JPH06299331A - 組成に勾配を有するポリマー層を走行中の金属材料に連続的に被覆するための方法および装置と、得られた製品 - Google Patents
組成に勾配を有するポリマー層を走行中の金属材料に連続的に被覆するための方法および装置と、得られた製品Info
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 43
- 239000007769 metal material Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 4
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 claims description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 4
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 42
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 14
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 11
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 10
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 4
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 3
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
- C23C16/029—Graded interfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
- C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Abstract
ガス状態で注入し、低温プラズマを形成する条件を作る
ことによって、減圧チャンバ内を運動中の金属材料1に
ポリマー層を連続的に被覆する方法と装置。 【構成】 減圧チャンバ2内の少なくとも1つの区域25
で金属材料1を磁場17、18、19、20、21、22、23中を通
過させることによってその区域25でのポリマー層の組成
を変化させる。
Description
たはポリシロキサン等の有機ポリマーで被覆する方法、
特に腐食防止のために被覆する方法に関するものであ
る。
ズマを作って冶金製品をポリマーで被覆する方法は既に
公知である。この方法で得られた皮膜は金属製品を腐食
から保護し、金属製品上に形成されるペイント層や他の
方法で形成される別のポリマー層の接着を促進する役目
をする。この目的にはシランまたはシロキサン等の酸素
を含むモノマーから得られるポリマーを用いることがで
きる。これらのポリマーの利点はプラズマ内でのモノマ
ー分子の解離度を減圧チャンバ内の温度および圧力条件
を変えることで変えることができ、また、プラズマ発生
に関する電気パラメータを変えることで変えることがで
きるという点である。すなわち、解離を強くすると金属
基材上に堆積されたポリマーの「無機的」特性が強くな
る、換言すればSi−O結合が多くなり、逆に解離を弱く
するとポリマーの「有機的」特性が強くなり、ポリマー
中のSi−O結合の比率がモノマー中の比率より多くなる
ことはほとんどない。
堆積させ、各層の種類を違えるのは好ましいことであ
る。実際にこれを行うのは、金属製品が被覆操作の間の
固定されている個別製品の場合には極めて簡単であり、
1つの層の堆積が完了した後に行うことは次の層を堆積
するための処理パラメータ(雰囲気組成、電気パラメー
タ等)を適当に変更することだけである。例えば、ポリ
シランまたはポリシロキサンの堆積とシリカの堆積とを
連続的に行う場合には、処理チャンバ内に先ず最初に純
粋なシランまたはシロキサンモノマーを導入してポリマ
ー層を形成し、次に、これらモノマーに酸素を混合した
ものを導入してシリカ層を形成することは公知である。
金属製品に連続的に被覆をしなければならない場合に公
知の方法は、金属製品を複数のチャンバ内を順次通過さ
せる方法のみである(例えば、フランス国特許出願第91
13720号参照)。金属製品上に特定の種類の層を堆積す
るのに適した条件は各チャンバ内で設定され、各チャン
バは密閉状態で互いに分離しなければならない。これに
はかなり複雑な設備が必要になる。また、この方法では
各層の間の境界が常に明確に区切られるため堆積組成を
徐々に変化させることは不可能である。堆積組成に勾配
を付けることは予め堆積した層に対する所定の層の接着
力を最大限大きくするために望まれる場合があり、例え
