JPH06299323A - 基板面に画像パターンを形成する方法と装置 - Google Patents

基板面に画像パターンを形成する方法と装置

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JPH06299323A
JPH06299323A JP6053992A JP5399294A JPH06299323A JP H06299323 A JPH06299323 A JP H06299323A JP 6053992 A JP6053992 A JP 6053992A JP 5399294 A JP5399294 A JP 5399294A JP H06299323 A JPH06299323 A JP H06299323A
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pattern carrier
shielding agent
carrier
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JP6053992A
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Siegfried Kleyer
クライアー ジークフリート
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Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
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Leybold AG
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 プラスチックシートの所定の部分に任意の形
状で成膜処理を施すことができ、しかも金属成膜の施さ
れた部分に高い輪郭鮮明度を与えることを可能にすると
共に、金属成膜処理を施す部分面の上に給湿用遮蔽剤が
クリープしたり到達したりする虞れを全く排除し、かつ
シートウェブの成膜処理速度を広い限度範囲内で変速で
きるような方法と装置を提供する。 【構成】 形成すべき画像パターンに応じて画像パター
ン担体10に凹所パターンを設け、しかも前記凹所の空
間的な分布を、基板50の非成膜表面範囲に相応するよ
うにし、前記凹所に成膜阻止用遮蔽剤の蒸気を充填し、
該凹所の開放側を基板表面に対面させつつ該基板を実質
的に前記画像パターン担体と同期的に動かし、これによ
って前記凹所内に含まれた蒸気を基板上で凝縮させ、該
蒸気の少なくとも一部分が凝縮したのちに前記基板に少
なくとも1層の機能層を被着させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、成膜阻止用遮蔽剤で基
板の所定の局所部位を被覆し、次いで少なくとも1層の
機能層を被着することによって基板の面に画像パターン
を形成する方法と装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プラスチックシートに金属成膜処理を施
す方法は米国特許第4832983号明細書に基づいて
公知であり、この場合シートウェブは回転可能なゴム胴
を介してガイドされており、該ゴム胴の円筒周面は所望
の凸版画像パターンを有し、この場合円筒周面を超えて
突出する画像パターンの個々の画素はその表面に油膜を
有し、該油膜は、シートウェブ上をゴム胴が転動する際
に、前記画像に相当する油膜転写画像を形成する。油膜
転写画像を有するシートウェブは、次いで冷却ロールを
介してガイドされ、それと同時に該シートウェブには蒸
着処理が施され、その際、金属蒸気は油膜を有していな
いシート部分に被着される。
【0003】更にまた、連続法で連続的な蒸着によっ
て、電気コンデンサの製造のために使用される絶縁材シ
ートに金属成膜処理を施す方法が、ドイツ連邦共和国特
許出願公開第2234510号明細書に基づいて公知に
なっており、この場合、ローラ上に巻上げられている細
長いシートが真空装置内へ繰り出され、蒸着処理部では
金属蒸気供給源に沿ってガイドされ、次いで金属成膜の
施された状態で改めて巻上げられるが、その際前記ロー
ラから繰り出されるシートは、予熱された状態で蒸着処
理部内へ導入されるようになっている。
