JPH06300114A - ギヤ及びその製造方法 - Google Patents
ギヤ及びその製造方法Info
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- JPH06300114A JPH06300114A JP8654893A JP8654893A JPH06300114A JP H06300114 A JPH06300114 A JP H06300114A JP 8654893 A JP8654893 A JP 8654893A JP 8654893 A JP8654893 A JP 8654893A JP H06300114 A JPH06300114 A JP H06300114A
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Landscapes
- Gears, Cams (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 感光性樹脂フィルムからなる構造体を型とし
て電鋳報により、微細なギヤ及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。 【構成】 導電層を形成した基板上13に、ドライフィ
ルム16−1から16−5により歯車のパターンを形成
し、電鋳による金属層17−1、17−2、20、21
−1および21−2を形成した後、ドライフィルム16
−1から16−5を剥離する。
て電鋳報により、微細なギヤ及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。 【構成】 導電層を形成した基板上13に、ドライフィ
ルム16−1から16−5により歯車のパターンを形成
し、電鋳による金属層17−1、17−2、20、21
−1および21−2を形成した後、ドライフィルム16
−1から16−5を剥離する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウオッチに用いるギヤ
及びギヤの製造方法に関する。
及びギヤの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ウオッチの構成要素であるギヤは、ウオ
ッチの付加機能の追加、有効スペースの拡充のため、小
型化が要求されている。そして従来ギヤの小型化は、切
削加工や鍛造加工や射出成形等が行われ、さらにギヤの
小型化及び大量生産を目指して日経メカニカル,p7
2,1992.11.26(日経BP社)に示されてい
るように、感光性樹脂にシンクロトロン放射のX線を照
射して高アスペクト比の構造体をつくり、その構造体を
型にして電鋳法で金属製のギヤを製造する方法がある。
ッチの付加機能の追加、有効スペースの拡充のため、小
型化が要求されている。そして従来ギヤの小型化は、切
削加工や鍛造加工や射出成形等が行われ、さらにギヤの
小型化及び大量生産を目指して日経メカニカル,p7
2,1992.11.26(日経BP社)に示されてい
るように、感光性樹脂にシンクロトロン放射のX線を照
射して高アスペクト比の構造体をつくり、その構造体を
型にして電鋳法で金属製のギヤを製造する方法がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の技
術は、以下のような課題を有した。
術は、以下のような課題を有した。
【0004】第一に切削、鍛造、射出成形は、加工精度
が約10ミクロンのため小型化の点で限界があった。
が約10ミクロンのため小型化の点で限界があった。
【0005】第二にシンクロトロン放射のX線を用いた
電鋳法は、高アスペクト比のギヤを製造できるが、X線
源の装置が大がかりで、製造工程も複雑となり、実用性
に課題があった。
電鋳法は、高アスペクト比のギヤを製造できるが、X線
源の装置が大がかりで、製造工程も複雑となり、実用性
に課題があった。
【0006】第三に感光性樹脂を用いたギヤの製造で
は、感光性樹脂の剥離の工程において、感光性樹脂の膨
潤による応力のため、表面積が小さい金属層の上に表面
積の大きい金属層を積層したギヤは、金属層の界面より
剥離が起こる場合があった。
は、感光性樹脂の剥離の工程において、感光性樹脂の膨
潤による応力のため、表面積が小さい金属層の上に表面
積の大きい金属層を積層したギヤは、金属層の界面より
剥離が起こる場合があった。
【0007】第四に感光性樹脂を用いた超小型化したギ
ヤは、取扱が難しいため、輪列を組む時間が非常に長く
なり、製造効率が悪かった。
ヤは、取扱が難しいため、輪列を組む時間が非常に長く
なり、製造効率が悪かった。
【0008】本発明は、以上記した課題を解決するもの
でありその目的は、感光性樹脂からなる構造体を簡便で
安価な方法で製造し、金属層の界面強度が高い、輪列を
容易に組み立てることのできるギヤ及びその製造方法を
提供するものである。
でありその目的は、感光性樹脂からなる構造体を簡便で
安価な方法で製造し、金属層の界面強度が高い、輪列を
容易に組み立てることのできるギヤ及びその製造方法を