ば、同じポリマーの有機的性質の層と無機的性質の層と
を交互に複数層積層させる場合にこのことが要求され
る。
中の金属製品上に同じチャンバ内で同じポリマーの無機
的性質の層と有機的性質の層とを複数層連続的に堆積す
る手段を提案することにある。
ンバ内にポリマーのモノマーをガス状態で注入し、低温
プラズマを形成する条件を作ることによって、減圧され
たチャンバ内で運動中の金属材料にポリマー層を連続的
に被覆する方法において、チャンバ内の少なくとも1つ
の区域で金属材料を磁場中を通過させることによってそ
の区域でのポリマー層の組成を変化させることを特徴と
する方法を提供する。
圧を維持するための手段を備えた密閉チャンバと、この
密閉チャンバの内部へ金属材料を徐々に移動させる手段
と、ポリマーのモノマーをガス状態で密封チャンバ内に
導入する手段と、密封チャンバ内を運動中の金属材料の
経路上で低温プラズマを生じさせる条件を作る手段とを
有する運動中の金属材料にポリマー層を連続的に被覆す
る装置において、運動中の金属材料の経路の一部分で低
温プラズマに磁場を重ねる手段を有することを特徴とす
る装置を提供する。本発明の他の対象は本発明方法で得
られる金属製品にある。
ーを含む処理チャンバ内を金属製品を前進させることに
よって複数の一連の区域を通過させ、各区域で低温プラ
ズマに曝して、金属精神の表面上にポリマー層を堆積さ
せる。複数の区域の少なくとも1つでは低温プラズマに
磁場の影響を重ねる。この磁場は上記区域で金属製品上
に形成される堆積層の化学的性質が変化する程度までモ
ノマー分子の反応条件を実質的に変化させるものであ
る。金属体に同一モノマーの特性の異なる複数の層を形
成する従来法と比較した場合、本発明ではチャンバ内の
雰囲気を変える必要がなく、従って、種々の堆積層が同
一チャンバ内で連続的に実施することができる。以下、
添付図面を用いて本発明の実施例を説明する。
(図示せず)によって走行運動される裸の鋼または亜鉛
メッキされた鋼のような金属ストリップ1である。ここ
では珪素と酸素とを含むモノマーを用いて金属ストリッ
プ1の片面に有機ポリマーを被覆する。このポリマーは
無機性を強く示すことができる。すなわちSi−Si、Si−
CおよびSi−H結合に比較してSi−O結合の比率を多く
することができる。ポリシランまたはポリシロキサンは
この範疇に入る。ストリップ1は入口孔3を介して密閉
チャンバ2内に入り、出口孔4を介してチャンバ2から
出る。入口孔3および出口孔4はその中にストリップ1
が挟まっている時でもチャンバ2内を外部から分離する
図示してない密閉手段を備えている。チャンバ2にはポ
ンプ6を介して外部とチャンバ2とを接続するパイプ5
が備えられ、ポンプ6によってチャンバ2内部を約 0.1
〜1,000 Pa、必要ならばそれ以下の圧力に減圧すること
ができる。チャンバ2に接続されたさらに別のパイプ7
は弁8を介してボンベ9に接続されている。このボンベ
9には堆積されるポリマーのモノマーが収容されてい
る。このモノマーは蒸気状態でボンベ9から出て、チャ
ンバ2内に侵入することができるような温度・圧力条件
下にある。本発明装置は交流発電機10を有し、その一方
の極はアースに接続されている。発電機の他方の極がど
の部品に接続されているかという点については後で説明
する。
最初に第1のローラ11と接触する。このローラ11は軸線
12を中心に駆動され駆動ローラでも、回転自在なローラ
でもよい。この第1のローラ11の役目は2つあり、1つ
はストリップ1を案内してストリップ1に適当な張力・
平坦状態を維持させることであり、もう1つはストリッ
プ1を発電機10の一方の極と接続させてストリップ1に
その電位をとらせることである。第1のローラ11を離れ
たストリップ1はアースに接続された第1の電極13の正
面を通過する。この第1の電極13とストリップ1との間
には空間29が形成されている。次に、ストリップ1は第
2のローラ14と接触する。この第2のローラは非磁性材
料で作られ、2つの部分、すなわち静止コア15と外側シ
ェル16とで構成されている。外側シェル16は、それが接
触しているストリップ1によって駆動された時に、図示
していない軸受等の適当な手段によって静止コア15の表
面上を回転する。
電機10の極に接続されて、ストリップ1に発電機10の電
位を印加する役目をしている。ストリップ1と接触する
外側シェル16の周縁区域の反対側の静止コア15の表面近
傍には永久磁石17、18、19、20、21、22および23が静止
コア15の外周縁に沿って分布している。また、永久磁石
17〜23と反対側の外側シェル16の周縁区域の少なくとも
一部分と対向して第2の電極24が配置されている。この
第2の電極24はアースに接続され、ストリップ1に対し
て実質的に一定の空間25を区画している(厳密に言え
ば、この空間は必ずしも必要ではない)。第2のローラ
