケトン。 - 【請求項11】 アリール基または置換アリール基がフ
ェニル基または置換フェニル基である請求項10に記載
のポリケトン。 - 【請求項12】 置換フェニル基がC6 F5 である請求
項11に記載のポリケトン。 - 【請求項13】 末端基の約50モル%が請求項10〜
12のいずれかに記載の基である請求項10〜12のい
ずれかに記載のポリケトン。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9307207.2 | 1993-04-06 | ||
| GB939307207A GB9307207D0 (en) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | Catalyst composition |
| GB939324583A GB9324583D0 (en) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | Catalyst composition |
| GB9324583.5 | 1993-11-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06298929A true JPH06298929A (ja) | 1994-10-25 |
Family
ID=26302712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6066989A Pending JPH06298929A (ja) | 1993-04-06 | 1994-04-05 | 触媒組成物 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5468708A (ja) |
| EP (1) | EP0619335B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06298929A (ja) |
| KR (1) | KR100293744B1 (ja) |
| AU (1) | AU5926194A (ja) |
| CA (1) | CA2120588A1 (ja) |
| DE (1) | DE69418088T2 (ja) |
| ES (1) | ES2131636T3 (ja) |
| FI (1) | FI941570L (ja) |
| NO (1) | NO941214L (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0830932A2 (en) | 1996-09-18 | 1998-03-25 | Kuraray Co., Ltd. | Blow molded polyalcohol container |
| JP2000515195A (ja) * | 1996-07-23 | 2000-11-14 | イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | オレフィンに対する重合法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0619335B1 (en) * | 1993-04-06 | 1999-04-28 | BP Chemicals Limited | Catalyst composition |
| US5401794A (en) | 1994-06-03 | 1995-03-28 | Shell Oil Company | Stabilized polyketone polymer compositions |
| EP0702046B1 (en) | 1994-09-15 | 2000-05-24 | Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. | Process for the copolymerization of carbon monoxide with an olefinically unsaturated compound |
| EP0702045A3 (en) * | 1994-09-15 | 1996-07-17 | Shell Int Research | Gas phase process for the copolymerization of carbon monoxide and ethylenically unsaturated compounds |
| US5952456A (en) * | 1994-09-15 | 1999-09-14 | Shell Oil Company | Gas phase process for the co-polymerization of carbon monoxide and ethylenically unsaturated compounds |
| GB9419762D0 (en) * | 1994-09-30 | 1994-11-16 | Bp Chem Int Ltd | Catalyst composition |
| US5494998A (en) * | 1994-11-14 | 1996-02-27 | Akzo Nobel N.V. | Polymerization of carbon monoxide and ethylene using catalyst containing non-coordinating, non-acidic anion |
| EP0733661B1 (en) * | 1995-03-22 | 1999-11-03 | Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. | Process for the copolymerization of carbon monoxide with an olefinically unsaturated compound |
| EP0733660B1 (en) * | 1995-03-22 | 1999-12-22 | Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. | Process for the copolymerization of carbon monoxide with an olefinically unsaturated compound |
| EP0733663B1 (en) * | 1995-03-22 | 1999-12-22 | Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. | Process for the copolymerization of carbon monoxide with an olefinically unsaturated compound |
| EP0733662A1 (en) * | 1995-03-22 | 1996-09-25 | Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. | Process for the copolymerization of carbon monoxide with an olefinically unsaturated compound |
| JPH08283407A (ja) * | 1995-03-22 | 1996-10-29 | Shell Internatl Res Maatschappij Bv | 一酸化炭素とオレフィン性不飽和化合物との共重合化方法 |
| JPH08283406A (ja) * | 1995-03-22 | 1996-10-29 | Shell Internatl Res Maatschappij Bv | 一酸化炭素とオレフィン性不飽和化合物との共重合化方法 |
| JPH08283405A (ja) * | 1995-03-22 | 1996-10-29 | Shell Internatl Res Maatschappij Bv | 一酸化炭素とオレフィン性不飽和化合物との共重合化方法 |
| EP0742242B1 (en) * | 1995-05-11 | 1999-08-25 | Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. | Process for the copolymerization of carbon monoxide with an olefinically unsaturated compound |
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| US6291695B1 (en) | 1996-02-20 | 2001-09-18 | Northwestern University | Organo-Lewis acids of enhanced utility, uses thereof, and products based thereon |
| IT1283612B1 (it) * | 1996-04-18 | 1998-04-22 | Enichem Spa | Procedimento per la preparazione di copolimeri a base di ossido di carbonio e almeno un composto contenente un'instaurazione alchenilica |
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-
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- 1996-11-04 US US08/740,714 patent/US5763672A/en not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040602 |