提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のギヤの製造方法
は、電鋳によりギヤを製造する方法において、基板上に
導電層を形成する工程と、感光性樹脂フィルムによって
パターンを形成する工程と、金属層を積層する工程を含
むことを特徴とする。
は、電鋳によりギヤを製造する方法において、基板上に
導電層を形成する工程と、感光性樹脂フィルムによって
パターンを形成する工程と、金属層を積層する工程を含
むことを特徴とする。
【0010】また電鋳によりギヤを製造する方法におい
て、基板上に第n導電層を形成する工程と、感光性樹脂
フィルムによってパターンを形成する工程と、金属層を
積層する工程と、前記金属層を含む感光性樹脂フィルム
の上に第n+1導電層を形成し、感光性樹脂フィルムに
よってパターンを形成する工程と、金属層を積層する工
程を含むことを特徴とする。
て、基板上に第n導電層を形成する工程と、感光性樹脂
フィルムによってパターンを形成する工程と、金属層を
積層する工程と、前記金属層を含む感光性樹脂フィルム
の上に第n+1導電層を形成し、感光性樹脂フィルムに
よってパターンを形成する工程と、金属層を積層する工
程を含むことを特徴とする。
【0011】また本発明のギヤは、2以上の金属層から
なり、第n金属層の表面積が第n+1金属層の表面積よ
りも小さいギアにおいて、第n金属層をマッシュルーム
形状に形成し、前記第n金属層上に第n+1金属層を積
層することを特徴とする。
なり、第n金属層の表面積が第n+1金属層の表面積よ
りも小さいギアにおいて、第n金属層をマッシュルーム
形状に形成し、前記第n金属層上に第n+1金属層を積
層することを特徴とする。
【0012】また本発明の製造方法は、感光性フィルム
によってパターンを形成する工程が、感光性樹脂フィル
ムを基板へ貼付して、露光する工程を2以上繰り返した
後現像する工程であることを特徴とする。
によってパターンを形成する工程が、感光性樹脂フィル
ムを基板へ貼付して、露光する工程を2以上繰り返した
後現像する工程であることを特徴とする。
【0013】また金属層を積層する工程の後、軸受け基
板に接着して、感光性樹脂フィルムを剥離し、基板より
金属層を離型することを特徴とする。
板に接着して、感光性樹脂フィルムを剥離し、基板より
金属層を離型することを特徴とする。
【0014】
【作用】本発明は、感光性樹脂の構造体を型として電気
めっき法により小型の金属を積層しギヤを製造する。こ
の方法は、紫外線を利用するため露光現像装置が安価
で、取扱が容易である。そしてこの感光性樹脂フィルム
を2層以上積み重ねることで、任意の高さの構造体がつ
くることができ、任意の大きさのギヤが製造できる。
めっき法により小型の金属を積層しギヤを製造する。こ
の方法は、紫外線を利用するため露光現像装置が安価
で、取扱が容易である。そしてこの感光性樹脂フィルム
を2層以上積み重ねることで、任意の高さの構造体がつ
くることができ、任意の大きさのギヤが製造できる。
【0015】また本発明は、2以上の金属層を積層した
ギヤにおいて、第n+1金属層よりも表面積の小さい第
n金属層をマッシュルーム形状に形成することにより、
第n+1金属層との接着面積が増え、密着強度の向上が
実現できる。
ギヤにおいて、第n+1金属層よりも表面積の小さい第
n金属層をマッシュルーム形状に形成することにより、
第n+1金属層との接着面積が増え、密着強度の向上が
実現できる。
【0016】また本発明においては、感光性樹脂フィル
ムの膜厚が均一なので、一定品質のギヤを、一回の製造
によって非常に大量に生産することができる。
ムの膜厚が均一なので、一定品質のギヤを、一回の製造
によって非常に大量に生産することができる。
【0017】また本発明は、ギヤを製造した後に、感光
性樹脂フィルムと金属層の面を軸受け基板へ接着させ、
感光性樹脂フィルムを剥離し、金属層を導電層から離型
することにより、ギヤを軸受けへ一括して搭載すること
ができる。
性樹脂フィルムと金属層の面を軸受け基板へ接着させ、
感光性樹脂フィルムを剥離し、金属層を導電層から離型
することにより、ギヤを軸受けへ一括して搭載すること
ができる。
【0018】
【実施例】以下実施例により、本発明を詳細に説明す
る。
る。
【0019】(実施例1)図1から図9は、各工程にお
ける断面図である。図にはギヤが一つしか表されていな
いが、実際には直径3インチの円形基板上に最低でも5
00個程度は作製可能である。
ける断面図である。図にはギヤが一つしか表されていな
いが、実際には直径3インチの円形基板上に最低でも5
00個程度は作製可能である。
【0020】まず図1のホウケイ酸ガラス基板1を洗
浄、乾燥させる。このホウケイ酸ガラス基板1には、メ
ッキ時の導電膜2として、クロムを300オングストロ
ーム、銅を5000オングストローム蒸着する。
浄、乾燥させる。このホウケイ酸ガラス基板1には、メ
ッキ時の導電膜2として、クロムを300オングストロ
ーム、銅を5000オングストローム蒸着する。
【0021】本実施例では、基板にホウケイ酸ガラスを
用いたが、メッキ液、ドライフィルムの現像液などに不