14を離れたストリップ1は第1の電極13と同じ第3の電
極26の正面を徐々に移動する。この第3の電極26もアー
スに接続されている。ストリップ1と第3の電極26との
間には空間30が区画されている。次いでストリップ1は
他の2つのローラ11、14と同じ発電機10の極に接続され
た第3のローラ27上を通過する。この第3のローラは軸
線28を中心とする駆動ローラでも回転自在なローラでも
よい。第3のローラの役割は第1のローラ11の役割と同
様である。最後にストリップ1は出口孔4を通ってチャ
ンバ2を離れる。
初に、ストリップ1の先端をチャンバ2に導入する。次
に、チャンバ2を減圧した後、堆積すべきポリマーのモ
ノマー、例えばヘキサメチルジシロキサン(HMDS)
をチャンバ2に導入し、HMDSの分圧、例えば約10〜
100 Paを維持する。次に、ストリップ1の前進運動を開
始し、発電機10を作動させ、周波数を約50kHzに設定
し、電力を数10ワットに設定する。その結果ストリップ
1はバイアスされ、3つの電極13、24、26は陽極の役目
をし、ストリップ1は陰極の役目をする。ストリップ1
と電極13、24、26との間には電位差ができる。この電位
差によってストリップ1を分離する空間25、29、30の内
部に低温プラズマが生じる。このプラズマはHMDS分
子を解離する作用がある。解離したHMDS分子は各電
極の前を徐々に移動するストリップ1上にポリシロキサ
ン型のポリマーの形で堆積する。
無機的な性質が強いが、第2のローラ14の静止コアの内
部に永久磁石17〜23を存在させることによって、空間29
および空間30内の場合の操作条件に比較して、空間25内
の操作条件を極めて大きく変更することができる。すな
わち、空間25内ではモノマー分子を極めて活発に解離さ
せ且つポリマーの堆積速度を大きくすることが知られて
いる「マグネトロンスパッタリング」型の条件が得られ
る。さらに、この条件で堆積ポリマーの無機的な性質を
強調させることができる。従って、上記設備を用いてス
トリップ1上に下記3つのポリマー層を交互に連続して
堆積させることができる: (1) 第1の電極13と対向して堆積される有機的特性が強
い第1の層 (2) 永久磁石17〜23によって作られた磁界をストリップ
1と電極24との間に存在する電界に重ねた状態で第2の
電極24と対向して堆積される無機的特性が強い第2の層 (3) 第3の電極26と対向して堆積される有機的特性が強
い第3の層
きる: 発電機10 : 電力80
W、周波数50kHz チャンバ1内のHMDS圧力 : 0.3 ミリ
バール 第2の電極24と第2のローラ14と間の磁界: 約1000G
の強さ この条件下で磁場の影響を受けない2つの電極13、26と
対向させた時に観察されるポリマー層の成長速度は約
0.3μm/分である。一方、磁場の影響を受ける第2の
電極24と対向させた時に観察されるポリマー層の成長速
度は約 2.4μm/分であり、既に述べたように、この層
は他の2つの層より無機的性質が強い。
各部分でのストリップ1の滞在時間の関数、従ってスト
リップ1の前進運動速度と電極13、24、26の長さとの関
数である。本発明方法は磁場を加えた区域での堆積速度
が大きいので、長さが2〜4m程度の反応器中をストリ
ップが25〜50m/分の速度で徐々に移動する工業的規模
での操作に適合している。この場合には厚さが 2,000〜
2,500 オングストロームの堆積層を得ることができる。
その堆積厚さは亜鉛/ニッケル合金が被覆された鋼製品
やその他の亜鉛メッキ製品上に良好な耐食バリヤを構成
することができる厚さであることは分かっている。
キサンの第1の層と、無機的特性が強いポリシロキサン
の第2の層と、有機的特性が強いポリシロキサンの第3
の層とが得られる。無機的特性または有機的特性を示す
単一のポリシロキサン層のみを有する単層製品に比較し
た場合の多層製品の利点は同じ厚さで単層製品より耐食
バリヤが良くなる点にある。さらに、2種類の皮膜の有
利な特性、例えば、無機的特性が強い堆積層は有機的特
性が強い堆積層よりも機械的強度が良いという利点と、
有機的特性が強い堆積層は疎水性が強いのでペイント層
をより容易に形成できるという利点の両方を同時に利用
することができる。
えられる。例えば、磁場を加えるのに大きな単一永久磁
石やその他の装置を用いることができる。また、空間25
内で磁界を徐々に変化させ、例えば、磁石17から磁石20
までは磁界が大きくなり、磁石20から磁石23までは磁界
が再度小さくなるように変化させて、ポリマー堆積内で
の有機/無機特性を連続的に変化させることができる。
そうすることによって堆積物の結合は優れたものにな
る。また、磁場によって堆積が促進されない区域を1つ
だけにして種類の異なるポリマー層の数を2つのみにす
ることもできる。これとは逆に、電極数を増す(従っ
て、層の数を増加させる)ことや、ストリップの両面を