【0004】また、金属成膜の施された縦帯条と金属成
膜の施されていない縦帯条とを夫々1条又は複数条有す
る、特にコンデンサを製造するために特定されたシート
の金属蒸着装置がドイツ連邦共和国特許出願公開第22
11405号明細書に基づいて公知になっており、該金
属蒸着装置は、単数又は複数のノズルを備えた油蒸発器
を有し、該油蒸発器は、シートの走行方向で見て金属蒸
着装置の手前に配置されており、この場合の油蒸発器
は、ベースヒータと、調温範囲の比較的狭い低慣性温度
調節装置とを備え、該温度調節装置は、シート面の金属
成膜の施されない縦帯条の幅に関連して制御されるよう
になっている。
【0005】更にまた、電気コンデンサで採用するため
に特定された、絶縁帯材の金属蒸着処理時に金属成膜の
施されない帯条を製造する方法が、ドイツ連邦共和国特
許第3224234号明細書に基づいて公知であり、そ
の場合前記絶縁帯材は、金属被膜を有していない帯条を
製造しようとする領域では、前記絶縁帯材に接触して該
絶縁帯材と等速度で一緒に走行するエンドレスの遮蔽ベ
ルトによって遮蔽され、該遮蔽ベルトは、蒸着処理ゾー
ン内へ進入する前に、金属蒸着装置に面した側を油で被
覆され、蒸着ゾーンを通過した後かつ遮蔽ベルトと絶縁
帯材との解離後に遮蔽ベルトから掻き取りによって蒸着
金属が除かれるが、その場合、金属成膜処理の施される
絶縁帯材と遮蔽ベルトとは先ず互いに接触され、次いで
油の蒸発によって油膜が作られ、該油膜は遮蔽ベルトの
両側面を被覆すると共に、僅かではあるが絶縁帯材の隣
接面域も被覆し、この被覆後に金属蒸着処理が施される
ようになっている。
【0006】更にまた、ドイツ連邦共和国特許第410
0643号明細書に基づいて金属成膜の施されていない
帯条を製造する装置が公知であり、該製造装置は、特に
コンデンサ用のシートウェブを収容して移送する装置を
内設した圧力密に密閉可能なケーシング並びに、該ケー
シング内に配置されていて走行するシートウェブ面で凝
縮するのを防止するために蒸着すべき媒体を噴出させる
ための少なくとも1つのノズルを有する蒸発源を備え、
この場合前記ノズルは、シートウェブのほぼ全幅にわた
って延びる少なくとも1つの開口から成っている。
【0007】前記の公知の方法及び装置は、遮蔽手段又
は遮蔽剤によってシートウェブ面に、任意の又は選択自
在の画像パターンをマーキング乃至はマスキングするこ
とができず、或いは被着された遮蔽剤膜の均一性が不充
分であるので、金属の沈着した部分が不鮮明な輪郭を有
することになり、更にまた、金属成膜処理を施そうとす
るシートウェブ部分に対する遮蔽剤の給湿を確実に避け
ることが保証されていないという欠点を有している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、プラスチックシートの所定の部分に任意の形状で成
膜処理を施すことができ、しかも金属成膜の施された部
分に高い輪郭鮮明度を与えることを可能にすると共に、
金属成膜処理を施す部分の面上に給湿用遮蔽剤がクリー
プしたり到達したりする虞れを全く排除し、かつシート
ウェブの成膜処理速度を広い限度範囲内で変速できるよ
うな方法と装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の本発明の構成手段は、形成すべき画像パターンに応じ
て画像パターン担体に凹所パターンを設け、しかも前記
凹所の空間的な分布を、基板の非成膜表面範囲に相応す
るようにし、前記凹所に、成膜阻止剤の蒸気を充填し、
該凹所の開放側を基板表面に対面させつつ該基板を実質
的に前記画像パターン担体と同期的に動かし、これによ
って前記凹所内に含まれた蒸気を基板上で凝縮させ、し
かも該蒸気の少なくとも一部分が凝縮したのちに前記基
板に少なくとも1層の機能層を被着させる点にある。
【0010】
【実施例】次に図面に基づいて本発明の実施例を詳説す
る。
【0011】ベルト成膜装置は実質的に、2枚の板金3
と4との間に軸支された変向ガイドローラ5、緊張ロー
ラ6、変向ガイドローラ7,8、幅出しローラ9、張力
測定ローラ11、引張りローラ12、測定ローラ13、
変向ガイドローラ14、幅出しローラ15、張力測定ロ
ーラ16及び変向ガイドローラ17、冷却式成膜ロール
18、繰り出しウェブ体37を有する繰り出しローラ3