溶で、平滑ならば種類を問わない。また導電膜の種類、
厚さも、クロム300オングストロームと銅5000オ
ングストロームの蒸着膜に限定されず、メッキ液、基板
の種類、製造条件などを考慮して変更される。
用いたが、メッキ液、ドライフィルムの現像液などに不
溶で、平滑ならば種類を問わない。また導電膜の種類、
厚さも、クロム300オングストロームと銅5000オ
ングストロームの蒸着膜に限定されず、メッキ液、基板
の種類、製造条件などを考慮して変更される。
【0022】次に図2のように、導電膜2を蒸着したホ
ウケイ酸ガラス基板1に、ラミネーターによって一層目
のドライフィルム3−1をラミネートし、露光する前に
室温で15から30分間放置する。ここで使用したドラ
イフィルムは、三菱レイヨン製のダイヤロンFRA−0
63で、厚さは38ミクロンである。ドライフィルムの
種類や厚さは、形成しようとするギヤの寸法、メッキの
種類、厚さ等の条件によって変更される。
ウケイ酸ガラス基板1に、ラミネーターによって一層目
のドライフィルム3−1をラミネートし、露光する前に
室温で15から30分間放置する。ここで使用したドラ
イフィルムは、三菱レイヨン製のダイヤロンFRA−0
63で、厚さは38ミクロンである。ドライフィルムの
種類や厚さは、形成しようとするギヤの寸法、メッキの
種類、厚さ等の条件によって変更される。
【0023】所定の放置時間が経過した後、図3のよう
に歯車のパターン4、アライメントマーク5−1が付い
たマスク6−1を通して紫外線を照射し、未露光部7−
1と露光部8−2を形成する。その後、現像まで15分
間室温で放置する。
に歯車のパターン4、アライメントマーク5−1が付い
たマスク6−1を通して紫外線を照射し、未露光部7−
1と露光部8−2を形成する。その後、現像まで15分
間室温で放置する。
【0024】次に、摂氏30度、1%炭酸ナトリウム水
溶液のスプレー現像によって、ドライフィルム3−1の
未露光部7−1を除去した後、紫外線洗浄、酸浸漬によ
る親水化、活性化処理を行う。
溶液のスプレー現像によって、ドライフィルム3−1の
未露光部7−1を除去した後、紫外線洗浄、酸浸漬によ
る親水化、活性化処理を行う。
【0025】その後、ニッケル板をアノード、基板をカ
ソードとしてニッケルメッキを行い、図4のように歯車
9、アライメントマーク10−1を積層する。メッキ終
了後は、十分に水洗した後乾燥させる。
ソードとしてニッケルメッキを行い、図4のように歯車
9、アライメントマーク10−1を積層する。メッキ終
了後は、十分に水洗した後乾燥させる。
【0026】次に図5のように、メッキ終了後の基板上
に、ラミネーターによって2層目のドライフィルム3−
2をラミネートし、露光する前に15から30分間室温
で放置する。
に、ラミネーターによって2層目のドライフィルム3−
2をラミネートし、露光する前に15から30分間室温
で放置する。
【0027】所定の放置時間が経過した後、図6のよう
にかなのパターン11、アライメントマーク5−2が付
いたマスク6−2を通して紫外線を照射し、未露光部7
−2と露光部8−2を形成する。その後、次の工程まで
15分間室温で放置する。
にかなのパターン11、アライメントマーク5−2が付
いたマスク6−2を通して紫外線を照射し、未露光部7
−2と露光部8−2を形成する。その後、次の工程まで
15分間室温で放置する。
【0028】次に図7のように、基板上にラミネーター
によって3層目のドライフィルム3−3をラミネート
し、露光する前に15から30分間室温で放置する。
によって3層目のドライフィルム3−3をラミネート
し、露光する前に15から30分間室温で放置する。
【0029】所定の放置時間が経過した後、図8のよう
にかなのパターン11、アライメントマーク5−2が付
いたマスク6−2を通して紫外線を照射し、未露光部7
−3と露光部8−3を形成する。その後、現像まで15
分間室温で放置する。
にかなのパターン11、アライメントマーク5−2が付
いたマスク6−2を通して紫外線を照射し、未露光部7
−3と露光部8−3を形成する。その後、現像まで15
分間室温で放置する。
【0030】次に、摂氏30度、1%炭酸ナトリウム水
溶液のスプレー現像によって、ドライフィルム3−2お
よび3−3の未露光部7−2および7−3を除去した
後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を行
う。
溶液のスプレー現像によって、ドライフィルム3−2お
よび3−3の未露光部7−2および7−3を除去した
後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を行
う。
【0031】その後、ニッケル板をアノード、基板をカ
ソードとしてニッケルメッキを行い、図10のようにか
な12、アライメントマーク10−2を積層する。メッ
キ終了後は、十分に水洗した後乾燥させる。
ソードとしてニッケルメッキを行い、図10のようにか
な12、アライメントマーク10−2を積層する。メッ
キ終了後は、十分に水洗した後乾燥させる。