必要な数の電極の前を順次移動させて両面に被覆をする
こともできる。また、従来の交流発電機を使用する代わ
りにプラズマ処理の分野で広く使用されている 13.56M
Hzで動作するラジオ周波数の発電機を使用することもで
きる。直流発電機を使用することもできるが、その場合
にはポリマーの堆積厚さが数千オングストロームに限定
されるという制約がある。すなわち、この値を越えると
堆積物が絶縁特性を示し、絶縁破壊現象によって皮膜が
損傷される。また、各電極に別々の電源を備えることも
できる。
すなわちチャンバ2内を走行するストリップ1の走行路
の一部での磁場に重ねられる低温プラズマを形成するこ
とが可能なものであれば、ローラ14以外の任意の装置を
使用することができる。さらに、本発明はポリシランま
たはポリシロキサンの堆積に限定されるものではなく、
重合を起す低温プラズマ磁場を加えることで組成に影響
を与えることが可能なポリマーであれば任意のポリマー
の堆積に適用することができる。
ローラ 13、24、26 電極 15 静止コア 16 外側シェル 17〜23 永久
磁石
Claims (7)
- 【請求項1】 減圧されたチャンバ内にポリマーのモノ
マーをガス状態で注入し、低温プラズマを形成する条件
を作ることによって、減圧されたチャンバ内で運動中の
金属材料にポリマー層を連続的に被覆する方法におい
て、 チャンバ内の少なくとも1つの区域で金属材料を磁場中
を通過させることによってその区域でのポリマー層の組
成を変化させることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 上記の区域に沿って磁場強度を変化させ
る請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 内部を減圧にし且つ減圧を維持するため
の手段(5、6)を備えた密閉チャンバ(2) と、この密閉チ
ャンバ(2) の内部へ金属材料(1) を徐々に移動させる手
段と、ポリマーのモノマーをガス状態で密封チャンバ
(2) 内に導入する手段(7, 8, 9) と、密封チャンバ(2)
内を運動中の金属材料(1) の経路上で低温プラズマを生
じさせる条件を作る手段 (11, 13, 24, 27) とを有する
運動中の金属材料(1) にポリマー層を連続的に被覆する
装置において、 運動中の金属材料(1) の経路の一部分で低温プラズマに
磁場を重ねる手段(17,18, 19, 20, 21, 22, 23) を有す
ることを特徴とする装置。 - 【請求項4】 運動中の金属材料(1) の経路の一部で低
温プラズマに磁場を重ねる手段(17, 18, 19, 20, 21, 2
2, 23)が非磁性ローラ(14)に収容されており、この非磁
性ローラ(14)は手段(17, 18, 19, 20, 21, 22, 23)を収
容した静止コア(15)と、この静止コア(15)の表面上を回
転可能な外側シェル(16)とで構成され、運動中の金属材
料(1) がこの外側シェル(16)の外側表面上で支持される
ようになっている請求項3に記載の装置。 - 【請求項5】 低温プラズマに磁場を重ねる手段 (17,
18, 19, 20, 21, 22,23) が少なくとも1つの永久磁石
で構成される請求項3または4に記載の装置。 - 【請求項6】 低温プラズマを用いた方法で形成された
組成が異なる複数の層からなるポリマー層で連続的に被
覆された金属製品において、 上記複数の層が同一モノマーから得られ、複数の層の1
つが低温プラズマに磁場を重ねた条件下で形成されたも
のであることを特徴とする金属製品。 - 【請求項7】 ポリマーのモノマーがシランまたはシロ
キサンである請求項6に記載の金属製品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9303709 | 1993-03-26 | ||
| FR9303709A FR2703073B1 (fr) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | Procédé et dispositif pour le revêtement en continu d'un matériau métallique en défilement par un dépôt de polymère à gradient de composition, et produit obtenu par ce procédé. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06299331A true JPH06299331A (ja) | 1994-10-25 |
| JP3523321B2 JP3523321B2 (ja) | 2004-04-26 |
Family