7′、巻上げウェブ体を有する巻上げローラ35′、版
胴として構成された画像パターン担体10、中空円筒体
32によって形成された成膜室28内に配置されたアル
ミニウム線材リール20と線材供給路23と蒸発ボート
21とを有する蒸発源19並びに、成層プロセスを監視
するためのTVカメラ22から成っている。支持架台5
2に固定された両板金3,4は、巻掛け装置29を形成
している前記の変向ガイドローラ5、緊張ローラ6、変
向ガイドローラ7,8、幅出しローラ9、張力測定ロー
ラ11、引張りローラ12、測定ローラ13、変向ガイ
ドローラ14、幅出しローラ15、張力測定ローラ16
及び変向ガイドローラ17並びに成膜ロール18と一緒
にローラ26,27を介して走行レール24,25に沿
って転動しつつ二重矢印Rの方向に成膜室28に対して
進入・退出可能である。成膜室28内へ巻掛け装置29
が進入すると、支持架台52に固定的に配置された円板
型カバー30はその周縁区域でもってケーシングとして
の中空円筒体32のフランジ状端面31に圧着され、該
フランジ状端面のところで複数の(詳細な図示は省かれ
ている)クランプによって中空円筒体32に緊定される
か、或いは大気圧から遮断されて稼働期間中に中空円筒
体の室45内に生じる負圧によって前記端面31に吸着
される。
【0012】蒸発槽34は、両端を端部材によって閉塞
された中空成形材から成っている。蒸発槽34の内部に
は棒状の加熱素子が配置されており、該加熱素子の周面
を遮蔽剤が完全に包囲している。蒸発した遮蔽剤はノズ
ル条片36を介して画像パターン担体10へ向かって噴
出する。ドクターストリップ又はシールストリップ47
は、画像パターン担体10の円筒外周面に設けられてプ
リント画像を形成する凹所42,42′,42″…内に
遮蔽剤を残留させるように働く。
【0013】更に前記蒸発槽34は、この領域で遮蔽剤
を凝縮させないような圧力を有する室39内に配置され
ており、この場合室39は一方ではシールストリップ4
7及び壁部分40,41,41′によって、また他方で
は画像パターン担体10によって制限されている。
【0014】蒸発槽34は更に、遮蔽剤温度の正確な監
視と保持を可能にする温度センサを装備しているのが有
利である(但し加熱回路の監視と制御のために必要とす
る切換え回路の図示は省かれている)。
【0015】蒸発槽34は、ノズル条片36の噴出方向
を、画像パターン担体10の給湿すべき面に向けて正確
に方位づけるように、アングル片53,53′によって
両板がね3,4間に保持されている。
【0016】図1から判るようにノズル条片36は、成
膜ロール18の直ぐ近傍に位置しているシートウェブ区
分に配置されており、従って通走するシートウェブ50
に遮蔽剤を給湿した直後に本来の成膜処理が行なわれ
る。遮蔽剤(例えばシリコン油)で給湿されたシートウ
ェブ50の部分には、蒸発ボート21内で蒸発した金属
は沈着できず、従って、シートウェブ50に金属で蒸着
又は成膜の施されないシートウェブ部分が、画像パター
ン担体10における凹所42,42′,42″…の数と
サイズもしくは形状に関連しているのは明らかである。
【0017】図1及び図2に示した画像形成装置では、
シートウェブ50を搬送しかつガイドするための変向ガ
イドローラ5、緊張ローラ6、変向ガイドローラ7,8
及び幅出しローラ9は、成膜ロール18の直前に位置す
るシートウェブ50の区分を急角度で、つまり画像パタ
ーン担体10からほぼ鉛直下方に走行させるように配置
されている。
【0018】図3に詳示した遮蔽剤を塗被するための画
像パターン担体の位置及び寸法を変更することなく、シ
ートウェブ50の前記区分を任意の異なった形式で、例
えばほぼ水平平面に沿って成膜ロール18に乗り上げさ
せるようにすることも勿論可能である。
【0019】図3から判るように画像パターン担体10
は、中空ロールとして構成されており、この場合個々の
凹所42,42′,42″…によって1つの凹所パター
ンが生じる。ノズル条片36から噴出する遮蔽剤蒸気で
室39は満たされ、ひいては又、該室39へ向かって開
いている凹所42,42′,42″…も満たされる。画
像パターン担体10は矢印の方向に回転するので、シー
ルストリップ47として構成された壁部分41′もしく
は壁部分40,41は、過剰蒸気つまり凹所パターン内
に集められなかった蒸気がシートウェブ50の方へ向か