【0032】メッキの積層が終了した基板は、3%の水
酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、ドライフィルム3−1
から3を剥離する。ドライフィルム除去後の基板は、十
分水洗した後乾燥させる。
酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、ドライフィルム3−1
から3を剥離する。ドライフィルム除去後の基板は、十
分水洗した後乾燥させる。
【0033】基板からギヤを剥離する場合は、直角な辺
を有する物体を用い、ギヤの側面から力を加える事によ
り、容易に剥離可能である。
を有する物体を用い、ギヤの側面から力を加える事によ
り、容易に剥離可能である。
【0034】(実施例2)図10から図16は、各工程
における断面図である。図にはギヤが一つしか表されて
いないが、実際には直径3インチの円形基板上に最低で
も500個程度は作製可能である。
における断面図である。図にはギヤが一つしか表されて
いないが、実際には直径3インチの円形基板上に最低で
も500個程度は作製可能である。
【0035】まず図10のホウケイ酸ガラス基板13を
洗浄、乾燥させる。このホウケイ酸ガラス基板13の裏
面には、ガラスエッチングによって位置合わせのための
アライメントマーク14を設けてある。メッキ時の導電
膜15として、クロムを300オングストローム、銅を
5000オングストローム蒸着する。
洗浄、乾燥させる。このホウケイ酸ガラス基板13の裏
面には、ガラスエッチングによって位置合わせのための
アライメントマーク14を設けてある。メッキ時の導電
膜15として、クロムを300オングストローム、銅を
5000オングストローム蒸着する。
【0036】次に図11のように、導電膜15を蒸着し
たホウケイ酸ガラス基板13に、ラミネーターによって
一層目のドライフィルム16−1をラミネートし、露光
する前に室温で15から30分間放置する。所定の放置
時間が経過した後、ギヤの軸パターン、アライメントマ
ークが付いたマスクを用い、アライメントマークによっ
て基板裏面と位置合わせを行ない、紫外線を照射しパタ
ーンを焼き付ける。その後、現像まで15分間室温で放
置する。次に、摂氏30度、1%炭酸ナトリウム水溶液
を用いてスプレー現像した後、紫外線洗浄、酸浸漬によ
る親水化、活性化処理を行う。その後、ニッケル板をア
ノード、基板をカソードとしてニッケルメッキを行い、
第一の軸17−1、アライメントマーク18−1を積層
する。この時、メッキ層表面がドライフィルムの開口部
に達してもメッキを継続し、開口部より上方、および側
方に2から10ミクロン成長させ、軸17−1をマッシ
ュルーム状の形状とする。メッキ終了後は、十分に水洗
した後乾燥させる。
たホウケイ酸ガラス基板13に、ラミネーターによって
一層目のドライフィルム16−1をラミネートし、露光
する前に室温で15から30分間放置する。所定の放置
時間が経過した後、ギヤの軸パターン、アライメントマ
ークが付いたマスクを用い、アライメントマークによっ
て基板裏面と位置合わせを行ない、紫外線を照射しパタ
ーンを焼き付ける。その後、現像まで15分間室温で放
置する。次に、摂氏30度、1%炭酸ナトリウム水溶液
を用いてスプレー現像した後、紫外線洗浄、酸浸漬によ
る親水化、活性化処理を行う。その後、ニッケル板をア
ノード、基板をカソードとしてニッケルメッキを行い、
第一の軸17−1、アライメントマーク18−1を積層
する。この時、メッキ層表面がドライフィルムの開口部
に達してもメッキを継続し、開口部より上方、および側
方に2から10ミクロン成長させ、軸17−1をマッシ
ュルーム状の形状とする。メッキ終了後は、十分に水洗
した後乾燥させる。
【0037】その後、歯車をメッキする時の導電膜19
として、図12のようにクロムを100オングストロー
ム、銅を1000オングストローム蒸着する。
として、図12のようにクロムを100オングストロー
ム、銅を1000オングストローム蒸着する。
【0038】次に図13のように、蒸着終了後の基板上
に、ラミネーターによって2層目のドライフィルム16
−2をラミネートし、露光する前に室温で15から30
分間放置する。所定の放置時間が経過した後、ギヤの歯
車パターン、アライメントマークが付いたマスクを用
い、アライメントマークによる基板裏面と位置合わせを
行い、紫外線を照射しパターンを焼き付ける。その後、
現像まで15分間室温で放置する。次に、摂氏30度、
1%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像した
後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を行
う。その後、ニッケル板をアノード、基板をカソードと
してニッケルメッキを行い、歯車20、アライメントマ
ーク18−2を積層する。メッキ終了後は、十分に水洗
した後乾燥させる。
に、ラミネーターによって2層目のドライフィルム16
−2をラミネートし、露光する前に室温で15から30
分間放置する。所定の放置時間が経過した後、ギヤの歯