ID=9445535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07661194A Expired - Fee Related JP3523321B2 (ja) | 1993-03-26 | 1994-03-23 | 組成に勾配を有するポリマー層を走行中の金属材料に連続的に被覆するための方法および装置と、得られた製品 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5437725A (ja) |
| EP (1) | EP0617143B1 (ja) |
| JP (1) | JP3523321B2 (ja) |
| KR (1) | KR100285377B1 (ja) |
| AT (1) | ATE180841T1 (ja) |
| CA (1) | CA2119852C (ja) |
| DE (1) | DE69418757T2 (ja) |
| ES (1) | ES2133156T3 (ja) |
| FR (1) | FR2703073B1 (ja) |
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- 1993-03-26 FR FR9303709A patent/FR2703073B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-03-16 ES ES94470005T patent/ES2133156T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-16 EP EP94470005A patent/EP0617143B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-16 AT AT94470005T patent/ATE180841T1/de active
- 1994-03-16 DE DE69418757T patent/DE69418757T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-18 US US08/214,548 patent/US5437725A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-23 JP JP07661194A patent/JP3523321B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-24 CA CA002119852A patent/CA2119852C/fr not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| CA2119852A1 (fr) | 1994-09-27 |
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| FR2703073B1 (fr) | 1995-05-05 |
| DE69418757T2 (de) | 2000-01-13 |
| EP0617143A1 (fr) | 1994-09-28 |
| KR100285377B1 (ko) | 2001-04-02 |
| EP0617143B1 (fr) | 1999-06-02 |
| FR2703073A1 (fr) | 1994-09-30 |
| ATE180841T1 (de) | 1999-06-15 |
| CA2119852C (fr) | 2003-11-25 |
| JP3523321B2 (ja) | 2004-04-26 |
| KR940021219A (ko) | 1994-10-17 |
| DE69418757D1 (de) | 1999-07-08 |
| ES2133156T3 (es) | 1999-09-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20031226 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040203 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080220 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090220 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110220 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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