って連行されるのを阻止する。次いで、回転を続ける画
像パターン担体10がシートウェブ50と接触し、該シ
ートウェブに沿って転動するので、遮蔽剤蒸気はシート
ウェブ50上で凝縮し、それによって凹所パターンに相
当する画像をシートウェブ50の表面に、転写画像の形
で残す。
【0020】図5に示した蒸発器ユニットの実施態様で
は、シートウェブ50は画像パターン担体10に巻掛け
られてはいず、シールストリップ43,44によって制
限されているケーシング開口(ギャップ)bの直ぐ近く
を、つまり画像パターン担体10から狭い間隔cをおい
てガイドされており、この場合シールストリップ43,
44は成形帯ばねとして構成されており、該成形帯ばね
自体は、板ばね46,54によって画像パターン担体1
0に圧着されるので、セル状凹所内に収容された給湿用
遮蔽剤だけがシートウェブ50に引渡されるにすぎな
い。図4に示した蒸発器の場合と全く同様に、この場合
もシールストリップ43,44と蒸発槽34との間の室
55は、ケーシング開口bより上位の空間に対比して高
い圧力(過圧)を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】図面を判り易くするために、図2に示した変向
ガイドローラと緊張ローラの若干本の図示を省いてロー
ディング操作のために所属の巻掛け装置を、中空円筒体
として構成された成膜室から退出させた状態にあるシー
トウェブ成膜装置部分の平面図である。
【図2】図1のA−B断面線に沿って断面して示したシ
ートウェブ成膜装置の側面図である。
【図3】遮蔽剤でシートに給湿するための画像パターン
担体の斜視図である。
【図4】遮蔽剤蒸発器と図1に示した画像パターン担体
の拡大側面図である。
【図5】シートウェブを画像パターン担体に部分的に巻
掛けずに僅かな間隔をおいて該画像パターン担体に沿っ
てガイドするようにしたシートウェブ成膜装置用の蒸発
器ユニットの異なった実施態様を示す図である。
【符号の説明】
3,4 板金、 5 変向ガイドローラ、 6
緊張ローラ、 7,8変向ガイドローラ、 9 幅出
しローラ、 10 画像パターン担体、11 張力
測定ローラ、 12 引張りローラ、 13 測定
ローラ、14 変向ガイドローラ、 15 幅出し
ローラ、 16 張力測定ローラ、 17 変向ガ
イドローラ、 18 冷却式成膜ロール、 19蒸発
源、 20 アルミニウム線材リール、 21 蒸
発ボート、 22TVカメラ、 23 線材供給路、
24,25 走行レール、 26,27 ロー
ラ、 28 成膜室、 29 巻掛け装置、 30
円板型カバー、 31 フランジ状端面、 32
中空円筒体、 34 蒸発槽、 35 巻上げ
ウェブ体、 35′ 巻上げローラ、 36 ノズ
ル条片、 37 繰り出しウェブ体、 37′ 繰
り出しローラ、 39 室、 40,41,41′
壁部分、 42,42′,42″ 凹所、 43,
44 ドクターストリップ又はシールストリップ、
45 中空円筒体の室、 46 板ばね、 47
ドクターストリップ又はシールストリップ、50
シートウェブ、 51 配電盤キャビネット、 52
支持架台、 53,53′ アングル片、 54
板ばね、 55 密閉された室、 56,57
壁部分、 b ギャップ又はケーシング開口、 c
狭い間隔

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 成膜阻止用遮蔽剤で基板(50)の所定
    の局所部位を被覆し、次いで少なくとも1層の機能層を
    被着することによって基板(50)の面に画像パターン
    を形成する方法において、形成すべき画像パターンに応
    じて画像パターン担体(10)に凹所パターンを設け、
    しかも前記凹所(42,42′,42″…)の空間的な
    分布を、前記基板(50)の非成膜表面範囲に相応する
    ようにし、前記凹所(42,42′,42″…)に成膜
    阻止用遮蔽剤の蒸気を充填し、該凹所の開放側を基板表
    面に対面させつつ該基板(50)を実質的に前記画像パ
    ターン担体(10)と同期的に動かし、これによって前
    記凹所内に含まれた蒸気を基板(50)上で凝縮させ、
    しかも該蒸気の少なくとも一部分が凝縮したのちに前記
    基板(50)に少なくとも1層の機能層を被着させるこ