車パターン、アライメントマークが付いたマスクを用
い、アライメントマークによる基板裏面と位置合わせを
行い、紫外線を照射しパターンを焼き付ける。その後、
現像まで15分間室温で放置する。次に、摂氏30度、
1%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像した
後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を行
う。その後、ニッケル板をアノード、基板をカソードと
してニッケルメッキを行い、歯車20、アライメントマ
ーク18−2を積層する。メッキ終了後は、十分に水洗
した後乾燥させる。
【0039】次に図14のように、メッキ終了後の基板
上に、ラミネーターによって3層目のドライフィルム1
6−3をラミネートし、露光する前に室温で15から3
0分間放置する。所定の放置時間が経過した後、ギヤの
かなのパターン、アライメントマークが付いたマスクを
用い、アライメントマークによる基板裏面と位置合わせ
を行い、紫外線を照射しパターンを焼き付ける。その
後、現像まで15分間室温で放置する。次に、摂氏30
度、1%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像し
た後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を
行う。その後、ニッケル板をアノード、基板をカソード
としてニッケルメッキを行い、かな21−1、アライメ
ントマーク18−3を積層する。メッキ終了後は、十分
に水洗した後乾燥させる。
上に、ラミネーターによって3層目のドライフィルム1
6−3をラミネートし、露光する前に室温で15から3
0分間放置する。所定の放置時間が経過した後、ギヤの
かなのパターン、アライメントマークが付いたマスクを
用い、アライメントマークによる基板裏面と位置合わせ
を行い、紫外線を照射しパターンを焼き付ける。その
後、現像まで15分間室温で放置する。次に、摂氏30
度、1%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像し
た後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を
行う。その後、ニッケル板をアノード、基板をカソード
としてニッケルメッキを行い、かな21−1、アライメ
ントマーク18−3を積層する。メッキ終了後は、十分
に水洗した後乾燥させる。
【0040】次に図15のように、メッキ終了後の基板
上に、ラミネーターによって4層目のドライフィルム1
6−4をラミネートし、露光する前に室温で15から3
0分間放置する。所定の放置時間が経過した後、ギヤの
かなのパターン、アライメントマークが付いたマスクを
用い、アライメントマークによる基板裏面と位置合わせ
を行い、紫外線を照射しパターンを焼き付ける。その
後、現像まで15分間室温で放置する。次に、摂氏30
度、1%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像し
た後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を
行う。その後、ニッケル板をアノード、基板をカソード
としてニッケルメッキを行い、かな21−2、アライメ
ントマーク18−4を積層する。メッキ終了後は、十分
に水洗した後乾燥させる。
上に、ラミネーターによって4層目のドライフィルム1
6−4をラミネートし、露光する前に室温で15から3
0分間放置する。所定の放置時間が経過した後、ギヤの
かなのパターン、アライメントマークが付いたマスクを
用い、アライメントマークによる基板裏面と位置合わせ
を行い、紫外線を照射しパターンを焼き付ける。その
後、現像まで15分間室温で放置する。次に、摂氏30
度、1%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像し
た後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を
行う。その後、ニッケル板をアノード、基板をカソード
としてニッケルメッキを行い、かな21−2、アライメ
ントマーク18−4を積層する。メッキ終了後は、十分
に水洗した後乾燥させる。
【0041】次に図16のように、メッキ終了後の基板
上に、ラミネーターによって5層目のドライフィルム1
6−5をラミネートし、露光する前に室温で15から3
0分間放置する。所定の放置時間が経過した後、ギヤの
軸パターン、アライメントマークが付いたマスクを用
い、アライメントマークによる基板裏面と位置合わせを
行い、紫外線を照射しパターンを焼き付ける。その後、
現像まで15分間室温で放置する。次に、摂氏30度、
1%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像した
後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を行
う。その後、ニッケル板をアノード、基板をカソードと
してニッケルメッキを行い、第二の軸17−2、アライ
メントマーク18−5を積層する。メッキ終了後は、十
分に水洗した後乾燥させる。
上に、ラミネーターによって5層目のドライフィルム1
6−5をラミネートし、露光する前に室温で15から3
0分間放置する。所定の放置時間が経過した後、ギヤの
軸パターン、アライメントマークが付いたマスクを用
い、アライメントマークによる基板裏面と位置合わせを
行い、紫外線を照射しパターンを焼き付ける。その後、
現像まで15分間室温で放置する。次に、摂氏30度、
1%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像した
後、紫外線洗浄、酸浸漬による親水化、活性化処理を行
う。その後、ニッケル板をアノード、基板をカソードと
してニッケルメッキを行い、第二の軸17−2、アライ
メントマーク18−5を積層する。メッキ終了後は、十
分に水洗した後乾燥させる。
【0042】このようにしてメッキが全て終了した基板
は、10%の水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、ドライ
フィルムを剥離する。
は、10%の水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、ドライ
フィルムを剥離する。
【0043】この時、第一の軸17−1をマッシュルー
ム形状にしなかったギヤは、水酸化ナトリウム水溶液に
浸漬してドライフィルムが膨潤すると、第一の軸17−
1と歯車20の界面で155個中72個が剥離してしま
い、密着性不良であった。これに対し、第一の軸17−
1をマッシュルーム形状にしたギヤは、水酸化ナトリウ
ム水溶液に浸漬してドライフィルムが膨潤しても、第一
の軸17−1と歯車20の界面から剥離するものは15
5個中で一つもなく、明らかに密着性が向上していた。
ム形状にしなかったギヤは、水酸化ナトリウム水溶液に
浸漬してドライフィルムが膨潤すると、第一の軸17−
1と歯車20の界面で155個中72個が剥離してしま
い、密着性不良であった。これに対し、第一の軸17−
1をマッシュルーム形状にしたギヤは、水酸化ナトリウ
ム水溶液に浸漬してドライフィルムが膨潤しても、第一
の軸17−1と歯車20の界面から剥離するものは15
5個中で一つもなく、明らかに密着性が向上していた。
【0044】ドライフィルムを除去した基板は、十分に
水洗した後乾燥させる。
水洗した後乾燥させる。
【0045】基板からギヤを剥離するには、ピンセット
などによって歯車の側面から軽く力を加えるだけで、剥
離可能である。
などによって歯車の側面から軽く力を加えるだけで、剥
離可能である。
【0046】今回の実施例では、ニッケルの電気メッキ
によって形成したが、ニッケルに限定されるものではな
く、電気メッキによって厚膜を形成できる金属であれ
ば、銅などでも良い。また、フッ素樹脂、二硫化モリブ
デン等を用いて共析メッキすることにより、ギヤの噛み
合わせにおける摩擦を低減することも可能である。
によって形成したが、ニッケルに限定されるものではな
く、電気メッキによって厚膜を形成できる金属であれ
ば、銅などでも良い。また、フッ素樹脂、二硫化モリブ
デン等を用いて共析メッキすることにより、ギヤの噛み
合わせにおける摩擦を低減することも可能である。
【0047】また硬度が低く、耐摩耗性に劣る金属によ
ってギヤを形成した場合には、無電解メッキにより、ギ
ヤの表面に耐摩耗性に優れた被膜を形成するのも一つの
手段である。無電解メッキによって形成する被膜として
は、Ni−P、Ni−B、Ni−W−B、Ni−W−
P、Pd−P、Ru、Rh等が挙げられる。
ってギヤを形成した場合には、無電解メッキにより、ギ
ヤの表面に耐摩耗性に優れた被膜を形成するのも一つの
手段である。無電解メッキによって形成する被膜として
は、Ni−P、Ni−B、Ni−W−B、Ni−W−
P、Pd−P、Ru、Rh等が挙げられる。
【0048】(実施例3)実施例1及び2のようにギヤ
をメッキする場合、軸受けに設けられた軸穴または軸に
対応する基板上の位置に、ドライフィルム−メッキプロ
セスによってギヤを形成する。その後ドライフィルムを
除去し、水洗乾燥させる。
をメッキする場合、軸受けに設けられた軸穴または軸に
対応する基板上の位置に、ドライフィルム−メッキプロ
セスによってギヤを形成する。その後ドライフィルムを
除去し、水洗乾燥させる。
【0049】基板上のギヤに軸受けを挿入し、エッチン
グ等の化学的な手法で基板とギヤを分離する。その後基
板を取り除くと、全てのギヤは、軸受けの所定の位置に
全て収まる。
グ等の化学的な手法で基板とギヤを分離する。その後基
板を取り除くと、全てのギヤは、軸受けの所定の位置に
全て収まる。
【0050】基板とギヤの分離方法には、本実施例のエ
ッチングによる化学的手法の他、基板とギヤの密着力を
意図的に低くしておき、軸受けを挿入して固定し、基板
を横方向に移動させてギヤをはぎ取る等、物理的手法に
よっても可能である。
ッチングによる化学的手法の他、基板とギヤの密着力を