    とを特徴とする、基板面に画像パターンを形成する方
    法。
  2. 【請求項2】 特にコンデンサ用の真空成膜の施される
    シートウェブ(50)に金属成膜の施されていない帯条
    を製造する装置であって、ケーシング(32)と、該ケ
    ーシングを圧力密に密閉するためのカバー(30)と、
    回転可能に軸支された変向ガイドローラ及び緊張ローラ
    (5〜9;11〜17)を有する巻掛け装置(29)
    と、少なくとも1つの成膜ロール(18)と、巻上げロ
    ーラ(35′)及び繰り出しローラ(37′)と、前記
    ケーシング(32)内に保持された成膜用蒸発源(1
    9)と、油のような遮蔽剤を収容する蒸発槽(34)
    と、蒸発した遮蔽剤を前記蒸発槽(34)から噴出させ
    るための噴出ノズル(36)とを備えた形式のものにお
    いて、成膜ロール(18)には、版胴として構成されて
    いて凹所パターンを有する画像パターン担体(10)が
    前置されており、噴出ノズル(36)が前記画像パター
    ン担体(10)に向けて方位づけられており、前記画像
    パターン担体(10)がシートウェブ(50)と同期的
    に可動であって該シートウェブと接触しており、かつ、
    蒸発した遮蔽剤を前記凹所パターン内に封じ込めかつ過
    剰遮蔽剤蒸気を前記蒸発槽(34)の配置された室(3
    9,55)内に保留させるためのドクターストリップ又
    はシールストリップ(43,44;47)が前記画像パ
    ターン担体(10)に配設されていることを特徴とす
    る、真空成膜の施されるシートウェブに金属成膜の施さ
    れていない帯条を製造する装置。
  3. 【請求項3】 噴出ノズル(36)がスリット又は穴列と
    して構成されており、該噴出ノズルから噴出する遮蔽剤
    蒸気が、一方の側では画像パターン担体(10)によっ
    て、また他方の側では壁部分(40,41,41′;5
    6,57)によって制限された室(39;55)内へ流
    入し、前記壁部分が、画像パターン担体(10)に直接
    接触するか又は該画像パターン担体と相俟って狭いギャ
    ップを形成するシールストリップ又はシールリップ(4
    3,44;47)によって、画像パターン担体(10)
    に対してシールされており、前記室(39;55)が、
    隣接した室(45)に対比して高い圧力を有している、
    請求項2記載の装置。
  4. 【請求項4】 シールストリップ又はシールリップ(4
    3,44)が、ばね(46,54)のような弾性部材又
    は磁石によって、画像パターン担体(10)に圧着され
    ている、請求項3記載の装置。
  5. 【請求項5】 シートウェブ(50)が、版胴として構
    成された画像パターン担体(10)に部分的に巻掛けら
    れている、請求項2から4までのいずれか1項記載の装
    置。
  6. 【請求項6】 シートウェブ(50)が、シールストリ
    ップ(43,44)によって制限されたギャップ(b)
    に沿って、画像パターン担体(10)から狭い間隔をお
    いてガイドされている、請求項2から4までのいずれか
    1項記載の装置。
JP6053992A 1993-03-27 1994-03-24 基板面に画像パターンを形成する方法と装置 Pending JPH06299323A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4310085A DE4310085A1 (de) 1993-03-27 1993-03-27 Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Mustern auf Substraten
DE4310085.6 1993-03-27

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ID=6484082

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DE (2) DE4310085A1 (ja)

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