意図的に低くしておき、軸受けを挿入して固定し、基板
を横方向に移動させてギヤをはぎ取る等、物理的手法に
よっても可能である。
【0051】
【発明の効果】以上記したように本発明のギヤ及びその
製造方法は、基板上に導電層を形成する工程と、感光性
樹脂フィルムによってパターンを形成する工程と、めっ
きにより金属層を積層する工程を含むこと、または基板
上に第n導電層を形成する工程と、感光性樹脂フィルム
によってパターンを形成する工程と、めっきにより金属
層を積層する工程と、前記金属層を含む感光性樹脂フィ
ルムの上に第n+1導電層を形成し、感光性樹脂フィル
ムによってパターンを形成する工程を含むことにより、
微小なギヤを高い精度で、一度に大量に製造できる効果
を有した。
製造方法は、基板上に導電層を形成する工程と、感光性
樹脂フィルムによってパターンを形成する工程と、めっ
きにより金属層を積層する工程を含むこと、または基板
上に第n導電層を形成する工程と、感光性樹脂フィルム
によってパターンを形成する工程と、めっきにより金属
層を積層する工程と、前記金属層を含む感光性樹脂フィ
ルムの上に第n+1導電層を形成し、感光性樹脂フィル
ムによってパターンを形成する工程を含むことにより、
微小なギヤを高い精度で、一度に大量に製造できる効果
を有した。
【0052】また感光性樹脂フィルムによってパターン
を形成する工程において、感光性樹脂フィルムを基板へ
貼付して、露光する工程を2以上繰り返した後現像する
ことにより、任意の高さのギヤが製造できる効果を有し
た。さらに膜厚が薄い感光性樹脂フィルムを積み重ねる
ことにより、完成した構造体のアスペクト比が高められ
る効果も有した。
を形成する工程において、感光性樹脂フィルムを基板へ
貼付して、露光する工程を2以上繰り返した後現像する
ことにより、任意の高さのギヤが製造できる効果を有し
た。さらに膜厚が薄い感光性樹脂フィルムを積み重ねる
ことにより、完成した構造体のアスペクト比が高められ
る効果も有した。
【0053】また、2以上の金属層からなり、第n金属
層の表面積が第n+1金属層の表面積よりも小さいギア
において、第n金属層をマッシュルーム形状に形成し、
前記第n金属層上に第n+1金属層を積層するギヤの製
造方法は、金属層界面の密着強度を増加させ、ギヤの耐
久品質を維持する効果を有した。
層の表面積が第n+1金属層の表面積よりも小さいギア
において、第n金属層をマッシュルーム形状に形成し、
前記第n金属層上に第n+1金属層を積層するギヤの製
造方法は、金属層界面の密着強度を増加させ、ギヤの耐
久品質を維持する効果を有した。
【0054】そして金属層を積層した後、軸受け基板に
接着して、感光性樹脂フィルムを剥離し、金属層を基板
から離型することにより、一括した超小型ギヤの輪列を
簡便に製造できる効果を有した。
接着して、感光性樹脂フィルムを剥離し、金属層を基板
から離型することにより、一括した超小型ギヤの輪列を
簡便に製造できる効果を有した。
【図1】本発明の実施例1における、蒸着後の断面図。
【図2】本発明の実施例1における、第一層目のドライ
フィルムをラミネート後の断面図。
フィルムをラミネート後の断面図。
【図3】本発明の実施例1における、第一層目のドライ
フィルム露光時の断面図。
フィルム露光時の断面図。
【図4】本発明の実施例1における、第一層目の金属層
積層後の断面図。
積層後の断面図。
【図5】本発明の実施例1における、第二層目のドライ
フィルムをラミネート後の断面図。
フィルムをラミネート後の断面図。
【図6】本発明の実施例1における、第二層目のドライ
フィルム露光時の断面図。
フィルム露光時の断面図。
【図7】本発明の実施例1における、第三層目のドライ
フィルムをラミネート後の断面図。
フィルムをラミネート後の断面図。
【図8】本発明の実施例1における、第三層目のドライ
フィルム露光時の断面図。
フィルム露光時の断面図。
【図9】本発明の実施例1における、第二層目の金属層
積層後の断面図。
積層後の断面図。
【図10】本発明の実施例2における、導電膜蒸着後の
断面図。
断面図。
【図11】本発明の実施例2における、第一層目の金属
層積層後の断面図。
層積層後の断面図。
【図12】本発明の実施例2における、第二の導電膜蒸
着後の断面図。
着後の断面図。
【図13】本発明の実施例2における、第二層目の金属
層積層後の断面図。
層積層後の断面図。
【図14】本発明の実施例2における、第三層目の金属
層積層後の断面図。
層積層後の断面図。
【図15】本発明の実施例2における、第四層目の金属
層積層後の断面図。
層積層後の断面図。
【図16】本発明の実施例2における、第五層目の金属
層積層後の断面図。
層積層後の断面図。
1 ホウケイ酸ガラス基板 2 導電膜 3−1 ドライフィルム 3−2 ドライフィルム 3−3 ドライフィルム 4 歯車パターン 5−1 アライメントマークパターン 5−2 アライメントマークパターン 6−1 マスク 6−2 マスク 7−1 未露光部 7−2 未露光部 7−3 未露光部 8−1 露光部 8−2 露光部 8−3 露光部 9 歯車 10−1 アライメントマーク 10−2 アライメントマーク 10−3 アライメントマーク 11 かなのマスクパターン 12 かな 13 ホウケイ酸ガラス基板 14 基板裏面アライメントマーク 15 導電膜 16−1 ドライフィルム 16−2 ドライフィルム 16−3 ドライフィルム 16−4 ドライフィルム 16−5 ドライフィルム 17−1 第一の軸 17−2 第二の軸 18−1 アライメントマーク 18−2 アライメントマーク 18−3 アライメントマーク 18−4 アライメントマーク 18−5 アライメントマーク 19 導電膜 20 歯車 21−1 かな 21−2 かな
Claims (5)
- 【請求項1】 電鋳によりギヤを製造する方法におい
て、基板上に導電層を形成する工程と、感光性樹脂フィ
ルムによってパターンを形成する工程と、金属層を積層
する工程を含むことを特徴とするギヤの製造方法。 - 【請求項2】 電鋳によりギヤを製造する方法におい
て、基板上に第n(nは1以上の任意の整数)導電層を
形成する工程と、感光性樹脂フィルムによってパターン
を形成する工程と、めっきにより金属層を積層する工程
と、前記金属層を含む感光性樹脂フィルムの上に第n+
1導電層を形成し、感光性樹脂フィルムによってパター
ンを形成する工程と、金属層を積層する工程を含むこと
を特徴とするギヤの製造方法。 - 【請求項3】 2以上の金属層からなり、第n(nは1
以上の任意の整数)金属層の表面積が第n+1金属層の
表面積よりも小さいギアにおいて、第n金属層をマッシ
ュルーム形状に形成し、前記第n金属層上に第n+1金
属層を積層することを特徴とするギヤ。 - 【請求項4】 請求項1または請求項2記載の感光性フ
ィルムによってパターンを形成する工程が、感光性樹脂
フィルムを基板へ貼付して、露光する工程を2以上繰り
返した後現像する工程であることを特徴とするギアの製
造方法。 - 【請求項5】 請求項1または請求項2記載の金属層を
積層する工程の後、軸受け基板に接着し、感光性樹脂フ
ィルムを剥離した後、基板より金属層を離型することを
特徴とするギヤの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8654893A JPH06300114A (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | ギヤ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8654893A JPH06300114A (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | ギヤ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06300114A true JPH06300114A (ja) | 1994-10-28 |
Family
ID=13890064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8654893A Pending JPH06300114A (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | ギヤ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06300114A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005290429A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Seiko Instruments Inc | 低融点金属を用いた電鋳部品の製造方法 |
| WO2009083487A3 (fr) * | 2007-12-31 | 2010-01-14 | Nivarox-Far S.A. | Procédé de fabrication d'une microstructure métallique et microstructure obtenue selon ce procédé |
-
1993
- 1993-04-13 JP JP8654893A patent/JPH06300114A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005290429A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Seiko Instruments Inc | 低融点金属を用いた電鋳部品の製造方法 |
| WO2009083487A3 (fr) * | 2007-12-31 | 2010-01-14 | Nivarox-Far S.A. | Procédé de fabrication d'une microstructure métallique et microstructure obtenue selon ce procédé |
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